EP0143171A1 - Vorrichtung zur Erzeugung von negativen Ionen - Google Patents

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EP0143171A1
EP0143171A1 EP84108889A EP84108889A EP0143171A1 EP 0143171 A1 EP0143171 A1 EP 0143171A1 EP 84108889 A EP84108889 A EP 84108889A EP 84108889 A EP84108889 A EP 84108889A EP 0143171 A1 EP0143171 A1 EP 0143171A1
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housing
outer housing
ion reflector
negative
voltage
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Gesellschaft fur Ionentechnik Mbh
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01TSPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
    • H01T23/00Apparatus for generating ions to be introduced into non-enclosed gases, e.g. into the atmosphere

Definitions

  • the invention relates to a device for generating an excess of negative ions in enclosed spaces by lying at negative high voltage ionizing tips, which are housed in the high electrically insulated with outlets for the ion current provided i housing.
  • the ionization tips are attached as a radiation ring to lamp bodies or in another form.
  • a relatively high ion concentration is now present in the immediate vicinity of this ion generator; as a rule, a room is not round, but rectangular.
  • the object of the invention is to design ion generators in such a way that they adapt as possible to the spatial shape, i.e. the most uniform density possible in the whole room.
  • the constant generation of negative small ions in the rooms also has a very favorable biological effect. While positively charged air ions consist essentially of charged carbonic acid, which releases the stimulating hormone serotonin from the tissue, negative air ions are mainly charged oxygen, which accelerates the breakdown of the serotonin by influencing a ferment.
  • the solution of the object according to the invention is that an electrically highly conductive ion reflector is arranged between an insulating outer housing and the ionization tips.
  • the exit speed and thus the amount of negative ions Similar to electrostatic flocking influenced by the ion reflector, the exit speed and thus the amount of negative ions. Depending on whether there is a higher or lower negative voltage at the ion reflector, you can influence the ion current or adapt to the room.
  • the ion reflector is formed by a housing which is open in the outflow direction of the negative ions.
  • a U-shaped profile is expediently used in this embodiment.
  • all other profiles can also be used, the only important thing is that the reflector acts as a bundle of the negative ions in their outflow direction.
  • the reflector In order to have a corresponding effectiveness, the reflector must be arranged in an insulating outer housing, this outer housing also having a U-shaped profile according to a preferred embodiment of the invention, which profile is open in the outflow direction of the negative ions.
  • this insulating outer housing is then provided with a higher proportion of perforations than the housing of the ion reflector.
  • the ionization tips are formed by needles which are placed on an electrically highly conductive, e.g. Metallic, narrow band electrically conductive perpendicular to the length of the band and the band are attached to the open side of the ion reflector outstanding.
  • clamping devices in which clamps or brackets fasten the band on both sides and these clamping devices are then tensioned by means of a thread and a lock nut, are expediently arranged on the end faces of the U-shaped outer housing, specifically in the end caps of these end faces.
  • the DC voltage generator is also housed in a housing. Further essential features of the invention are given in the description of the drawing.
  • the ion reflector 1 is housed in the outer housing 2.
  • ionization peaks 3 are also present in the ion reflector, the outflow direction 4 of the negative ions being shown.
  • the ion reflector 1 is formed by a U-shaped profile 5, while the outer housing 'is formed by a U-shaped profile 6.
  • the ionization tips are present at the end of refined needles 7,8. These needles 7, 8 are fastened in an electrically conductive manner on the strips 9, 10 at appropriate intervals.
  • the bands 9, 10 are arranged at a parallel distance within the reflector, the ionization tips 3 projecting beyond the upper edge of the ion reflector 1.
  • the distance 12 between the bands 9, 10 is maintained by the tensioning devices 15 arranged in the end covers 13, 14, which are only shown schematically, but penetrate the end covers 13, 14 via an insulator 16 and then by means of a counter screw which adjusts to the End caps supported, then tension the straps or lock in place.
  • the housing wall 17 continues and forms the housing for the DC voltage generator 18, which, as shown in FIG. 5, represents a continuation with regard to the profile of the ion generator.
  • the negative DC voltage 21 which is at the ionization tips is more negative than the negative DC voltage 22 which is at the reflector. This voltage is generated by a cascade circuit 29 known per se, as shown in FIG. Post insulators 23, 24 serve to fasten the ion reflector 1 within the U-shaped profile 6.
  • the ones open in the outflow direction 4 The sides of the U-profiles 5 and 6 are covered by a grid plate 25 against accidental contact.
  • This grid plate 25, which is made of insulating material, is attached to elbows 26 which are connected to the U-shaped profile 6.
  • the distance 27 of the ionization tips is between 35-55 mm.
  • the distance 12 of the strips from each other is approximately 25 mm.
  • the tips have a spacing of approx. 35 to 55 mm in the longitudinal direction of the strips with these tension values.
  • the cascade circuit together with other high-voltage switching elements is cast in a housing 28.
  • This housing 28 is located under a cover 30 which is arranged in the plane of the grid plate 25.
  • This cover 30 is a switch lamp 31 is provided.
  • a mains connection 32 then protrudes from this housing, a housing 34 accommodating the entire electrical arrangement. It should also be mentioned that the free length 33 of the tips is 15 to 25 mm.

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Electrostatic Separation (AREA)

Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Überschusses von negativen Ionen in geschlossenen Räumen durch an negative Hochspannung liegende Ionisierungsspitzen, Aufgabe der Erfindung ist, Ionenerzeuger so auszubilden, daß sie sich der Raumform anpassen, d. h. eine möglichst gleichmäßige Dichte im ganzen Raum erreicht wird. Die Lösung der Aufgabe besteht darin, daß ein elektrisch gut leitender Ionenreflektor zwischen einem isolierenden Außengehäuse und den Ionisierungsspitzen angeordnet ist. Ähnlich wie bei der elektrostatischen Beflockung wird durch den Ionenreflektor die Austrittsgeschwindigkeit und damit auch die Menge der negativen Ionen beeinflußt. Je nachdem, ob am Ionenreflektor eine höhere oder niedere negative Spannung liegt, kann man dadurch den Ionenstrom beeinflussen bzw. sich dem Raum anpassen.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Überschusses von negativen Ionen in geschlossenen Räumen durch an negative Hochspannung liegende Ionisierungsspitzen, die im elektrisch hochisolierten, mit Auslässen für den Ionenstrom verseheneniGehäuse untergebracht sind.
  • Derartige Vorrichtungen sind bekannt. So können z.B. die Ionisierungsspitzen als Strahlenkranz bei Lampenkörpern oder in anderer Form angebracht werden. Bei diesen bekannten Ausführungen ist nun eine verhältnismässig hohe Ionenkonzentration in unmittelbarer Nähe dieses Ionenerzeugers vorhanden, in der Regel ist ein Raum nicht rund, sondern rechteckig.
  • Die Aufgabe der Erfindung ist es, Ionenerzeuger so auszubilden, daß sie sich möglichst der Raumform anpassen, d.h. eine möglichst gleichmässige Dichte im ganzen Raum erreicht wird. Durch die ständige Erzeugung negativer Kleinionen in den Räumen stellt sich auch eine sehr günstige biologische Wirkung ein. Während positiv geladene Luftionen im wesentlichen aus geladener Kohlensäure bestehen, die das Reizhormon Serotonin aus dem Gewebe freisetzt, sind negative Luftionen überwiegend geladener Sauerstoff, der durch Beeinflußung eines Ferments den Abbau des Serotonins beschleunigt.
  • Die Lösung der Aufgabe nach der Erfindung besteht darin, daß ein elektrisch gut leitender Ionenreflektor zwischen einem isolierenden Außengehäuse und den Ionisierungsspitzen angeordnet ist.
  • Ähnlich wie bei der elektrostatischen Beflockung wird durch den Ionenreflektor die Austrittsgeschwindigkeit und damit auch die Menge der negativen Ionen beeinflusst. Je nachdem, ob am Ionenreflektor eine höhere oder niedere negative Spannung liegt, kann man dadurch den Ionenstrom beeinflußen bzw. sich dem Raum anpassen.
  • Eine bevorzugte Ausführung besteht darin, daß der Ionenreflektor von einem Gehäuse gebildet ist, das in Abströmrichtung der negativen Ionen offen ist. Bei dieser Ausführung verwendet man zweckmässig ein U-förmiges Profil. Selbstverständlich lassen sich auch alle anderen Profile verwenden, wesentlich ist nur, daß der Reflektor gewißermaßen als Bündelung die negativen Ionen in deren Abströmrichtung wirkt.
  • Wesentlich ist ferner, daß das U-förmige Profil des Reflektors perforiert ist mit einem über 20% liegenden Perforationsanteil.
  • Der Reflektor muß,um eine entsprechende Wirksamkeit zu haben, in einem isolierenden Außengehäuse angeordnet sein, wobei dieses Außengehäuse nach einer bevorzugten Ausbildung der Erfindung ebenfalls ein U-förmiges Profil aufweist, welches in Abströmrichtung der negativen Ionen offen ist.
  • Im Gegensatz zum Reflektor ist dann dieses isolierende Außengehäuse mit einem höheren Perforierungsanteil als das Gehäuse des Ionenreflektors versehen.
  • Diese verschiedenartigen Perforierungen dienen dazu, daß der Ionenstrom, d.h. auch der Luftstrom , nicht behindert wird, wenn er durch das Gehäuse und den Ionenreflektor strömt und dabei an den Ionisierungsspitzen, die von Nadeln gebildet sind, vorbeiströmt.
  • Eine bevorzugte Ausführung ergibt sich darin, daß die Ionisierungsspitzen von Nadeln gebildet sind, die auf einem elektrisch hochleitenden, z.B. metallischen,schmalen Band elektrisch gut leitend senkrecht zur Bandlänge und das Band nach der offenen Seite des Ionenreflektors hin überragend befestigt sind.
  • Es ist schwierig, Ionisierungsspitzen in richtiger Länge, richtigem Abstand vom Reflektor und vom Außengehäuse so anzubringen, daß eine gleichmäßige Ionisierung erfolgt. Mit Hilfe eines schmalen Bandes, auf dem diese Nadeln befestigt sind, läßt sich das fertigungstechnisch sehr einfach durchführen. Dabei wird dann dieses Band innerhalb des Reflektors gespannt, wobei zweckmässig zwei Bänder parallel zueinander angeordnet sind.
  • Diese Spannvorrichtungen, bei denen Klemmen oder Halterungen auf beiden Seiten das Band befestigen und diese Spannvorrichtungen dann mittels Gewinde und einer Kontermutter gespannt werden, sind zweckmäßig an den Stirnseiten des U-förmigen Außengehäuses angeordnet und zwar in den Abschlußdeckeln dieser Stirnseiten. Um eine kompakte Ausführung zu gewährleisten, ist es wichtig, daß gewissermassen in einem Gehäuse auch der Gleichspannungsgenerator untergebracht ist. Dabei sind in der Zeichnungsbeschreibung noch weitere wesentliche Erfindungsmerkmale angegeben.
  • In der Zeichnung zeigt:
    • Figur 1 einen Schnitt längs der Linie I-I der Figur 2;
    • Figur 2 einen Schnitt längs der Linie II-II der Figur 1;
    • Figur 3 ist die Draufsicht auf die Figur 1;
    • Figur 4 perspektivisch das ganze Gerät.
  • Es wird betont, daß die Zeichnungen nur schematisch sind und nur die wichtigsten Teile wiedergeben.
  • In der Figur 1 ist der Ionenreflektor 1 im Außengehäuse 2 untergebracht. Im Ionenreflektor sind außerdem noch Ionisierungsspitzen 3, wobei die Abströmrichtung 4 der negativen Ionen dargestellt ist. Der Ionenreflektor 1 wird von einem U-förmigen Profil 5 gebildet, während das Außengehäuse'von einem U-förmigen Profil 6 gebildet wird. Die Ionisierungsspitzen sind am Ende von veredelten Nadeln 7,8 vorhanden. Diese Nadeln 7,8 sind in entsprechenden Abständen auf den Bändern 9,10 elektrischleitend befestigt. Die Bänder 9,10 sind,wie die Figuren 1,2 und 3 zeigen, in parallelem Abstand innerhalb des Reflektors angeordnet, wobei die Ionisierungsspitzen 3 die Oberkante des Ionenreflektors 1 überragen. Der Abstand 12 zwischen den Bändern 9,10 wird aufrechterhalten durch die in den Abschlußdeckeln 13,14 angeordneten Spannvorrichtungen 15, die nur schematisch dargestellt sind, aber über einen Isolator 16 die Abschlußdeckel 13,14 durchdringen und dann mittels einer Gegenschraube, die sich an den Abschlußdeckeln abstützt, dann die Bänder spannen bzw. in ihrer Lage arretieren. Die Gehäusewand 17 setzt sich weiter fort und bildet das Gehäuse für den Gleichspannungsgenerator 18, der wie die Figur 5 zeigt, eine Fortsetzung hinsichtlich des Profils des Ionenerzeugers darstellt. Die negative Gleichspannung 21, die an den Ionisierungsspitzen liegt, ist höher negativ als die negative Gleichspannung 22, die am Reflektor liegt. Diese Spannung wird durch eine ansich bekannte Kaskadenschaltung 29 erzeugt, wie die Figur 4 darstellt. Stützisolatoren 23, 24 dienen der Befestigung des Ionenreflektors 1 innerhalb des U-förmigen Profiles 6. Die in Abströmrichtung 4 offenen Seiten der U-Profile 5 und 6 werden durch eine Rasterplatte 25 gegen zufälliges Berühren abgedeckt. Diese Rasterplatte 25, die aus isolierendem Werkstoff hergestellt ist, ist auf Abkröpfungen 26 befestigt, die mit dem U-förmigen Profil 6 verbunden sind. Der Abstand 27 der Ionisierungsspitzen liegt zwischen 35 - 55 mm. Der Abstand 12 der Bänder voneinander beträgt ca. 25 mm. Diese Abstände sind zweckmässig, wenn der Ionenreflektor an 5000 bis 6000 Volt negativer Gleichspannung liegt und die Ionisierungsspitzen 3 an einer negativen Gleichspannung zwischen 8000 und 9000 Volt liegen.
  • Die Spitzen haben in Längsrichtung der Bänder bei diesen Spannungsgrößen einen Abstand von ca. 35 bis 55 mm.
  • Die Kaskadenschaltung zusammen mit anderen hochspannungsführenden Schaltelementen ist in einem Gehäuse 28 eingegossen. Dieses Gehäuse 28 liegt unter einer Abdeckung 30, die in Ebene der Rasterplatte 25 angeordnet ist. Diese Abdeckung 30 ist eine Einschaltlampe 31 vorgesehen.
  • Aus diesem Gehäuse ragt dann ein Netzanschluß 32, wobei ein Gehäuse 34 die ganze elektrische Anordnung aufnimmt. Zu erwähnen wäre noch, daß die freie Länge 33 der Spitzen 15 bis 25 mm aufweist.
  • Nicht dargestellt sind Möglichkeiten,um mittels Potentiometern die Spannungsverhältnisse der negativen Gleichspannungen 21,22 zu regeln. Möglicherweise wird nur die am Reflektor liegende Gleichspannung 22 geregelt, falls man sich hier bestimmten Räumen anpassen will, wenn eine gewisse Dichte erreicht werden soll. Es ist selbstverständlich, daß die durch den Reflektor beschleunigten Ionen in größerer Zahl austreten, je wirksamer der Reflektor ist.
  • Als Anwendungsgebiet der Erfindung sind alle Vorrichtungen zu bezeichnen, um elektrisch den Austritt von Ionen zu beschleunigen bzw. deren Menge zu beeinflussen.

Claims (20)

1. Vorrichtung zur Erzeugung eines Überschusses von negativen Ionen in geschlossenen Räumen durch an negativen Hochspannungen liegende Ionisierungsspitzen, die in elektrisch hochisolierenden , mit Auslässen für den Ionenstrom versehenen, Gehäuse untergebracht sind, dadurch gekennzeichnet , daß ein elektrisch gut leitender Ionenreflektor (1) zwischen einem isolierenden Außengehäuse (2) und den Ionisierungsspitzen (3) angeordnet ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Ionenreflektor (1) von einem an negativer Gleichspannung liegenden Gehäuse gebildet ist, das in Abströmrichtung (4) der negativen Ionen offen ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Ionenreflektor (1) ein U-förmiges Profil (5) aufweist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das U-förmige Profil perforiert ist mit einem über 20% liegenden Perforationsanteil.
5. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 -3, dadurch gekennzeichnet, daß das isolierende Außengehäuse (2) ein U-förmiges Profil (6) aufweist, das in Abströmrichtung (4) der negativen Ionen offen ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das isolierende Außengehäuse (2) perforiert ist mit einem höheren Perforationsanteil als das Gehäuse (5) des Ionenreflektors (1).
7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionisierungsspitzen (3) von Nadeln (7,8) gebildet sind, die auf einem elektrisch hochleitenden , z.B. metallischen, schmalen Band (9,10) elektrisch gut leitend senkrecht zur Bandlänge und das Band (9,10) nach der offenen Seite des Ionenreflektors (1) hin überragend befestigt sind.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , daß das Band (9,10) ein Kupferband an 3000 - 10000 Volt negativer Gleichspannung (11) liegend ist, welches im Abstand von den Wänden des Ionenreflektors (1) isoliert vom Außengehäuse (2) parallel zu dessen Seitenflächen gespannt ist, wobei die Ionisierungsspitzen (3) den Ionenreflektor (1) überragen.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß im Abstand (12) voneinander zwei Bänder (9,10) mit daran befestigten Ionisierungsspitzen (3) vorhanden sind.
10. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 9, dadurch gekennzeichnet , daß die Stirnseiten des U-förmigen Außengehäuses (6) von Abschlußdeckeln (13,14) gebildet sind, von denen der eine eine Spannvorrichtung (15) mit Isolator (16) für die Bänder ( 9,10) aufweist und der andere neben dieser Spannvorrichtung mit Isolator gleichzeitig als Gehäusewand (17) für den Gleichspannungsgenerator (18) ausgebildet ist.
11. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse des Gleichspannungsgenerators (18) an die Stirnwand des Außengehäuses (6) angeordnet ist, wobei sich die Wände (19,20) des Außengehäuses (6) über das Generatorgehäuse hin erstrecken.
12. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 11,dadurch gekennzeichnet , daß der Ionenreflektor (1) an einer negativen Gleichspannung (22) zwischen 5000 und 6000 Volt und die Ionisierungsspitzen (3) an einer negativen Gleichspannung (21) von 8000 - 9000 Volt liegt.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß die negative Gleichspannung (22) des Ionenreflektors (1) geringer ist als die an der die im Ionenreflektor (1) angeordneten Ionisierungsspitzen (3) liegen.
14. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 13, dadurch gekennzeichnet , daß die Spannung (22) des Ionenreflektors (1) regelbar ist.
15. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 14, dadurch gekennzeichnet , daß das elektrisch leitfähige U-förmige Gehäuse (5) des Ionenreflektors (1) isolierend über Stützisolatoren (23,24) am Außengehäuse (2) befestigt ist.
16. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 15, dadurch gekennzeichnet , daß die offenen Seiten des U-Profils des Außengehäuses (6) und des Ionenreflektors (5) für den Ionenaustritt in Abströmrichtung (4) durch eine elektrisch hochisolierende Rasterplatte (25) abgedeckt ist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet , daß die Rasterplatte (25) auf Abkröpfungen (26) des U-Profils (6) des Außengehäuses (2) befestigt ist.
18. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 17, dadurch gekennzeichnet , daß die Ionisierungsspitzen (3) im Abstand (27) von 35 - 55 mm angeordnet sind eine freie Länge (33) von 15 - 25 mm aufweisen und die parallelen Bänder einen Abstand (12) von ca. 25 mm voneinander haben.
19. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß in einem Gehäuse (28) als Kaskadenschaltung (29) eingegossen teilweise der Gleichspannungserzeuger (18) angeordnet ist.
20. Vorrichtung nach Ansprüchen 1 - 19, dadurch gekennzeichnet , daß die Abdeckung (30) des Gehäuses (34) des Gleichspannungsgenerators (18) in der Ebene der Rasterplatte (25) liegt und eine Einschaltanzeige (31) z.B. als Lichtquelle aufweist.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0208169A1 (de) * 1985-06-26 1987-01-14 Eltex-Elektrostatik Gesellschaft mbH Hochspannungselektrode
WO1993013363A1 (de) * 1992-01-02 1993-07-08 Csorba Istvan Apparat zur verbesserung des luftzustandes von räumlichkeiten
EP0448929B1 (de) * 1990-03-27 1995-08-02 International Business Machines Corporation Beseitigung von Teilchenerzeugung in einem modifizierten Reinraum-Corona-Luftionisator

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4980796A (en) * 1988-11-17 1990-12-25 Cybergen Systems, Inc. Gas ionization system and method
DE19755681C2 (de) * 1997-12-15 2001-06-28 Rudolf Weyergans Vorrichtung zur Luftionisation

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH421388A (de) * 1962-02-09 1966-09-30 Holger Dr Lueder Verfahren zur Elektro-Klimatisierung eines Raumes mit negativen Luftsauerstoff-Ionen
DE2044287A1 (de) * 1969-10-29 1971-05-06 Medicor Muevek Aeroionisator
DE2449227A1 (de) * 1974-10-16 1976-04-29 Ionen Technik Horst Grassmann Luftionisator
DE2926123A1 (de) * 1978-07-06 1980-01-17 Fleck Carl M Vorrichtung zur erzeugung von ionen

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH421388A (de) * 1962-02-09 1966-09-30 Holger Dr Lueder Verfahren zur Elektro-Klimatisierung eines Raumes mit negativen Luftsauerstoff-Ionen
DE2044287A1 (de) * 1969-10-29 1971-05-06 Medicor Muevek Aeroionisator
DE2449227A1 (de) * 1974-10-16 1976-04-29 Ionen Technik Horst Grassmann Luftionisator
DE2926123A1 (de) * 1978-07-06 1980-01-17 Fleck Carl M Vorrichtung zur erzeugung von ionen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0208169A1 (de) * 1985-06-26 1987-01-14 Eltex-Elektrostatik Gesellschaft mbH Hochspannungselektrode
EP0448929B1 (de) * 1990-03-27 1995-08-02 International Business Machines Corporation Beseitigung von Teilchenerzeugung in einem modifizierten Reinraum-Corona-Luftionisator
WO1993013363A1 (de) * 1992-01-02 1993-07-08 Csorba Istvan Apparat zur verbesserung des luftzustandes von räumlichkeiten

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EP0143171B1 (de) 1987-11-04

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