EP3325265A1 - Substrate for electrical circuits and method for producing a substrate of this type - Google Patents

Substrate for electrical circuits and method for producing a substrate of this type

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Publication number
EP3325265A1
EP3325265A1 EP16745646.6A EP16745646A EP3325265A1 EP 3325265 A1 EP3325265 A1 EP 3325265A1 EP 16745646 A EP16745646 A EP 16745646A EP 3325265 A1 EP3325265 A1 EP 3325265A1
Authority
EP
European Patent Office
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layer
aluminum
composite
copper
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP16745646.6A
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Andreas Meyer
Karsten Schmidt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rogers Germany GmbH
Original Assignee
Rogers Germany GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rogers Germany GmbH filed Critical Rogers Germany GmbH
Publication of EP3325265A1 publication Critical patent/EP3325265A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H05K2203/1126Firing, i.e. heating a powder or paste above the melting temperature of at least one of its constituents

Definitions

  • Substrates The invention relates to a substrate for electrical circuits and to a method for producing such a substrate.
  • such substrates are of multilayer construction and have at least one insulating layer and at least one connected to this insulating layer
  • the metal layer or metallization is flat with the insulation layer either directly or possibly via additional metal or
  • Insulation layers connected and is structured to form interconnects, contacts, contact and / or pads in several Metalltechnisches vomabête.
  • Insulation resistance i. Have voltage and dielectric strength.
  • metal-ceramic substrates are often used whose insulation layer is characterized by at least one high
  • the ceramic layer is made of, for example, an oxide, nitride or carbide ceramic such as alumina (Al 2 O 3) or aluminum nitride (AlN) or silicon nitride (Si 3 N 4) or silicon carbide (SiC) or alumina with zirconia (Al 2 O 3 + ZrO 2).
  • oxide, nitride or carbide ceramic such as alumina (Al 2 O 3) or aluminum nitride (AlN) or silicon nitride (Si 3 N 4) or silicon carbide (SiC) or alumina with zirconia (Al 2 O 3 + ZrO 2).
  • the paper structure in the paper structure up to 85 wt .-% is enriched with functional fillers, for example with a sinterable ceramic powder, highly adsorptive powder or powder with good thermal conductivity.
  • a sinterable ceramic powder such as alumina powder preceramic paper is optionally after another
  • the present invention seeks to provide a substrate for electrical circuits and an associated method for producing such a substrate, which is simple and inexpensive compared to the known manufacturing processes.
  • the object is achieved by a substrate according to the patent claim 1 and a method according to the patent claim 1 5.
  • the essential aspect of the substrate according to the invention for electrical circuits is to be seen in that at least one first produced by roll-plating Composite layer is provided, which after the roll cladding at least one
  • Copper layer and an adjoining aluminum layer has. At least the side of the aluminum layer facing away from the copper layer is anodised to produce an anodization layer made of aluminum oxide, and the anodization layer or insulating layer made of aluminum oxide is at least one anodized
  • Adhesive layer is connected to a metal layer or at least a second composite layer or a paper ceramic layer.
  • the roll-laminated composite layer is fast, easy and inexpensive to produce and advantageous as a roll or
  • the layer thickness can be selected depending on the required insulation properties.
  • the metal layer can assume a cooling function and a corresponding material thickness and / or
  • Insulation resistance in particular the voltage and dielectric strength are further increased.
  • Insulation resistance in particular the voltage and dielectric strength are further increased.
  • the second composite layer also has an anodizing or
  • Insulation layer on and the anodization of the first and second composite layer are connected to each other via the at least one adhesive layer, i. There is a direct connection between the two composite layers via at least one adhesive layer.
  • first and second composite layers are connected to each other via at least one further intermediate layer by means of an adhesive layer in each case.
  • the intermediate layer is formed in one embodiment by an aluminum layer, which is used to produce two opposite Eloxal- or
  • Insulation layers of aluminum oxide at their opposite
  • the intermediate layer can be formed by a third composite layer comprising an aluminum layer, a copper layer and a further aluminum layer, wherein in each case the surface side of the aluminum layers facing away from the copper layer is used to produce two opposing anodized or
  • Insulating layers of aluminum oxide are anodized.
  • the anodization or insulating layers made of aluminum oxide of the first composite layer is preferably via an adhesive layer with the one anodization or insulating layers of aluminum oxide of the respective intermediate layer and the anodized or
  • Insulation layers of aluminum oxide of the second composite layer connected via a further adhesive layer with the other anodization or insulating layers of aluminum oxide of the respective intermediate layer. Due to the described construction of the intermediate layers, improved heat spreading and dissipation as well as improved insulation resistance can be achieved.
  • the respective aluminum layer is led to anodized over part of its layer thickness, or the layer thickness of the insulation layer produced from the at least partially converted aluminum layer is between 5 ⁇ m and 50 ⁇ m.
  • At least one aluminum layer of the substrate can be completely anodized and thus the aluminum layer can be completely converted into the anodized or insulating layer of aluminum oxide.
  • an anodic coating is advantageous since contamination of the etching bath for introducing structuring into the copper layer through the aluminum layers can be avoided.
  • the copper layer has a layer thickness of between 35 ⁇ m and 2 mm
  • the aluminum layer has a layer thickness of between 10 ⁇ m and 300 ⁇ m and the
  • Metal l stands a layer thickness between 300 vm and 50 mm.
  • At least one aluminum layer has a profiling introduced before the anodization process is carried out, which, for example, has a multiplicity of pyramid-shaped or prism-shaped recesses includes.
  • a profiling introduced before the anodization process is carried out which, for example, has a multiplicity of pyramid-shaped or prism-shaped recesses includes.
  • an adhesive layer which is made of an epoxy resin adhesive, acrylic adhesive or polyurethane adhesive.
  • the adhesive used to make the adhesive layer has an advantageous
  • At least one of the copper layers for forming printed conductors, contact surfaces and / or connection surfaces is structured in a plurality of metallization sections.
  • the copper layer of the composite layer is patterned and forms the layout side of the substrate.
  • structuring of the two metallizations of the substrate can also be carried out.
  • the invention likewise provides a process for producing a substrate for electrical circuits, in which at least one first composite layer is produced from a copper foil and at least one aluminum foil by means of roll cladding, the at least one copper layer and an adjoining one
  • An aluminum layer in which at least the copper layer facing away from the surface side of the aluminum layer is anodized and thereby an anodic or insulating layer of aluminum oxide is produced, wherein the produced anodization or insulating layer of aluminum oxide over at least one adhesive layer with a metal layer or at least a second composite layer is glued.
  • Fig. 1 is a simplified schematic sectional view through a
  • inventive substrate comprising a first composite layer and a metal layer
  • Fig. 2 is a simplified sectional view through an alternative
  • Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first and second composite layer
  • Fig. 3 is a simplified sectional view through a further alternative
  • Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first and second composite layer with an intermediate layer
  • Fig. 4 is a simplified sectional view through a turn alternative
  • Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first to third composite layer
  • Fig. 5 is a simplified sectional view through a further alternative
  • Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first and second composite layer, each having a profiled insulation layer, a simplified schematic sectional view through a
  • FIG. 7 is a simplified schematic sectional view through a substrate according to FIG. 6 with a differently constructed composite layer and a solder connection to the paper-ceramic layer and FIG
  • FIG. 8 is a schematic sectional view through an eloxal bath for anodising the aluminum layer or aluminum alloy layer of a roll-bonded composite layer.
  • Figure 1 shows in a simplified schematic representation a section through an inventively designed substrate 1 for electrical circuits, which has a plate-shaped and multilayer structure, i. in the form of a
  • Printed circuit board is formed.
  • the substrate 1 according to the invention consists in a first embodiment of at least one first composite layer 2, which is produced by roll-plating a Kupferfol with at least one aluminum foil. Accordingly, the first composite layer 2 has a copper layer 3 and an adjoining one
  • the aluminum layer 4 is made to produce an insulating layer 5
  • Anodized alumina namely, the insulating layer 5 extends
  • Aluminum layer 4, ie a part of the aluminum layer 4 of the first composite layer 2 is subjected to an anodization process known per se, namely an anodic oxidation, and thereby converted into an insulation layer 5 of aluminum oxide or anodized layer.
  • the insulating layer 5 of alumina has a high voltage and dielectric strength and a thermal conductivity between 8 W / mK and 30 W / mK.
  • the insulating layer 5 of the inventively embodied substrate 1 is connected via an adhesive layer 6, for example, with a metal ltik 7 or glued.
  • the adhesive layer 6 preferably extends completely over the surface of the insulating layer 5.
  • the metal layer 7 may be formed, for example, by a further aluminum layer or an aluminum plate for cooling purposes.
  • the metal ltik 7 forms in a preferred embodiment of a heat sink and can on the opposite side of the adhesive layer 6 have a profile ization for increasing the surface, the most varied shape, especially in H inblick on shape, arrangement and depth of existing
  • Recesses may be formed.
  • Adhesives or adhesives of low viscosity are preferably used in order to fill the porous surface of the produced anodized layer or insulation layer 5 made of aluminum oxide and thus to further increase the insulation resistance of the substrate 1.
  • the copper layer 3 has within the first composite layer 1 a layer thickness d 1 between 35 / vm and 2 mm and the aluminum layer 4 a layer thickness d2 between 1 0 ⁇ and 300 ⁇ , wherein the layer thickness d3 of the at least partially converted aluminum layer 4 hergestel Leten insulation layer 5 is between 5 ⁇ and 50 ⁇ .
  • the aluminum layer 4 may also be completely anodized, ie, the completely anodized aluminum layer 4 forms the insulating layer 5.
  • the adhesive layer 6 preferably has a layer thickness d4 between 1 ⁇ and 20 on.
  • the layer thickness d5 of the metal ltik 7 is between 300 ⁇ and 50 mm.
  • the substrate 1 serves as printed circuit boards for electrical or electronic circuits or circuit modules, in particular for electronic power circuits.
  • the copper layer 3 of the first composite layer 1 is structured by means of masking and etching technologies known per se into a plurality of metalization sections which form, for example, printed conductors, contact surfaces and / or terminal surfaces.
  • the structuring of the copper layer 3 of the first is preferably carried out Composite layer 1 after the manufacture ment of the substrate. 1 Due to the very thin anodized or insulating layer 5 is preferably only one of
  • Composite layer 2 structured in order to ensure sufficient stability of the substrate 1 administratzustel len. In a corresponding stability enhancing intermediate layer, however, is also a structuring of both metal lations of the substrate 1,
  • the metal ltik 7 I like.
  • the structuring of the copper layer 3 of the first composite layer 2 is preferably up to the anodized layer or
  • Insulation layer 5 made of aluminum oxide.
  • Fig. 2 shows an alternative embodiment of the substrate 1 according to Figure 1, in which instead of the metal layer 7, a second composite layer 2 'on the
  • Adhesive layer 6 is connected to the first composite layer 2.
  • the first and second composite layers 2, 2 ' have a similar, preferably identical construction, i. the second composite layer 2 'also comprises a copper layer 3', an adjoining aluminum layer 4 ', which is at least partially converted into an insulating layer 5' of aluminum oxide or anodized layer by means of anodizing on its surface opposite the copper layer 3 '.
  • the connected with each other is connected with each other
  • Insulating layers 5, 5 ' are, for example, directly connected to one another via the adhesive layer 6. By providing two insulation layers 5, 5 ', the insulation strength of the substrate 1 increases further.
  • first and second composite layers 2, 2 'are produced preferably from the same roll-plated composite material layer, and then an adhesive layer 6 is applied to at least one of the insulation layers 5, 5', preferably both insulation layers 5, 5 ', the composite layers thus prepared 2, 2 'are then brought together and glued or laminated together.
  • the adhesive or adhesive of the adhesive layer 6 is subsequently cured, for example by appropriate application of pressure and / or temperature.
  • structured substrate 1 can still be performed an edge seal, but this is not mandatory. Also, a preparation of the substrates 1 according to the invention in the form of
  • Metal layer 7 different from the prior art preferably also up to the edge of the cut edge of the respective substrate. 1
  • FIG. 3 shows a further alternative embodiment variant of a substrate 1 according to the invention, in which a further aluminum layer 4 "is arranged to further increase the stress and breakdown strength between the first and second composite layers 2, 2 'according to the embodiment of FIG Top and bottom to produce an insulating layer 5 "of alumina are each anodized.
  • a further aluminum layer 4 " is arranged to further increase the stress and breakdown strength between the first and second composite layers 2, 2 'according to the embodiment of FIG Top and bottom to produce an insulating layer 5 "of alumina are each anodized.
  • the insulation layer or insulation layers 5 '' are connected to the insulation layers 5, 5 'of the first and second composite layers 2, 2' via an adhesive layer 6, 6.
  • a third composite layer 2 "' consisting of a central copper layer 3" whose top and bottom is provided with an aluminum layer 4 ", 4" ', wherein the respective aluminum layer 4 ", 4" 'analogous to the aforementioned embodiments each have an insulating layer 5'.
  • the connection of the insulation layers 5, 5 ', 5 “of the first to third composite layer 2, 2', 2" takes place in turn via one in each case
  • Adhesive layer 6, 6 ' Adhesive layer 6, 6 '.
  • the copper layer 3 can also be used electrically and structured, for example, into a plurality of metallization sections be. It is understood that several central copper layers 3 "can be provided.
  • an aluminum layer 4, 4 'with an increased layer thickness d2 between 0.1 mm and 1 mm is used here.
  • Aluminum foil produced preferably in the form of a band.
  • the described composite layers 2, 2 ', 2 can be manufactured as plate goods, so that the plate-rolled, but not yet anodized composite layers 2, 2', 2" can advantageously be either as a strip on a roll or in sheet form be provided for the further manufacturing process.
  • Composite layer 2, 2 ', 2 " is preferably carried out in a continuous installation or in a corresponding immersion basin. 2 'connected by applying the adhesive layer 6, 6' either with each other or with the metal layer 7. Before or after complete curing of the
  • Adhesive layer 6, 6 ' takes place a cutting of the tape or plate goods and subsequent drying.
  • the dried individual layers or plates, which may each be formed as multiple substrates, are subsequently masked and etched by means of known masking and etching technologies and thereby a predetermined structuring of at least one of the copper layers 3, 3 'is carried out.
  • the insulation strength of the substrate 10 is further increased by the fact that instead of the metal layer 7, a paper-ceramic layer 11 is used.
  • the substrate 10 has a composite layer 12 with a metal layer 1 3 and at least one aluminum layer 14.
  • Composite layer 12 is therefore also at least partially anodized, so that an anodized layer 1 5 is formed, which in turn is connected via an adhesive layer 16 with the paper ceramic layer 1 1.
  • the anodizing layer 15 serves here
  • a paper-ceramic layer 1 1 is understood as meaning a paper structure enriched in papermaking with a sinterable ceramic powder, preferably alumina powder, from which a preceramic paper structure is produced.
  • the proportion of the sinterable ceramic powder in the total volume of the preceramic paper structure is preferably between 80 and 90% by weight.
  • the preceramic paper structure is subjected to a two-stage thermal conversion process and in the first stage from the preceramic
  • Paper structure ("Green ing") initially produces a “Braunl ing", in which the organic components of the preceramic paper structure, such as Zel material, starch and latex are oxidatively removed. Subsequently, in the second stage, the "browning" is fed to a sintering process, whereby a ceramic material, namely the paper ceramics with the typical material properties of a ceramic material is formed, such as a high bending and insulation strength
  • paper-ceramic layer 11 is compared to a conventional one
  • the paper-ceramic layer 1 1 used according to the invention has, for example, a layer thickness d6 of between 50 and 600 ⁇ m, preferably 80 ⁇ m and 1 50 ⁇ m, and has an E-modulus between 90 ⁇ Pa and 1 50 ⁇ Pa.
  • the structuring of the metal ltik 1 3 again takes place by means of per se known masking and etching technologies, preferably after manufacture ment of
  • a composite layer 12 ' is used, which in addition to the copper layer 1 3 and the aluminum layer 14 a thereto
  • aluminum-silicon layer 18, which is also manufactured by roll-plating, and that is preferably initially a composite of the
  • Aluminum layer 1 4 an adjoining aluminum-silicon layer 1 8 produced by roller cladding and this composite again with the copper layer 1 third
  • the aluminum-silicon layer 1 8 of the composite layer 1 2 ' is connected to the paper-ceramic layer 1 1 via a solder layer 1 9.
  • An appropriately designed substrate 10 is schematically illustrated, for example, in FIG. 7.
  • the soldering of the paper oxide layer 1 1 made of aluminum oxide is carried out under protective gas, for example N 2 or AR, and using the aluminum silicon eutectic.
  • cracks are also poured out in the insulating layers 5, 5 'when a low-viscosity adhesive is used, for example, by the composite layer 2, 2' being heated accordingly, but below that
  • Temperature increase can be done stepwise or continuously over a given period.
  • a step-like temperature increase can be done stepwise or continuously over a given period.
  • Binder The curing temperatures of common adhesives are included
  • Nanofibers be enriched.
  • the composite layers 2, 2 'produced by roll cladding have a significantly thinner aluminum layer 4, 4', 4 "compared to the copper layers 3, 3 ', and the layer thickness d2 of the aluminum layer 4, 4', 4" is less than half the layer thickness d1 of the copper layers 3, 3 ', preferably even less than one third of the layer thickness d1 of the copper layers 3, 3'.
  • the adhesive bond between the different composite layers or layers can be carried out after applying the adhesive in the composite by means of lamination or rolling in order to keep the thickness d4 of the adhesive layer 6 low.
  • the substrates 1 can be subjected to a vacuum after the application of the adhesive to any gas influences present in the anodization layer or insulation layer 5 made of aluminum oxide, which causes an increase and thus deterioration of the
  • Insulation resistance contribute to be able to remove.
  • the respective adhesive layer 6, 6 ', 6 has at least two different adhesives, which are preferably applied one behind the other in a layer-like manner
  • the epoxy can be processed at a higher temperature compared to the epoxy adhesive to reduce its viscosity. Also can excess
  • the hardener portion of the epoxy adhesive also diffuses into the pure, already processed epoxide in the filled defects and also hardens them with.
  • FIG. 8 shows, by way of a schematic drawing, a corresponding eloxal bath 20 with a cathode 22 and the anode formed by the copper layer or copper alloy layer 23, against which a DC voltage U is applied.
  • the inventors have recognized that the occurrence of such a short circuit can be counteracted by complete masking or covering of the surfaces of the copper layers 23 by a frame-shaped cover element, ie the contact of the electrolyte 21 with the copper layers 23 is effectively prevented, whereas that for the Anodizing required contact with the aluminum layer 24 is still given.
  • the masking can be done in an alternative embodiment by applying a protective film or a protective lacquer or a combination thereof. Common to each of these methods is the sealing effect against the electrolyte 1 1.
  • auxiliary electrodes 26 for example metallic sheets or components, which may be provided with a corresponding coating and which is resistant to the chemical components of the Eloxalbades 20 used and the present electric fields.
  • the auxiliary electrodes 26 are electrically connected to the anode, so that the Geleichschreib U or the resulting electric field between the auxiliary electrode 26 and the surface of the
  • Copper layer 23 of the composite layer 25 is zero. This is no
  • Aluminum alloy layer 24 of the composite layer 25 received therein is greater than 0mm but less than 10mm, preferably between 0 and 1mm.

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Abstract

The invention relates to a substrate (1) for electrical circuits comprising at least one first composite layer (2) which is produced by means of roll cladding and, after said roll cladding, has at least one copper layer (3) and an aluminium layer (4) attached thereon, wherein at least the surface side of the aluminium layer (4) facing away from the copper layer (3) is anodised for the generation of an anodic or insulating layer (5) made of aluminium oxide, and wherein the anodic or insulating layer (5) made of aluminium oxide is connected to a metal layer (7) or at least one second composite layer (2') or at least one paper-ceramic layer (11) via at least one adhesive layer (6, 6').

Description

Substrat für elektrische Schaltkreise und Verfahren zur Herstellung eines derartigen  Substrate for electrical circuits and method for producing such
Substrates Die Erfindung betrifft ein Substrat für elektrische Schaltkreise sowie ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Substrates.  Substrates The invention relates to a substrate for electrical circuits and to a method for producing such a substrate.
Substrate für elektrische Schaltkreise in Form von Leiterplatten sind hinlänglich bekannt. Substrates for electrical circuits in the form of printed circuit boards are well known.
Derartige Substrate sind hierzu mehrschichtig ausgebildet und weisen zumindest eine Isolationsschicht und zumindest eine mit dieser Isolationsschicht verbundene For this purpose, such substrates are of multilayer construction and have at least one insulating layer and at least one connected to this insulating layer
Metallschicht oder Metallisierung auf. Die Metallschicht oder Metallisierung ist flächig mit der Isolationsschicht entweder direkt oder ggf. über weitere Metall- oder Metal layer or metallization on. The metal layer or metallization is flat with the insulation layer either directly or possibly via additional metal or
Isolationsschichten verbunden und ist zur Ausbildung von Leiterbahnen, Kontakten, Kontakt- und/oder Anschlussflächen in mehrere Metallisierungsflächenabschnitte strukturiert. Insulation layers connected and is structured to form interconnects, contacts, contact and / or pads in several Metallisierungsflächenabschnitte.
Insbesondere bei Verwendung derartiger Substrate im Bereich der Leistungselektronik, und zwar so genannte„low voltage"-Anwendungen, beispielsweise zum Aufbau von Leistungshalbleiter-Modulen in einem Spannungsbereich von kleiner 2,5 kV, ist es erforderlich, dass die Substrate bzw. die Isolationsschicht eine hohe In particular, when using such substrates in the field of power electronics, namely so-called "low voltage" applications, for example, for the construction of power semiconductor modules in a voltage range of less than 2.5 kV, it is necessary that the substrates or the insulating layer height
Isolationsfestigkeit, d.h. Spannungs- und Durchschlagfestigkeit aufweisen. Im Bereich der Leistungselektronik kommen daher häufig Metall-Keramik-Substrate zum Einsatz, deren Isolationsschicht durch zumindest eine eine hohe Insulation resistance, i. Have voltage and dielectric strength. In the field of power electronics, therefore, metal-ceramic substrates are often used whose insulation layer is characterized by at least one high
Isolationsfestigkeit aufweisende Keramikschicht gebildet ist. Die Keramikschicht ist beispielsweise aus einer Oxid-, Nitrid- oder Karbidkeramik wie Aluminiumoxid (AI2O3) oder Aluminiumnitrid (AIN) oder Siliziumnitrid (Si3N4) oder Siliziumkarbid (SiC) oder aus Aluminiumoxid mit Zirkonoxid (Al2O3 + ZrO2) hergestellt. Insulation resistance having ceramic layer is formed. The ceramic layer is made of, for example, an oxide, nitride or carbide ceramic such as alumina (Al 2 O 3) or aluminum nitride (AlN) or silicon nitride (Si 3 N 4) or silicon carbide (SiC) or alumina with zirconia (Al 2 O 3 + ZrO 2).
Zur flächigen Verbindung der Keramikschicht mit zumindest einer eine Metallisierung bildenden Metallschicht finden abhängig vom verwendeten Keramikmaterial und/oder dem zu bondenden Metall der Metallschicht unterschiedliche, an sich bekannte Herstellungsverfahren Verwendung, und zwar beispielsweise ein„Direct-Copper- Bonding"-Verfahren, ein„Direct-Aluminium-Bonding"-Verfahren und ein„Active- Metal-Bonding"-Verfahren. Nachteilig sind derartige Herstellungsverfahren For surface connection of the ceramic layer with at least one metal layer forming a metallization, depending on the ceramic material used and / or the metal to be bonded of the metal layer different, known per se manufacturing method use, namely, for example, a "direct copper Bonding "method, a" direct aluminum bonding "method and an" active metal bonding "method
prozesstechnisch aufwendig und kosten intensiv. Auch ist bei der Verwendung von herkömmlichen Keramikschichten die Formgebung eingeschränkt. process technology consuming and cost intensive. Also, when using conventional ceramic layers, the shape is limited.
Ferner sind Verfahren zur Herstellung von hochgefüllten Papieren bekannt, bei denen beim Papierherstellungsprozess das Papiergefüge bis zu 85 Gew.-% mit funktionalen Füllstoffen angereichert wird, beispielsweise mit einem sinterfähigen keramischen Pulver, hoch adsorptiven Pulver oder Pulver mit guter Wärmeleitfähigkeit. Aus dem mit einem sinterfähigen keramischen Pulver, beispielsweise Aluminiumoxid-Pulver angereicherten präkeramischen Papier wird ggf. nach einem weiterer Furthermore, methods for the production of highly filled papers are known in which the paper structure in the paper structure up to 85 wt .-% is enriched with functional fillers, for example with a sinterable ceramic powder, highly adsorptive powder or powder with good thermal conductivity. From the enriched with a sinterable ceramic powder, such as alumina powder preceramic paper is optionally after another
Verformungsprozess durch thermische Umsetzung, u.a. Durchführung einer zweistufigen thermischen Umsetzung ein so genanntes Sinterpapier bzw. eine Papierkeramik hergestellt. Im Rahmen der ersten Stufe der thermischen Umsetzung werden die organischen Komponenten der präkeramischen Papiere, beispielsweise Zellstoff, Stärke und Latex oxidativ entfernt, wodurch ein so genannter„Braunling" entsteht. Anschließend wird in einer zweiten Stufe der thermischen Umsetzung der „Braunling" gesintert und es entsteht ein keramischer Werkstoff mit der typischen Biegefestigkeit einer Keramik. Die Mikrostruktur dieses Sinterpapiers bzw. der Papierkeramik zeigt u.a. die für Keramiken typische Materialeigenschaften, beispielsweise auch eine hohe Isolationsfestigkeit. Bei derartigen Papierkeramiken können die Vorteile von keramischen Materialien mit den papiertechnischen Deformation process by thermal reaction, i.a. Carrying out a two-stage thermal reaction, a so-called sintered paper or a paper ceramics produced. As part of the first stage of the thermal conversion, the organic components of the preceramic papers, such as pulp, starch and latex, are oxidatively removed to form a so-called "brownling." Subsequently, in a second stage of the thermal conversion, the "brownling" is sintered The result is a ceramic material with the typical bending strength of a ceramic. The microstructure of this sintered paper or of the paper ceramics shows i.a. typical for ceramics material properties, for example, a high insulation resistance. In such paper ceramics, the advantages of ceramic materials with the paper technology
Vorteilen, beispielsweise der einfachen Verformung und des geringen Gewichts miteinander verbunden werden. Benefits, such as the simple deformation and low weight are connected together.
Ausgehend vom voranstehend genannten Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Substrat für elektrische Schaltkreise sowie ein zugehöriges Verfahren zur Herstellung eines derartigen Substrates aufzuzeigen, welches im Vergleich zu den bekannten Herstellungsverfahren einfach und kostengünstig ist. Die Aufgabe wird durch ein Substrat gemäß dem Patentanspruch 1 und ein Verfahren gemäß den Patentanspruch 1 5 gelöst. Based on the above-mentioned prior art, the present invention seeks to provide a substrate for electrical circuits and an associated method for producing such a substrate, which is simple and inexpensive compared to the known manufacturing processes. The object is achieved by a substrate according to the patent claim 1 and a method according to the patent claim 1 5.
Der wesentliche Aspekt des erfindungsgemäßen Substrates für elektrische Schaltkreise ist darin zu sehen, dass zumindest eine mittels Walzplattieren hergestellte erste Verbundschicht vorgesehen ist, die nach dem Walzplattieren zumindest eine The essential aspect of the substrate according to the invention for electrical circuits is to be seen in that at least one first produced by roll-plating Composite layer is provided, which after the roll cladding at least one
Kupferschicht und eine daran anschließende Aluminiumschicht aufweist. Zumindest die von Kupferschicht abgewandten Oberflächenseite der Aluminiumschicht ist zur Erzeugung einer Eloxal- bzw. Isolationsschicht aus Aluminiumoxid eloxiert und die Eloxal- bzw. Isolationsschicht aus Aluminiumoxid über zumindest eine Copper layer and an adjoining aluminum layer has. At least the side of the aluminum layer facing away from the copper layer is anodised to produce an anodization layer made of aluminum oxide, and the anodization layer or insulating layer made of aluminum oxide is at least one anodized
Klebstoffschicht mit einer Metallschicht oder zumindest einer zweiten Verbundschicht oder einer Papierkeramikschicht verbunden ist. Die walzplattierte Verbundschicht ist schnell, einfach und kostengünstig herstellbar und vorteilhaft als Rollen- oder  Adhesive layer is connected to a metal layer or at least a second composite layer or a paper ceramic layer. The roll-laminated composite layer is fast, easy and inexpensive to produce and advantageous as a roll or
Plattenware hergestellt und in den Folgeprozessen verarbeitet werden. Die Plate goods are manufactured and processed in the subsequent processes. The
erforderliche Isolationsfestigkeit des Substrates wird durch die Erzeugung einer Isolationsschicht aus Aluminiumoxid durch entsprechendes Oxidieren der required insulation resistance of the substrate is by generating an insulating layer of alumina by appropriately oxidizing the
Aluminiumschicht erreicht, deren Schichtdicke abhängig von den erforderlichen Isolationseigenschaften gewählt sein kann. Hierbei kann die Metallschicht eine Kühlfunktion übernehmen und eine entsprechende Materialstärke und/oder Achieved aluminum layer, the layer thickness can be selected depending on the required insulation properties. Here, the metal layer can assume a cooling function and a corresponding material thickness and / or
Oberflächenvergrößerung aufweisen. Bei Verwendung einer zweiten Verbundschicht, die vorzugsweise analog zur ersten Verbundschicht aufgebaut ist, kann die Have surface enlargement. When using a second composite layer, which is preferably constructed analogously to the first composite layer, the
Isolationsfestigkeit, insbesondere die Spannungs- und Durchschlagfestigkeit noch weiter erhöht werden. Alternativ kann durch die Verwendung einer Insulation resistance, in particular the voltage and dielectric strength are further increased. Alternatively, by using a
Papierkeramikschicht die Isolationsfestigkeit ebenfalls verbessert werden. Paper ceramic layer the insulation resistance are also improved.
Vorteilhaft weist die zweite Verbundschicht ebenfalls eine Eloxal- bzw. Advantageously, the second composite layer also has an anodizing or
Isolationsschicht auf und die Eloxal- bzw. Isolationsschichten der ersten und zweiten Verbundschicht sind über die zumindest eine Klebstoffschicht miteinander verbunden, d.h. es besteht eine direkte Verbindung zwischen den beiden Verbundschichten über zumindest eine Klebstoffschicht. Insulation layer on and the anodization of the first and second composite layer are connected to each other via the at least one adhesive layer, i. There is a direct connection between the two composite layers via at least one adhesive layer.
Alternativ sind die erste und zweite Verbundschicht über zumindest eine weitere Zwischenschicht mittels jeweils einer Klebstoffschicht miteinander verbunden. Alternatively, the first and second composite layers are connected to each other via at least one further intermediate layer by means of an adhesive layer in each case.
Die Zwischenschicht ist in einer Ausführungsvariante durch eine Aluminiumschicht gebildet, die zur Erzeugung zweier gegenüberliegender Eloxal- bzw. The intermediate layer is formed in one embodiment by an aluminum layer, which is used to produce two opposite Eloxal- or
Isolationsschichten aus Aluminiumoxid an ihren einander gegenüberliegenden  Insulation layers of aluminum oxide at their opposite
Oberflächenseiten eloxiert ist. Alternativ kann die Zwischenschicht durch eine dritte Verbundschicht umfassend eine Aluminiumschicht, eine Kupferschicht und eine weitere Aluminiumschicht gebildet sein, wobei jeweils die von der Kupferschicht abgewandten Oberflächenseite der Aluminiumschichten zur Erzeugung zweier gegenüberl iegender Eloxal- bzw. Surface sides is anodized. Alternatively, the intermediate layer can be formed by a third composite layer comprising an aluminum layer, a copper layer and a further aluminum layer, wherein in each case the surface side of the aluminum layers facing away from the copper layer is used to produce two opposing anodized or
Isolationsschichten aus Aluminiumoxid eloxiert sind. Insulating layers of aluminum oxide are anodized.
Die Eloxal- bzw. Isolationsschichten aus Aluminiumoxid der ersten Verbundschicht ist vorzugsweise über eine Klebstoffschicht mit der einen Eloxal- bzw. Isolationsschichten aus Aluminiumoxid der jeweil igen Zwischenschicht und die Eloxal- bzw. The anodization or insulating layers made of aluminum oxide of the first composite layer is preferably via an adhesive layer with the one anodization or insulating layers of aluminum oxide of the respective intermediate layer and the anodized or
Isolationsschichten aus Aluminiumoxid der zweiten Verbundschicht über eine weitere Klebstoffschicht mit der anderen Eloxal- bzw. Isolationsschichten aus Aluminiumoxid der jeweil igen Zwischenschicht verbunden. Durch den beschriebenen Aufbau der Zwischenschichten kann eine verbesserte Wärmespreizung und -ableitung sowie eine verbesserte Isolationsfestigkeit erzielt werden. Insulation layers of aluminum oxide of the second composite layer connected via a further adhesive layer with the other anodization or insulating layers of aluminum oxide of the respective intermediate layer. Due to the described construction of the intermediate layers, improved heat spreading and dissipation as well as improved insulation resistance can be achieved.
In einer Ausführungsvariante ist die jeweil ige Aluminiumschicht ledigl ich über einen Teil ihrer Schichtdicke eloxiert bzw. die Schichtdicke der aus der zumindest teilweise umgewandelten Aluminiumschicht hergestel lten Isolationsschicht beträgt zwischen 5 /vm und 50 vm. In one embodiment variant, the respective aluminum layer is led to anodized over part of its layer thickness, or the layer thickness of the insulation layer produced from the at least partially converted aluminum layer is between 5 μm and 50 μm.
Alternativ kann zumindest eine Aluminiumschicht des Substrates vol lständig eloxiert sein und damit die Aluminiumschicht vollständig in die Eloxal- bzw. Isolationsschicht aus Aluminiumoxid umgewandelt sein. Insbesondere bei Aluminiumschichten geringer Schichtdicke ist eine vol lständige U mwandlung eine Eloxalschicht vorteilhaft, da eine Verunreinigung des Ätzbades zur Einbringung einer Strukturierung in die Kupferschicht durch die Aluminiumschichten vermieden werden kann. Alternatively, at least one aluminum layer of the substrate can be completely anodized and thus the aluminum layer can be completely converted into the anodized or insulating layer of aluminum oxide. Particularly in the case of aluminum layers having a small layer thickness, an anodic coating is advantageous since contamination of the etching bath for introducing structuring into the copper layer through the aluminum layers can be avoided.
Vorteilhaft weist d ie Kupferschicht eine Schichtdicke zwischen 35 μνη und 2 mm, die Aluminiumschicht eine Schichtdicke zwischen 1 0 /vm und 300 μνη und die Advantageously, the copper layer has a layer thickness of between 35 μm and 2 mm, the aluminum layer has a layer thickness of between 10 μm and 300 μm and the
Metal lschicht eine Schichtdicke zwischen 300 vm und 50 mm auf. Metal lschicht a layer thickness between 300 vm and 50 mm.
In einer Ausführungsvariante der Erfindung weist zumindest eine Aluminiumschicht eine vor der Durchführung des Eloxal-Verfahrens eingebrachte Profilierung auf, die beispielsweise eine Vielzahl von pyramiden- oder prismenförmigen Ausnehmungen umfasst. Hierdurch wird die Oberfläche der im Nachgang erzeugten Eloxal- bzw. Isolationsschicht vergrößert und damit die Haftkraft der Klebeverbindung sowie die Wärmeleitfähigkeit des Substrates verbessert. Bei direkter Verbindung zweier In one embodiment variant of the invention, at least one aluminum layer has a profiling introduced before the anodization process is carried out, which, for example, has a multiplicity of pyramid-shaped or prism-shaped recesses includes. As a result, the surface of the subsequently generated anodization or insulation layer is increased and thus improves the adhesive force of the adhesive bond and the thermal conductivity of the substrate. With direct connection of two
Verbundschichten über eine Klebstoffschicht sind die Profilierungen der jeweiligen Aluminiumschichten aneinander angepasst, und zwar derart, dass diese ineinander verzahnen. Composite layers over an adhesive layer, the profiles of the respective aluminum layers are adapted to each other, in such a way that they interlock with each other.
Vorteilhaft findet eine Klebstoffschicht Verwendung, die aus einem Epoxidharz- Klebstoff, Acryl-Klebstoff oder Polyurethan-Klebstoff hergestellt ist. Der zur Herstellung der Klebstoffschicht verwendete Klebstoff weist in einer vorteilhaften Advantageously, an adhesive layer is used which is made of an epoxy resin adhesive, acrylic adhesive or polyurethane adhesive. The adhesive used to make the adhesive layer has an advantageous
Ausführungsvariante eine niedrige Viskosität auf, um in ggf. vorhanden Risse in den Oberflächen der Isolationsschichten eindringen und dies ausfüllen zu können. Damit werden Einschlüsse im Substrat, insbesondere im Verbindungsbereich vermieden, die zu einer Verschlechterung der Isolationsfestigkeit führen würden.  Variant to a low viscosity in order to penetrate any cracks in the surfaces of the insulation layers and fill this can. This prevents inclusions in the substrate, in particular in the connection region, which would lead to a deterioration of the insulation resistance.
Vorteilhaft ist zumindest eine der Kupferschichten zur Ausbildung von Leiterbahnen, Kontakt- und/oder Anschlussflächen in mehrere Metallisierungsabschnitte strukturiert. Vorzugsweise wird die Kupferschicht der Verbundschicht strukturiert und bildet die Layoutseite des Substrats aus. Bei entsprechender Dicke des Substrates, insbesondere Verwendung zweier Verbundschichten und ggf. einer weiteren Zwischenschicht kann auch eine Strukturierung beider Metallisierungen des Substrates durchgeführt werden. Advantageously, at least one of the copper layers for forming printed conductors, contact surfaces and / or connection surfaces is structured in a plurality of metallization sections. Preferably, the copper layer of the composite layer is patterned and forms the layout side of the substrate. With a corresponding thickness of the substrate, in particular use of two composite layers and possibly a further intermediate layer, structuring of the two metallizations of the substrate can also be carried out.
Ebenfalls ist Gegenstand der Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Substrates für elektrische Schaltkreise, bei dem aus einer Kupferfolie und zumindest einer Aluminiumfolie mittels Walzplattieren zumindest eine erste Verbundschicht hergestellt wird, die zumindest eine Kupferschicht und eine daran anschließende The invention likewise provides a process for producing a substrate for electrical circuits, in which at least one first composite layer is produced from a copper foil and at least one aluminum foil by means of roll cladding, the at least one copper layer and an adjoining one
Aluminiumschicht aufweist, bei dem zumindest die von Kupferschicht abgewandten Oberflächenseite der Aluminiumschicht eloxiert wird und dadurch eine Eloxal- bzw. Isolationsschicht aus Aluminiumoxid erzeugt wird, wobei die erzeugte Eloxal- bzw. Isolationsschicht aus Aluminiumoxid über zumindest eine Klebstoffschicht mit einer Metallschicht oder zumindest einer zweiten Verbundschicht verklebt wird. An aluminum layer, in which at least the copper layer facing away from the surface side of the aluminum layer is anodized and thereby an anodic or insulating layer of aluminum oxide is produced, wherein the produced anodization or insulating layer of aluminum oxide over at least one adhesive layer with a metal layer or at least a second composite layer is glued.
Die Ausdrucke„näherungsweise",„im Wesentlichen" oder„etwa" bedeuten im Sinne der Erfindung Abweichungen vom jeweils exakten Wert um +/- 10%, bevorzugt um +/- 5% und/oder Abweichungen in Form von für die Funktion unbedeutendenThe expressions "approximately", "substantially" or "approximately" in the sense of the invention mean deviations from the respective exact value by +/- 10%, preferably by +/- 5% and / or deviations in the form of insignificant for the function
Änderungen. Changes.
Weiterbildungen, Vorteile und Anwendungsmöglichkeiten der Erfindung ergeben sich auch aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen und aus den Figuren. Dabei sind alle beschriebenen und/oder bildlich dargestellten Merkmale für sich oder in beliebiger Kombination grundsätzlich Gegenstand der Erfindung, unabhängig von ihrer Zusammenfassung in den Ansprüchen oder deren Further developments, advantages and applications of the invention will become apparent from the following description of exemplary embodiments and from the figures. In this case, all described and / or illustrated features alone or in any combination, in principle, the subject of the invention, regardless of their summary in the claims or their
Rückbeziehung. Auch wird der Inhalt der Ansprüche zu einem Bestandteil der Beschreibung gemacht. Dependency. Also, the content of the claims is made an integral part of the description.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand der Figuren an Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen: The invention will be explained in more detail below with reference to the figures of exemplary embodiments. Show it:
Fig. 1 eine vereinfachte schematische Schnittdarstellung durch ein Fig. 1 is a simplified schematic sectional view through a
erfindungsgemäßes Substrat umfassend eine erste Verbundschicht und eine Metallschicht,  inventive substrate comprising a first composite layer and a metal layer,
Fig. 2 eine vereinfachte Schnittdarstellung durch eine alternative Fig. 2 is a simplified sectional view through an alternative
Ausführungsform eines erfindungsgemäßes Substrates umfassend eine erste und zweite Verbundschicht,  Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first and second composite layer,
Fig. 3 eine vereinfachte Schnittdarstellung durch eine weitere alternative Fig. 3 is a simplified sectional view through a further alternative
Ausführungsform eines erfindungsgemäßes Substrates umfassend eine erste und zweite Verbundschicht mit einer Zwischenschicht,  Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first and second composite layer with an intermediate layer,
Fig. 4 eine vereinfachte Schnittdarstellung durch eine wiederum alternative Fig. 4 is a simplified sectional view through a turn alternative
Ausführungsform eines erfindungsgemäßes Substrates umfassend eine erste bis dritte Verbundschicht,  Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first to third composite layer,
Fig. 5 eine vereinfachte Schnittdarstellung durch eine weitere alternative Fig. 5 is a simplified sectional view through a further alternative
Ausführungsform eines erfindungsgemäßes Substrates umfassend eine erste und zweite Verbundschicht mit jeweils profilierter Isolationsschicht, eine vereinfachte schematische Schnittdarstellung durch ein Embodiment of a substrate according to the invention comprising a first and second composite layer, each having a profiled insulation layer, a simplified schematic sectional view through a
erfindungsgemäßes Substrat mit einer Papierkeramikschicht,  Inventive substrate with a paper-ceramic layer,
Fig. 7 eine vereinfachte schematische Schnittdarstellung durch ein Substrat gemäß Fig. 6 mit einer unterschiedlich aufgebauten Verbundschicht und einer Lotverbindung zur Papierkeramikschicht und 7 is a simplified schematic sectional view through a substrate according to FIG. 6 with a differently constructed composite layer and a solder connection to the paper-ceramic layer and FIG
Fig. 8 eine schematische Schnittdarstellung durch ein Eloxalbad zum Eloxieren der Aluminiumschicht bzw. Aluminiumlegierungsschicht einer walzplattierten Verbundschicht. 8 is a schematic sectional view through an eloxal bath for anodising the aluminum layer or aluminum alloy layer of a roll-bonded composite layer.
Figur 1 zeigt in vereinfachter schematischer Darstellung einen Schnitt durch ein erfindungsgemäß ausgebildetes Substrat 1 für elektrische Schaltkreise, welches einen plattenförmigen und mehrschichten Aufbau aufweist, d.h. in der Form einer Figure 1 shows in a simplified schematic representation a section through an inventively designed substrate 1 for electrical circuits, which has a plate-shaped and multilayer structure, i. in the form of a
Leiterplatte ausgebildet ist. Printed circuit board is formed.
Das erfindungsgemäße Substrat 1 besteht in einer ersten Ausführungsvariante aus zumindest einer ersten Verbundschicht 2, die durch Walzplattieren einer Kupferfol mit zumindest einer Aluminiumfolie hergestellt ist. Demgemäß weist die erste Verbundschicht 2 eine Kupferschicht 3 und eine daran anschließende The substrate 1 according to the invention consists in a first embodiment of at least one first composite layer 2, which is produced by roll-plating a Kupferfol with at least one aluminum foil. Accordingly, the first composite layer 2 has a copper layer 3 and an adjoining one
Aluminiumschicht 4 auf. Aluminum layer 4 on.
Die Aluminiumschicht 4 ist zur Erzeugung einer Isolationsschicht 5 aus The aluminum layer 4 is made to produce an insulating layer 5
Aluminiumoxid eloxiert, und zwar erstreckt sich die Isolationsschicht 5 aus Anodized alumina, namely, the insulating layer 5 extends
Aluminiumoxid bzw. Eloxalschicht von der von der Kupferschicht 3 abgewandten Oberflächenseite der Aluminiumschicht 4 über zumindest einen Teil der Aluminum oxide or Eloxalschicht of the facing away from the copper layer 3 surface side of the aluminum layer 4 over at least a part of
Aluminiumschicht 4, d.h. ein Teil der Aluminiumschicht 4 der ersten Verbundschicht 2 wird einem an sich bekannten Eloxal-Verfahren, und zwar einer anodischen Oxidation unterzogen und dadurch in eine Isolationsschicht 5 aus Aluminiumoxid bzw. Eloxalschicht umgewandelt. Die Isolationsschicht 5 aus Aluminiumoxid weist eine hohe Spannungs- und Durchschlagfestigkeit und eine Wärmeleitfähigkeit zwischen 8 W/mK und 30 W/mK auf. Die Isolationsschicht 5 des erfindungsgemäß ausgebildeten Substrates 1 ist über eine Klebstoffschicht 6 beispielsweise mit einer Metal lschicht 7 verbunden bzw. verklebt. Die Klebstoffschicht 6 erstreckt sich vorzugsweise vollständig über die Oberfläche der Isolationsschicht 5. Die Metallschicht 7 kann beispielsweise durch eine weitere Aluminiumschicht oder eine Aluminiumplatte zu Kühlzwecken gebildet sein. Die Metal lschicht 7 bildet in einer bevorzugten Ausführungsvariante einen Kühlkörper aus und kann an der der Klebstoffschicht 6 gegenüberliegenden Oberflächenseite eine Profil ierung zur Oberflächenvergrößerung aufweisen, die unterschiedlichster Gestalt, insbesondere im H inblick auf Form, Anordnung und Tiefe vorhandener Aluminum layer 4, ie a part of the aluminum layer 4 of the first composite layer 2 is subjected to an anodization process known per se, namely an anodic oxidation, and thereby converted into an insulation layer 5 of aluminum oxide or anodized layer. The insulating layer 5 of alumina has a high voltage and dielectric strength and a thermal conductivity between 8 W / mK and 30 W / mK. The insulating layer 5 of the inventively embodied substrate 1 is connected via an adhesive layer 6, for example, with a metal lschicht 7 or glued. The adhesive layer 6 preferably extends completely over the surface of the insulating layer 5. The metal layer 7 may be formed, for example, by a further aluminum layer or an aluminum plate for cooling purposes. The metal lschicht 7 forms in a preferred embodiment of a heat sink and can on the opposite side of the adhesive layer 6 have a profile ization for increasing the surface, the most varied shape, especially in H inblick on shape, arrangement and depth of existing
Ausnehmungen ausgebildet sein kann. Recesses may be formed.
Als Kleber zur Erzeugung der Klebstoffschicht 6 können unterschiedl iche, zum Kleben von Aluminiumdioxid geeignete Klebstoffe Verwendung finden, beispielsweise Epoxidharz-Klebstoffe, Acryl-Klebstoffe oder Polyurethan-Klebstoffe. Bevorzugt finden Kleber bzw. Klebstoffe niedriger Viskosität Verwendung, um die poröse Oberfläche der erzeugten Eloxalschicht bzw. Isolationsschicht 5 aus Aluminiumoxid zu verfül len und damit die Isolationsfestigkeit des Substrates 1 weiter zu erhöhen. As adhesives for producing the adhesive layer 6, it is possible to use different adhesives suitable for bonding aluminum dioxide, for example epoxy adhesives, acrylic adhesives or polyurethane adhesives. Adhesives or adhesives of low viscosity are preferably used in order to fill the porous surface of the produced anodized layer or insulation layer 5 made of aluminum oxide and thus to further increase the insulation resistance of the substrate 1.
Die Kupferschicht 3 weist innerhalb der ersten Verbundschicht 1 eine Schichtdicke d 1 zwischen 35 /vm und 2 mm und die Aluminiumschicht 4 eine Schichtdicke d2 zwischen 1 0 μνη und 300 μνη, wobei die Schichtdicke d3 der aus der zumindest teilweise umgewandelten Aluminiumschicht 4 hergestel lten Isolationsschicht 5 zwischen 5 μιη und 50 μιη beträgt. In einer Ausführungsvariante der Erfindung kann die Aluminiumschicht 4 auch vollständig eloxiert sein, d.h. die vol lständig eloxierte Aluminiumschicht 4 bildet die Isolationsschicht 5. Die Klebstoffschicht 6 weist vorzugsweise eine Schichtdicke d4 zwischen 1 μνη und 20 auf. Die Schichtdicke d5 der Metal lschicht 7 beträgt zwischen 300 μνη und 50 mm. The copper layer 3 has within the first composite layer 1 a layer thickness d 1 between 35 / vm and 2 mm and the aluminum layer 4 a layer thickness d2 between 1 0 μνη and 300 μνη, wherein the layer thickness d3 of the at least partially converted aluminum layer 4 hergestel Leten insulation layer 5 is between 5 μιη and 50 μιη. In one embodiment of the invention, the aluminum layer 4 may also be completely anodized, ie, the completely anodized aluminum layer 4 forms the insulating layer 5. The adhesive layer 6 preferably has a layer thickness d4 between 1 μνη and 20 on. The layer thickness d5 of the metal lschicht 7 is between 300 μνη and 50 mm.
Das Substrat 1 dient als Leiterplatten für elektrische oder elektronische Schaltkreise oder Schaltungsmodule, insbesondere für elektronische Leistungsschaltungen. H ierzu wird zumindest die Kupferschicht 3 der ersten Verbundschicht 1 mittels an sich bekannter Maskierungs- und Ätztechnologien in mehrere Metal l isierungsabschnitte strukturiert, die beispielsweise Leiterbahnen, Kontakt- und/oder Anschlussflächen ausbilden. Vorzugsweise erfolgt die Strukturierung der Kupferschicht 3 der ersten Verbundschicht 1 nach der Herstel lung des Substrates 1 . Aufgrund der sehr dünnen Eloxalschicht bzw. Isolationsschicht 5 wird vorzugsweise nur eine der The substrate 1 serves as printed circuit boards for electrical or electronic circuits or circuit modules, in particular for electronic power circuits. For this purpose, at least the copper layer 3 of the first composite layer 1 is structured by means of masking and etching technologies known per se into a plurality of metalization sections which form, for example, printed conductors, contact surfaces and / or terminal surfaces. The structuring of the copper layer 3 of the first is preferably carried out Composite layer 1 after the manufacture ment of the substrate. 1 Due to the very thin anodized or insulating layer 5 is preferably only one of
Metal l isierungen des Substrates 1 , und zwar die Kupferschicht 3 der ersten Metal lations of the substrate 1, namely the copper layer 3 of the first
Verbundschicht 2 strukturiert, um eine ausreichende Stabil ität des Substrates 1 sicherzustel len. Bei einer entsprechenden, Stabil itätsverstärkend Zwischenschicht ist jedoch auch eine Strukturierung beider Metal l isierungen des Substrates 1 , Composite layer 2 structured in order to ensure sufficient stability of the substrate 1 sicherzustel len. In a corresponding stability enhancing intermediate layer, however, is also a structuring of both metal lations of the substrate 1,
beispielsweise der Metal lschicht 7 mögl ich. Die Strukturierung der Kupferschicht 3 der ersten Verbundschicht 2 erfolgt vorzugsweise bis zur Eloxalschicht bzw. For example, the metal lschicht 7 I like. The structuring of the copper layer 3 of the first composite layer 2 is preferably up to the anodized layer or
Isolationsschicht 5 aus Aluminiumoxid. Insulation layer 5 made of aluminum oxide.
Fig. 2 zeigt eine alternative Ausführungsvariante des Substrates 1 gemäß Figur 1 , bei der anstelle der Metallschicht 7 eine zweite Verbundschicht 2' über die Fig. 2 shows an alternative embodiment of the substrate 1 according to Figure 1, in which instead of the metal layer 7, a second composite layer 2 'on the
Klebstoffschicht 6 mit der ersten Verbundschicht 2 verbunden ist. In der dargestel lten Ausführungsform weisen die erste und zweite Verbundschicht 2, 2' einen ähnlichen, vorzugsweise identischen Aufbau auf, d.h. die zweite Verbundschicht 2' umfasst ebenfal ls eine Kupferschicht 3', eine daran anschl ießende Aluminiumschicht 4', die an ihrer der Kupferschicht 3' gegenüberliegenden Oberflächenseite zumindest teilweise in eine Isolationsschicht 5' aus Aluminiumoxid bzw. Eloxalschicht mittels Eloxieren umgewandelt ist. Die im Verbund damit einander gegenüberl iegenden Adhesive layer 6 is connected to the first composite layer 2. In the illustrated embodiment, the first and second composite layers 2, 2 'have a similar, preferably identical construction, i. the second composite layer 2 'also comprises a copper layer 3', an adjoining aluminum layer 4 ', which is at least partially converted into an insulating layer 5' of aluminum oxide or anodized layer by means of anodizing on its surface opposite the copper layer 3 '. The connected with each other
Isolationsschichten 5, 5' werden über die Klebstoffschicht 6 beispielsweise direkt miteinander verbunden. Durch das Vorsehen zweier Isolationsschichten 5, 5' erhöht sich die Isolationsfestigkeit des Substrates 1 weiter. Insulating layers 5, 5 'are, for example, directly connected to one another via the adhesive layer 6. By providing two insulation layers 5, 5 ', the insulation strength of the substrate 1 increases further.
Bei der Fertigung werden zunächst die erste und zweite Verbundschicht 2, 2' hergestellt, vorzugsweise aus derselben walzplattierten Verbundwerkstoffschicht, und dann eine Klebstoffschicht 6 auf zumindest eine der Isolationsschichten 5, 5', vorzugsweise beide Isolationsschichten 5, 5' aufgebracht, die derart vorbereiteten Verbundschichten 2, 2' werden anschließend zusammengeführt und miteinander verklebt bzw. laminiert. Der Kleber bzw. Klebstoff der Klebstoffschicht 6 wird im Anschluss daran ausgehärtet, beispielsweise durch entsprechende Beaufschlagung mit Druck und/oder Temperatur. During production, firstly the first and second composite layers 2, 2 'are produced, preferably from the same roll-plated composite material layer, and then an adhesive layer 6 is applied to at least one of the insulation layers 5, 5', preferably both insulation layers 5, 5 ', the composite layers thus prepared 2, 2 'are then brought together and glued or laminated together. The adhesive or adhesive of the adhesive layer 6 is subsequently cured, for example by appropriate application of pressure and / or temperature.
Im Anschluss daran wird zumindest eine der Kupferschichten 3, 3' mittels an sich bekannter Maskierungs- und Ätztechniken zur Ausbildung mehrere Metallisierungsabschnitte strukturiert. Nach einer Endreinigung des bereits Subsequently, at least one of the copper layers 3, 3 'by means of known masking and etching techniques for training several Metallization sections structured. After a final cleaning of the already
strukturierten Substrates 1 kann noch eine Kantenversiegelung durchgeführt werden, was jedoch nicht zwingend erforderlich ist. Auch ist eine Herstellung der erfindungsgemäßen Substrate 1 in Form von structured substrate 1 can still be performed an edge seal, but this is not mandatory. Also, a preparation of the substrates 1 according to the invention in the form of
Mehrfachsubstraten möglich, welche nach erfolgter Fertigung zu den gewünschten „Einzel"-Substraten 1 vereinzelt werden. Die Vereinzelung erfolgt bei den  Multiple substrates are possible, which are separated after the production to the desired "single" substrates 1. The singulation takes place in the
erfindungsgemäßen Substraten 1 beispielsweise mittels mechanischer Inventive substrates 1, for example by means of mechanical
Bearbeitungsvorgänge wie beispielsweise Sägen, Schneiden oder Stanzen oder unter Verwendung einer Lasereinheit. Demnach erstreckt sich die unstrukturierte Machining operations such as sawing, cutting or punching or using a laser unit. Accordingly, the unstructured extends
Metallschicht 7 unterschiedlich zum Stand der Technik vorzugsweise auch bis zum Rand der Schnittkante des jeweiligen Substrates 1 .  Metal layer 7 different from the prior art preferably also up to the edge of the cut edge of the respective substrate. 1
Fig. 3 zeigt eine weitere alternative Ausführungsvariante eines erfindungsgemäßen Substrates 1 , bei der zur weiteren Erhöhung der Spannungs- und Durchschlagfestigkeit zwischen der ersten und zweiten Verbundschicht 2, 2' gemäß der Ausführungsvariante nach Fig. 2 noch eine zusätzliche Aluminiumschicht 4" angeordnet ist, deren Ober- und Unterseite zur Erzeugung einer Isolationsschicht 5" aus Aluminiumoxid jeweils eloxiert sind. Alternativ kann auch nur eine Isolationsschicht 5" aus Aluminiumoxid vorgesehen sein, d.h. die zusätzliche Aluminiumschicht 4" ist vollständig eloxiert. Die Isolationsschicht bzw. Isolationsschichten 5" sind über jeweils eine Klebstoffschicht 6, 6' mit den Isolationsschichten 5, 5' der ersten und zweiten Verbundschicht 2, 2' verbunden. In einer weiteren alternativen Ausführungsvariante gemäß Fig. 4 ist zwischen der ersten und zweiten Verbundschicht 2, 2' des Substrates 1 gemäß Fig. 2 eine dritte Verbundschicht 2"' bestehend aus einer mittleren Kupferschicht 3" deren Ober- und Unterseite mit einer Aluminiumschicht 4", 4"' versehen ist, wobei die jeweilige Aluminiumschicht 4", 4"' analog zu vorgenannten Ausführungsbeispielen jeweils eine Isolationsschicht 5" aufweist. Die Verbindung der Isolationsschichten 5, 5', 5" der ersten bis dritten Verbundschicht 2, 2', 2" erfolgt wiederum über jeweils eine FIG. 3 shows a further alternative embodiment variant of a substrate 1 according to the invention, in which a further aluminum layer 4 "is arranged to further increase the stress and breakdown strength between the first and second composite layers 2, 2 'according to the embodiment of FIG Top and bottom to produce an insulating layer 5 "of alumina are each anodized. Alternatively, only one alumina insulating layer 5 "may be provided, i.e., the additional aluminum layer 4" is completely anodized. The insulation layer or insulation layers 5 '' are connected to the insulation layers 5, 5 'of the first and second composite layers 2, 2' via an adhesive layer 6, 6. 'In a further alternative embodiment variant according to Fig. 4, between the first and second composite layers 2, 2 'of the substrate 1 according to FIG. 2, a third composite layer 2 "' consisting of a central copper layer 3" whose top and bottom is provided with an aluminum layer 4 ", 4" ', wherein the respective aluminum layer 4 ", 4" 'analogous to the aforementioned embodiments each have an insulating layer 5'. The connection of the insulation layers 5, 5 ', 5 "of the first to third composite layer 2, 2', 2" takes place in turn via one in each case
Klebstoffschicht 6, 6'. Vorteilhaft kann die Kupferschicht 3" ebenfalls elektrisch genutzt werden und beispielsweise in mehrere Metallisierungsabschnitte strukturiert sein. Versteht sich, dass auch mehrere mittlere Kupferschichten 3" vorgesehen sein können. Adhesive layer 6, 6 '. Advantageously, the copper layer 3 "can also be used electrically and structured, for example, into a plurality of metallization sections be. It is understood that several central copper layers 3 "can be provided.
Zur Verbesserung der Wärmeübertragungseigenschaften des Substrates 1 ist in einer alternativen Ausführungsvariante gemäß Fig. 5 in die jeweilige Aluminiumschicht 4, 4' vor der Durchführung des Eloxal-Verfahrens eine Profilierung eingebracht, In order to improve the heat transfer properties of the substrate 1, in an alternative embodiment according to FIG. 5, a profiling is introduced into the respective aluminum layer 4, 4 'before the anodization process is carried out,
beispielsweise in der Form von pyramiden- oder prismenförmigen Ausnehmungen. Das Einbringen der Profilierung in die jeweilige Aluminiumschicht 4, 4' kann beispielsweise durch Prägen mittels Walzen oder durch Rädeln erfolgen. Hierdurch ist der thermische Widerstand des Substrates 1 nochmals reduzierbar. Vorzugsweise findet hier eine Aluminiumschicht 4, 4' mit einer erhöhten Schichtdicke d2 zwischen 0,1 mm und 1 mm Verwendung. for example in the form of pyramidal or prismatic recesses. The introduction of the profiling in the respective aluminum layer 4, 4 'can be done for example by embossing by means of rolling or by wheels. As a result, the thermal resistance of the substrate 1 can be reduced again. Preferably, an aluminum layer 4, 4 'with an increased layer thickness d2 between 0.1 mm and 1 mm is used here.
Auch können in einer nicht dargestellten Ausführungsvariante Kupferschicht 3, 3' mit größeren Schichtdicken d1 der ersten und/oder zweiten Verbundschicht 2, 2' gemäß Fig. 2 und 5 vor der Herstellung der Klebeverbindung 6, und zwar insbesondere nach dem Eloxieren der Aluminiumschicht 4, 4' bereits vor strukturiert werden, Also, in an embodiment variant, not shown, copper layer 3, 3 'with greater layer thicknesses d1 of the first and / or second composite layer 2, 2' according to FIGS. 2 and 5 prior to the production of the adhesive connection 6, in particular after anodization of the aluminum layer 4, 4 'are already structured before
vorzugsweise durch Stanzen, Lasern oder Wasserstrahlschneiden, d.h. ohne preferably by punching, laser cutting or water jet cutting, i. without
Verwendung einer aufwendigen Maskierungs- und Ätztechnologie. Hierdurch ist eine Reduzierung der Isograbenbreiten zwischen den strukturierten Kupferabschnitten möglich. Use of a sophisticated masking and etching technology. This makes it possible to reduce the Isograbenbreiten between the structured copper sections.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung derartiger Substrate 1 werden die Verbundschichten 2, 2', 2" durch Walzplattieren einer Kupferfolie mit einer In the method for producing such substrates 1 according to the invention, the composite layers 2, 2 ', 2 "are formed by roll-plating a copper foil with a
Aluminiumfolie bzw. einer Aluminiumfolie, einer Kupferfolie und einer weiterenAluminum foil or an aluminum foil, a copper foil and another
Aluminiumfolie hergestellt, und zwar vorzugsweise in Form eines Bandes. Es versteht sich jedoch, dass die beschriebenen Verbundschichten 2, 2', 2" als Plattenwaren gefertigt werden können. Damit können die zwar walzplattierten, jedoch noch nicht eloxierten Verbundschichten 2, 2', 2" vorteilhaft entweder als Band auf einer Rolle oder in Plattenform für den weiteren Fertigungsprozess bereitgestellt werden. Aluminum foil produced, preferably in the form of a band. However, it is understood that the described composite layers 2, 2 ', 2 "can be manufactured as plate goods, so that the plate-rolled, but not yet anodized composite layers 2, 2', 2" can advantageously be either as a strip on a roll or in sheet form be provided for the further manufacturing process.
Das anschließende Eloxieren der Aluminiumschicht 4, 4' der vorbereiteten The subsequent anodization of the aluminum layer 4, 4 'of the prepared
Verbundschicht 2, 2', 2" erfolgt vorzugsweise in einer Durchlaufanlage oder in einem entsprechenden Tauchbecken. Schließlich werden die eloxierten Verbundschichten 2, 2' durch Aufbringen der Klebstoffschicht 6, 6' entweder miteinander oder mit der Metallschicht 7 verbunden. Vor oder nach dem vollständigen Aushärten der Composite layer 2, 2 ', 2 "is preferably carried out in a continuous installation or in a corresponding immersion basin. 2 'connected by applying the adhesive layer 6, 6' either with each other or with the metal layer 7. Before or after complete curing of the
Klebstoffschicht 6, 6' erfolgt ein Schneiden der Bandware bzw. Plattenware und anschließendes Trocknen. Die getrockneten Einzellagen bzw. Platten, welche jeweils als Mehrfachsubstrate ausgebildet sein können, werden anschließend mittels bekannter Maskierungs- und Ätztechnologien maskiert und geätzt und dadurch eine vorgegebene Strukturierung zumindest einer der Kupferschichten 3, 3' vorgenommen. Alternativ kann bei Kupferschichten 3, 3' erhöhter Schichtdicke die Strukturierung der Adhesive layer 6, 6 'takes place a cutting of the tape or plate goods and subsequent drying. The dried individual layers or plates, which may each be formed as multiple substrates, are subsequently masked and etched by means of known masking and etching technologies and thereby a predetermined structuring of at least one of the copper layers 3, 3 'is carried out. Alternatively, in the case of copper layers 3, 3 'of increased layer thickness, the structuring of the
Kupferschichten 3, 3' durch Stanzen oder Schneiden mittels einer Lasereinheit oder einer Wasserstrahleinheit erfolgen. Nach Durchführung einer Schlussreinigung können die Substrate 1 vereinzelt werden, und zwar vorzugsweise unter Verwendung einer Lasereinheit oder eines mechanischen Trennungsverfahrens. Copper layers 3, 3 'carried out by punching or cutting by means of a laser unit or a water jet unit. After a final cleaning, the substrates 1 can be separated, preferably using a laser unit or a mechanical separation method.
Unter Kupferschicht 3, 3', 3" wir auch im erfindungsgemäßen Sinne auch eine Under copper layer 3, 3 ', 3 "we also in the sense of the invention also a
Kupferlegierungsschicht verstanden. Copper alloy layer understood.
Bei einer alternativen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Substrate 10 gemäß der Fig. 6 und 7 wird die Isolationsfestigkeit des Substrates 10 dadurch noch erhöht, dass anstelle der Metallschicht 7 eine Papierkeramikschicht 1 1 Verwendung findet. Hierzu weist das Substrat 10 eine Verbundschicht 12 mit einer Metallschicht 1 3 und zumindest einer Aluminiumschicht 14 auf. Die Aluminiumschicht 14 der In an alternative embodiment of the substrates 10 according to the invention according to FIGS. 6 and 7, the insulation strength of the substrate 10 is further increased by the fact that instead of the metal layer 7, a paper-ceramic layer 11 is used. For this purpose, the substrate 10 has a composite layer 12 with a metal layer 1 3 and at least one aluminum layer 14. The aluminum layer 14 of the
Verbundschicht 12 ist somit ebenfalls zumindest teilweise eloxiert ausgebildet, so dass eine Eloxalschicht 1 5 entsteht, die wiederum über eine Klebstoffschicht 16 mit der Papierkeramikschicht 1 1 verbunden ist. Die Eloxalschicht 15 dient hierbei Composite layer 12 is therefore also at least partially anodized, so that an anodized layer 1 5 is formed, which in turn is connected via an adhesive layer 16 with the paper ceramic layer 1 1. The anodizing layer 15 serves here
insbesondere als Haftverbesserer, um die an sich glatte Oberfläche der especially as an adhesion promoter, to the inherently smooth surface of the
Aluminiumschicht 14 durch die aufgeraute Eloxalschicht 1 5 zu ersetzen, die eine hohe Haftkraft der Klebeverbindung zwischen der Papierkeramikschicht 1 1 und der  Aluminum layer 14 by the roughened anodized 1 5 to replace the high adhesive force of the adhesive bond between the paper-ceramic layer 1 1 and the
Verbundschicht 12 gewährleistet. Unter einer Papierkeramikschicht 1 1 wird hierbei ein bei der Papierherstellung mit einem sinterfähigen keramischen Pulver, vorzugsweise Aluminiumoxid-Pulver angereichertes Papiergefüge verstanden, aus dem ein präkeramisches Papiergefüge erzeugt wird. Vorzugsweise beträgt der Anteil des sinterfähigen keramischen Pulvers am Gesamtvolumen des präkeramischen Papiergefüges zwischen 80 und 90 Gew.-%. Das präkeramische Papiergefüge wird einem zweistufigen thermischen U msetzungsprozess unterzogen und in erster Stufe aus dem präkeramisches Composite layer 12 ensures. In this context, a paper-ceramic layer 1 1 is understood as meaning a paper structure enriched in papermaking with a sinterable ceramic powder, preferably alumina powder, from which a preceramic paper structure is produced. The proportion of the sinterable ceramic powder in the total volume of the preceramic paper structure is preferably between 80 and 90% by weight. The preceramic paper structure is subjected to a two-stage thermal conversion process and in the first stage from the preceramic
Papiergefüge („Grünl ing") zunächst ein„Braunl ing" erzeugt, bei dem die organischen Komponenten des präkeramischen Papiergefüges, beispielsweise Zel lstoff, Stärke und Latex oxidativ entfernt sind. Anschl ießend wird in der zweiten Stufe der„Braunl ing" einem Sinterprozess zugeführt, wodurch ein keramischer Werkstoff, und zwar die Papierkeramik mit den typischen Materialeigenschaften eines Keramikmaterials entsteht, wie beispielsweise einer hohen Biege- und Isolationsfestigkeit. Die Paper structure ("Green ing") initially produces a "Braunl ing", in which the organic components of the preceramic paper structure, such as Zel material, starch and latex are oxidatively removed. Subsequently, in the second stage, the "browning" is fed to a sintering process, whereby a ceramic material, namely the paper ceramics with the typical material properties of a ceramic material is formed, such as a high bending and insulation strength
Papierkeramikschicht 1 1 ist jedoch im Vergleich zu einer herkömml ichen However, paper-ceramic layer 11 is compared to a conventional one
Keramikschicht leichter und vor der Durchführung des thermischen Ceramic layer lighter and before performing the thermal
U msetzungsprozesses individuell verformbar. Auch kann vorteilhaft das  Implementation process individually deformable. Also, that can be beneficial
Ausgangsmaterial der Papierkeramikschicht 1 1 , und zwar das präkeramischen Starting material of the paper-ceramic layer 1 1, and that the preceramic
Papiergefüge aufgrund der Verformbarkeit als Rol lenware gelagert und Paper structure due to the deformability as Rol lenware stored and
weiterverarbeitet werden. Die erfindungsgemäß verwendete Papierkeramikschicht 1 1 weist beispielsweise eine Schichtdicke d6 zwischen 50 vm und 600 vm, vorzugsweise 80 μνη und 1 50 μνη auf und besitzt ein E-Modul zwischen 90 σ Pa und 1 50 σ Pa. be further processed. The paper-ceramic layer 1 1 used according to the invention has, for example, a layer thickness d6 of between 50 and 600 μm, preferably 80 μm and 1 50 μm, and has an E-modulus between 90 σ Pa and 1 50 σ Pa.
Die Strukturierung der Metal lschicht 1 3 erfolgt wiederum mittels an sich bekannter Maskierungs- und Ätztechnologien, vorzugsweise nach Herstel lung der The structuring of the metal lschicht 1 3 again takes place by means of per se known masking and etching technologies, preferably after manufacture ment of
Klebeverbindung mit der Papierkeramikschicht 1 1 . Adhesive bond with the paper-ceramic layer 1 1.
In einer weiteren Ausführungsvariante findet eine Verbundschicht 12' Verwendung, die neben der Kupferschicht 1 3 und der Aluminiumschicht 14 eine daran In a further embodiment, a composite layer 12 'is used, which in addition to the copper layer 1 3 and the aluminum layer 14 a thereto
anschl ießende Aluminium-Sil izium-Schicht 18, welche ebenfal ls durch Walzplattieren hergestel lt ist, und zwar wird vorzugsweise zunächst ein Verbund aus der Subsequently, aluminum-silicon layer 18, which is also manufactured by roll-plating, and that is preferably initially a composite of the
Aluminiumschicht 1 4 eine daran anschließende Aluminium-Silizium-Schicht 1 8 durch Walzplattieren erzeugt und dieser Verbund erneut mit der Kupferschicht 1 3  Aluminum layer 1 4 an adjoining aluminum-silicon layer 1 8 produced by roller cladding and this composite again with the copper layer 1 third
walzplattiert. Die Aluminium-Sil izium-Schicht 1 8 der Verbundschicht 1 2' ist über eine Lotschicht 1 9 mit der Papierkeramikschicht 1 1 verbunden. Ein entsprechend ausgebildetes Substrat 1 0 ist beispielsweise in Fig. 7 schematisch dargestel lt. Das Verlöten der aus Aluminiumoxid hergestel lten Papierkeramikschicht 1 1 erfolgt unter Schutzgas, beispielsweise N2 oder AR, und unter Ausnutzung des Aluminium- Sil izium-Eutektikums. Erfindungsgemäß werden bei Verwendung eines Klebers mit niedriger Viskosität u.a. auch in den Isolationsschichten 5, 5' bestehende Risse ausgegossen, indem die Verbundschicht 2, 2' entsprechend erwärmt wird, jedoch unterhalb der roll-bonded. The aluminum-silicon layer 1 8 of the composite layer 1 2 'is connected to the paper-ceramic layer 1 1 via a solder layer 1 9. An appropriately designed substrate 10 is schematically illustrated, for example, in FIG. 7. The soldering of the paper oxide layer 1 1 made of aluminum oxide is carried out under protective gas, for example N 2 or AR, and using the aluminum silicon eutectic. According to the invention, cracks are also poured out in the insulating layers 5, 5 'when a low-viscosity adhesive is used, for example, by the composite layer 2, 2' being heated accordingly, but below that
Aushärtetemperatur des Klebers, um gezielt an Schwachstellen Risse zu erzeugen, in die der Kleber anschließend eindringen kann. Auch werden durch Verwendung der entsprechenden Prozesstemperatur von 120°C bis zu 1 60°C bestehende Risse aufgeweitet und können damit einfach mit Kleber verfüllt werden. Die Curing temperature of the adhesive to selectively create cracks at vulnerabilities, in which the adhesive can then penetrate. Also, by using the appropriate process temperature of 120 ° C up to 1 60 ° C existing cracks are widened and can thus easily be filled with adhesive. The
Temperaturerhöhung kann hierbei stufenartig oder kontinuierlich über einen vorgegebenen Zeitraum erfolgen. Vorteilhaft erfolgt bei einer stufenartigen Temperature increase can be done stepwise or continuously over a given period. Advantageously, in a step-like
Temperaturerhöhung ein Ausdampfen von im Kleber eventuell enthaltener Temperature increase evaporation of any glue contained in the adhesive
Bindemittel. Die Aushärtetemperaturen gängiger Kleber liegen hierbei bei Binder. The curing temperatures of common adhesives are included
beispielsweise über 180 °C. Zur Verbesserung der Leitfähigkeit der verwendeten Klebstoffe können dieser in einer Ausführungsvariante der Erfindung auch mit for example, over 180 ° C. To improve the conductivity of the adhesives used, these can also be used in one embodiment of the invention
Nanofasern angereicht sein. Nanofibers be enriched.
Vorzugsweise weisen die mittels Walzplattieren hergestellten Verbundschichten 2, 2' eine im Vergleich zu den Kupferschichten 3, 3' deutlich dünnere Aluminiumschicht 4, 4', 4" auf, und zwar beträgt die Schichtdicke d2 der Aluminiumschicht 4, 4', 4" weniger als die Hälfte der Schichtdicke d1 der Kupferschichten 3, 3', vorzugsweise sogar weniger als ein Drittel der Schichtdicke d1 der Kupferschichten 3, 3'. Preferably, the composite layers 2, 2 'produced by roll cladding have a significantly thinner aluminum layer 4, 4', 4 "compared to the copper layers 3, 3 ', and the layer thickness d2 of the aluminum layer 4, 4', 4" is less than half the layer thickness d1 of the copper layers 3, 3 ', preferably even less than one third of the layer thickness d1 of the copper layers 3, 3'.
Insbesondere hier ist eine vollständige Umwandlung der Aluminiumschicht 4, 4', 4" durch entsprechendes Eloxieren in die Isolationsschicht 5, 5', 5" vorteilhaft, da eine Verunreinigung des Ätzbades durch Lösen von Aluminium aus der zumindest teilweise vorhandenen Aluminiumschicht 4, 4', 4" vermieden werden kann. Vorzugsweise wird somit die nach der Umwandlung in die Isolationsschicht 5, 5', 5" verbleibende Schichtdicke der Aluminiumschicht 4, 4', 4" so gering wie möglich gehalten.  In particular, here a complete conversion of the aluminum layer 4, 4 ', 4 "by corresponding anodizing in the insulating layer 5, 5', 5" advantageous because contamination of the etchant by dissolving aluminum from the at least partially existing aluminum layer 4, 4 ', The layer thickness of the aluminum layer 4, 4 ', 4 "remaining after the conversion into the insulating layer 5, 5', 5" is thus preferably kept as low as possible.
Auch kann die Klebeverbindung zwischen den unterschiedlichen Verbundschichten bzw. Schichten nach erfolgten Auftragen des Klebers im Verbund mittels Laminieren bzw. Walzen erfolgen, um die Schickdicke d4 der Klebstoffschicht 6 gering zu halten. Also, the adhesive bond between the different composite layers or layers can be carried out after applying the adhesive in the composite by means of lamination or rolling in order to keep the thickness d4 of the adhesive layer 6 low.
Ferner können die Substrate 1 nach dem Kleberauftrag mit Vakuum beaufschlagt werden, um ggf. vorhandene Gaseinflüsse in der Eloxalschicht bzw. Isolationsschicht 5 aus Aluminiumoxid, die zu einer Erhöhung und damit Verschlechterung der Furthermore, the substrates 1 can be subjected to a vacuum after the application of the adhesive to any gas influences present in the anodization layer or insulation layer 5 made of aluminum oxide, which causes an increase and thus deterioration of the
Isolationsfestigkeit beitragen, entfernen zu können. Insulation resistance contribute to be able to remove.
In einer weiteren Ausführungsvariante weist die jeweilige Klebstoffschicht 6, 6', 6" zumindest zwei unterschiedliche Klebstoffe auf, die vorzugsweise schichtartig hintereinander aufgetragen werden. Beispielsweise können Klebstoffe  In a further embodiment variant, the respective adhesive layer 6, 6 ', 6 "has at least two different adhesives, which are preferably applied one behind the other in a layer-like manner
unterschiedlicher Viskosität Verwendung finden, wobei der eine Klebstoff mit geringerer Viskosität zum Verfüllen von Fehlstellen wie Rissen oder Poren in der jeweiligen Eloxalschicht 5, 5', 5"und der weitere Klebstoff mit höher Viskosität zur Herstellung der Klebeverbindung des Schichtenverbundes vorgesehen wird. different viscosity are used, wherein the one adhesive with lower viscosity for filling defects such as cracks or pores in the respective anodizing layer 5, 5 ', 5 "and the further adhesive with higher viscosity for the preparation of the adhesive bond of the layer composite is provided.
Beispielsweise kann das Verkleben mit einem Epoxidkleber und das Verfüllen der Fehlstellen nur mit reinem Epoxid, d.h. ohne Härteranteil erfolgen. Vorteilhaft kann das Epoxid bei einer höheren Temperatur im Vergleich zum Epoxykleber verarbeitet werden, um dessen Viskosität herabzusetzen. Auch kann überschüssiges For example, gluing with an epoxy adhesive and filling the imperfections with only pure epoxy, i. done without hardener. Advantageously, the epoxy can be processed at a higher temperature compared to the epoxy adhesive to reduce its viscosity. Also can excess
Verfüllmaterial, insbesondere Epoxid entfernt werden, so dass im Wesentlichen nur noch in den Fehlstellen Epoxid verbleibt. Im nächsten Schritt wird dann der Filling material, in particular epoxy are removed, so that essentially remains only in the defects epoxide. The next step will be the
Epoxidkleber aufgebracht. Der Härteranteil des Epoxidklebers diffundiert hierbei auch in das reine, bereits verarbeitete Epoxid in den gefüllten Fehlstellen und härtet diese ebenfalls mit aus. Epoxy adhesive applied. The hardener portion of the epoxy adhesive also diffuses into the pure, already processed epoxide in the filled defects and also hardens them with.
Bei Eloxieren von walzplattierten Verbundschichten 25 umfassend eine Kupferschicht oder Kupferlegierungsschicht 23 und eine Aluminiumschicht oder When anodizing rolled-laminated composite layers 25 comprising a copper layer or copper alloy layer 23 and an aluminum layer or
Aluminiumlegierungsschicht 24 ist es zwingend erforderlich, dass keinesfalls beide Metalle in Kontakt mit dem Elektrolyt 21 eines Eloxalbades 20 kommen, da ansonsten über die Kupferschicht oder Kupferlegierungsschicht 23 eine Art Kurzschluss parallel zur eloxierenden Oberfläche der Aluminiumschicht oder Aluminiumlegierungsschicht 24 erzeugt wird. Dieser Kurzschluss verhindert, dass sich über die dünne Oxidschicht (AI2O3), welche üblicherweise vor er Eloxalbehandlung bereits vorhanden ist, eine ausreichende Spannung aufbauen kann. Diese entstehende Spannung durchschlägt jeweils lokal die dünne Oxidschicht (AI2O3) und führt zur Oxidation des darunter befindlichen Aluminium zu Aluminiumoxid. Figur 8 zeigt anhand einer schematischen Zeichnung ein entsprechendes Eloxalbad 20 mit einer Kathode 22 und der durch die Kupferschicht oder Kupferlegierungsschicht 23 gebildete Anode, an welcher eine Gleichspannung U anliegt. Die Erfinder haben erkannt, dass dem Entstehen eines derartigen Kurzschlusses dadurch entgegengewirkt werden kann, dass eine vollständige Maskierung oder Abdeckung der Oberflächen der Kupferschichten 23 durch ein rahmenförmiges Abdeckelement erfolgt, d.h. der Kontakt des Elektrolyt 21 zur Kupferschichten 23 wird effektiv verhindert, wohingegen der für das Eloxieren erforderliche Kontakt zur Aluminiumschicht 24 weiterhin gegeben ist. Die Maskierung kann in einer alternativen Ausführungsvariante auch durch Aufbringen einer Schutzfolie oder eines Schutzlackes oder einer Kombinationen davon erfolgen. Gemein ist diesen Verfahren jeweils die abdichtende Wirkung gegenüber dem Elektrolyt 1 1 . Aluminum alloy layer 24, it is imperative that both metals do not come into contact with the electrolyte 21 of an anodizing bath 20, otherwise a kind of short circuit is generated parallel to the anodizing surface of the aluminum layer or aluminum alloy layer 24 via the copper layer or copper alloy layer 23. This short-circuit prevents sufficient voltage from building up via the thin oxide layer (AI2O3), which is usually already present before the anodizing treatment. This resulting voltage penetrates locally the thin oxide layer (AI2O3) and leads to the oxidation of the underlying aluminum to alumina. FIG. 8 shows, by way of a schematic drawing, a corresponding eloxal bath 20 with a cathode 22 and the anode formed by the copper layer or copper alloy layer 23, against which a DC voltage U is applied. The inventors have recognized that the occurrence of such a short circuit can be counteracted by complete masking or covering of the surfaces of the copper layers 23 by a frame-shaped cover element, ie the contact of the electrolyte 21 with the copper layers 23 is effectively prevented, whereas that for the Anodizing required contact with the aluminum layer 24 is still given. The masking can be done in an alternative embodiment by applying a protective film or a protective lacquer or a combination thereof. Common to each of these methods is the sealing effect against the electrolyte 1 1.
In einer alternativen Ausführungsvariante erfolgt eine Maskierung oder Abdeckung des elektrischen Feldes durch Hilfselektroden 26, beispielsweise metallische Bleche oder Komponenten, die mit einer entsprechenden Beschichtung versehen sein können und die gegen die verwendeten chemischen Bestandteile des Eloxalbades 20 sowie die vorliegenden elektrischen Felder beständig ist. Die Hilfselektroden 26 werden elektrisch mit der Anode verbunden, so dass die Geleichspannung U bzw. das entstehende elektrische Feld zwischen Hilfselektrode 26 und Oberfläche des In an alternative embodiment, a masking or covering of the electric field by auxiliary electrodes 26, for example metallic sheets or components, which may be provided with a corresponding coating and which is resistant to the chemical components of the Eloxalbades 20 used and the present electric fields. The auxiliary electrodes 26 are electrically connected to the anode, so that the Geleichspannung U or the resulting electric field between the auxiliary electrode 26 and the surface of the
Kupferschicht 23 der Verbundschicht 25 gleich Null ist. Dadurch ist keine Copper layer 23 of the composite layer 25 is zero. This is no
„mechanische" Abdichtung der Oberflächen der Kupferschichten erforderlich, sofern keine chemische Behandlung der Kupferschicht 3 erfolgt. Die„Abdichtung" der Kupferschicht 23 erfolgt somit kontaktlos. "Mechanical" sealing of the surfaces of the copper layers is required, provided that no chemical treatment of the copper layer 3. The "sealing" of the copper layer 23 thus takes place without contact.
In einer vorteilhaften Ausführungsvariante ist der Abstand x zwischen der In an advantageous embodiment, the distance x between the
rahmenartigen Hilfselektrode 25 und der Aluminiumschicht bzw. Frame-like auxiliary electrode 25 and the aluminum layer or
Aluminiumlegierungsschicht 24 der darin aufgenommenen Verbundschicht 25 größer als 0mm, jedoch kleiner als 10mm, vorzugsweise zwischen 0 und 1 mm.  Aluminum alloy layer 24 of the composite layer 25 received therein is greater than 0mm but less than 10mm, preferably between 0 and 1mm.
Die Erfindung wurde voranstehend an Ausführungsbeispielen beschrieben. Es versteht sich, dass zahlreiche Änderungen sowie Abwandlungen möglich sind, ohne dass dadurch der der Erfindung zugrunde liegend Erfindungsgedanke verlassen wird. Bezugszeichenliste The invention has been described above by means of exemplary embodiments. It is understood that numerous changes and modifications are possible, without thereby departing from the invention underlying the idea of the invention. LIST OF REFERENCE NUMBERS
1 Substrat 1 substrate
2 erste Verbundschicht 2 first composite layer
2' zweite Verbundschicht  2 'second composite layer
2" dritte Verbundschicht  2 "third composite layer
3, 3', 3" Kupferschicht  3, 3 ', 3 "copper layer
4, 4', 4", 4'" Aluminiumschicht  4, 4 ', 4 ", 4'" aluminum layer
5, 5', 5" Eloxalschicht bzw. Isolationsschicht aus Aluminiumoxid5, 5 ', 5 "Eloxalschicht or insulation layer of alumina
6, 6', 6" Klebstoffschicht 6, 6 ', 6 "adhesive layer
7 Metallschicht  7 metal layer
10 Substrat 10 substrate
1 1 Papierkeramikschicht 1 1 paper ceramic layer
12, 12' Verbundschicht  12, 12 'composite layer
1 3 Metallschicht, insbesondere Kupferschicht  1 3 metal layer, in particular copper layer
14 Aluminiumschicht  14 aluminum layer
15 Eloxalschicht bzw. Isolationsschicht aus Aluminiumoxid 16 Klebstoffschicht  15 anodized or insulating layer of aluminum oxide 16 adhesive layer
18 Aluminium-Silizium-Schicht  18 aluminum-silicon layer
19 Lotschicht  19 solder layer
20 Eloxalbad 20 eloxal bath
21 Elektrolyt 21 electrolyte
22 Kathode  22 cathode
23 Kupferschicht bzw. Kupferlegierungsschicht  23 copper layer or copper alloy layer
24 Aluminiumschicht bzw. Aluminiumlegierungsschicht 24 aluminum layer or aluminum alloy layer
25 Verbundschicht 25 composite layer
26 Hilfselektrode 26 auxiliary electrode
P Profilierung P profiling
d1 - d6 Schichtdicken d1 - d6 layer thicknesses
U Gleichspannung X Abstand U DC voltage X distance

Claims

Patentansprüche claims
1 . Substrat (1 , 10) für elektrische Schaltkreise umfassend zumindest eine mittels Walzplattieren hergestellte erste Verbundschicht (2), die nach dem 1 . Substrate (1, 10) for electrical circuits comprising at least one first composite layer (2) produced by means of roll cladding, which differs according to the
Walzplattieren zumindest eine Kupferschicht (3) und eine daran anschließende Aluminiumschicht (4) aufweist, bei dem zumindest die von Kupferschicht (3) abgewandten Oberflächenseite der Aluminiumschicht (4) zur Erzeugung einer Eloxal- bzw. Isolationsschicht (5) aus Aluminiumoxid eloxiert ist, und bei dem die Eloxal- bzw. Isolationsschicht (5) aus Aluminiumoxid über zumindest eine Klebstoffschicht (6, 6') mit einer Metallschicht (7) oder zumindest einer zweiten Verbundschicht (2') oder zumindest einer Papierkeramikschicht (1 1 ) verbunden ist.  Roll cladding at least one copper layer (3) and an adjoining aluminum layer (4), in which at least the surface of the aluminum layer (4) remote from the copper layer (3) is anodised to produce an anodization layer (5) of aluminum oxide, and in which the anodization or insulation layer (5) made of aluminum oxide is connected via at least one adhesive layer (6, 6 ') to a metal layer (7) or at least one second composite layer (2') or at least one paper ceramic layer (11).
2. Substrat nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die zweite 2. Substrate according to claim 1, characterized in that the second
Verbundschicht (2') analog zur ersten Verbundschicht (2) aufgebaut ist.  Composite layer (2 ') is constructed analogously to the first composite layer (2).
3. Substrat nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Verbundschicht (2') eine Eloxal- bzw. Isolationsschicht (5') aufweist und die Eloxal- bzw. Isolationsschichten (5, 5') der ersten und zweiten Verbundschicht (2, 2') über die zumindest eine Klebstoffschicht (6) miteinander verbunden sind. 3. Substrate according to claim 1 or 2, characterized in that the second composite layer (2 ') an Eloxal- or insulating layer (5') and the Eloxal- or insulating layers (5, 5 ') of the first and second composite layer ( 2, 2 ') via which at least one adhesive layer (6) are interconnected.
4. Substrat nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und zweite Verbundschicht (2, 2') über zumindest eine weitere Zwischenschicht mittels jeweils einer Klebstoffschicht (6, 6') miteinander verbunden sind. 4. Substrate according to claim 1 or 2, characterized in that the first and second composite layer (2, 2 ') via at least one further intermediate layer by means of an adhesive layer (6, 6') are interconnected.
5. Substrat nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenschicht durch eine Aluminiumschicht (4") gebildet ist, die zur Erzeugung zweier gegenüberliegender Eloxal- bzw. Isolationsschichten (5") aus Aluminiumoxid an ihren einander gegenüberliegenden Oberflächenseiten eloxiert ist. 5. A substrate according to claim 4, characterized in that the intermediate layer is formed by an aluminum layer (4 ") which is anodized to produce two opposite Eloxal- or insulating layers (5") of alumina at their opposite surface sides.
6. Substrat nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Zwischenschicht durch eine dritte Verbundschicht (5") umfassend eine Aluminiumschicht (4"), eine Kupferschicht (3") und eine weitere Aluminiumschicht (4"') gebildet ist, wobei jeweils die von der Kupferschicht (3") abgewandten Oberflächenseiten der Aluminiumschichten (4", 4"') zur Erzeugung zweier gegenüberl iegender Eloxal- bzw. Isolationsschichten (5") aus Aluminiumoxid eloxiert sind. 6. The substrate according to claim 5, characterized in that the intermediate layer is formed by a third composite layer (5 ") comprising an aluminum layer (4"), a copper layer (3 ") and a further aluminum layer (4"'), wherein each of the copper layer (3 ") facing away from the surface of the aluminum layers (4", 4 "') for producing two gegenüberl iegender anodization or insulation layers (5") are made of alumina anodized.
7. Substrat nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Eloxalbzw. Isolationsschichten (5) aus Aluminiumoxid der ersten Verbundschicht (5) über eine Klebstoffschicht (6) mit der einen Eloxal- bzw. Isolationsschichten (5") aus Aluminiumoxid der Zwischenschicht und die Eloxal- bzw. 7. Substrate according to claim 5 or 6, characterized in that the Eloxalbzw. Insulating layers (5) of aluminum oxide of the first composite layer (5) via an adhesive layer (6) with the one anodization or insulating layers (5 ") of alumina of the intermediate layer and the anodization or
Isolationsschichten (5') aus Aluminiumoxid der zweiten Verbundschicht (5') über eine weitere Klebstoffschicht (6') mit der anderen Eloxal- bzw.  Insulation layers (5 ') of aluminum oxide of the second composite layer (5') via a further adhesive layer (6 ') with the other anodizing or
Isolationsschichten (5") aus Aluminiumoxid der Zwischenschicht verbunden ist.  Insulation layers (5 ") made of aluminum oxide of the intermediate layer is connected.
8. Substrat nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die jeweilige Aluminiumschicht (4, 4', 4") über einen Teil ihrer 8. Substrate according to one of the preceding claims, characterized in that the respective aluminum layer (4, 4 ', 4 ") over part of their
Schichtdicke (d2) eloxiert ist und/oder dass die Schichtdicke (d3) der aus der zumindest teilweise umgewandelten Aluminiumschicht (4, 4', 4") hergestel lten Isolationsschicht (5, 5', 5") zwischen 5 vm und 50 jum beträgt.  Layer thickness (d2) is anodized and / or that the layer thickness (d3) of the at least partially converted aluminum layer (4, 4 ', 4 ") hergestel-ended insulation layer (5, 5', 5") is between 5 vm and 50 jum ,
9. Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass 9. Substrate according to one of claims 1 to 8, characterized in that
zumindest eine Aluminiumschicht (4, 4', 4") des Substrates (1 ) vollständig eloxiert ist und die Aluminiumschicht (4) vol lständig in die Eloxal- bzw.  at least one aluminum layer (4, 4 ', 4 ") of the substrate (1) is completely anodized and the aluminum layer (4) is completely in the anodized or
Isolationsschicht (5) aus Al uminiumoxid umgewandelt ist.  Insulating layer (5) is converted from Al uminiumoxid.
10. Substrat nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kupferschicht (3, 3', 3") eine Schichtdicke (d 1 ) zwischen 35 μιτι und 2 mm, die Aluminiumschicht (4, 4', 4") eine Schichtdicke (d2) zwischen 1 0 μνη und 300 jum und die Metal lschicht (7) eine Schichtdicke (d5) zwischen 300 μνη und 50 mm aufweist. 10. Substrate according to one of the preceding claims, characterized in that the copper layer (3, 3 ', 3 ") a layer thickness (d 1) between 35 μιτι and 2 mm, the aluminum layer (4, 4', 4") has a layer thickness (d2) between 1 0 μνη and 300 jum and the metal lschicht (7) has a layer thickness (d5) between 300 μνη and 50 mm.
1 1 . Substrat nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine Aluminiumschicht (4, 4', 4") eine vor der Durchführung des Eloxal-Verfahrens eingebrachte Profil ierung (P) aufweist, die beispielsweise eine Vielzahl von pyramiden- oder prismenförmigen Ausnehmungen umfasst. 1 1. Substrate according to one of the preceding claims, characterized in that at least one aluminum layer (4, 4 ', 4 ") has an introduced prior to the implementation of the anodizing process profiling (P), which includes, for example, a plurality of pyramid or prism-shaped recesses ,
12. Substrat nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und zweite Verbundschicht (2, 2') durch Walzplattieren einer Kupferfolie mit zumindest einer Aluminiumfolie hergestellt sind. 12. Substrate according to one of the preceding claims, characterized in that the first and second composite layer (2, 2 ') are made by roll-plating a copper foil with at least one aluminum foil.
13. Substrat nach der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Klebstoffschicht (6, 6', 6") aus einem Epoxidharz-Klebstoff, Acryl-Klebstoff oder Polyurethan-Klebstoff hergestellt ist und/oder dass der zur Herstellung der Klebstoffschicht (6, 6', 6") verwendete Klebstoff eine niedrige Viskosität aufweist. 13. Substrate according to the preceding claims, characterized in that the adhesive layer (6, 6 ', 6 ") is made of an epoxy resin adhesive, acrylic adhesive or polyurethane adhesive and / or that for producing the adhesive layer (6, 6 ', 6 ") has a low viscosity.
14. Substrat nach der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine der Kupferschichten (3, 3') zur Ausbildung von Leiterbahnen, Kontakt- und/oder Anschlussflächen in mehrere Metallisierungsabschnitte strukturiert ist. 14. Substrate according to the preceding claims, characterized in that at least one of the copper layers (3, 3 ') to form conductor tracks, contact and / or pads is structured in a plurality of metallization.
15. Verfahren zur Herstellung eines Substrates (1, 10) für elektrische Schaltkreise, bei dem aus einer Kupferfolie und zumindest einer Aluminiumfolie mittels Walzplattieren zumindest eine erste Verbundschicht (2, 2') hergestellt wird, die zumindest eine Kupferschicht (3, 3') und eine daran anschließende 15. A method for producing a substrate (1, 10) for electrical circuits, wherein at least one first composite layer (2, 2 ') is produced from a copper foil and at least one aluminum foil by means of roll cladding, the at least one copper layer (3, 3'). and an adjoining one
Aluminiumschicht (4, 4') aufweist, bei dem zumindest die von Kupferschicht (3, 3') abgewandten Oberflächenseite der Aluminiumschicht (4, 4') eloxiert wird und dadurch eine Eloxal- bzw. Isolationsschicht (5) aus Aluminiumoxid erzeugt wird, und bei dem die erzeugte Eloxal- bzw. Isolationsschicht (5) aus  Aluminum layer (4, 4 '), in which at least the copper layer (3, 3') facing away from the surface of the aluminum layer (4, 4 ') is anodized and thereby an anodic or insulating layer (5) is produced from aluminum oxide, and in which the generated anodization or insulation layer (5)
Aluminiumoxid über zumindest eine Klebstoffschicht (6, 6') mit einer  Alumina over at least one adhesive layer (6, 6 ') with a
Metallschicht (7) oder zumindest einer zweiten Verbundschicht (2') oder zumindest einer Papierkeramikschicht (11 ) verklebt wird.  Metal layer (7) or at least a second composite layer (2 ') or at least one paper ceramic layer (11) is glued.
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