EP4317536B1 - Matériau plaqué argent et son procédé de fabrication - Google Patents

Matériau plaqué argent et son procédé de fabrication

Info

Publication number
EP4317536B1
EP4317536B1 EP22832665.8A EP22832665A EP4317536B1 EP 4317536 B1 EP4317536 B1 EP 4317536B1 EP 22832665 A EP22832665 A EP 22832665A EP 4317536 B1 EP4317536 B1 EP 4317536B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
silver
plated product
weight
set forth
surface layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
EP22832665.8A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP4317536A1 (fr
EP4317536A4 (fr
Inventor
Yutaro HIRAI
Kentaro Arai
Yosuke Sato
Eri FUNADA
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Metaltech Co Ltd
Original Assignee
Dowa Metaltech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Metaltech Co Ltd filed Critical Dowa Metaltech Co Ltd
Publication of EP4317536A1 publication Critical patent/EP4317536A1/fr
Publication of EP4317536A4 publication Critical patent/EP4317536A4/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP4317536B1 publication Critical patent/EP4317536B1/fr
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/46Electroplating: Baths therefor from solutions of silver
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C25D5/12Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/615Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
    • C25D5/617Crystalline layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00Electroplating characterised by the article coated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Claims (14)

  1. Procédé de production d'un produit plaqué argent, le procédé comprenant les étapes consistant à :
    préparer une solution de plaquage d'argent, qui est une solution aqueuse contenant 50 à 200 g/L de cyanure de potassium d'argent, 20 à 120 g/L de cyanure de potassium, et 10 à 30 g/L d'un mercaptothiazole ; et
    former une couche de surface d'argent sur un matériau de base par galvanoplastie à une température de liquide non inférieure à 30 °C et à une densité de courant de 1 à 15 A/dm2 dans la solution de plaquage d'argent.
  2. Procédé de production d'un produit plaqué argent selon la revendication 1, dans lequel la concentration de mercaptothiazole dans la solution de plaquage d'argent n'est pas supérieure à 25 g/L.
  3. Procédé de production d'un produit plaqué argent selon la revendication 1 ou 2, dans lequel la densité de courant dans ladite galvanoplastie est comprise dans la plage allant de 2 A/dm2 à 10 A/dm2.
  4. Procédé de production d'un produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel la concentration d'argent dans la solution de plaquage d'argent est comprise dans la plage allant de 20 g/L à 120 g/L.
  5. Procédé de production d'un produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel la concentration en cyanure libre dans la solution de plaquage d'argent est comprise dans la plage allant 5 g/L à 50 g/L.
  6. Procédé de production d'un produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel ladite galvanoplastie est réalisée à une température de liquide non supérieure à 50 °C.
  7. Procédé de production d'un produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel ledit matériau de base est constitué de cuivre ou d'un alliage de cuivre.
  8. Procédé de production d'un produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel une sous-couche de nickel est formée entre ledit matériau de base et ladite couche de surface.
  9. Produit plaqué argent comprenant :
    un matériau de base ; et
    une couche de surface d'argent qui est formée sur le matériau de base, la couche de surface ayant une taille moyenne de cristallite non supérieure à 23 nm et ayant une dureté Vickers HV de 100 à 160, la couche de surface ne contenant pas moins de 0,3 % en poids de carbone, pas moins de 0,4 % en poids de soufre, et pas moins de 0,1 % en poids d'azote,
    dans lequel les tailles de cristallite dans des directions verticales par rapport à chaque plan de cristal des plans (111), (200), (220), et (311) du film de plaquage d'argent du produit plaqué argent sont calculées par l'équation de Scherrer à partir de la largeur totale à la moitié maximale de chacun des pics, le pic (111) apparaissant à environ 38°, le pic (200) apparaissant à environ 44°, le pic (311) apparaissant à environ 77°, sur les plans de cristal sur un diagramme de diffraction des rayons X obtenu au moyen d'un diffractomètre à rayons X en utilisant le diffractomètre à rayons X horizontal universel totalement automatique, Smart Lab produit par RIGAKU Corporation, et dans lequel les tailles de cristallite calculées sont pondérées sur la base du rapport d'orientation de chacun des plans de cristal afin de calculer une taille de cristallite moyenne par la moyenne pondérée des tailles de cristallite sur les plans de cristal.
  10. Produit plaqué argent selon la revendication 9, dans lequel ladite couche de surface contient 90 à 99 % en poids d'argent.
  11. Produit plaqué argent selon la revendication 9 ou 10, dans lequel ladite couche de surface ne contient pas plus de 2 % en poids de carbone.
  12. Produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 9 à 11, dans lequel ladite couche de surface ne contient pas plus de 2 % en poids de soufre.
  13. Produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, dans lequel ledit matériau de base est constitué de cuivre ou d'un alliage de cuivre.
  14. Produit plaqué argent selon l'une quelconque des revendications 9 à 13, dans lequel une sous-couche de nickel est formée entre ledit matériau de base et ladite couche de surface.
EP22832665.8A 2021-06-29 2022-05-27 Matériau plaqué argent et son procédé de fabrication Active EP4317536B1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021107489A JP7749358B2 (ja) 2021-06-29 2021-06-29 銀めっき材およびその製造方法
PCT/JP2022/021697 WO2023276507A1 (fr) 2021-06-29 2022-05-27 Matériau plaqué argent et son procédé de fabrication

Publications (3)

Publication Number Publication Date
EP4317536A1 EP4317536A1 (fr) 2024-02-07
EP4317536A4 EP4317536A4 (fr) 2025-04-23
EP4317536B1 true EP4317536B1 (fr) 2026-02-25

Family

ID=84691269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP22832665.8A Active EP4317536B1 (fr) 2021-06-29 2022-05-27 Matériau plaqué argent et son procédé de fabrication

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20240287697A1 (fr)
EP (1) EP4317536B1 (fr)
JP (1) JP7749358B2 (fr)
CN (1) CN117529581A (fr)
MX (1) MX2023015085A (fr)
WO (1) WO2023276507A1 (fr)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117512725B (zh) * 2023-11-07 2024-06-25 东莞市贝沃金属有限公司 用于大电流保险管的锡锌线镀银工艺

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2429970A (en) * 1944-01-11 1947-10-28 Du Pont Silver plating
US4247372A (en) * 1978-08-29 1981-01-27 Learonal, Inc. Silver plating
JPS5743995A (en) * 1980-08-27 1982-03-12 Sumitomo Electric Ind Ltd Silver plating liquid and silver plating method
KR101074744B1 (ko) 2002-11-28 2011-10-19 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 전해 은도금액
JP2009079250A (ja) 2007-09-26 2009-04-16 Dowa Metaltech Kk 最表層として銀合金層が形成された銅または銅合金部材およびその製造方法
SG179381A1 (en) * 2010-09-21 2012-04-27 Rohm & Haas Elect Mat Method of electroplating silver strike over nickel
US8980077B2 (en) 2012-03-30 2015-03-17 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Plating bath and method
WO2016121312A1 (fr) 2015-01-30 2016-08-04 Dowaメタルテック株式会社 Élément plaqué d'argent et procédé pour la fabrication de ce dernier
WO2021171818A1 (fr) * 2020-02-25 2021-09-02 Dowaメタルテック株式会社 Matériau plaqué argent, et procédé de fabrication de celui-ci
JP6916971B1 (ja) * 2020-09-15 2021-08-11 Dowaメタルテック株式会社 銀めっき材およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP4317536A1 (fr) 2024-02-07
CN117529581A (zh) 2024-02-06
MX2023015085A (es) 2024-01-18
JP7749358B2 (ja) 2025-10-06
EP4317536A4 (fr) 2025-04-23
JP2023005513A (ja) 2023-01-18
US20240287697A1 (en) 2024-08-29
WO2023276507A1 (fr) 2023-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US12203189B2 (en) Silver-plated product and method for producing same
EP3252188B1 (fr) Élément plaqué d'argent et procédé pour la fabrication de ce dernier
EP3078767B1 (fr) Matériau argenté et son procédé de fabrication
EP2749673B1 (fr) Placage d'argent et son procédé de fabrication
EP2826891B1 (fr) Matériau de placage d'argent
US12297556B2 (en) Silver-plated product and method for producing same
EP2977489B1 (fr) Matériau argenté
EP4317536B1 (fr) Matériau plaqué argent et son procédé de fabrication
EP4467687A1 (fr) Matériau plaqué d'argent et son procédé de production
JP7455634B2 (ja) 銀めっき材およびその製造方法、並びに、端子部品
US20260055528A1 (en) Silver-plated product and method for producing same
KR101069581B1 (ko) 전자부품용 니켈 합금 도금액 및 이의 제조 방법
JP7783754B2 (ja) 銀めっき材の製造方法および銀めっき材
EP4083271A1 (fr) Matériau plaqué d'argent et son procédé de fabrication
JP2023152637A (ja) 銀めっき材およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE INTERNATIONAL PUBLICATION HAS BEEN MADE

PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: REQUEST FOR EXAMINATION WAS MADE

17P Request for examination filed

Effective date: 20231023

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

DAV Request for validation of the european patent (deleted)
DAX Request for extension of the european patent (deleted)
A4 Supplementary search report drawn up and despatched

Effective date: 20250324

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: C25D 5/00 20060101ALI20250318BHEP

Ipc: H01R 13/03 20060101ALI20250318BHEP

Ipc: C25D 7/00 20060101ALI20250318BHEP

Ipc: C25D 5/12 20060101ALI20250318BHEP

Ipc: C25D 3/46 20060101AFI20250318BHEP

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20251105

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED