ES2252567T3 - Soporte optico de grabacion y procedimiento de grabacion optica que lo utiliza. - Google Patents

Soporte optico de grabacion y procedimiento de grabacion optica que lo utiliza.

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ES2252567T3 ES03006474T ES03006474T ES2252567T3 ES 2252567 T3 ES2252567 T3 ES 2252567T3 ES 03006474 T ES03006474 T ES 03006474T ES 03006474 T ES03006474 T ES 03006474T ES 2252567 T3 ES2252567 T3 ES 2252567T3
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Abstract

Un medio de grabación óptica que comprende: un sustrato de cobertura (100); una primera estructura de capas de grabación (101); una segunda estructura de capas de grabación (201); una capa intermedia (108) para disipar el calor generado en la primera estructura de capas de grabación (101) y para transmitir un haz de láser para grabar y reproducir en la segunda estructura de capas de grabación (201); una capa de separación (109) para separar óptica o térmicamente la primera estructura de capas de grabación (101) de la segunda estructura de capas de grabación (201); y un sustrato estriado (200), en el que el sustrato de cobertura (100), la primera estructura de capas de grabación (101), la capa intermedia (108), la capa de separación (109), la segunda estructura de capas de grabación (201) y el sustrato estriado (200) están dispuestos en este orden, la primera estructura de capas de grabación (101) incluye, en este orden, una primera capa protectora (102), una primera capa de grabación (104)que comprende Sb y Te como componentes principales de la misma, una segunda capa protectora (106), una primera capa inorgánica (107) que comprende un metal como un componente de la misma, la segunda estructura de capas de grabación (201) incluye, en este orden, una tercera capa protectora (202), una segunda capa de grabación (204) que comprende Sb y Te como componentes principales de la misma, una cuarta capa protectora (206), una segunda capa inorgánica (207) que comprende un metal como un componente de la misma, estando la relación (t/T1) del grosor (T1) de la primera estructura de capas de grabación (101) y el grosor (t) de la capa intermedia (108) en el intervalo de 0, 2 a 1, 0.

Description

Soporte óptico de grabación y procedimiento de grabación óptica que lo utiliza.
Antecedentes de la invención Campo de la invención
La presente invención se refiere al medio de grabación óptica en el que la información es grabable, reproducible y regrabable a una alta densidad y una alta velocidad, usando un irradiador de haz de láser.
Descripción de la técnica relacionada
En un medio de grabación óptica, se irradia localmente un haz de láser hacia un material de grabación y luego una diferencia de propiedad óptica generada de ese modo se usa como estado de grabación. El uso de un material con un cambio reversible en esta propiedad óptica permite regrabar la información que ha sido grabada. Generalmente, son bien conocidos como medio de grabación óptica regrabable, un medio de grabación magnetoóptica y un medio de grabación óptica por cambio de fase. Estos medios de grabación óptica permiten grabar grandes cantidades de información así como regrabar y reproducir la información simultáneamente a alta velocidad. Estos medios ópticos también son de portabilidad excelente. Por consiguiente, se ha incrementado la demanda para producir estos medios ópticos con más capacidad a mayor velocidad.
Un medio de grabación óptica por cambio de fase se aprovecha de una diferencia de luz reflejada respecto a una luz que tiene una longitud de onda específica entre la fase cristalina y la amorfa como estado de grabación. Modular la potencia de salida del láser posibilita borrar y regrabar simultáneamente la información grabada. La modulación permite, por consiguiente, que la señal de información sea regrabada en el medio de grabación óptica por cambio de fase a una alta velocidad y con facilidad.
La Fig. 4 muestra un ejemplo de una estructura convencional de capas de un medio de grabación óptica por cambio de fase. Como se muestra en la Fig. 4, un medio de grabación óptica de tipo de cambio de fase convencional está constituido por un sustrato 1, y una capa protectora 2, una capa de grabación 4, una capa protectora 8 y una capa reflectante 6, todas ellas formadas de manera secuencial sobre el sustrato 1. El sustrato 1 está hecho de resinas como policarbonatos (PC) y metacrilatos de polimetilo (PMMA), o vidrios. Sobre el mismo están formados los surcos de guía del sustrato 1 para guiar un haz de láser. La capa de grabación 4 tiene algunos estados que tienen diferentes propiedades ópticas, y contiene una sustancia que puede cambiar los estados de manera reversible. En caso de un medio de grabación óptica de tipo de cambio de fase regrabable, los materiales para la capa de grabación 4 incluyen calcogenuros cuyos componentes principales son Te o Sb como materiales que tienen componentes principales de NN Te-Sb-Ge, Te-Sn-Ge, Te-Sb-Ge-Se, Te-Sn-Ge-Au, Ag-In-Sb-Te, In-Sb-Se, In-Te-Se, o similares.
La capa reflectante 6 comprende metales como Au, Al, y Cr, o aleaciones de los mismos. La capa reflectante 6 está preparada para propósitos de disipar calor eficazmente o de absorción eficaz de luz en la capa de grabación 4. Aunque no mostrada en la Fig. 4, sobre la capa reflectante 6 está dispuesta una capa de revestimiento externa para impedir la oxidación, corrosión, adhesión de polvo o similares. Alternativamente, puede proveerse un falso sustrato sobre la capa reflectante 6, usando como adhesivo las resinas que curan con radiación ultravioleta.
Las capas protectoras 2 y 8 desempeñan un papel de impedir la oxidación, evaporación y deformación de los materiales para la capa de grabación 4. Controlar el grosor de las capas protectoras 2 y 8 permite ajustar la absorción de luz de un medio de grabación y una diferencia de coeficiente de reflexión entre una parte de grabación y una parte de borrado. Por consiguiente, las capas protectoras 2 y 8 desempeñan papeles de control de las propiedades ópticas del medio de grabación. Se requiere que los materiales para las capas protectoras 2 y 8 presenten excelentes propiedades de adhesión a la capa de grabación 4 y al sustrato 1, además de cumplir los requisitos anteriores. Se requiere que las capas protectoras 2 y 8 sean una película que tenga excelente resistencia a la alteración a la intemperie que no cause agrietamientos. Cuando están en contacto con la capa de grabación 4, se requiere que las capas protectoras 2 y 8 estén compuestas de materiales que no afecten al cambio óptico en la capa de grabación 4.
Ejemplos de los materiales para las capas protectoras 2 y 8 incluyen sulfuros como ZnS, o similares; óxidos como SiO_{2}, Ta_{2}O_{5}, Al_{2}O_{3}, o similares; nitruros como Ge-N, Si_{3}N_{4}, Al_{3}N_{4}, o similares; óxidos de nitrógeno como Ge-O-N, Si-O-N, Al-O-N, o similares. Los ejemplos incluyen además dieléctricos como carburos y fluoruros, o similares. Estos pueden usarse en combinación adecuada de dos o más. De estos, se usa ampliamente el ZnS-SiO_{2}.
Convencionalmente, se produce distorsión de sobreescritura. La distorsión de sobreescritura está causada por un estado en el que una marca regrabada se corta ligeramente. La distorsión de sobreescritura se produce porque la temperatura sube de manera diferente dependiendo de que la capa de grabación 4 esté en un estado amorfo o en un estado cristalino. Una parte antes de la regrabación requiere calor latente para cambiar la fase de la parte de un estado cristalino a un estado amorfo, cuando la parte antes de la regrabación está en un estado cristalino. Por otro lado, cuando la parte antes de la regrabación está en un estado amorfo, no se requiere el calor latente. Por lo tanto, el exceso de calor transforma en estado amorfo la capa de grabación 4 más de lo predeterminado.
Cuando "Aa" expresa una absorción de luz de la capa de grabación 4 en un estado amorfo, y "Ac" expresa una absorción de luz de la capa de grabación 4 en un estado cristalino, "Ac/Aa" puede mantenerse en 1 ó más para evitar la distorsión de sobreescritura, que permite ajustar la absorción de luz. Por consiguiente, puede ayudarse a la elevación de temperatura en una parte amorfa de la capa de grabación. La temperatura en la parte marcada después de la regrabación sube uniformemente. Por lo tanto es menos probable que ocurra distorsión de marcas.
Se han propuesto algunos procedimientos para realizar una relación de: Ac/Aa > 1. Por ejemplo, se determina que "Ra", que es un índice de reflexión de un estado amorfo, sea superior a "Rc", que es un índice de reflexión de un estado cristalino, para satisfacer la relación de: "Rc < Ra". En este caso, aunque una diferencia, "Ra - Rc", de índices de reflexión entre un estado amorfo y un estado cristalino sea grande, un valor de Ac/Aa puede aún ser grande. Específicamente, en la Fig. 4, está formada otra capa entre el sustrato 1 y la capa protectora 2, y la capa tiene una cierta constante óptica, por lo tanto puede satisfacerse la relación de "Rc < Ra".
Aunque "Rc" y "Ra" cumplan la relación de "Rc > Ra", aún puede lograrse la relación "Ac/Aa > 1". En este caso, el medio de grabación óptica emplea o estructura de transmitancia de luz, o estructura de absorción de luz. La estructura de transmitancia de luz crea transmitancia en el medio de grabación óptica. Cuando "Tc" expresa transmitancia de la capa de grabación amorfa, y "Ta" expresa transmitancia de la capa de grabación cristalina, "Tc" y "Ta" satisfacen cada una la relación de 0 < Tc <Ta. Por otra parte, en la estructura de absorción de luz, en el medio de grabación óptica está provista una capa que absorbe una luz. La absorción de luz en la capa que absorbe una luz satisface una relación de 0 < Ac2 <Aa2, cuando la Aa2 expresa una absorción en la capa que absorbe una luz en un estado amorfo, y Ac2 expresa una absorción en un estado cristalino. Específicamente, en un caso de la estructura de transmitancia de luz, la capa reflectante 6 puede adelgazarse para lograr transmitancia de luz, como se muestra en la Fig. 4. En un caso de la estructura de absorción de luz, por ejemplo en la Fig. 4, puede estar dispuesta una capa que absorbe luz entre la capa reflectante 6 y la capa protectora 8.
Un medio de grabación óptica que tiene una relación de índice de reflexión tal como Rc<Ra es ventajoso ya que es más probable que el medio de grabación óptica tenga una estructura que satisfaga una relación de Ac/Aa>1. Por otra parte, el medio de grabación óptica es desventajoso al causar ruido al reproducir una señal, ya que la suma del índice de reflexión en la parte amorfa y la parte cristalina es considerablemente mayor que la de un medio de grabación óptica que tiene una relación de índice de reflexión tal como Rc>Ra. El medio óptico que tiene una relación del índice de reflexión tal como Rc>Ra es menos probable que tenga unas desventajas como el ruido, pero todavía es desventajoso al tener un valor grande para Ac/Aa. Por consiguiente, es preferible escoger las estructuras dependiendo de la necesidad.
Se ha propuesto convencionalmente alguna mejora para la estructura de un medio de grabación óptica por transmitancia de luz que satisface las dos relaciones de "Rc > Ra" y "0 < Tc < Ta". Por ejemplo, la solicitud de patente japonesa abierta a consulta por el público (JP-A) No. 08-50739 expone una técnica en la que se proporcionan una capa de grabación y una capa reflectante con propiedades de transmitancia de luz. En esta técnica, la capa reflectante está dispuesta en contacto con una capa de disipación térmica que ayuda a la difusión térmica de la capa reflectante en un medio de grabación óptica que emplea transmisión de luz. El documento JP-A No. 08-50739 no establece ninguna técnica para dar efectos ópticos a la capa de disipación térmica, y describe que el grosor de la capa de disipación térmica puede seleccionarse adecuadamente siempre que no impida la estructura o diseño óptico.
El documento JP-A No. 09-91755 expone una técnica en la que se provee una capa dieléctrica sobre una capa reflectante en un medio de grabación óptica que tiene transmitancia de luz. Sin embargo, en este caso, la capa dieléctrica está formada para reducir la diferencia de fase. El documento JP-A No. 09-91755 no establece los efectos térmicos derivados de la capa dieléctrica, ni establece los efectos ópticos derivados de controlar el grosor de la capa dieléctrica.
El documento US-A-6.312.779 expone un medio de grabación de información que comprende un sustrato provisto, en secuencia, de una capa protectora, una capa de grabación, una capa de interfaz, una capa intermedia, una capa de control de absorción y una capa reflectante.
El documento JP-A No. 03-157830 expone un medio de grabación óptica que tiene dos estructuras de capas de grabación, que se ha conocido como el medio de grabación óptica modificado que tiene una estructura de transmitancia de luz. Para lograr una mayor capacidad del medio de grabación óptica, entre las dos estructuras de capas de grabación está provista una capa transparente de separación. Se irradia un láser sólo desde una dirección, y el láser se transmite a las dos estructuras de capas de grabación. Con esta técnica, puede hacerse más intensa una densidad de grabación, por lo tanto una capacidad del medio de grabación óptica se hace más grande en conjunto.
Un medio de grabación óptica con estructura de transmitancia de luz es ventajoso desde un punto de vista de tener menos exceso de calor en el mismo. Un medio de grabación óptica con estructura de transmitancia de luz es por tanto deseable desde un punto de vista de propiedades de repetición y propiedades de borrado adyacente (propiedades para borrar unas pistas adyacentes; las pistas que han sido grabadas se difunden a una pista adyacente, y las señales grabadas adyacentes a las pistas se borran). Teniendo una capa reflectante delgada, la capa de grabación no puede enfriarse rápidamente después de calentarse. Por lo tanto, puede formarse una marca con dificultad. Especialmente, en una estructura que satisface una relación de Rc > Ra, era fundamentalmente difícil establecer un valor de Ac/Aa muy grande. El medio de grabación óptica con dos estructuras de capas de grabación ha requerido convencionalmente que la capa de grabación sea delgada para lograr una transmitancia de luz suficiente, cuando el medio de grabación óptica con dos estructuras de capas de grabación está situado en una dirección de irradiación láser.
Sin embargo, la cristalización se vuelve difícil en la capa de grabación delgada. La transmitancia de luz elevada no podía ser compatible con una velocidad de borrado elevada o propiedades de borrado elevadas. Existen muy pocas técnicas para mejorar las propiedades de grabación repetitiva de un medio de grabación óptica por transmitancia de luz. Se ha producido una demanda para mejorar las propiedades de grabación repetitiva.
Resumen de la invención
La presente invención se propone resolver los problemas anteriormente mencionados de la técnica convencional.
Por lo tanto, un objeto de la presente invención es proporcionar un medio de grabación óptica por transmitancia de luz con dos estructuras de capas de grabación, que mejore tanto las propiedades de enfriamiento como las propiedades de grabación repetitiva, y permita dos veces más capacidad de grabación que un medio de grabación óptica convencional.
Otro objeto de la presente invención es mejorar las propiedades de grabación repetitiva del medio de grabación óptica por transmitancia de luz con dos estructuras de capas de grabación.
Otro objeto de la presente invención es proporcionar propiedades de grabación casi iguales para cada una de las dos estructuras de capas de grabación del medio de grabación óptica por transmitancia de luz con dos estructuras de capas de grabación.
Aún otro objeto de la presente invención es proporcionar propiedades de borrado casi iguales para cada una de las dos estructuras de capas del medio de grabación óptica por transmitancia de luz con dos estructuras de capas de grabación.
Aún un objeto más de la presente invención es mejorar las propiedades de enfriamiento del medio de grabación óptica por transmitancia de luz con dos estructuras de capas de grabación.
Según la presente invención, los objetos anteriormente mencionados se logran por las técnicas siguientes:
La presente invención proporciona, en un primer aspecto, un medio de grabación óptica que incluye un sustrato de cobertura, una primera estructura de capas de grabación, una segunda estructura de capas de grabación, una capa intermedia para disipar el calor generado en la primera estructura de capas de grabación y para transmitir un haz de láser para grabar y reproducir en la segunda estructura de capas de grabación, una capa de separación para separar óptica o térmicamente la primera estructura de capas de grabación de la segunda estructura de capas de grabación, y un sustrato estriado, en el que el sustrato de cobertura, la primera estructura de capas de grabación, la capa intermedia, la capa de separación, la segunda estructura de capas de grabación y el sustrato estriado están dispuestos en este orden, la primera estructura de capas de grabación incluye, en este orden, una primera capa protectora, una primera capa de grabación que tiene Sb y Te como componentes principales de la misma, una segunda capa protectora, una primera capa inorgánica que tiene metales como componentes de la misma, la segunda estructura de capas de grabación incluye, en este orden, una tercera capa protectora, una segunda capa de grabación que tiene Sb y Te como componentes principales de la misma, una cuarta capa protectora, una segunda capa inorgánica que tiene metal como componente de la misma, estando la relación (t/T1) del grosor (T1) de la primera estructura de capas de grabación y el grosor (t) de la capa intermedia en el intervalo de 0,2 a 1,0.
Según un segundo aspecto de la presente invención, el medio de grabación óptica puede tener una capa de interfaz sobre al menos una de las superficies de por lo menos una de la primera capa de grabación y la segunda capa de grabación.
Según un tercer aspecto de la presente invención, el sustrato estriado puede tener una anchura de 0,10 \mum a 0,46 \mum y una profundidad de 0,01 \mum a 0,04 \mum, y está formado con un paso de 0,28 \mum a 0,50 \mum.
Según un cuarto aspecto de la presente invención, la capacidad térmica de la segunda estructura de capas de grabación es inferior a una capacidad térmica total del sustrato de cobertura y el sustrato estriado.
Según un quinto aspecto de la presente invención, la capacidad térmica total de la primera estructura de capas de grabación y la segunda estructura de capas de grabación es inferior a la capacidad térmica del sustrato estriado.
Según un sexto aspecto de la presente invención, el grosor de cada uno de los sustratos de cobertura y estriado es de 0,2 mm a 1,5 mm.
Según un séptimo aspecto de la presente invención, los componentes principales de cada una de las capas de grabación primera y segunda se seleccionan al menos de Ge-Sb-Te, Sb-Te, Sb-Te-Zn, Sb-Te-Ag, Te-Bi-Ge, Sb-Te-Ge-Se, Te-Sn-Ge-Au, Sb-Te-Ag-In, Se-In-Sb, y Te-Se-In.
Según un octavo aspecto de la presente invención, cada una de las capas de grabación primera y segunda comprende del 50% al 80% de Sb, y del 10% al 30% de Te.
Según un noveno aspecto de la presente invención, el grosor de la primera capa de grabación es de 3 nm a 40 nm.
Según un décimo aspecto de la presente invención, el grosor de la segunda capa de grabación es de 3 nm a 40 nm.
Según un décimo primer aspecto de la presente invención, el grosor de la primera capa inorgánica es de 1 nm a 80 nm.
Según un décimo segundo aspecto de la presente invención, el grosor de la segunda capa inorgánica es de 1 nm a 80 nm.
Según un décimo tercer aspecto de la presente invención, los componentes principales son uno de los mismos y diferentes entre la primera estructura de capas de grabación y la segunda estructura de capas, y los componentes principales se seleccionan al menos de Al, Au, Ag, y Cu.
Según un décimo cuarto aspecto de la presente invención, la primera capa inorgánica comprende Ag como un componente principal de la misma.
Según un décimo quinto aspecto de la presente invención, cada una de las capas protectoras primera, segunda, tercera y cuarta comprende ZnS-SiO_{2} como un componente principal de la misma.
La presente invención provee, en un décimo sexto aspecto, un procedimiento de grabación óptica que incluye la etapa de irradiar un haz de láser desde una dirección de un sustrato de cobertura hasta una de dos estructuras de capas de grabación dispuestas sobre un sustrato estriado de un medio de grabación óptica según la presente invención, para grabar en una de las dos estructuras de capas de grabación. En el procedimiento de grabación óptica, el haz de láser tiene una potencia de grabación de 3 mW a 12 mW, longitud de onda de 360 nm a 420 nm y un diámetro de impacto del haz de 0,30 \mum a 0,52 \mum (1/e^{2}), el sustrato estriado tiene una anchura de 0,10 \mum a 0,46 \mum y una profundidad de 0,01 \mum a 0,04 \mum, y está formado con un paso de 0,28 \mum a 0,50 \mum, las dos estructuras de capas de grabación incluyen una primera estructura de capas de grabación y una segunda estructura de capas de graba-
ción.
Según un décimo séptimo aspecto de la presente invención, en el procedimiento de grabación óptica, la potencia de grabación del haz de láser es mayor en la segunda estructura de capas de grabación que en la primera estructura de capas de grabación.
Según un décimo octavo aspecto de la presente invención, en el procedimiento de grabación óptica, la potencia de borrado del haz de láser es mayor en la segunda capa de grabación que en la primera capa de grabación.
Breve descripción de los dibujos
La Fig. 1 es una vista en sección que muestra un ejemplo de un medio de grabación óptica por transmitancia de luz que tiene dos estructuras de capas de grabación según la presente invención;
La Fig. 2 es una vista en sección que muestra otro ejemplo de un medio de grabación óptica por transmitancia de luz que tiene dos estructuras de capas de grabación según la presente invención;
La Fig. 3 es un diagrama esquemático que muestra un ejemplo de un sistema de deposición de película usado para fabricar un medio de grabación óptica por transmitancia de luz que tiene dos estructuras de capas de grabación según la presente invención; y
La Fig. 4 es una vista en sección que muestra un ejemplo de una estructura de capas de un medio de grabación óptica por cambio de fase convencional.
Descripción de las realizaciones preferidas
A continuación se describirá detalladamente un medio de grabación óptica que tiene dos estructuras de capas de grabación según la presente invención.
Cada una de las Figs. 1 y 2 son una vista en corte esquemática mostrando un ejemplo de una estructura de un medio de grabación óptica que tiene dos estructuras de capas de grabación según la presente invención. La Fig. 1 muestra una estructura en la que están formadas una primera estructura de capas de grabación 101 y una segunda estructura de capas de grabación 201 entre un sustrato de cobertura 100 y un sustrato estriado 200. En este documento, aunque no mostrado en las Figs. 1 y 2, los grosores de cada uno de los sustratos de cobertura 100 y estriado 200 son mayores que un grosor total de la primera estructura de capas de grabación 101 y la segunda estructura de capas de grabación 201. Una capa intermedia 108 y una capa de separación 109 están dispuestas cada una entre la primera estructura de capas de grabación 101 y la segunda estructura de capas de grabación 201.
La primera estructura de capas de grabación 101 incluye una primera capa protectora 102, una primera capa de grabación 104, una segunda capa de protección 106, y una primera capa reflectante (una primera capa inorgánica que tiene metales como material constituyente) 107, cada una de las cuales está formada de manera secuencial en este orden sobre una superficie del sustrato de cobertura 100.
La segunda estructura de capas de grabación 201 incluye una tercera capa protectora 202, una segunda capa de grabación 204, una cuarta capa protectora 206, y una segunda capa reflectante (una segunda capa inorgánica que tiene metales como componente principal) 207, cada una de las cuales está formada de manera secuencial en este orden sobre una superficie de la capa de separación 109. Un ejemplo de una estructura mostrada en la Fig. 2 muestra que la primera y segunda capas de interfaz 103 y 105 están formadas cada una sobre las dos superficies de la primera capa de grabación 104 para la primera estructura de capas 101. La Fig. 2 también muestra que la tercera y cuarta capas de interfaz 203 y 205 están formadas cada una sobre las dos superficies de la segunda capa de grabación 204 para la segunda estructura de capas 200.
El sustrato de cobertura 100 está formado hacia una dirección donde es irradiado un haz de láser. Los materiales del sustrato de cobertura 100 pueden ser materiales transparentes como resinas, vidrios, o similares. Ejemplos específicos de las resinas incluyen policarbonato (PC), metacrilato de polimetilo (PMMA), y similares. Un grosor del sustrato de cobertura 100 es preferentemente de 0,2 mm a 1,5 mm, según las siguientes razones.
Un sustrato estriado 200 tiene surcos de 0,10 \mum a 0,45 \mum de ancho y 0,01 \mum a 0,04 \mum. El sustrato estriado 200 está formado con un paso de 0,28 \mum a 0,50 \mum. Aunque no mostrados en las figuras, los surcos están formados sobre una superficie que está en contacto con la segunda estructura de capas de grabación 201. Si los surcos están comprendidos entre los valores anteriores, el sustrato estriado 200 tiene más índice de reflexión que el de un plano del sustrato estriado 200. Además, el sustrato estriado 200 presenta excelentes propiedades de reproducción repetitiva con los surcos. Los materiales del sustrato estriado 200 pueden ser materiales transparentes como resinas, vidrios, o similares. Ejemplos específicos de las resinas incluyen policarbonato (PC), metacrilato de polimetilo (PMMA), y similares. Un grosor del sustrato estriado 200 es adecuadamente de 0,2 mm a 1,5 mm.
El haz de láser, que tiene una longitud de onda de 360 nm a 420 nm, un diámetro de impacto del haz de 0,30 \mum a 0,52 \mum (1/e^{2}, que se refiere a un diámetro de impacto del haz a una intensidad de luz del haz de láser de 1/e^{2}; un diámetro del haz cuando una intensidad de luz de 0,137 (en este documento la intensidad máxima de luz es 1), y e = 2,7), es irradiado desde una dirección de un sustrato de cobertura 100. La potencia de grabación es de 3 mW a 12 mW. Si la potencia de grabación es menos de 3 mW, se forma una marca insuficiente. Si la potencia de grabación es más de 12 mW, el propio medio de grabación óptica se fractura. Estos resultados se ponen de manifiesto a partir de datos experimentales.
Cada una de las capas protectoras primera 102 y segunda 106, y las capas protectoras tercera 202 y cuarta 206 (pueden denominarse simplemente "capa protectora") está formada para el propósito de controlar propiedades ópticas como la absorción de luz efectiva en la primera capa de grabación 104 y la segunda capa de grabación 204 (pueden denominarse simplemente "capa de grabación"). Ejemplos de los materiales para las capas protectoras 102, 106, 202 y 206 incluyen sulfuros como ZnS, o similares; óxidos como SiO_{2}, Ta_{2}O_{6}, Al_{2}O_{3}, o similares; nitruros como Ge-N, Si_{3}N_{4}, Al_{3}N_{4}, o similares; óxidos de nitrógeno como Ge-O-N, Si-O-N, Al-O-N, o similares; dieléctricos como carburos, fluoruros, o similares. Estos pueden usarse en combinación como ZnS-SiO_{2} o similares. El ZnS-SiO_{2} muestra las propiedades más preferibles en un caso de las estructuras mostradas en las Figs. 1 y 2.
Como se muestra en la Fig. 2, están formadas cada una de las capas de interfaz primera 103, segunda 105, tercera 203, y cuarta 205 (pueden denominarse simplemente "capa de interfaz"). Las capas de interfaz desempeñan un papel no sólo de impedir que las capas de grabación 104 y 204 se oxiden, corroan y deformen, sino también de impedir la difusión de átomos u otros componentes como azufre y sulfuros, los cuales pueden estar contenidos en las capas protectoras 102, 106, 202, y 206, a las capas de grabación 104 y 204.
Impedir la difusión de los átomos mejora significativamente las propiedades de repetición de un medio de grabación óptica. La capa de interfaz puede estar formada en cualquiera de las superficies, o en ambas superficies de la capa de grabación. Para impedir más eficazmente la difusión de los átomos, la capa de interfaz puede estar formada en ambas superficies de la capa de grabación.
Otro papel importante de la capa de interfaz es acelerar la cristalización de los materiales de grabación, sin estropear la estabilidad térmica en la parte grabada (parte amorfa), cuando la capa de interfaz está formada en contacto con una capa de grabación.
La capa de interfaz está formada sobre ambas superficies de la capa de grabación, para lograr al mismo tiempo excelentes propiedades de grabación y excelentes propiedades de repetición a alta velocidad.
Los materiales para las capas de interfaz 103, 105, 203 y 205 no están limitados, siempre que los materiales logren los papeles descritos anteriormente. Ejemplos de los materiales incluyen los que tienen nitruros, óxidos de nitrógeno, óxidos, carburos, fluoruros como el componente principal. Pueden mezclarse sulfuros o seleniuros dependiendo del caso. Ejemplos específicos de los nitruros incluyen Ge-N, Cr-N, Si-N, Al-N, Nb-N, Mo-N, Ti-N, Zr-N, Ta-N, y similares. Ejemplos específicos de los óxidos de nitrógeno incluyen Ge-O-N, Cr-O-N, Si-O-N, Al-O-N, Nb-O-N, Mo-O-N, Ti-O-N, Zr-O-N, Ta-O-N, y similares. Ejemplos específicos de los óxidos incluyen SiO_{2}, Al_{2}O_{3}, TiO_{2}, Ta_{2}O_{5}, Zr-O, y similares. Ejemplos específicos de los carburos incluyen Ge-C, Cr-C, Si-C, Al-C, Ti-C, Zr-C, Ta-C, y similares. Ejemplos específicos de los fluoruros incluyen Li-F, Ca-F, y similares. Estos pueden usarse adecuadamente en combinación. Pueden usarse ZnS, ZnSe, o similares cuando se mezclan en cantidad adecuada sulfuro y seleniuro. En cualquier caso, la capa de interfaz está hecha de materiales que no causan difusión fácilmente hacia las capas de grabación, o de materiales que no impiden fácilmente el cambio óptico de la capa de grabación aunque los átomos se difundan hacia la capa de grabación, y de materiales que aceleran la cristalización de la capa de grabación cuando está formada en contacto con la capa de grabación.
Los presentes inventores han descubierto que el Ge-N mostró el mejor comportamiento en una estructura mostrada en la Fig. 2. Esto es porque, en la estructura mostrada en la Fig. 2, el ZnS-SiO_{2} muestra las propiedades más excelentes como material para las capas de interfaz. Cuando se usa en la combinación con ZnS-SiO_{2}, se considera lo más importante impedir la difusión. El Ge-N muestra el mejor comportamiento en este aspecto.
Un grosor de las capas de interfaz 103, 105, 203 y 205 es preferentemente 1 nm o más. La prevención eficaz de la difusión puede no obtenerse, como muestran datos experimentales, si el grosor es inferior a 1 nm. El límite superior del grosor es preferentemente de 2 nm a 5 nm, desde el punto de vista de sensibilidad de grabación.
Los materiales para las capas de grabación 104, 204 pueden ser los que cambian reversiblemente las propiedades ópticas. De estos materiales, pueden usarse preferentemente materiales de calcogenuro que tienen Te o Sb como componentes principales en caso de un medio de grabación óptica por cambio de fase. Ejemplos de los componentes principales para los materiales incluyen Ge-Sb-Te, Sb-Te, Sb-Te-Zn, Sb-Te-Ag, Sb-Te-Ge-Se, Sb-Te-Ag-In. Un contenido de Sb en un material para las capas de grabación es preferentemente del 50at% al 80at%. Un contenido de Te en un material para las capas de grabación es preferentemente del 10at% al 30at%. Como se muestra en el intervalo anterior, tener más Sb que Te contribuye positivamente a una grabación lineal más rápida. En la presente invención, "at%" se refiere a "% en átomos".
Las capas de grabación 104 y 204 pueden contener impurezas, por ejemplo, componentes del gas de deposición catódica como Ar, Kr, o similares, y H, C, H_{2}O, o similares. El contenido de las impurezas en la capa de grabación puede reducirse hasta el punto de que el contenido no impida la grabación y reproducción de una señal. Las capas de grabación 104 y 204 pueden contener además diversas sustancias en un componente principal de las capas de grabación con una cantidad muy pequeña (aproximadamente el 10at% o menos). El contenido de las diversas sustancias puede reducirse hasta el punto de que el contenido no impida la grabación y reproducción de una señal.
Los presentes inventores han descubierto que, en las estructuras mostradas en las Figs. 1 y 2, las capas de grabación muestran las propiedades más excelentes con Ge-Sb-Te, donde los contenidos de Ge, Sb, y Te son cada uno del 2at% al 10at%, del 60at% al 89at%, y del 10at% al 30at%.
Un grosor de las capas de grabación 104 y 204 es preferentemente de 3 nm a 40 nm. Si el grosor es inferior a 3 nm, es menos probable que los materiales para las capas de grabación creen un grosor uniforme, de ahí que es menos probable que se produzca cambio de fase eficaz entre una parte amorfa y una parte cristalina. Si el grosor es superior a 40 nm, se disipa calor en la película de las capas de grabación. Por lo tanto, es probable que una señal esté sometida a borrado adyacente, cuando se graba a una alta densidad.
Una primera capa reflectante (puede denominarse simplemente una capa reflectante) 107 es una capa reflectante de transmitancia de luz, y tiene propiedades de disipación de calor. En este documento, el término "capa reflectante de transmitancia de luz" se refiere a una capa que funciona tanto como capa reflectante como capa de transmitancia de luz. Con la capa reflectante, la mitad de la luz se transmite por la capa reflectante. La conductividad térmica en la capa reflectante también es elevada. Por lo tanto, se requiere que la primera grabación sobre un medio de grabación óptica que tiene la capa reflectante sea marcadamente pequeña. Para lograr las propiedades de la capa reflectante, los materiales para la capa reflectante 107 comprenden preferentemente al menos uno de Au, Ag, y Cu. Los materiales funcionan ventajosamente para que la constante óptica tenga un valor grande de Ac/Aa. Con la conductividad térmica alta, incluso una capa reflectante delgada puede mostrar unas propiedades de enfriamiento considerables. Ejemplos del material para la capa reflectante 107 también incluyen una mezcla o una aleación de otros materiales y uno de Au, Ag, y Cu. Los materiales mencionados anteriormente se usan para impedir corrosión, y para lograr una estructura óptica más eficaz. Ejemplos específicos de los materiales para la capa reflectante 107 incluyen Cr, Pt, Pd, Al, Mg, W, Ni, Mo, Si, Ge, y similares. Estos pueden seleccionarse según la necesidad. Los presentes inventores han descubierto que la Ag, cuando está contenida como material en la capa reflectante, muestra las propiedades más excelentes, donde un contenido de la Ag es del 90at% al 99at%.
Un grosor de la capa reflectante 107 es preferentemente de 1 nm a 80 nm. Si el grosor es inferior a 1 nm, la capa reflectante 107 no puede formarse uniformemente, de ahí que tanto las propiedades de disipación de calor como los efectos ópticos de la capa reflectante se deterioran. Si el grosor es superior a 80 nm, menos luz transmite el propio medio de grabación óptica, por tanto no puede producirse una relación de ajuste de absorción de luz (Ac/Aa > 1).
Una segunda capa reflectante (también puede denominarse simplemente capa reflectante) 207 es de propiedad de disipación de calor excelente. Como la capa reflectante 207 no requiere tanta transmitancia de luz como la capa reflectante 107, por lo tanto, la capa reflectante 207 puede ser gruesa. Materiales para la capa reflectante 207 pueden ser metales. Los materiales contienen preferentemente al menos uno de Al, Au, Ag, y Cu. Es preferible y ventajoso que contenga al menos uno de Al, Au, Ag, y Cu porque la constante óptica es mucho más que un valor de Ac/Aa. Debido a la conductividad térmica elevada, incluso una capa reflectante delgada 207 muestra unas propiedades de enfriamiento considerables.
Ejemplos del material para la capa reflectante 207 también incluyen una mezcla o una aleación de otros materiales y uno de Al, Au, Ag, y Cu. Los materiales mencionados anteriormente se usan para impedir corrosión, y para lograr una estructura óptica más eficaz. Ejemplos específicos de los materiales para la capa reflectante 207 incluyen Cr, Pt, Pd, Mg, W, Ni, Mo, Si, Ge, y similares. Estos pueden seleccionarse según la necesidad.
Los presentes inventores han descubierto que una aleación de Al, cuando está contenida como material en la capa reflectante, muestra las propiedades más excelentes, donde un contenido de la aleación de Al es del 90at% al
99at%.
Un grosor de la capa reflectante 207 es preferentemente de 1 nm a 80 nm o menos. Un grosor de la capa reflectante 207 es preferentemente de 1 nm a 80 nm. Si el grosor es inferior a 1 nm, la capa reflectante 107 no puede formarse uniformemente, de ahí que tanto las propiedades de disipación de calor como los efectos ópticos de la capa reflectante se deterioran. Si el grosor es superior a 80 nm, menos luz transmite el propio medio de grabación óptica, por tanto no puede producirse una relación de ajuste de absorción de luz (Ac/Aa > 1).
A continuación se describirá una capa intermedia 108, que representa principalmente la presente invención.
La capa intermedia 108 desempeña dos papeles; uno es enfriar y disipar el calor generado en la primera estructura de capas de grabación 101, y la otra es transmitir adecuadamente un haz de láser para grabar y reproducir en la segunda estructura de capas de grabación 201.
La potencia del láser de grabación de la presente invención es preferentemente de 3 mW a 12 mW. Como el láser para grabar en la segunda estructura de capas de grabación 202 se transmite fundamentalmente por la primera estructura de capas de grabación 101, se requiere que una potencia del láser sea más fuerte en la segunda estructura de capas de grabación 201 que en la primera estructura de capas de grabación 101. Concretamente, la potencia del láser para la segunda capa de grabación 201 es del 2% al 50% mayor que para la primera capa de grabación
101.
El medio de grabación óptica de la presente invención tiene dos estructuras de capas de grabación. Como problema particular para el medio de grabación óptica que tiene dos estructuras de capas de grabación, hay la necesidad de tener en cuenta la potencia de borrado para regrabar. Si el haz de láser para borrar se irradia tanto hacia la primera estructura de capas de grabación 101 como la segunda estructura de capas de grabación 201 con la misma potencia, la potencia de borrado se deteriora en la segunda estructura de capas de grabación 201, ya que la potencia de borrado es menor que la potencia de grabación. Para ser más preciso, la potencia de borrado se deteriora cuando el haz de láser para borrar se transmite por la primera estructura de capas de grabación 101, y puede obtenerse potencia de borrado insuficiente en la segunda estructura de capas de grabación 201.
Teniendo en cuenta el deterioro de potencia de borrado cuando el haz de láser para borrar se transmite por la primera estructura de capas de grabación 101, la segunda estructura de capas de grabación 201 requiere más potencia de borrado que la primera estructura de capas de grabación 101. La cantidad específica de potencia de borrado para la segunda estructura de capas de grabación 201 es de 0,5 mW a 5 mW, que es del 2% al 50% más que para la primera capa de grabación 101.
El medio de grabación óptica que tiene dos estructuras de capas de grabación de la presente invención debe tener en cuenta particularmente las propiedades de disipación de calor. Debido a que las dos estructuras de capas de grabación (la primera y la segunda estructuras de capas de grabación), el medio de grabación óptica de la presente invención genera un valor de calor mucho mayor que un medio de grabación óptica ordinario que tiene sólo una estructura de capas de grabación. Las dos estructuras de capas de grabación (incluyendo una capa intermedia y una capa de separación) tienen menos capacidad térmica que el sustrato de cobertura 100 o el sustrato estriado 200. Específicamente, las dos estructuras de capas de grabación tienen del 5% al 10% de capacidad térmica, comparada con la del sustrato de cobertura 100 ó del sustrato estriado 200. En este documento, "capacidad térmica" puede obtenerse por: conductividad térmica x grosor. Un sustrato más grueso es menos probable que sea afectado por el esfuerzo térmico de formación de película (deposición catódica), y que cause deformación del sustrato. Cambiar la capacidad térmica en cada una de las capas permite controlar el calor para grabar. Por consiguiente, ello permite controlar una marca grabada, y grabar una marca pequeña.
Materiales para el sustrato de cobertura 100 y el sustrato estriado 200 pueden ser resinas, vidrios, o similares. Ejemplos específicos de las resinas incluyen policarbonato (PC), metacrilato de polimetilo (PMMA), y similares. La conductividad térmica difiere dependiendo de los materiales. La capacidad térmica de las dos estructuras de capas de grabación enteras depende de un volumen de los materiales. En el medio de grabación óptica que tiene dos estructuras de capas de grabación de la presente invención, el sustrato de cobertura 100 y el sustrato estriado 200 son cada uno más gruesos que las dos estructuras de capas de grabación enteras (incluyendo una capa intermedia y una capa de separación), de manera que las dos estructuras de capas de grabación tienen menos capacidad térmica que el sustrato de cobertura 100 y el sustrato estriado 200.
Ejemplos específicos de los materiales para el sustrato de cobertura 100 y el sustrato estriado 200 incluyen un sustrato de policarbonato que tiene un grosor de, por ejemplo, 0,2 mm a 1,5 mm. El grosor de más de 1,5 mm no afecta a la capacidad térmica. También pueden usarse otros materiales, siempre que tengan el grosor de los anteriores.
El procedimiento de grabación óptica de la presente invención incluye la etapa de irradiar un haz de láser desde una dirección de un sustrato de cobertura a una de dos estructuras de capas de grabación dispuestas sobre un sustrato estriado de un medio de grabación óptica según la presente invención, para grabar en una de las dos estructuras de capas de grabación. En el procedimiento de grabación óptica, el haz de láser tiene una potencia de grabación de 3 mW a 12 mW, longitud de onda de 360 nm a 420 nm, y un diámetro de impacto del haz de 0,30 \mum a 0,52 \mum (1/e^{2}), el sustrato estriado tiene una anchura de 0,10 \mum a 0,46 \mum y una profundidad de 0,01 \mum a 0,04 \mum, y está formado con un paso de 0,28 \mum a 0,50 \mum, las dos estructuras de capas de grabación incluyen una primera estructura de capas de grabación y una segunda estructura de capas de grabación.
En los ejemplos siguientes se fabricó, y después se evaluó, un medio de grabación óptica con la estructura mostrada en la Fig. 1, en el que se cambiaron los grosores de la primera estructura de capas de grabación 101 y la capa intermedia 108. En este documento, la capa intermedia 108 está formada de ITO conteniendo InO y SnO. La primera estructura de capas de grabación 101 se formó con un grosor de 150 nm. La primera estructura de capas de grabación 101 incluía una capa de grabación gruesa 104 de 30 nm formada de Ge-Sb-Te (proporción atómica 5:70:25), capas protectoras gruesas 102 y 106 de 40 nm formadas de ZnS-SiO_{2}, una capa reflectante gruesa 107 de 40 nm formada de Ag. Cuando la primera estructura de capas de grabación 101 tenía grosores de 250 nm y 300 nm, cada una de las capas en la primera estructura de capas de grabación 101 también fue engrosada proporcionalmente. La segunda estructura de capas de grabación 201 tenía casi la misma estructura que la de la primera estructura de capas de grabación 101, y cada una de las capas en la segunda estructura de capas de grabación 201 también fue engrosada proporcionalmente. Se empleó un sustrato grueso de policarbonato de 1 mm tanto para el sustrato de cobertura 100 como para el sustrato estriado 200. La capa de separación 109 se formó de resina curada por radiación ultravioleta con un grosor de 25 \mum.
Las condiciones de grabación para los Ejemplos son las mostradas a continuación:
Ejemplo 1
Longitud de onda del láser: 402 nm
Diámetro de impacto del haz: 0,3 \mum (1/e^{2})
Potencia de grabación/potencia de borrado:
la primera estructura de capas de grabación (7 mW/3 mW)
la segunda estructura de capas de grabación (8,5 mW/3,5 mW)
Potencia de reproducción: 0,6 mW
Código de modulación: modulación 1 a 7
Velocidad lineal de grabación: 16,5 m/s
Velocidad lineal de reproducción: 5,7 m/s
Estrategia de grabación:
(n-1) tipos de impulsos múltiples (en un caso de 3T, el impulso múltiple es dos), donde "T" es un número inverso de una frecuencia de un reloj estándar
Anchura de impulso inicial: 0,4T
Anchura de impulsos múltiples: 0,4T
Anchura de impulso de salida: 0,4T
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Ejemplo 2
Longitud de onda del láser: 410 nm
Diámetro de impacto del haz: 0,52 \mum (1/e^{2})
Potencia de grabación/potencia de borrado:
la primera estructura de capas de grabación (7,5 mW/3,5 mW)
la segunda estructura de capas de grabación (9,5 mW/3,9 mW)
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Potencia de reproducción: 0,55 mW
Código de modulación: modulación 1 a 7
Velocidad lineal de grabación: 16,5 m/s
Velocidad lineal de reproducción: 5,7 m/s
Estrategia de grabación:
(n-1) tipos de impulsos múltiples (en un caso de 3T, el impulso múltiple es dos), donde "T" es un número inverso de una frecuencia de un reloj estándar
Anchura de impulso inicial: 0,4T
Anchura de impulsos múltiples: 0,4T
Anchura de impulso de salida: 0,4T
Los resultados de la evaluación se muestran más adelante. La Tabla 1 muestra los resultados del Ejemplo 1 y la Tabla 2 muestra los resultados del Ejemplo 2. Aquí, en una propiedad de grabación, "\circleddash", "\medcirc" y "X" se dan en las tablas basados en una evaluación de si una muestra puede usarse o no en la práctica. En una evaluación de una primera capa de grabación, "\circleddash" muestra que la propiedad de fluctuación era excelente y la propiedad de fluctuación era el 8% o menos. "\medcirc" muestra que la propiedad de fluctuación era menos del 10%, la propiedad de grabación y reproducción era práctica, y estaba en buen estado. "X" muestra que la propiedad de fluctuación se deterioraba rápidamente por calor acumulado (15% o más), y era imposible recuperar un error. En las evaluaciones para una segunda capa de grabación, "\circleddash" muestra que la propiedad de fluctuación era excelente y la propiedad de fluctuación era el 8% o menos. "\medcirc" muestra que la propiedad de fluctuación era menos del 10%, la propiedad de grabación y reproducción era factible y está en buen estado. "X" muestra que la capa de grabación no estaba bien transformada al estado amorfo (lo que significa que la grabación no se llevó a cabo), y la propiedad de reproducción no era factible.
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(Tabla pasa a página siguiente)
TABLA 1
1
TABLA 2
2
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En los siguientes Ejemplos se describirá un medio de grabación óptica con una estructura mostrada en la Fig. 2. Aquí, la primera capa de grabación 101 se formó con un grosor de 200 nm. La primera estructura de capas de grabación 101 incluía una capa de grabación gruesa 104 de 20 nm formada de Ge-Sb-Te (proporción atómica 5:70:25), capas protectoras gruesas 102 y 106 de 40 nm formadas de ZnS-SiO_{2}, capas de interfaz gruesa 103 y 105 de 30 nm, y una capa reflectante gruesa 107 de 40 nm formada de Ag. Cuando la primera estructura de capas de grabación 101 tenía grosores de 300 nm y 400 nm, cada una de las capas en la primera estructura de capas de grabación también fue engrosada proporcionalmente. La segunda estructura de capas de grabación 201 tenía casi la misma estructura que la de la primera estructura de capas de grabación 101, y cada una de las capas en la segunda estructura de capas de grabación 201 también fue engrosada proporcionalmente. Se empleó un sustrato grueso de policarbonato de 1 mm tanto para el sustrato de cobertura 101 como para el sustrato estriado 200. La capa de separación 109 se formó de resina curada por radiación ultravioleta con un grosor de 30 \mum.
Las condiciones de grabación para los Ejemplos son las mostradas a continuación:
Ejemplo 3
Longitud de onda del láser: 402 nm
Diámetro de impacto del haz: 0,3 \mum (1/e^{2})
Potencia de grabación/potencia de borrado:
la primera estructura de capas de grabación (7 mW/3 mW)
la segunda estructura de capas de grabación (9 mW/3,3 mW)
Potencia de reproducción: 0,6 mW
Código de modulación: modulación 1 a 7
Velocidad lineal de grabación: 16,5 m/s
Velocidad lineal de reproducción: 5,7 m/s
Estrategia de grabación:
(n-1) tipos de impulsos múltiples (en un caso de 3T, el impulso múltiple es dos), donde "T" es un número inverso de una frecuencia de un reloj estándar
Anchura de impulso inicial: 0,4T
Anchura de impulsos múltiples: 0,4T
Anchura de impulso de salida: 0,4T
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Ejemplo 4
Longitud de onda del láser: 410 nm
Diámetro de impacto del haz: 0,52 \mum (1/e^{2})
Potencia de grabación/potencia de borrado:
la primera estructura de capas de grabación (8 mW/3,5 mW)
la segunda estructura de capas de grabación (10 mW/3,7 mW)
Potencia de reproducción: 0,55 mW
Código de modulación: modulación 1 a 7
Velocidad lineal de grabación: 16,5 m/s
Velocidad lineal de reproducción: 5,7 m/s
Estrategia de grabación:
(n-1) tipos de impulsos múltiples (en un caso de 3T, el impulso múltiple es dos), donde "T" es un número inverso de una frecuencia de un reloj estándar
Anchura de impulso inicial: 0,4T
Anchura de impulsos múltiples: 0,4T
Anchura de impulso de salida: 0,4T
Los resultados de la evaluación se muestran más adelante. La Tabla 3 muestra los resultados del Ejemplo 3 y la Tabla 4 muestra los resultados del Ejemplo 4. Aquí, en una propiedad de grabación, "\circleddash", "\medcirc" y "X" se dan en las tablas basados en una evaluación de si una muestra puede usarse o no en la práctica. En una evaluación en una primera capa de grabación, "\circleddash" muestra que la propiedad de fluctuación era excelente y la propiedad de fluctuación era el 8% o menos. "\medcirc" muestra que la propiedad de fluctuación era menos del 10%, la propiedad de grabación y reproducción era factible, y estaba en buen estado. "X" muestra que la propiedad de fluctuación se deterioraba rápidamente por calor acumulado (15% o más), y era imposible recuperar un error. En las evaluaciones para una segunda capa de grabación, "\medcirc" muestra que la propiedad de fluctuación era menos del 10%, una propiedad de grabación y reproducción era factible, y estaba en buen estado. "X" muestra que la capa de grabación no estaba bien transformada al estado amorfo (lo que significa que la grabación no se llevó a cabo), y la propiedad de reproducción no era factible.
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TABLA 3
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TABLA 4
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Como se muestra en los resultados de los Ejemplos, una relación del grosor de la primera estructura de capas de grabación y el grosor de la capa intermedia es preferentemente de 0,2 a 1,0. Con la relación, el calor generado desde la primera estructura de capas de grabación se disipa adecuadamente, sin acumulación de calor. La relación es más preferible de 0,3 a 0,8, y todavía más preferible de 0,5 a 0,7.
Las estructuras de la presente invención, la segunda estructura de capas de grabación tiene más potencia de grabación y potencia de borrado que la primera estructura de capas de grabación. Con más potencia de grabación y potencia de borrado, cada una de las estructuras de capas de grabación primera y segunda presenta propiedades de grabación uniformes y buenas propiedades de borrado y reproducción.
Las estructuras de capas de grabación primera y segunda tienen menos capacidad térmica que el sustrato de cobertura y el sustrato estriado. Por lo tanto, puede reducirse la carga térmica para el propio medio de grabación óptica.
Teniendo dos estructuras de capas de grabación, el medio de grabación óptica de la presente invención permite reducir la carga térmica para el medio de grabación óptica, y mejorar las propiedades de grabación repetitiva. Por consiguiente, el medio de grabación óptica de la presente invención permite dos veces más capacidad de grabación que un medio de grabación óptica convencional.
Los materiales para la capa intermedia 108 pueden ser otros materiales que los proporcionados en los Ejemplos. Ejemplos específicos de los materiales incluyen Al-N, Al-O-N, Al-C, Si, Si-N, SiO_{2}, Si-O-N, Si-C, Ti-N, TiO_{2}, Ti-C, Ta-N, Ta_{2}O_{5}, Ta-O-N, Ta-C, Zn-O, ZnS, ZnSe, Zr-N, Zr-O-N, Zr-C, W-C, InO_{2}-SnO_{2}, ZrO_{2}-Y_{2}O_{3}, InO_{2}-ZrO_{2}, Al_{2}O_{3}-ZrO_{2}, y similares. Estos pueden usarse en combinación. También puede usarse una mezcla de estos con metal o metaloide, o una aleación de estos. De estos, excepto los materiales proporcionados en los Ejemplos, el InO_{2}-SnO_{2} o el InO_{2}-ZrO_{2} pueden presentar excelentes propiedades de disipación de calor.
La capa de separación 109 está formada para el propósito de separar óptica o térmicamente la primera estructura de capas de grabación 101 de la segunda estructura de capas de grabación 201. La capa de separación 109 puede estar formada de materiales que presentan la menor absorción de luz posible contra al haz de láser para grabar y reproducir. Ejemplos de los materiales incluyen resinas formadas de materiales orgánicos como una resina curada por radiación ultravioleta, una resina de acción lenta, o similares; una lámina de adhesión por las dos caras para un disco óptico, dieléctricos inorgánicos como SiO_{2}, Al_{2}O_{3}, ZnS, o similares; vidrios, y similares.
Se requiere que un grosor de la capa de separación 109 sea un grosor que tenga profundidad de foco de \DeltaZ o más, de manera que pueda ignorarse una interferencia desde una dirección de una de las estructuras de capas de grabación primera y segunda, cuando la grabación y reproducción se lleva a cabo en una de las estructuras de capas de grabación primera y segunda. \DeltaZ puede obtenerse aproximadamente mediante la siguiente ecuación, cuando un estándar para \DeltaZ es el 80% de intensidad del punto de condensación.
\Delta Z \ = \ \lambda \ / \ \{2 \ x \ (NA)^{2}\}
en la que "NA" expresa una apertura numérica de un objetivo, y "\lambda" expresa la longitud de onda de un haz de láser para grabar y reproducir. Por ejemplo, una profundidad de foco, \DeltaZ, es 0,56 \mum cuando "\lambda" es 400 nm, y "NA" es 0,60. En este caso, un intervalo de \pm0,60 \mum se encuentra en la profundidad de foco. Por lo tanto, un grosor de la capa de separación 109 tiene que ser más de 1,20 \mum.
Un grosor de la capa de separación 109 puede estar dentro de una tolerancia del objetivo, para que una distancia entre las estructuras de capas de grabación primera y segunda esté dentro de un intervalo en el que el objetivo pueda condensar el haz de láser. Grabar y reproducir en la segunda estructura de capas de grabación 201 puede llevarse a cabo transmitiendo el haz de láser a través de la primera estructura de capas de grabación 101. Puede obtenerse un índice de reflexión "r2" mediante la siguiente ecuación, cuando la transmitancia de luz de un haz de láser en la primera estructura de capas de grabación 101 es "T1", el índice de reflexión del haz de láser en la primera estructura de capas de grabación 101 es "R1", el índice de reflexión sólo es "R2" en la segunda estructura de capas de grabación 201.
r2 = R2 x T1 x T1
La amplitud de señal también puede obtenerse mediante la siguiente ecuación, cuando la diferencia de índice de reflexión dentro de la segunda estructura de capas de grabación 201 es \DeltaR2, la diferencia de índice de reflexión del haz de láser cuando se transmite por la primera estructura de capas de grabación 101 a través de la segunda estructura de capas de grabación 202 es \Deltar2.
\Deltar2 = \DeltaR2 x T1 x T1
Por ejemplo, \Deltar2, la diferencia de índice de reflexión del haz de láser cuando se transmite por la primera estructura de capas de grabación 101 a través de la segunda estructura de capas de grabación 202 es 24% x 0,5 x 0,5 = 6%, cuando \DeltaR2 es 24%, y T1 es 50%.
Para obtener una señal suficiente de la segunda estructura de capas de grabación 201, la primera estructura de capas de grabación 101 requiere tener una transmitancia de luz T1 tan alta como sea posible, y la segunda estructura de capas de grabación 201 requiere tener una amplitud de señal tan grande como sea posible. La diferencia de índice de reflexión en la primera capa de grabación 101 tiene que ser preferentemente alta, y la sensibilidad de grabación en la segunda estructura de capas de grabación también tiene que ser considerablemente alta. La primera estructura de capas de grabación 101 y la segunda estructura de capas de grabación 201 tienen que estar ópticamente estructuradas, para equilibrar la transmitancia de luz, la amplitud de señal, la diferencia de índice de reflexión, y la sensibilidad de grabación.
Se facilita un ejemplo específico de la estructura del medio de grabación óptica. En este documento, el medio de grabación óptica está estructurado para tener un índice de reflexión R1c del 7,5% cuando la capa de grabación 104 está en un estado cristalino, un índice de reflexión R1a del 0,5% cuando la capa de grabación 104 está en un estado amorfo, un índice de reflexión R2C del 15% cuando la capa de grabación 204 está en un estado cristalino, el índice de reflexión R2a del 43% cuando la capa de grabación 204 está en un estado amorfo, y la transmitancia de luz de la primera estructura de capas de grabación 101 del 50% cuando la grabación se lleva a cabo sólo en la primera estructura de capas de grabación 101. El índice de reflexión, transmitancia de luz, y otros valores estructurales ópticos fueron controlados cambiando los grosores de la capa de grabación 104, las capas protectoras 102, 106, y la capa reflectante 107.
Cuando el medio de grabación óptica tiene una estructura como la anterior, la diferencia de índice de reflexión es \Deltar2 = (43-15) x 0,5 x 0,5 = 7%, en la que la grabación y reproducción se lleva a cabo en la segunda capa de grabación 201 a través de la primera capa de grabación 101. La diferencia de índice de reflexión en la primera estructura de capas de grabación 101 es 7,5-0,5 = 7%. Una estructura preferible del medio de grabación óptica tiene casi el mismo valor de la diferencia de índice de reflexión, es decir una amplitud de señal, entre la primera estructura de capas de grabación 101 y la segunda estructura de capas 201. Con la estructura preferible, la amplitud de señal se cambia radicalmente cuando la grabación y reproducción se lleva a cabo de manera intercambiable entre la primera estructura de capas de grabación 101 y la segunda estructura de capas de grabación 201. Por lo tanto, el medio de grabación óptica que tiene la estructura preferible puede impedir el rastreo inestable.
Es muy difícil tener al mismo tiempo una transmitancia de luz elevada en la primera estructura de capas de grabación 101 y una diferencia elevada de índice de reflexión en la segunda capa de grabación 201. Por lo tanto, la diferencia de índice de reflexión es relativamente pequeña, y la amplitud de señal también es relativamente pequeña, después de que el medio de grabación óptica está estructurado. En este caso, el nivel de potencia P3 del haz de láser de grabación puede ser preferentemente un poco mayor que el del medio de grabación óptica convencional, y la amplitud de señal para reproducir puede ser preferentemente grande. Sin embargo, si el P3 tiene un valor sumamente grande, la marca grabada se ve afectada térmicamente, de ahí que la señal de reproducción se deteriore. El P3, por lo tanto, tiene que estar dentro del intervalo que no causa deterioro de la señal de reproducción. El nivel de potencia de reproducción puede ser diferente entre la primera estructura de capas de grabación 101 y la segunda estructura de capas de grabación 201. El haz de láser para reproducir puede también ser diferente entre la primera estructura de capas de grabación 101 y la segunda estructura de capas de grabación 201, aunque generalmente se irradia el haz de láser que tiene la misma longitud de onda.
En lo sucesivo se describirá un procedimiento para fabricar el medio de grabación óptica. Pueden formarse capas múltiples por procedimiento de deposición catódica, deposición al vacío, procedimiento CVD, o similares. En este documento, el procedimiento emplea el procedimiento de deposición catódica. La Fig. 3 es un diagrama esquemático que muestra un ejemplo de un dispositivo de formación de película.
Haciendo referencia a la Fig. 3, el contenedor de vacío 9 está equipado con una abertura de escape 15 que está conectada a una bomba de vacío (no mostrada en la Fig. 3), para mantener un alto vacío en el interior del contenedor de vacío 9. El contenedor de vacío 9 también está provisto de una abertura de suministro de gas 14, para suministrar gas inerte, nitrógeno, óxido, o una mezcla de los mismos, con un cierto flujo. El contenedor de vacío 9 también incluye un sustrato 10, que está unido a la unidad motriz 11 que gira y hace girar el sustrato 10. Los blancos de deposición catódica 12, que miran hacia el sustrato 10, están conectados cada uno a electrodos negativos 13. Los electrodos negativos 13 están conectados cada uno a un suministro eléctrico de corriente continua (no mostrado en la Fig. 3), o a suministro eléctrico de alta frecuencia (no mostrado en la Fig. 3), a través de un interruptor (no mostrado en la Fig. 3). Desde que se conectan a tierra, el contenedor 9 en el que se ha hecho el vacío y el sustrato 10 se mantienen en el electrodo positivo.
El gas de formación de la película puede ser un gas inerte, una mezcla de gas en la que se mezcla gas inerte y una pequeña cantidad de nitrógeno u oxígeno. Ejemplos del gas inerte incluyen Ar, Kr, y similares, cada uno de los cuales permite la formación de la película. Usar la mezcla de gas en la que se mezcla gas inerte y una pequeña cantidad de nitrógeno u oxígeno para formar las capas de un medio de grabación óptica, las capas de grabación 104 y 204 y las capas protectoras 102, 106, 202 y 206 permite controlar el transporte de sustancias durante la grabación repetitiva, por lo tanto permite mejorar las propiedades repetitivas.
Cuando un nitruro u óxido está contenido en las capas de interfaz 103, 105, 203, y 205, o la capa intermedia 108, el procedimiento de deposición catódica reactiva permite formar una capa excelente. Por ejemplo, cuando se usa Ge-Cr-N en las capas de interfaz 103, 105,203, y 205, se usa una mezcla de gas de un gas inerte y gas nitrógeno como gas de formación de la película en un blanco del material que incluye Ge, Cr, y O. Alternativamente, también se puede usar gas que incluya átomos de nitrógeno como N_{2}O, NO_{2}, NO, N_{2} o similares. También puede usarse la combinación de los átomos de nitrógeno con el gas inerte, que es mezcla de gas. Cuando la capa está dura o tiene una gran tensión de membrana, puede mezclarse una cantidad muy pequeña de oxígeno en el gas de formación de película, para producir una capa con una película excelente.
En lo sucesivo de describirá un procedimiento de grabación y reproducción y un procedimiento de borrado con el medio de grabación óptica estructurado anteriormente. El procedimiento de grabación y reproducción y el procedimiento de borrado requieren un cabezal óptico con una fuente de haz de láser y un objetivo, una unidad motriz que determina una parte para irradiar el haz de láser, un dispositivo de control de rastreo y un dispositivo de control de enfoque que controla una posición en una dirección vertical al rastreo y a una superficie de una capa, una unidad motriz del haz de láser que modula una potencia del láser, y un dispositivo de control de giro que hace girar el medio de grabación óptica.
La grabación y el borrado se llevan a cabo de la siguiente manera. En primer lugar, se hace girar un medio de grabación óptica por medio del dispositivo de control de giro. Después de esto, se enfoca un haz de láser sobre un pequeño punto para irradiar el haz de láser al medio óptico. La marca grabada o la parte borrada se forma modulando la potencia del láser entre P1 y P2, donde P1 se refiere a un nivel de potencia para generar un estado amorfo en el que una parte en una capa de grabación se cambia de manera reversible a un estado amorfo desde un estado cristalino irradiando el haz de láser, y P2 se refiere a un nivel de potencia para generar un estado cristalino en el que el estado amorfo se cambia de manera reversible a un estado cristalino desde el estado amorfo también irradiando el haz de láser. De esta manera se lleva a cabo la grabación, borrado y sobreescritura. Una parte que ha de ser irradiada con un haz de láser que tiene P1 se forma generalmente por columna de impulso, que se denomina normalmente "impulso múltiple".
Un nivel de potencia de reproducción, P3, que es menor que cada uno de los P1 y P2, no afecta a un estado óptico de la marca grabada, y contribuye a obtener suficiente índice de reflexión para reproducir la marca grabada irradiando un haz de láser que tiene P3, también permite reproducir la señal leyendo una señal del medio de grabación óptica mediante un detector.
El medio de grabación óptica de la presente invención puede tener otra capa como estructura de capas además de las descritas.
Según la presente invención, el medio de grabación óptica que tiene las dos estructuras de capas de grabación presenta unas excelentes propiedades de grabación y reproducción en cada una de las estructuras de capas de grabación primera y segunda, ya que un grosor de una de las estructuras de capas de grabación a la que se irradia un haz de láser en primer lugar, y un grosor de la capa intermedia están optimizados. Por lo tanto, el medio de grabación óptica que tiene dos estructuras de capas de grabación de la presente invención permite dos veces más capacidad de grabación que un medio de grabación óptica corriente que tiene una estructura de capas de grabación. Con la optimización, puede reducirse la carga térmica en el medio de grabación óptica, de ahí que también pueden mejorarse las propiedades de grabación repetitiva. Proporcionar capas de interfaz sobre superficies de la capa de grabación impide que la capa de grabación se oxide, corroa, deforme, o similares. También puede impedirse la difusión de átomos entre la capa de grabación y una capa protectora. Por consiguiente, el medio de grabación óptica de la presente invención puede tener excelentes propiedades repetitivas. Además, el medio de grabación óptica permite borrar a una alta velocidad, ya que las capas de interfaz aceleran la transformación en fase amorfa del medio de grabación óptica sin deteriorar la estabilidad térmica.

Claims (18)

1. Un medio de grabación óptica que comprende:
un sustrato de cobertura (100);
una primera estructura de capas de grabación (101);
una segunda estructura de capas de grabación (201);
una capa intermedia (108) para disipar el calor generado en la primera estructura de capas de grabación (101) y para transmitir un haz de láser para grabar y reproducir en la segunda estructura de capas de grabación (201);
una capa de separación (109) para separar óptica o térmicamente la primera estructura de capas de grabación (101) de la segunda estructura de capas de grabación (201); y
un sustrato estriado (200),
en el que el sustrato de cobertura (100), la primera estructura de capas de grabación (101), la capa intermedia (108), la capa de separación (109), la segunda estructura de capas de grabación (201) y el sustrato estriado (200) están dispuestos en este orden, la primera estructura de capas de grabación (101) incluye, en este orden, una primera capa protectora (102), una primera capa de grabación (104) que comprende Sb y Te como componentes principales de la misma, una segunda capa protectora (106), una primera capa inorgánica (107) que comprende un metal como un componente de la misma, la segunda estructura de capas de grabación (201) incluye, en este orden, una tercera capa protectora (202), una segunda capa de grabación (204) que comprende Sb y Te como componentes principales de la misma, una cuarta capa protectora (206), una segunda capa inorgánica (207) que comprende un metal como un componente de la misma, estando la relación (t/T1) del grosor (T1) de la primera estructura de capas de grabación (101) y el grosor (t) de la capa intermedia (108) en el intervalo de 0,2 a 1,0.
2. Un medio de grabación óptica según la reivindicación 1, en el que está formada una capa de interfaz (103, 105) sobre al menos una superficie de por lo menos una de la primera capa de grabación (104) y la segunda capa de grabación (204).
3. Un medio de grabación óptica según una de las reivindicaciones1 y 2, en el que el sustrato estriado (200) con una anchura de 0,10 \mum a 0,46 \mum y una profundidad de 0,01 \mum a 0,04 \mum, y está formado con un paso de 0,28 \mum a 0,50 \mum.
4. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en el que la capacidad térmica de la segunda estructura de capas de grabación (201) es menor que la capacidad térmica total del sustrato de cobertura (100) y el sustrato estriado (200).
5. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, en el que la capacidad térmica total de la primera estructura de capas de grabación (101) y la segunda estructura de capas de grabación (201) es menor que la capacidad térmica del sustrato estriado (200).
6. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que el grosor de cada uno de los sustratos de cobertura (100) y estriado (200) es de 0,2 mm a 1,5 mm.
7. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en el que los componentes principales de cada una de las capas de grabación primera (104) y segunda (204) se seleccionan al menos de Ge-Sb-Te, Sb-Te, Sb-Te-Zn, Sb-Te-Ag, Te-Bi-Ge, Sb-Te-Ge-Se, Te-Sn-Ge-Au, Sb-Te-Ag-In, Se-In-Sb, y Te-Se-In.
8. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, en el que cada una de las capas de grabación primera (104) y segunda (204) comprende del 50 at% al 80 at% de Sb, y del 10 at% al 30 at% de Te.
9. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en el que el grosor de la primera capa de grabación (104) es de 3 nm a 40 nm.
10. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, en el que el grosor de la segunda capa de grabación (204) es de 3 nm a 40 nm.
11. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, en el que el grosor de la primera capa inorgánica (107) es de 1 nm a 80 nm.
12. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, en el que el grosor de la segunda capa inorgánica (207) es de 1 nm a 80 nm.
13. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, en el que los componentes de la primera estructura de capas de grabación (101) y la segunda estructura de capas (201) son los mismos o diferentes y se seleccionan al menos de Al, Au, Ag, y Cu.
14. Un medio de grabación óptica según la reivindicación 13, en el que la primera capa inorgánica (107) comprende Ag como componente principal de la misma.
15. Un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 14, en el que cada una de la capa protectora primera (102), la capa protectora segunda (106), la capa protectora tercera (202), y la capa protectora cuarta (206) comprende ZnS-SiO_{2} como componente principal de la misma.
16. Un procedimiento de grabación óptica que incluye las etapas de:
irradiar un haz de láser desde una dirección de un sustrato de cobertura (100) hasta una de dos estructuras de capas de grabación (101, 201) dispuestas sobre un sustrato estriado (200) de un medio de grabación óptica según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 17, para grabar en una de las dos estructuras de capas de grabación (101, 201),
en el que el haz de láser tiene una potencia de grabación de 3 mW a 12 mW, una longitud de onda de 360 nm a 420 nm y un diámetro de impacto del haz de 0,30 \mum a 0,52 \mum (1/e^{2}), el sustrato estriado (200) tiene una anchura de 0,10 \mum a 0,46 \mum y una profundidad de 0,01 \mum a 0,04 \mum, y está formado con un paso de 0,28 \mum a 0,50 \mum, las dos estructuras de capas de grabación incluyen una primera estructura de capas de grabación (101) y una segunda estructura de capas de grabación (201).
17. Un procedimiento de grabación óptica según la reivindicación 16, en el que la potencia de grabación del haz de láser es mayor en la segunda estructura de capas de grabación (201) que en la primera estructura de capas de grabación (101).
18. Un procedimiento de grabación óptica según una de las reivindicaciones 16 y 17, en el que la potencia de borrado del haz de láser es mayor en la segunda capa de grabación (204) que en la primera capa de grabación (104).
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