EP1324351A3 - Röntgen-optisches System mit Blende im Fokus eines Röntgen-Spiegels - Google Patents

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Ein Röntgen-optisches System mit einer Röntgen-Quelle (Q) und einem ersten Gradienten-Multischicht-Spiegel (graded multilayer mirror) (A), wobei die Ausdehnung Qx der Röntgen-Quelle (Q) in einer x-Richtung senkrecht zur Verbindungslinie zwischen Röntgen-Quelle (Q) und erstem Gradienten-Multischicht-Spiegel (A) in z-Richtung größer ist als der Akzeptanzbereich des Spiegels (A) in einem Fokus des Spiegels (A) in der x-Richtung, ist dadurch gekennzeichnet, dass in einem Fokus des ersten Gradienten-Multischicht-Spiegels (A) zwischen Röntgen-Quelle (Q) und Spiegel (A) eine erste Blende (bI) angeordnet ist, deren Öffnung in x-Richtung dem Akzeptanzbereich des ersten Gradienten-Multischicht-Spiegels (A) entspricht, und dass für den Abstand qzA zwischen erster Blende (bI) und Röntgen-Quelle (Q) gilt

         qzA = Qx / tan αx,

wobei αx den Winkel bezeichnet, unter dem der erste Gradienten-Multischicht-Spiegel (A) von der ersten Blende (bI) aus gesehen in x-Richtung erscheint. Dadurch wird eine Reduzierung der Stör-Strahlung auf der Probe bei gleichbleibender Leistung der genutzten Röntgen-Strahlung aus der Quelle Q ermöglicht.
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Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10236640B4 (de) 2002-08-09 2004-09-16 Siemens Ag Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung monochromatischer Röntgenstrahlung
US7280634B2 (en) * 2003-06-13 2007-10-09 Osmic, Inc. Beam conditioning system with sequential optic
US7120228B2 (en) * 2004-09-21 2006-10-10 Jordan Valley Applied Radiation Ltd. Combined X-ray reflectometer and diffractometer
JP4557939B2 (ja) * 2006-07-18 2010-10-06 株式会社ジェイテック Ｘ線ミラーの高精度姿勢制御法およびｘ線ミラー
US7651270B2 (en) * 2007-08-31 2010-01-26 Rigaku Innovative Technologies, Inc. Automated x-ray optic alignment with four-sector sensor
US8243878B2 (en) * 2010-01-07 2012-08-14 Jordan Valley Semiconductors Ltd. High-resolution X-ray diffraction measurement with enhanced sensitivity
US8687766B2 (en) 2010-07-13 2014-04-01 Jordan Valley Semiconductors Ltd. Enhancing accuracy of fast high-resolution X-ray diffractometry
US8437450B2 (en) 2010-12-02 2013-05-07 Jordan Valley Semiconductors Ltd. Fast measurement of X-ray diffraction from tilted layers
DE102010062472A1 (de) * 2010-12-06 2012-06-06 Bruker Axs Gmbh Punkt-Strich-Konverter
US8781070B2 (en) 2011-08-11 2014-07-15 Jordan Valley Semiconductors Ltd. Detection of wafer-edge defects
US10295485B2 (en) 2013-12-05 2019-05-21 Sigray, Inc. X-ray transmission spectrometer system
USRE48612E1 (en) 2013-10-31 2021-06-29 Sigray, Inc. X-ray interferometric imaging system
EP2896960B1 (de) * 2014-01-15 2017-07-26 PANalytical B.V. Röntgenvorrichtung für SAXS und Bragg-Brentano Messungen
US9726624B2 (en) 2014-06-18 2017-08-08 Bruker Jv Israel Ltd. Using multiple sources/detectors for high-throughput X-ray topography measurement
RU175420U1 (ru) * 2017-08-03 2017-12-05 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" Устройство для управления сходимостью рентгеновского пучка
US10845491B2 (en) 2018-06-04 2020-11-24 Sigray, Inc. Energy-resolving x-ray detection system
GB2591630B (en) 2018-07-26 2023-05-24 Sigray Inc High brightness x-ray reflection source
DE112019004433T5 (de) 2018-09-04 2021-05-20 Sigray, Inc. System und verfahren für röntgenstrahlfluoreszenz mit filterung
WO2020051221A2 (en) 2018-09-07 2020-03-12 Sigray, Inc. System and method for depth-selectable x-ray analysis
RU2719395C1 (ru) * 2019-09-03 2020-04-17 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" Способ управления кривизной рабочей поверхности монокристаллической пластины дифракционного блока, обеспечивающей коллимацию рентгеновского пучка
WO2021162947A1 (en) 2020-02-10 2021-08-19 Sigray, Inc. X-ray mirror optics with multiple hyperboloidal / hyperbolic surface profiles

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0459833A2 (de) * 1990-06-01 1991-12-04 Canon Kabushiki Kaisha Röntgenstrahlenmikroskop
DE4407278A1 (de) * 1994-03-04 1995-09-07 Siemens Ag Röntgen-Analysegerät
DE19833524A1 (de) * 1998-07-25 2000-02-24 Bruker Axs Analytical X Ray Sy Röntgen-Analysegerät mit Gradienten-Vielfachschicht-Spiegel
WO2002065481A1 (de) * 2001-02-14 2002-08-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anordnung für röntgenanalytische anwendungen

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0331375B1 (de) * 1988-02-25 1995-08-23 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Strahlenoptische Elemente mit Graphit-Schichten
US5204887A (en) * 1990-06-01 1993-04-20 Canon Kabushiki Kaisha X-ray microscope
US5274435A (en) * 1992-02-26 1993-12-28 Hettrick Michael C Grating monochromators and spectrometers based on surface normal rotation
JP3499592B2 (ja) * 1994-01-31 2004-02-23 株式会社ルネサステクノロジ 投影露光装置及びパターン転写方法
US5923720A (en) * 1997-06-17 1999-07-13 Molecular Metrology, Inc. Angle dispersive x-ray spectrometer
US6041099A (en) 1998-02-19 2000-03-21 Osmic, Inc. Single corner kirkpatrick-baez beam conditioning optic assembly

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0459833A2 (de) * 1990-06-01 1991-12-04 Canon Kabushiki Kaisha Röntgenstrahlenmikroskop
DE4407278A1 (de) * 1994-03-04 1995-09-07 Siemens Ag Röntgen-Analysegerät
DE19833524A1 (de) * 1998-07-25 2000-02-24 Bruker Axs Analytical X Ray Sy Röntgen-Analysegerät mit Gradienten-Vielfachschicht-Spiegel
WO2002065481A1 (de) * 2001-02-14 2002-08-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anordnung für röntgenanalytische anwendungen

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ARNDT U W: "FOCUSING OPTICS FOR LABORATORY SOURCES IN X-RAY CRYSTALLOGRAPHY", JOURNAL OF APPLIED CRYSTALLOGRAPHY, COPENHAGEN, DK, vol. 23, 1990, pages 161 - 168, XP009041316, ISSN: 0021-8898 *
SAUNEUF R ET AL: "LARGE-FIELD HIGH-RESOLUTION X-RAY MICROSCOPE FOR STUDYING LASER PLASMAS", REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, AIP, MELVILLE, NY, US, vol. 68, no. 9, September 1997 (1997-09-01), pages 3412 - 3420, XP000723533, ISSN: 0034-6748 *
SUZUKI Y ET AL: "X-Ray focusing with elliptical Kirkpatrick-Baez mirror system", JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, PART 1 (REGULAR PAPERS & SHORT NOTES) JAPAN, vol. 30, no. 5, May 1991 (1991-05-01), pages 1127 - 1130, XP002436248, ISSN: 0021-4922 *

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