EP1652205A2 - Commutateur micro-mecanique bistable, methode d' actionnement et procede de realisation correspondant - Google Patents

Commutateur micro-mecanique bistable, methode d' actionnement et procede de realisation correspondant

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EP1652205A2
EP1652205A2 EP04767777A EP04767777A EP1652205A2 EP 1652205 A2 EP1652205 A2 EP 1652205A2 EP 04767777 A EP04767777 A EP 04767777A EP 04767777 A EP04767777 A EP 04767777A EP 1652205 A2 EP1652205 A2 EP 1652205A2
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EP
European Patent Office
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peripheral
substrate
switch
bridge
insulating layers
Prior art date
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EP04767777A
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EP1652205B1 (fr
Inventor
Pierre-Louis Charvet
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Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
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    • H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H1/00—Contacts
    • H01H1/0036—Switches making use of microelectromechanical systems [MEMS]
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H59/00—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
    • H01H59/0009—Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
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    • H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H1/00—Contacts
    • H01H1/0036—Switches making use of microelectromechanical systems [MEMS]
    • H01H2001/0042—Bistable switches, i.e. having two stable positions requiring only actuating energy for switching between them, e.g. with snap membrane or by permanent magnet

Definitions

  • the invention relates to a micro-mechanical switch, comprising a deformable suspension bridge, attached by support means to a substrate, and actuation means intended, from a first stable position of the switch, to deform the suspension bridge. deformable so as to establish an electrical contact between at least a first conductive element formed on the substrate, between the bridge and the substrate, and a second conductive element, integral with a lower face of the bridge.
  • a micro-mechanical switch typically comprises a deformable suspended bridge 1 attached by means 2 of support to a substrate 3.
  • Actuators allow the suspension bridge to be deformed, so as to establish electrical contact between first elements 5 conductors formed on the substrate 3 and a second element 6 conductor, integral with a lower face of the bridge 1.
  • the actuators are, for example, constituted by electrodes 4a and 4b formed respectively on the bridge 1 and on the substrate 3 and between which an electric control voltage is applied.
  • the first conductive elements 5 are, for example, constituted by two sections of a radiofrequency line which are connected by the second conductive element 6.
  • the bridge 1 When the actuating means 4 are interrupted (cancellation of the control voltage), the bridge 1 returns in its non-deformed state, that is to say its stable position, and the electrical contact is interrupted. In order to maintain electrical contact, it is then necessary to continue actuation, which can increase the electrical consumption of the switch. Furthermore, if there is a problem with the control (or with the voltage), the electrical contact is no longer ensured.
  • a conventional domestic switch has two stable positions and the electrical contact remains respectively established or interrupted without permanent energy supply.
  • it is complicated to fabricate an analog, bistable, microscopic size switch.
  • a first conductive element is constituted by a drop of mercury, which is moved by means of electrostatic forces to establish or interrupt an electrical contact between two solid conductive elements.
  • mercury is very toxic and, on the other hand, the drop moves with the slightest movement of the switch which can cause unexpected switching.
  • the document US2002 / 191897 describes a switch comprising a switching beam connected at its ends by supports fixed on a substrate.
  • the switch has a first stable position corresponding to an open position of the switch.
  • the switching beams are actuated by switching electrodes, so as to deform the switching beam to move the switch to a second position corresponding to the closed position of the switch. To maintain contact in this second position, it is necessary to keep the switching electrodes energized.
  • the switch also comprises reconfiguration beams arranged at the periphery of the switching beam, of a single side of it or on either side of it.
  • the reconfiguration beams are fixed to the substrate via rigid supports.
  • the switch also includes actuating elements cooperating with the reconfiguration beams and intended to deform them independently of the switching beam.
  • the deformation of the reconfiguration beam causes an increase in the distance between the switching beam and the electrode.
  • the deformation of the reconfiguration beams leads to the appearance of restoring forces, inside the switching beam, representative of the spring constants of the switch.
  • the object of the invention is to remedy these drawbacks and, in particular, to produce a microscopic switch having two mechanically stable positions.
  • the support means are constituted by two feet arranged between the bridge and the substrate so as to subdivide the bridge transversely into a median segment disposed between the feet and two peripheral segments projecting outwards and comprising free ends, the actuating means comprising peripheral actuating means and median actuating means making it possible to independently deform the peripheral segments and the median segment respectively perpendicularly to the substrate.
  • the switch being in the first stable position, in a first phase, the middle segment and the peripheral segments are simultaneously bent in the direction of the substrate, by means of their respective actuation means, so as to establish electrical contact, then, the peripheral actuation means are interrupted in a second phase, so as to automatically cause the separation of the peripheral segments with respect to to the substrate, the median actuation means being interrupted in a third phase, the median segment being thus automatically maintained in the bent position, so as to define a second stable position of the switch, in which the electrical contact remains established.
  • the object of the invention is also a method of producing a micro-mechanical switch according to the invention, characterized in that the manufacture of the deformable suspension bridge on the substrate comprises: the deposition of a peripheral sacrificial layer on the substrate, on each side of the first conductive element, the deposition of at least one peripheral insulating layer on each peripheral sacrificial layer, so as to cover the front faces and the lateral faces of the two peripheral sacrificial layers to form the peripheral segments and the feet, deposition of a middle sacrificial layer, between the peripheral insulating layers, coming into contact with the lateral faces adjacent to the two peripheral insulating layers and covering the first conductive element, the deposition, on the middle sacrificial layer, of a middle insulating layer coming into contact with each of the front faces of the two peripheral insulating layers to form the middle segment, the etching of the lateral peripheral faces of the two peripheral insulating layers, so as to delimit the peripheral segments, the removal of the sacrificial layers.
  • Figure 1 shows a micro-mechanical switch according to the prior art.
  • Figures 2 and 3 show two particular embodiments of a micro-mechanical switch according to the invention.
  • FIGS 4 to 7, on the one hand, and 8 and 9, on the other hand, illustrate schematically respectively the different phases of the establishment and the interruption of an electrical contact of a micro-mechanical switch according to l 'invention.
  • Figures 10 to 15 illustrate a method of producing a micromechanical switch according to the invention.
  • FIG. 16 represents a variant of a micro-mechanical switch manufactured according to the production method illustrated in FIGS. 10 to 15. Description of particular embodiments
  • the micro-mechanical switch shown in FIG. 2 comprises a deformable suspended bridge 1, attached to a substrate 3 by two feet 7 arranged between the bridge 1 and the substrate 3 so as to subdivide the bridge 1 transversely into a median segment 8 disposed between the two feet 7, and two peripheral segments 9 projecting outwards.
  • Two central electrostatic actuators 10 and two peripheral electrostatic actuators 11 make it possible to deform, independently, respectively the middle segment 8 and the peripheral segments 9 substantially perpendicular to the substrate.
  • the actuators 10 and 11 are constituted by electrodes formed respectively on the substrate 3 and on the middle segments 8 or peripheral 9.
  • the actuators 10 and 11 allow the bridge 1 to be deformed so as to establish electrical contact between a first conductive element 5 formed on the substrate 3, between the bridge 1 and the substrate 3, and a second conductive element 6, integral with the underside of bridge 1.
  • the peripheral actuators 10 are also in the rest position and the switch is in a first stable position. While in FIG. 2, the middle segment 8 and the peripheral segments 9 are formed by a single layer, in FIG. 3, a first curved layer 13 respectively forms a foot 7 and the associated peripheral segment 9, so that the feet 7 are inclined relative to the substrate 3 and that the segments peripherals 9 have free ends 15 inclined away from the substrate 3. In FIG. 3, the middle segment 8 consists of a second curved layer 14 and thus comprises a slightly raised central part 12. The actuators 10 and 11 are respectively integrated in the middle and peripheral segments.
  • the switch can switch from its first stable position, corresponding to the interruption of the electrical contact ( Figures 2 and 3), to a second stable position, corresponding to an established electrical contact.
  • Figures 4 to 7 schematically illustrate the transition from the first stable position to the second stable position.
  • the switch is shown in the first stable position, the actuators being at rest, the central part 12 of the middle segment 8 being raised and the peripheral segments 9 being inclined away from the substrate 3.
  • Localized constraints ⁇ at the peripheral segments represented by horizontal arrows in the figures, exert a compressive force on the median segment 8 in its longitudinal direction and thus prevent the median segment from leaving its raised position.
  • a first phase represented in FIG.
  • the middle segment 8 and the peripheral segments 9 are simultaneously flexed in the direction of the substrate 3, respectively by means of the middle and peripheral actuators 10.
  • the actuation of the peripheral actuators 11 causes stresses ⁇ exerting a tension force on the median segment 8 in its longitudinal direction (FIG. 5).
  • the peripheral actuators 11 are interrupted in a second phase, represented in FIG. 6. This automatically causes the spacing of the peripheral segments 9 relative to the substrate 3 and, in this final position of the second phase, compressive stresses ⁇ on the median segment 8 in its longitudinal direction (FIG. 6).
  • the middle actuators 10 are interrupted in a third phase.
  • the middle segment 8 is then automatically maintained in the bent position by compressive stresses ⁇ effected by the peripheral segments 9, thus defining a second stable position of the switch, shown in FIG. 7, in which the electrical contact remains established.
  • the three successive actuation phases allow the switch to pass from its first stable position (FIG. 4) to its second stable position (FIG. 7).
  • FIG. 8 illustrates the return from the second stable position to the first stable position of the switch.
  • the peripheral segments 9 are again bent in the direction of the substrate 3, by means of the peripheral actuators 11.
  • a mechanical stress ⁇ in tension is exerted on the median segment 8 in its longitudinal direction, moving its central part 12 away from the substrate 3.
  • the peripheral actuators 11 are then interrupted in a fifth phase, represented in FIG. 9, to return the switch to its first stable position, in which the peripheral segments 9 are inclined away from the substrate 3.
  • the peripheral segments 9 are in substantially the same position (away from the substrate) in the two stable positions of the switch (FIGS. 4, 7 and 9) and change position only temporarily (FIGS. 5 and 8) during the actuation of the switch.
  • the switch having two stable positions, the first position in which the electrical contact is interrupted, and the second position in which the electrical contact is established, only the passage from one position to the other consumes energy and the switch can, after actuation, remain in each of these positions without additional energy supply.
  • Figures 10 to 15 illustrate a method of producing a micromechanical switch according to the invention. For reasons of clarity, the steps of manufacturing the electrodes constituting the actuators 10 and 11 are not shown.
  • the manufacture of the deformable suspended bridge 1 on the substrate 3 then comprises at least the following steps.
  • a peripheral sacrificial layer 16 is deposited on each side of the first conductive element 5 disposed on the substrate 3.
  • at least one insulating layer 17 peripheral is deposited on each sacrificial layer 16 peripheral.
  • the peripheral insulating layers 17 cover the front faces and the lateral faces of the two sacrificial layers 16 peripheral.
  • a middle sacrificial layer 18 is deposited between the peripheral insulating layers 17. It comes into contact with the adjacent lateral faces of the two peripheral insulating layers 17 and covers the first conductive element 5.
  • the fourth step consists in depositing on the middle sacrificial layer 18 an insulating middle layer 19. The latter comes into contact with each of the front faces of the two peripheral insulating layers 17, which it can partially cover, to form the middle segment 8 (FIG. 13).
  • a fifth step (FIG.
  • the peripheral insulating layer 17 can be a layer capable of creating a compressive stress on the median segment 8 in the longitudinal direction of the median segment 8 by a mechanical torque effect at the peripheral segments 9.
  • the peripheral insulating layer 17 can be deposited using a method fixing a state of stress of the peripheral insulating layer 17.
  • a method of the "dual frequency plasma deposition" type for example, it is possible to obtain a single layer which has a stress gradient.
  • the desired level of stress can be obtained by adapting the thickness of the deposited layer. It is also possible to deposit several peripheral insulating layers 17 on each sacrificial sacrificial layer 16 in order to produce a stress gradient compressing the middle segment 8 in its longitudinal direction.
  • a stack of two layers can, for example, be produced by an unconstrained layer deposited on a compression layer, by a tension layer deposited on an unconstrained layer or by a tension layer deposited on a compression layer.
  • a stack of three layers can, for example, consist of two tension layers deposited on a compression layer or by a tension layer deposited on an unconstrained layer deposited, itself, on a compression layer. We thus obtain a spring type effect.
  • the middle insulating layer 19 covers the front faces of the peripheral insulating layers 17 over their entire length, which amplifies the stresses between the two layers 17 and 19.
  • the free ends 15 of the peripheral segments 9 and the central part 12 of the middle segment 8 are raised automatically away from the substrate.
  • the electrodes of the peripheral electrostatic actuators 11 are disposed respectively between each peripheral insulating layer 17 and the associated middle insulating layer 19.
  • peripheral insulating layers 17 each cover a part 20 of the front face of the substrate 3 disposed respectively between the lateral face of a sacrificial layer 16 peripheral and the first conductive element 5.
  • the actuators 10 and 11 can be constituted by any type of actuator, namely by piezoelectric, thermal, magnetic actuators, etc.
  • the peripheral electrodes are, preferably, wider, by example of a factor three, that the median electrodes, in a plane parallel to the substrate 3, which makes it possible to reduce the piloting voltage of the peripheral actuators.
  • a switch according to the invention can be used in a matrix of switches or as a simple switch. Such a switch can typically be used in telecommunications applications, in particular for radiofrequency, terrestrial and space devices, in biomedical applications, relays, etc.

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Description

Commutateur micro-mécanique bistable, méthode d'actionnement et procédé de réalisation correspondant
Domaine technique de l'invention
L'invention concerne un commutateur micro-mécanique, comportant un pont suspendu déformable, rattaché par des moyens de support à un substrat, et des moyens d'actionnement destinés, à partir d'une première position stable du commutateur, à déformer le pont suspendu déformable de manière à établir un contact électrique entre au moins un premier élément conducteur formé sur le substrat, entre le pont et le substrat, et un deuxième élément conducteur, solidaire d'une face inférieure du pont.
État de la technique
Comme représenté à la figure 1 , un commutateur micro-mécanique comporte typiquement un pont 1 suspendu déformable rattaché par des moyens 2 de support à un substrat 3. Des actionneurs permettent de déformer le pont suspendu, de manière à établir un contact électrique entre des premiers éléments 5 conducteurs formés sur le substrat 3 et un deuxième élément 6 conducteur, solidaire d'une face inférieure du pont 1. Les actionneurs sont, par exemple, constitués par des électrodes 4a et 4b formées respectivement sur le pont 1 et sur le substrat 3 et entre lesquelles est appliquée une tension électrique de commande. Les premiers éléments 5 conducteurs sont, par exemple, constitués par deux tronçons d'une ligne radiofréquence qui sont reliés par le deuxième élément 6 conducteur. Lorsque les moyens d'actionnement 4 sont interrompus (annulation de la tension de commande), le pont 1 revient dans son état non-déformé, c'est-à-dire sa position stable, et le contact électrique est interrompu. Afin de maintenir un contact électrique, il est alors nécessaire de continuer l'actionnement, ce qui peut augmenter la consommation électrique du commutateur. Par ailleurs, si on a un problème sur la commande (ou sur la tension), le contact électrique n'est plus assuré.
Au contraire, un interrupteur domestique classique a deux positions stables et le contact électrique reste respectivement établi ou interrompu sans apport d'énergie permanent. Cependant, il est compliqué de fabriquer un commutateur analogue, bistable, de taille microscopique.
Dans un commutateur bistable microscopique connu, un premier élément conducteur est constitué par une goutte de mercure, qui est déplacée par l'intermédiaire de forces électrostatiques pour établir ou interrompre un contact électrique entre deux éléments conducteurs solides. Cependant, d'une part, le mercure est très toxique et, d'autre part, la goutte se déplace au moindre mouvement du commutateur ce qui peut provoquer des commutations inopinées.
Le document US2002/191897 décrit un commutateur comportant une poutre de commutation reliée à ses extrémités par des supports fixés sur un substrat. Le commutateur présente une première position stable correspondant à une position ouverte du commutateur. Les poutres de commutation sont actionnées par des électrodes de commutation, de manière à déformer la poutre de commutation pour faire passer le commutateur dans une seconde position correspondant à la position fermée du commutateur. Pour maintenir le contact dans cette seconde position, il est nécessaire de maintenir les électrodes de commutation sous tension. Le commutateur comporte également des poutres de reconfiguration disposées à la périphérie de la poutre de commutation, d'un seul côté de celle-ci ou de part et d'autre de celle-ci. Les poutres de reconfiguration sont fixées au substrat par l'intermédiaire de supports rigides. Le commutateur comporte également des éléments d'actionnement coopérant avec les poutres de reconfiguration et destinés à les déformer indépendamment de la poutre de commutation. Dans un premier cas, lorsque le commutateur est dans sa première position stable, la déformation de la poutre de reconfiguration entraîne une augmentation de la distance entre la poutre de commutation et l'électrode. Dans un second cas, la déformation des poutres de reconfiguration entraîne l'apparition de forces de rappel, à l'intérieur de la poutre de commutation, représentatives des constantes de ressort du commutateur. Ces moyens de reconfiguration (poutres de reconfiguration et éléments d'actionnement associés) permettent, uniquement dans la première position stable du commutateur, de configurer et d'ajuster la tension qui sera nécessaire à la commutation du commutateur. En effet, la tension de commutation dépend soit de la distance entre la poutre et l'électrode, soit de la valeur des forces de rappel engendrées par la déformation des poutres de reconfiguration.
Objet de l'invention
L'invention a pour but de remédier à ces inconvénients et, en particulier, de réaliser un commutateur microscopique ayant deux positions mécaniquement stables.
Selon l'invention, ce but est atteint par les revendications annexées et, plus particulièrement, par le fait que les moyens de support sont constitués par deux pieds disposés entre le pont et le substrat de manière à subdiviser le pont transversalement en un segment médian disposé entre les pieds et deux segments périphériques faisant saillie vers l'extérieur et comportant des extrémités libres, les moyens d'actionnement comportant des moyens d'actionnement périphériques et des moyens d'actionnement médians permettant de déformer, indépendamment, respectivement les segments périphériques et le segment médian perpendiculairement au substrat.
Selon une méthode d'actionnement d'un contact électrique d'un commutateur micro-mécanique selon l'invention, le commutateur étant dans la première position stable, dans une première phase, le segment médian et les segments périphériques sont simultanément fléchis en direction du substrat, par l'intermédiaire de leurs moyens d'actionnement respectifs, de manière à établir le contact électrique, ensuite, les moyens d'actionnement périphériques sont interrompus dans une deuxième phase, de manière à provoquer automatiquement l'écartement des segments périphériques par rapport au substrat, les moyens d'actionnement médians étant interrompus dans une troisième phase, le segment médian étant ainsi automatiquement maintenu en position fléchie, de manière à définir une seconde position stable du commutateur, dans laquelle le contact électrique reste établi.
L'invention a également pour but un procédé de réalisation d'un commutateur micro-mécanique selon l'invention, caractérisé en ce que la fabrication du pont suspendu déformable sur le substrat comporte : le dépôt d'une couche sacrificielle périphérique sur le substrat, de chaque côté du premier élément conducteur, le dépôt d'au moins une couche isolante périphérique sur chaque couche sacrificielle périphérique, de manière à couvrir les faces avant et les faces latérales des deux couches sacrificielles périphériques pour former les segments périphériques et les pieds, le dépôt d'une couche sacrificielle médiane, entre les couches isolantes périphériques, venant en contact avec les faces latérales adjacentes des deux couches isolantes périphériques et couvrant le premier élément conducteur, le dépôt, sur la couche sacrificielle médiane, d'une couche isolante médiane venant en contact avec chacune des faces avant des deux couches isolantes périphériques pour former le segment médian, la gravure des faces latérales périphériques des deux couches isolantes périphériques, de manière à délimiter les segments périphériques, l'enlèvement des couches sacrificielles.
Description sommaire des dessins
D'autres avantages et caractéristiques ressortiront plus clairement de la description qui va suivre de modes particuliers de réalisation de l'invention donnés à titre d'exemples non limitatifs et représentés aux dessins annexés, dans lesquels :
La figure 1 montre un commutateur micro-mécanique selon l'art antérieur.
Les figures 2 et 3 représentent deux modes de réalisation particuliers d'un commutateur micro-mécanique selon l'invention.
Les figures 4 à 7, d'une part, et 8 et 9, d'autre part, illustrent schématiquement respectivement les différentes phases de l'établissement et de l'interruption d'un contact électrique d'un commutateur micro-mécanique selon l'invention.
Les figures 10 à 15 illustrent un procédé de réalisation d'un commutateur micromécanique selon l'invention.
La figure 16 représente une variante d'un commutateur micro-mécanique fabriqué selon le procédé de réalisation illustré aux figures 10 à 15. Description de modes particuliers de réalisation
Le commutateur micro-mécanique représenté à la figure 2 comporte un pont 1 suspendu déformable, rattaché à un substrat 3 par deux pieds 7 disposés entre le pont 1 et le substrat 3 de manière à subdiviser le pont 1 transversalement en un segment médian 8 disposé entre les deux pieds 7, et deux segments périphériques 9 faisant saillie vers l'extérieur. Deux actionneurs électrostatiques 10 médians et deux actionneurs électrostatiques 11 périphériques permettent de déformer, indépendamment, respectivement le segment médian 8 et les segments périphériques 9 sensiblement perpendiculairement au substrat. Les actionneurs 10 et 11 sont constitués par des électrodes formées respectivement sur le substrat 3 et sur les segments médian 8 ou périphériques 9.
A partir de la première position stable, illustrée sur la figure 2, les actionneurs 10 et 11 permettent de déformer le pont 1 de manière à établir un contact électrique entre un premier élément 5 conducteur formé sur le substrat 3, entre le pont 1 et le substrat 3, et un deuxième élément 6 conducteur, solidaire de la face inférieure du pont 1.
A la figure 3, les actionneurs 10 périphériques sont également en position de repos et le commutateur est dans une première position stable. Tandis que sur la figure 2, le segment médian 8 et les segments périphériques 9 sont constitués par une couche unique, sur la figure 3, une première couche 13 courbe forme respectivement un pied 7 et le segment périphérique 9 associé, de manière à ce que les pieds 7 soient inclinés par rapport au substrat 3 et que les segments périphériques 9 comportent des extrémités libres 15 inclinées à l'écart du substrat 3. A la figure 3, le segment médian 8 est constitué par une deuxième couche 14 courbe et comporte ainsi une partie centrale 12 légèrement surélevée. Les actionneurs 10 et 11 sont respectivement intégrés dans les segments médian et périphériques.
Le commutateur peut basculer de sa première position stable, correspondant à l'interruption du contact électrique (figures 2 et 3), à une seconde position stable, correspondant à un contact électrique établi. Les figures 4 à 7 illustrent schématiquement le passage de la première position stable à la seconde position stable. A la figure 4, le commutateur est représenté dans la première position stable, les actionneurs étant au repos, la partie centrale 12 du segment médian 8 étant surélevé et les segments périphériques 9 étant inclinés à l'écart du substrat 3. Des contraintes σ localisées au niveau des segments périphériques, représentées par des flèches horizontales sur les figures, exercent une force de compression sur le segment médian 8 dans son sens longitudinal et empêchent, ainsi, le segment médian de quitter sa position surélevée. Dans une première phase, représentée à la figure 5, le segment médian 8 et les segments périphériques 9 sont simultanément fléchis en direction du substrat 3, respectivement par l'intermédiaire des actionneurs médians 10 et périphériques 11. Ceci permet d'établir le contact électrique entre le premier élément 5 conducteur et le deuxième élément 6 conducteur. Pendant la première phase, l'actionnement des actionneurs périphériques 11 provoque des contraintes σ exerçant une force de tension sur le segment médian 8 dans son sens longitudinal (figure 5). Puis, les actionneurs périphériques 11 sont interrompus dans une deuxième phase, représentée à la figure 6. Ceci provoque automatiquement l'écartement des segments périphériques 9 par rapport au substrat 3 et, dans cette position finale de la deuxième phase, des contraintes σ de compression sur le segment médian 8 dans son sens longitudinal (figure 6). Ensuite, les actionneurs médians 10 sont interrompus dans une troisième phase. Le segment médian 8 est alors automatiquement maintenu en position fléchie par des contraintes σ en compression effectuées par les segments périphériques 9, définissant ainsi une seconde position stable du commutateur, représentée à la figure 7, dans laquelle le contact électrique reste établi. Ainsi, les trois phases successives d'actionnement permettent de faire passer le commutateur de sa première position stable (figure 4) à sa seconde position stable (figure 7).
Les figures 8 et 9 illustrent le retour de la seconde position stable à la première position stable du commutateur. En effet, dans une quatrième phase, représentée à la figure 8, les segments périphériques 9 sont de nouveau fléchis en direction du substrat 3, par l'intermédiaire des actionneurs périphériques 11. Une contrainte mécanique σ en tension s'exerce sur le segment médian 8 dans son sens longitudinal, écartant sa partie centrale 12 du substrat 3. Les actionneurs périphériques 11 sont ensuite interrompus dans une cinquième phase, représentée à la figure 9, pour ramener le commutateur dans sa première position stable, dans laquelle les segments périphériques 9 sont inclinés à l'écart du substrat 3.
Les segments périphériques 9 sont sensiblement dans la même position (à l'écart du substrat) dans les deux positions stables du commutateur (figures 4, 7 et 9) et ne changent de position que provisoirement (figures 5 et 8) lors de l'actionnement du commutateur.
Le commutateur ayant deux positions stables, la première position dans laquelle le contact électrique est interrompu, et la seconde position dans laquelle le contact électrique est établi, seul le passage d'une position à l'autre consomme de l'énergie et le commutateur peut, après actionnement, rester dans chacune de ces positions sans apport d'énergie supplémentaire.
Les figures 10 à 15 illustrent un procédé de réalisation d'un commutateur micromécanique selon l'invention. Pour des raisons de clarté, les étapes de la fabrication des électrodes constituant les actionneurs 10 et 11 ne sont pas représentées. La fabrication du pont 1 suspendu déformable sur le substrat 3 comporte alors au moins les étapes suivantes. Dans une première étape, représentée à la figure 10, une couche sacrificielle 16 périphérique est déposée de chaque côté du premier élément 5 conducteur disposé sur le substrat 3. Puis, dans une deuxième étape représentée à la figure 11 , au moins une couche isolante 17 périphérique, par exemple en nitrure de silicium, est déposée sur chaque couche sacrificielle 16 périphérique. Les couches isolantes 17 périphériques couvrent les faces avant et les faces latérales des deux couches sacrificielles 16 périphériques. Les faces latérales des couches isolantes 17 périphériques disposées vis-à-vis du premier élément 5 conducteur sont destinées à former les pieds 7 et les faces avant des couches isolantes 17 périphériques sont destinées à former les segments périphériques 9. Ensuite, dans une troisième étape, représentée à la figure 12, une couche sacrificielle 18 médiane est déposée entre les couches isolantes 17 périphériques. Elle vient en contact avec les faces latérales adjacentes des deux couches isolantes 17 périphériques et couvre le premier élément 5 conducteur. La quatrième étape consiste à déposer sur la couche sacrificielle 18 médiane une couche isolante 19 médiane. Celle-ci vient en contact avec chacune des faces avant des deux couches isolantes 17 périphériques, qu'elle peut recouvrir partiellement, pour former le segment médian 8 (figure 13). Dans une cinquième étape (figure 14), une gravure des faces latérales périphériques des deux couches isolantes 17 périphériques permet ensuite de délimiter les segments périphériques, de manière à ne conserver que les segment périphériques 9 et les pieds 7. Dans une sixième étape, les couches sacrificielles 16 et 18 sont enlevées (figure 15).
La couche isolante périphérique 17 peut être une couche apte à créer une contrainte en compression sur le segment médian 8 dans le sens longitudinal du segment médian 8 par un effet de couple mécanique au niveau des segments périphériques 9. Afin d'obtenir un effet de couple, la couche isolante périphérique 17 peut être déposée en utilisant un procédé fixant un état de contrainte de la couche isolante périphérique 17. Par un procédé de type "dépôt plasma bifréquence", par exemple, il est possible d'obtenir une seule couche qui présente un gradient de contraintes. Le niveau de contrainte souhaité peut être obtenu en adaptant l'épaisseur de la couche déposée. Il est également possible de déposer plusieurs couches isolantes 17 périphériques sur chaque couche sacrificielle 16 périphérique afin de réaliser un gradient de contraintes comprimant le segment médian 8 dans son sens longitudinal. Un empilement de deux couches peut, par exemple, être réalisé par une couche non-contrainte déposée sur une couche en compression, par une couche en tension déposée sur une couche non-contrainte ou par une couche en tension déposée sur une couche en compression. Un empilement de trois couches peut, par exemple, être constitué par deux couches en tension déposées sur une couche en compression ou par une couche en tension déposée sur une couche non- contrainte déposée, elle-même, sur une couche en compression. On obtient, ainsi, un effet de type ressort.
Dans un mode préférentiel de réalisation, représenté à la figure 16, la couche isolante 19 médiane recouvre les faces avant des couches isolantes 17 périphériques sur toute leur longueur, ce qui amplifie les contraintes entre les deux couches 17 et 19. Ainsi, après la suppression des couches sacrificielles, les extrémités libres 15 des segment périphériques 9 et la partie centrale 12 du segment médian 8 se relèvent automatiquement à l'écart du substrat. Dans un mode de réalisation non-représenté, les électrodes des actionneurs électrostatiques 11 périphériques sont disposées respectivement entre chaque couche isolante 17 périphérique et la couche isolante 19 médiane associée.
Sur la figure 16, les couches isolantes 17 périphériques couvrent chacune une partie 20 de la face avant du substrat 3 disposée respectivement entre la face latérale d'une couche sacrificielle 16 périphérique et le premier élément 5 conducteur.
L'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation particuliers représentés. En particulier, les actionneurs 10 et 11 peuvent être constitués par tout type d'actionneur à savoir par des actionneurs piézoélectriques, thermiques, magnétiques etc.. Dans le cas d'actionneurs électrostatiques, les électrodes périphériques sont, de préférence, plus larges, par exemple d'un facteur trois, que les électrodes médianes, dans un plan parallèle au substrat 3, ce qui permet de réduire la tension de pilotage des actionneurs périphériques. Un commutateur selon l'invention peut être utilisé dans une matrice d'interrupteurs ou comme interrupteur simple. Un tel commutateur peut typiquement être utilisé dans des applications de télécommunication, en particulier pour des dispositifs radiofréquence, terrestres et spatiaux, dans des applications biomédicales, des relais, etc..

Claims

Revendications
1. Commutateur micro-mécanique, comportant un pont (1) suspendu déformable, rattaché par des moyens de support (2) à un substrat (3), et des moyens d'actionnement (4) destinés, à partir d'une première position stable du commutateur, à déformer le pont (1) suspendu déformable de manière à établir un contact électrique entre au moins un premier élément (5) conducteur formé sur le substrat (3), entre le pont (1) et le substrat (3), et un deuxième élément (6) conducteur, solidaire d'une face inférieure du pont (1), commutateur caractérisé en ce que les moyens de support sont constitués par deux pieds (7) disposés entre le pont (1) et le substrat (3) de manière à subdiviser le pont (1) transversalement en un segment médian (8) disposé entre les pieds (7) et deux segments périphériques (9) faisant saillie vers l'extérieur et comportant des extrémités libres (15), les moyens d'actionnement comportant des moyens d'actionnement périphériques (11) et des moyens d'actionnement médians (10) permettant de déformer, indépendamment, respectivement les segments périphériques (9) et le segment médian (8) perpendiculairement au substrat (3).
2. Commutateur selon la revendication 1 , caractérisé en ce que le segment médian (8) comporte une partie centrale (12) surélevée dans la première position stable du commutateur.
3. Commutateur selon l'une des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que les extrémités libres (15) sont inclinées à l'écart du substrat (3) en position de repos des moyens d'actionnement périphériques (11).
4. Commutateur selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que les moyens d'actionnement sont constitués par des électrodes formées respectivement sur le substrat (3) et sur les segments périphériques (9) et médian (8).
5. Commutateur selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que les pieds (7) sont inclinés.
6. Méthode d'actionnement d'un contact électrique d'un commutateur micromécanique selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisée en ce que, le commutateur étant dans la première position stable, dans une première phase, le segment médian (8) et les segments périphériques (9) sont simultanément fléchis en direction du substrat (3), par l'intermédiaire de leurs moyens d'actionnement (10, 11) respectifs, de manière à établir le contact électrique, ensuite, les moyens d'actionnement périphériques (11) sont interrompus dans une deuxième phase, de manière à provoquer automatiquement l'écartement des segments périphériques (9) par rapport au substrat (3), les moyens d'actionnement médians (10) étant interrompus dans une troisième phase, le segment médian (8) étant ainsi automatiquement maintenu en position fléchie, de manière à définir une seconde position stable du commutateur, dans laquelle le contact électrique reste établi.
7. Méthode selon la revendication 6, caractérisée en ce que, le commutateur étant dans la seconde position stable, dans une quatrième phase, les segments périphériques (9) sont fléchis en direction du substrat (3), par l'intermédiaire des moyens d'actionnement périphériques (11), de manière à exercer une contrainte mécanique sur le segment médian (8) et à écarter sa partie centrale (12) du substrat (3), les moyens d'actionnement périphériques (11 ) étant interrompus dans une cinquième phase pour amener le commutateur dans sa première position stable.
8. Procédé de réalisation d'un commutateur micro-mécanique selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la fabrication du pont (1) suspendu déformable sur le substrat (3) comporte : - le dépôt d'une couche sacrificielle (16) périphérique sur le substrat (3), de chaque côté du premier élément (5) conducteur, le dépôt d'au moins une couche isolante (17) périphérique sur chaque couche sacrificielle (16) périphérique, de manière à couvrir les faces avant et les faces latérales des deux couches sacrificielles (16) périphériques pour former les segments périphériques (9) et les pieds (7), le dépôt d'une couche sacrificielle (18) médiane, entre les couches isolantes (17) périphériques, venant en contact avec les faces latérales adjacentes des deux couches isolantes (17) périphériques et couvrant le premier élément (5) conducteur, le dépôt, sur la couche sacrificielle (18) médiane, d'une couche isolante (19) médiane venant en contact avec chacune des faces avant des deux couches isolantes (17) périphériques pour former le segment médian (8), - la gravure des faces latérales périphériques des deux couches isolantes (17) périphériques, de manière à délimiter les segments périphériques (9), l'enlèvement des couches sacrificielles (16, 18).
9. Procédé de réalisation d'un commutateur micro-mécanique selon la revendication 8, caractérisé en ce que la couche isolante (19) médiane est déposée au moins partiellement sur la face avant des couches isolantes (17) périphériques.
10. Procédé de réalisation d'un commutateur micro-mécanique selon l'une des revendications 8 et 9, caractérisé en ce que les couches isolantes (17) périphériques sont déposées chacune sur une partie (20) de la face avant du substrat (3) disposée respectivement entre la face latérale d'une des couches sacrificielles (16) périphériques et le premier élément (5) conducteur.
11. Procédé de réalisation d'un commutateur micro-mécanique selon l'une quelconque des revendications 8 à 10, caractérisé en ce que le dépôt des couches isolantes (17) périphériques est effectué de manière à créer un gradient de contraintes dans les couches isolantes périphériques (17).
12. Procédé de réalisation d'un commutateur micro-mécanique selon la revendications 11 , caractérisé en ce que le dépôt des couches isolantes (17) périphériques est effectué de manière à créer, une fois le segment médian (8) déposé, une contrainte en compression sur le segment médian (8) dans le sens longitudinal du segment médian (8).
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7683746B2 (en) * 2005-01-21 2010-03-23 Panasonic Corporation Electro-mechanical switch
DK1705676T3 (da) * 2005-03-21 2008-02-18 Delfmems RF MEMS omskifter med en fleksibel og fri omskiftermembran
US7763818B2 (en) * 2005-07-29 2010-07-27 Brigham Young University Spherical bistable mechanism
KR101188438B1 (ko) * 2006-02-20 2012-10-08 삼성전자주식회사 하향형 멤스 스위치의 제조방법 및 하향형 멤스 스위치
EP1850360A1 (fr) * 2006-04-26 2007-10-31 Seiko Epson Corporation Microrupteur avec une première pièce commandable et une seconde pièce de contact
WO2007145294A1 (fr) * 2006-06-15 2007-12-21 Panasonic Corporation Élément électromécanique et appareil électrique utilisant ledit élément
US8063456B2 (en) * 2006-09-12 2011-11-22 Alcatel Lucent Mechanical switch with a curved bilayer
US8149076B2 (en) * 2006-12-12 2012-04-03 Nxp B.V. MEMS device with controlled electrode off-state position
DK2230679T3 (da) * 2009-03-20 2012-07-30 Delfmems MEMS-struktur med en fleksibel membran og forbedrede elektriske påvirkningsmidler
GB2497379B (en) * 2011-12-07 2016-06-08 Ibm A nano-electromechanical switch
CN106132403B (zh) 2013-10-11 2020-04-28 普尔莫凯恩股份有限公司 喷雾干燥制剂
US9783977B2 (en) * 2015-11-20 2017-10-10 University Of South Florida Shape-morphing space frame apparatus using unit cell bistable elements
CN109950063A (zh) * 2019-04-16 2019-06-28 苏州希美微纳系统有限公司 基于杠杆原理的双稳态rf mems接触式开关

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH670914A5 (fr) * 1986-09-10 1989-07-14 Landis & Gyr Ag
SE0101182D0 (sv) * 2001-04-02 2001-04-02 Ericsson Telefon Ab L M Micro electromechanical switches
US7126446B2 (en) * 2001-06-15 2006-10-24 Brigham Young University Self-retracting fully compliant bistable micromechanism
US20030080839A1 (en) * 2001-10-31 2003-05-01 Wong Marvin Glenn Method for improving the power handling capacity of MEMS switches
US7053736B2 (en) * 2002-09-30 2006-05-30 Teravicta Technologies, Inc. Microelectromechanical device having an active opening switch
FR2865724A1 (fr) * 2004-02-04 2005-08-05 St Microelectronics Sa Microsysteme electromecanique pouvant basculer entre deux positions stables

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
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