EP0010149A1 - Referenzquelle auf einem integrierten FET-Baustein sowie Verfahren zum Betrieb der Referenzquelle - Google Patents

Referenzquelle auf einem integrierten FET-Baustein sowie Verfahren zum Betrieb der Referenzquelle Download PDF

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EP0010149A1
EP0010149A1 EP79103255A EP79103255A EP0010149A1 EP 0010149 A1 EP0010149 A1 EP 0010149A1 EP 79103255 A EP79103255 A EP 79103255A EP 79103255 A EP79103255 A EP 79103255A EP 0010149 A1 EP0010149 A1 EP 0010149A1
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EP
European Patent Office
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fets
voltage
stages
fet
reference source
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EP79103255A
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Bernward Dipl.-Ing. Rössler
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Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02—Regulating voltage or current
    • G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/24—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only
    • G05F3/242—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only with compensation for device parameters, e.g. channel width modulation, threshold voltage, processing, or external variations, e.g. temperature, loading, supply voltage

Definitions

  • the invention relates to an electronic arrangement, namely a special reference source, which thus outputs a reference voltage or a reference current of a defined size.
  • the invention was developed in particular in n-channel technology for feeding the R / 2R networks of D / A converters, ie FCM / AM decoders, and above all of A / D converters, ie AM / PCM encoders. developed especially for charge-to-voltage and voltage-to-charge converters of CCD film belonging to the converters of a special PCM telephone switching system made up of highly integrated components.
  • the reference sources, R / 2R networks, other converter components and the filters are all on the same FET module.
  • the invention is also suitable for any FET modules which have a subsequently adjustable reference voltage or a very precise one after the fact adjustable reference current.
  • the invention solves these difficulties. the manufacturing tolerances. when using IG-FETs, which in particular already have different characteristic curves because of these manufacturing tolerances, in that the size of the reference voltage or the reference current should be arbitrarily, permanently and infinitely adjustable in the invention after the manufacture of the module.
  • the IG-FETs of the stages of the invention can have any p-channel or n-channel, any of the depletion type or the enhancement type.
  • the channel region may be doped p + or n when n-channel + -doped, thus a "reverse type" channel region represent the greatly increased control gate / source threshold voltage (threshold voltage or cut-offvoltage), even when p-channel at which a source-drain current begins to flow.
  • the structure of the IG-FETs and also the structure of the driving circuit of these IG-FETs is not limited to a single special variant in the invention, so that the scope of the invention is correspondingly large.
  • the invention does not necessarily presuppose the use of the measures known per se which have balancing effects, such as, for example, subsequent irradiation with high-energy corpuscles, heating until the doping profiles change or point-by-point processing with a laser.
  • balancing effects such as, for example, subsequent irradiation with high-energy corpuscles, heating until the doping profiles change or point-by-point processing with a laser.
  • tube circuits it is known that such a subsequent adjustment would be relatively easy to carry out by changing resistors, by means of rotary resistors, etc. in the circuit controlling the tube.
  • adjustable components can also be retrofitted outside of the building block, which represents an inelegant, space-consuming adjustment measure. In the case of the invention, therefore, the adjustment is carried out neither outside the module nor within the control circuits of the IG-FETs.
  • the invention even allows this measure to be weakened in whole or in part as desired in the event of an inadvertently too strong adjustment until the adjustment with the desired strength or accuracy is achieved.
  • the adjustment can thus even be carried out reversibly several times by means of certain adjustment measures and, if necessary, can also be adjusted again to a different state.
  • Such memory gates can be reloaded, for example in the case of an n-channel, by electrons heated in the conductive channel region by means of an accelerating source-drain voltage, that is to say reloadable by means of the so-called channel injection.
  • the storage gate can also be reloaded by charges generated and heated at the blocking channel-drain transition, that is to say by means of the avalanche effect.
  • the store gate can also be recharged by charges heated on the channel region surface by means of voltage pulses, and also can be recharged by charges heated on the memory gate surface by means of voltage pulses.
  • the storage gate can also be reloaded through the Fowler-Nordheim tunnel effect, as well as through non-electrical measures, for example by means of irradiation with light.
  • the reference source becomes less sensitive to fluctuations) if, according to claim 2, the parallel connection of both stages is in series with a high-resistance emitter follower resistor. * ) the same power supply savings
  • an IG-FET of the reform source can be compared by, according to claim 3, the electrodes of this IG-FET containing the memory gate with its own connections, e.g. with aluminum spots, the integrated module are connected, which are accessible after the manufacture of the IG-FET, at least before the encapsulation of the module.
  • the level, i.e. the potentials and, if necessary, the amplitude of the differential voltage can be changed according to claim 4 in that each of the two inputs of a differential amplifier is connected to the tap of a stage.
  • a reference source can in principle be used both as a reference voltage source and as a reference current source in accordance with the selectable output internal resistance of the differential amplifier. It can be used in particular as a reference voltage source if, according to claim 5, an output of the differential amplifier is connected to a first voltage divider, the tap of which is connected to the control gate of one of the IG-FETs of the first of the two stages.
  • an output of the differential amplifier is connected to a first voltage divider, the tap of which is connected to the control gate of at least one of the IG-FETs of the first of the two stages, and the same output of the differential amplifier is connected to a second voltage divider is connected, whose first divider is connected directly to the output of the differential amplifier and whose other divider represents the load resistance to be supplied with the reference current, and the tap of the second voltage divider is connected to a third voltage divider, the tap of which in turn is connected to the control gate of at least one of the IGs -FETs of the second stage is connected.
  • the reference source not only supplies direct voltages or direct currents, but alternating voltages or currents with a subsequently adjusted operating point if, according to claim 7, at least one of the IG-FETs and / or at least one of the associated resistances of the two stages has a control input for superimposing a controlling one Alternating signal is connected.
  • the reference source is namely controllable at the control input, so that, for example, the direct currents or direct voltages can be switched on and off by supplying a binary alternating signal to the control input.
  • the direct currents or direct voltages can also be modulated with analog signals in that, according to claim 9, an analog alternating signal is fed to the control input.
  • Fig. 1 shows that ESSCIRC stimulates the use of two IG-FETs with different channel area types, which apparently should each have at least one load resistor R1, R2.
  • R1, R2 load resistor
  • ESSCIRC does not specify in detail how this differential voltage RS is used. For example, the level change would be conceivable, possibly also amplification by means of a differential amplifier DV, in order to use its output signals U3 / J3 only indirectly as references.
  • Nothing is reported in ESSCIRC about the size of U1, U2, U10, U20. However, it can be assumed that there are constant potentials, e.g.
  • this difficulty is eliminated by at least one of the IG-FETs, for example F1, having an electrically floating memory gate between its control gate and channel region, cf. Fig. 2.
  • This memory gate is subsequently either positively or negatively more or less rechargeable or unloadable, that is to say rechargeable, after the manufacture of the component, and as a result the characteristic curve and the threshold voltage of the IG-FET in question can be shifted continuously as desired.
  • the IG-FET in question is thus operated similarly to the IG-FET with memory gate used as an analog signal memory and described, for example, by Electronics, July 11, 1974, pp. 29/30.
  • the IG-FET (s) in question with memory gates F1, F2 are not only used for writing, storing and reading analog signals Signals, but for the continuous adjustment of the constant operating point of the entire reference source in order to compensate for the errors in the reference voltage or the reference current, which initially arose from the inevitable manufacturing tolerances of such a complicated reference source.
  • the electrodes of the relevant IG-FET can be seen, cf. connect the control gates, sources and drains of the IG-FETs with memory gates F1, F2 in FIG.
  • connections of the module in each case directly with their own connections of the module, for example with the aluminum spots A1, A2, A3 for F1 and A5, A2, A4 for F2.
  • These connections which should still be accessible after the manufacture of the IG-FET in question, can be supplied, for example by contact with live peaks, with voltages that reload the storage gate and thus precisely balance the reference voltage or the reference current, for example Perform RS or U3 / J3.
  • the differential amplifier DV thus supplies the reference quantities U3 or J3 with the polarity and size that can be set as required, in that the polarity and size of the differential voltage RS can be subsequently adjusted continuously on the module, for example to an accuracy of 1 mV, after the production of the reference source the values of the load currents i1, i2 can be subsequently adjusted as required by reloading the memory gates of the IG-FETs F1, F2.
  • the example shown in FIG. 2 also differs from the example shown in FIG. 1 in that the potentials U10, U20 for both IG-FETs F1, F2 are equal in that both stages F1 / R1 and F2 / R2 are conductive there are interconnected.
  • This parallel connection of stages F1 / R1, F2 / R2 is also a special feature high-resistance emitter follower resistor RO, to which the load resistors R1, R2 have a comparatively smaller resistance value - the resistance values can be achieved in a manner known per se, for example by selecting the respective length / width ratio of the channel regions of these two-pole FETs operated as resistors.
  • the emitter follower resistance RO allows the total current i1 + i2 of the stages supplied by the direct current supply source VDD / VSS to be stabilized against fluctuations in the direct current supply, so that the differential voltage RS and thus also U3 / J3 is accordingly independent of the respective magnitude of the voltage VDD / VSS.
  • a partial discharge of a previously positively charged storage gate of an IG-FET F1, F2 corresponds to a negative charge.
  • a partial discharge of a previously negatively charged storage gate also corresponds to a positive charge.
  • the storage gate is charged with majority charge carriers of the source or drain, i.e. with holes in the p-channel or with electrons in the n-channel, then such a first shift of the characteristic curve takes place simply because of this storage gate charging, as if it were would now have a lock type channel area even though it has an enrichment type channel area.
  • the effect of charging the storage gate by means of the control gate which repels such majority carriers in the channel region K, must first be compensated for before a channel can form between the source and the drain.
  • the storage gate is charged with minority charge carriers of the source or drain, i.e. with electrons in the p-channel or with holes in the n-channel, an opposite shift of the characteristic curve takes place simply because of this storage gate charging, as if it were now would have a depletion type channel area even though it has an enrichment type channel area.
  • this charge is enriched by the majority charge carriers in the channel region K not to be generated at all by means of the control gate in order to obtain a conductive channel between the source and the drain.
  • the subsequent shifting of the characteristic curve can also be achieved by subsequently charging its memory gate with the majority charge carriers, as if the IG-FET now e.g. would have an enrichment type or lock type channel area; or by subsequent charging with the minority charge carriers also achieve the opposite shift in the characteristic curve as if it had an even more heavily doped depletion type channel region.
  • the IG-FET originally has a channel area doping that already corresponds to a blocking type in itself, then the subsequent shift with the majority charge carriers can again cause the first shift, and through subsequent charge with the minority charge carriers, the opposite shift again Reach the characteristic.
  • the characteristic curve can be shifted to the left and to the right as desired, the shift being strong or only weak depending on the strength of the charge.
  • FIG. 2 shows an example for the stepless charging, or for the corresponding effect of the adjustment measures on the characteristic curve or on the threshold value UE, at which a noticeable source-drain current begins to flow.
  • This is an n-channel IG FET with 6 ⁇ m long channel area, the memory gate of which is negatively charged by means of the channel injection during periods t of different lengths, each starting from the discharged state.
  • the source-drain voltages VDS applied during the adjustment are 15V, 17.5V, 20V and 22.5V.
  • the control gate-source voltage during the adjustment is 25V.
  • the curves show that the threshold voltage UE, depending in particular on the duration t, increases as a result of the adjustment, a limit value of approximately 13 to 14 V being recognizable, which depends in particular on the control gate-source voltage used and, in the case of long durations, of several Minutes is largely achieved.
  • This storage gate potential results if the threshold voltage shift of approx. 12 V is subtracted from the control gate-source voltage of 25 V and the capacitive voltage division between control gate, storage gate, source, channel region and drain is taken into account.
  • a control gate-source voltage of 25V can increase the threshold voltage by, for example, 5 to 10V in just 100 msec.
  • threshold voltage changes for example, 20 mV are required.
  • Pulse of, for example, only 12V is used, which means that the storage gate is at a potential of about + 10V in the uncharged state due to the capacitive voltage division.
  • threshold voltage shifts often result in well below 1 mV per pulse. With pulse durations well below 1 msec, even lower threshold voltage shifts are obtained if necessary, even if the memory gate potential is now somewhat charged.
  • a threshold voltage shift can be carried out with sufficient accuracy in short times.
  • the strength of the charge can thus be chosen almost arbitrarily by a corresponding choice of the amplitudes and / or durations of the adjustment measures used for charging - cf. the known use of such an IG-FET as an analog signal memory. Therefore, the characteristic curve can be shifted by any value, not just by a fixed value, and the differential voltage RS can be set as desired according to polarity and amount.
  • the memory gate can be almost continuously can be reloaded, even reversibly, several times alternately in the positive and negative direction, and that can be charged as desired and partially or completely discharged again - especially with the help of the above-mentioned reloading measures, which are known for all IG-FETs with storage gates, the adjustment measures or adjustment voltages represent. If necessary, you only have to temporarily apply the voltages required for recharging to the electrodes of the IG-FET until the desired adjustment is finally achieved.
  • the adjustment voltages can be applied to the relevant IG-FET, e.g. F1, e.g. during the wafer inspection or during the inspection of the finished chip, by means of tips over the aluminum spots provided, i.e. via specially attached connections of the chip.
  • all or part of the electrodes of the IG-FET containing the memory gate G1 can be connected directly to the aluminum spots, via which the adjustment voltages can be fed directly to this IG-FET, cf. . the aluminum stains A1 / A2 / A3 for F1 and A5 / A2 / A4 for F2 in Fig. 2.
  • the IG-FETs with memory gates are e.g. can be realized with the known double silicon N-channel technology, cf. e.g. DE-OS 24 45 030.
  • a large width / length ratio of the channel area e.g. 35, cheap, which is also possible with IG-FETs with memory gate, cf. also TEEE-J. of Sol. St. Circ., SC-11 (Dec. 1976) 748-753.
  • the non-correspondence of the steps which is then initially obtained is primarily due to the photolithographic fluctuations, ie tolerances, the structure widths or the other geometric dimensions, and the doping intensities works.
  • the fluctuations, in particular of the oxide thickness, of the interface charges and thus of the threshold voltage, are smaller if the two stages R1 / F1, R2 / F2 are placed close together on the module. The reloading of the storage gate required for the adjustment becomes correspondingly low.
  • a differential voltage RS is to be set which deviates strongly from zero.
  • a certain still inadequate adjustment can be obtained, for example, if the width / length ratio of the channel areas of the IG-FETs of both stages is selected accordingly differently, so that only a fine adjustment by means of charging at least one of the memory gates is necessary.
  • the tolerances of the threshold voltages of the IG-FETs almost always require a certain adjustment if only a small tolerance of the reference voltage or reference current is permitted. Because of the different voltage and the different temperature dependencies of depletion type and enhancement type FETs, the achievable tolerance of the reference voltage or the reference current would often be too great if the known reference source from FIG. 1 is used would use. Here, however, the invention can allow smaller tolerances.
  • the threshold voltage of at least one of the two IG-FETs F1, F2 can be reduced or increased as required and thus a desired reference variable, for example RS, U3, J3, can be set precisely and permanently.
  • a desired reference variable for example RS, U3, J3, can be set precisely and permanently.
  • all FETs are implemented as depletion type FETs.
  • execution of the FETs is also possible, for example as an enrichment FET or blocking type FET.
  • a CMOS technique is also possible in that the load resistors R1, R2 have an opposite-doped channel region compared to the IG-FETs F1, F2. The constancy of the reference levels is compared to the reference ource in Fig.
  • FIG. 4 shows details of a variant of the example shown in FIG. 2, which can be used in particular as a reference voltage source.
  • a voltage divider R31 / R32 is attached to the output of the differential amplifier DV in order to control one of the IG-FETs, cf. F2 in FIG. 2 to supply a bias voltage U2 which differs greatly from the bias voltage U1, for example earth, of the control gate of the other IG-FET F1.
  • the reference voltage U3 supplied by the differential amplifier DV in this example which is comparatively very high can be used to generate the bias voltage U2.
  • This variant is particularly recommended if the final value of the reference variable that is to be set is not yet known when the device is being manufactured and if the charging of the memory gate once set is not absolutely necessary for a very long time, e.g. should remain on the memory gate with the same accuracy for many years. The lower the charge, the longer the time in which the charge remains on the memory gate with the set accuracy.
  • the accuracy of the setting of the charge becomes particularly great when another IG-FET is connected in parallel in the same stage to the IG-FET with memory gate F1.
  • the charging of the IG-FET with memory gate F1 then has little influence on the resulting threshold voltage of this parallel connection, especially if F1 has a relatively small width / length ratio of its channel area compared to the IG-FET connected in parallel. Accordingly, exactly, for example to 0.1 mV, one can easily set the resulting threshold voltage of the parallel connection during the adjustment.
  • both IG-FETs of the parallel connection have their own memory gate, with an additional separate control option for the control gates of both IG-FETs, e.g. with our own aluminum stains and e.g. a switch is attached in the connection between the two control gates of these two IG-FETs, then you can adjust both IG-FETs separately. Therefore, the resulting characteristic of the parallel connection of these two IG-FETs can be shifted as much as desired in the positive and negative direction.
  • the ratio of channel length to channel width in the first of these two IG-FETs can be selected to be comparatively small during manufacture and in the second of these two IG-FETs it can be selected to be comparatively large.
  • a reference current source is often required, which can be operated in particular with a load resistor RL which is at ground potential on one side.
  • Fig. 6 shows an example constructed according to the invention, which was developed on the basis of the reference current source example shown in FIG. 5.
  • an output of the differential amplifier DV is connected to a first voltage divider KR / KR, the tap of which is connected to the control gate of at least one of the IG-FETs, here F1, of the first of the two stages F1 / R1.
  • the same output of the differential amplifier DV is connected to a second voltage divider ⁇ R / RL, the first divider element ⁇ R of which is connected directly to the output of the differential amplifier DV and the other divider element RL of which represents the load resistor RL to be supplied with the reference current 13, the tap of the second voltage divider being connected to a third voltage divider ( 1- ⁇ ) ⁇ R / R, whose tap is in turn connected to the control gate of at least one of the IG-FETs, here F2, of the second stage F2 / R2.
  • FIG. 5 shows the circuit of a reference current source, which is known under the name "Howland Current Source”, cf. Roberge, Operational Amplifier 1975, pages 452 - 455.
  • the current 13 through the load resistor RL is in the dimensioning selected there
  • the current source property with infinite internal resistance on the output side requires, for example, the resistance ratios entered in FIG. 6, the factors K and ⁇ per se being arbitrary. Sufficient compliance with such a dimensioning in the manufacture of the reference current source as part of an integrated module presents relatively little difficulty.
  • the absolute value of the resistor R, which also determines I3, is if it is a polysilicon track or is designed as a diffusion path, relatively constant. However, it still shows the production-related fluctuations or tolerances. Therefore, the reference current I3 should still be set precisely via the reference voltage Ui.
  • the construction according to the invention according to FIG. 6 can be selected.
  • the adjustable stage F1 / R1 or F2 / R2 is used in the invention to set the reference current I3, the differential voltage RS of which can be subsequently adjusted exactly as required on the component produced in the manner described above.
  • the adjustment of the reference current I3 can in particular be carried out by a suitable number of adjustment voltage pulses which cause the threshold voltage shift.
  • Even a reference current source with a reversed current direction -I3 can be carried out in particular by changing the sign of RS or from the threshold voltage shift. In this case, e.g. the other IG-FET F2 can be charged instead of the IG-FET F1.
  • a reference source constructed according to the invention can continuously deliver the constant reference quantity that has been set during operation.
  • this reference source can also be designed in such a way that it can be controlled with alternating signals and then supplies a set reference voltage U3 or reference current I3 only temporarily, for example during the absence of controlling alternating signals.
  • at least one of the IG-FETs and / or at least one of the resistors connected thereto, for example R1, RO, of the two stages can be connected to a control input U1, U2 for superimposing an alternating control signal. If a binary alternating signal is fed to the control input, the reference variable U3 / J3 is switched on and off. If an analog alternating signal is added to the control input the reference variable is modulated accordingly.
  • the reference source serves as a subsequently adjustable source of modulable constant currents or constant voltages.

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Abstract

Referenzquelle auf einem integrierten FET-Baustein, wobei zwei getrennte, aber von derselben Gleichstromversorgungsquelle (VDD/VSS) gespeiste Stufen (F1/R1, F2/R2) jeweils die Serienschaltung mindestens eines IG-FET (F1) und mindestens eines Arbeitswiderstandes (R1) enthalten, jeweils ein Abgriff zwischen einem der IG-FETs (F1) und einem der Arbeitswiderstände (R1) in jeder Stufe angebracht ist, zwischen den Abgriffen der Stufen eine Differenzspannung (RS) definierten Wertes auftritt, die unmittelbar selbst als Referenzspannung (RS), oder die mittelbar zur Einstellung des Wertes einer Referenzspannung (U3) bzw. eines Referenzstromes (I3), z.B. mittels eines Spannungsteilers, verwendet wird, und in zumindest einer der beiden Stufen (F1/R1, F2/R2) zumindest einer der IG-FETs (F1) ein zumindest teilweise zwischen dem steuerbaren Steuergate und dem Kanalbereich angebrachtes, allseitig von einem Isolator umgebenes und daher in elektrischer Hinsicht schwebendes Speichergate enthält.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine elektronische Anordnung, nämlich eine spezielle Referenzquelle, die also eine Referenzspannung bzw. einen Referenzstrom definierter Größe abgibt. Die Erfindung wurde insbesondere in n-Kanal-Technologie für die Speisung der R/2R-Netzwerke von D/A-Wandlern, d.h. FCM/AM-Dekodierern, und vor allem von A/D-Nandlern, d.h. AM/PCM-Kodierern, insbesondere auch für Ladungs- zu Spannungs-, sowie für Spannungs- zu Ladungs-Umsetzer von zu den Wandlern gehörenden CCD-Filtrm eines speziellen aus hochintegrierten Bausteinen aufgebauten PCM-Fernsprech-Vermittlungssystems entwickelt. Dabei befinden sich die Referenzquellen, R/2R-Netzwerke, sonstige Wandlerbestandteile und auch die Filter auf demselben FET-Baustein. Die Erfindung eignet sich aber darüber hinaus für beliebige FET-Bausteine, die eine nachträglich genau einstellbare Referenzspannung bzw. einennachträglich sehr genau einstellbaren Referenzstrom benötigen.
  • Die Erfindung geht von einer Referenzquelle auf einem integrierten FET-Baustein aus, wobei
    • - zwei getrennte, aber von derselben Gleichstromversorgungsquelle gespeiste Stufen jeweils die Serienschaltung mindestens eines IG-FET und mindestens eines Arbeitswiderstandes enthalten,
    • - jeweils ein Abgriff zwischen einem der IG-FETs und einem der Arbeitswiederstände in jeder Stufe angebracht ist, und
    • - zwischen den Abgriffen der Stufen eine Differenzspannung definierten Wertes auftritt, die unmittelbar selbst als Referenzspannung, oder die mittelbar zur Einstellung des Wertes einer Referenzspannung bzw. eines Referenzstromes, z.B. mittels eines Spannungsteilers, verwendet wird.
  • Eine solche Referenzquelle wird bereits in ESSCIRC (European Solid State Circ. Conf.) 1977, Ulm 20. - 22.9.1977, Digest of invited papers and contrib. papers, S. 43 bis 47, insbesondere S. 44, rechte Spalte, vorletzter Absatz beschrieben. Dazu wird angeregt, die IG-FETs beider Stufen verschieden aufzubauen, nämlich einerseits mit einem Verarmungstyp-Kanalbereich, anderseits mit einem Anreicherungstyp-Kanalbereich, um deren unterschiedliche Schwellspannungen auszunutzen. Dort wird aber abschließend auch auf die Notwendigkeit hingewiesen, daß erst noch Entwicklungsarbeiten nötig sind, bis eine Referenzquelle für einen integrierten Baustein gefunden ist, die auch brauchbar ist. Die Streuungen der Eigenschaften aufgrund der bei der Herstellung unvermeidbaren Toleranzen sind in diesem Fall offensichtlich sehr unangenehm. Insbesondere die Anbringung verschiedener Kanalbereichtypen in den beiden Stufen hat unangenehm schwierige Probleme hinsichtlich der damit verbundenen Toleranzen zur Folge.
  • Die Erfindung löst diese Schwierigkeiten bez. der Herstellungstoleranzen. bei der Verwendung von IG-FETs, die insbesondere schon wegen dieser Herstellungstoleranzen verschiedene Kennlinien aufweisen, indem bei der Erfindung nach der Herstellung des Bausteins nachträglich in leicht durchführbarer Weise die Größe der Referenzspannung bzw. des Referenzstromes beliebig, dauerhaft und stufenlos einstellbar sein soll.
  • Die IG-FETs der Stufen der Erfindung können beliebig jeweils einen p-Kanal oder n-Kanal aufweisen, und zwar beliebig vom Verarmungstyp oder Anreicherungstyp. Der Kanalbereich kann auch bei p-Kanal p+-dotiert oder bei n-Kanal n+-dotiert sein, also einen "Sperrtyp"-Kanalbereich darstellen, der eine stark erhöhte Steuergate/ Source-Schwellspannung (threshold voltage oder cut-offvoltage), bei der ein Source-Drain-Strom zu fließen beginnt, hat. Der Aufbau der IG-FETs, und auch der Aufbau der ansteuernden Schaltung dieser IG-FETs ist aiso bei der Erfindung nicht auf eine einzige spezielle Variante begrenzt, so daß der Verwendungsbereich der Erfindung entsprechend groß ist.
  • Die Erfindung setzt nicht zwingend die Verwendung der für sich bekannten,Abgleichwirkungen aufweisenden Maßnahmen, wie z.B. eine nachträgliche Bestrahlung mit hochenergetischen Korpuskeln, eine Erhitzung bis zur Änderung der Dotierungsprofile oder eine punktweise Bearbeitung mit einem Laser,voraus. Bei Röhrenschaltungen wäre bekanntlich ein solcher nachträglicher Abgleich verhältnismäßig leicht durch Auswechseln von Widerständen, durch Drehwiderstände etc. in der die Röhre ansteuernden Schaltung durchführbar. Bei integrierten Bausteinen kann man bekanntlich auch außerhalb des Bausteines nachträglich zum Abgleich justierbare Bauelemente anbringen, was eine unelegante, platzbenötigende Abgleichmaßnahme darstellt. Bei der Erfindung wird also der Abgleich weder außerhalb des Bausteines, noch innerhalb der ansteuernden Schaltungen der IG-FETs durchgeführt.
  • Die Erfindung gestattet sogar, bei versehentlich zunächst zu starkem Abgleich diese Maßnahme beliebig ganz oder teilweise wieder abzuschwächen, bis der Abgleich mit der gewünschten Stärke bzw. Genauigkeit erreicht ist. Der Abgleich ist also mittels bestimmter Abgleichmaßnahmen sogar reversibel mehrfach durchführbar, und bei Bedarf auch erneut auf einen anderen Zustand abgleichbar.
  • Es ist für sich bereits durch sehr viele Druckschriften, z.B. durch die LU-PS 72 605, ein zur Speicherung von Signalen verwendeter spezieller IG-FET mit Source, Kanalbereich, Drain, Isolator und steuerbarem Steuergate bekannt, der zusätzlich, zur Ermöglichung der Speicherung des Signals, zwischen seinem Steuergate und Kanalbereich ein allseitig vom Isolator umgebenes, leitendes Speichergate enthält. Durch die Umladung wird die Schwellspannung und die Source-Drair-Strom/Steuergate-Source-Kennlinie, abhängig vom Ausmaß und der Polarität der Umladung, mehr oder weniger zu positiveren oder negativeren Spannungswerten verschoben. Solche Speichergates sind z.B. bei einem n-Kanal durch im leitenden Kanalbereich aufgeheizte Elektronen mittels einer beschleunigenden Source-Drain-Spannung umladbar, also mittels der sogenannten Kanalinjektion umladbar. Das Speichergate kann auch durch am sperrenden Kanalbereich-Drain-Übergang erzeugte und aufgeheizte Ladungen umgeladen werden, also mittels des Avalancheeffektes. Das Speichergate kann auch durch an der Kanalbereichoberfläche mittels Spannungsimpulsen aufgeheizte Ladungen umgeladen werden, ebenso durch an der Speichergateoberfläche mittels Spannungsimpulsen aufgeheizte Ladungen umgeladen werden. Das Speichergate ist ferner durch den Fowler-Nordheim-Tunneleffekt umladbar, sowie durch nicht-elektrische Maßnahmen, z.B. mittels Bestrahlung mit Licht. Alle diese Maßnahmen zur Umladung, d. h. Aufladung oder Entladung des Speichergate, sind bei solchen IG-FETs mit Speichergate durch eine Vielzahl von Druckschriften bekannt. Es ist auch bekannt, die Speichergates mittels eines dieser Effekte aufzuladen und mittels eines anderen dieser Effekte wieder zu entladen. Diese Effekte werden zur Verschiebung des Arbeitspunktes bzw. der Kennlinie einer mit Wechselsignalen betriebenen IG-FET-Verstärkerstufe mit Speichergate in der gleichzeitig mit der vorliegenden Anmeldung eingereichten deutschen Anmeldung P 28 42 631.5 vorgeschlagen.
  • Zum Beispiel ist durch Proc. 5th Conf. on Solid State Dev., Tokyo/Supplem. to J. Japan Soc. of Applied Physics 43 (1974) 348 bis 355, insbesondere S. 354, § 5, sowie durch Electronics, 11. Juli 1974, S. 29/30 bekannt, solche IG-FETs mit Speichergate als Analogsignal-Speicher zu verwenden. Dazu wird das Speichergate proportional zur analogen Amplitude des zu speichernden Signals aufgeladen, wobei später diese gespeicherte analoge Amplitude wieder ausgelesen wird, indem das gelesene Signal eine dem gespeicherten Analogsignal entsprechende analoge Amplitude aufweist.
  • Die Erfindung geht also aus von einer Referenzquelle auf einem integrierten FET-Baustein, wobei
    • - zwei getrennte, aber von derselben Gleichstromversorgungsquelle gespeiste Stufen jeweils die Serienschaltung mindestens eines IG-FET und mindestens eines Arbeitswiderstandes enthalten,
    • - jeweils ein Abgriff zwischen einem der IG-FETs und einem der Arbeitswiderstände in jeder Stufe angebracht ist, und
    • - zwischen den Abgriffen der Stufen eine Differenzspannung definierten Wertes auftritt, die unmittelbar selbst als Referenzspannung, oder die mittelbar zur Einstellung des Wertes einer Referenzspannung bzw. eines Referenzstromes, z.B. mittels eines Spannungsteilers, verwendet wird.
  • Die obengenannte Aufgabe der Erfindung wird dadurch gelöst, daß
    • - in zumindest einer der beiden Stufen zumindest einer der IG-FETs ein zumindest teilweise zwischen dem steuerbaren Steuergate und den Kanalbereich angebrachtes, allseitig von einem Isolator umgebenes und daher in elektrischer Hinsicht schwebendes Speichergate enthält.
  • Die Referenzquelle wird unempfindlicher gegen Schwankun- gens),wenn gemäß Patentanspruch 2 die Parallelschaltung beider Stufen in Reihe zu einem hochohmigen Emitterfolgerwiderstand liegt. *) der Gleichatromversorgungssparmung
  • Ohne andere Bauelemente auf dem Baustein zu beeinträchtigen, kann ein solcher IG-FET der Reformquelle abgeglichen werden, indem gemäß Patentanspruch 3 die Elektroden dieses das Speichergate enthaltenden IG-FET mit eigenen Anschlüssen, z.B. mit Aluminiumflecken, des integrierten Bausteins verbunden sind, die nach der Herstellung des IG-FET, zumindest vor der Verkapselung des Bausteins, zugänglich sind.
  • Der Pegel, d.h. die Potentiale, sowie auch bei Bedarf die Amplitude der Differenzspannung körmen gemäß Patentanspruch 4 dadurch geändert werden, daß jeder der beiden Eingänge eines Differenzverstärkers jeweils mit dem Abgriff einer Stufe verbunden ist. Insbesondere eine solche Referenzquelle ist grundsätzlich sowohl als Referenzspannungsquelle als auch als Referenzstromquelle entsprechend dem wählbaren Ausgangsinnenwiderstand des Differenzverstärkers verwendbar. Sie ist insbesondere als Referenzspannungsquelle verwendbar, wenn gemäß Patentanspruch 5 ein Ausgang des Differenzverstärkers mit einem ersten Spannungsteiler verbunden ist, dessen Abgriff mit dem Steuergate eines der IG-FETs der ersten der beiden Stufen verbunden ist. Sie ist insbesondere als Referenzstromquelle verwendbar, wenn gemäß Patentanspruch 6 ein Ausgang des Differenzverstärkers mit einem ersten Spannungsteiler verbunden ist, dessen Abgriff mit dem Steuergate zumindest eines der IG-FETs der ersten der beiden Stufen verbunden ist, der gleiche Ausgang des Differenzverstärkers mit einem zweiten Spannungsteiler verbunden ist, dessen erstes Teilerglied direkt mit dem Ausgang des Differenzverstärkers verbunden ist und dessen anderes Teilerglied den mit dem Referenzstrom zu beliefernden Lastwiderstand darstellt, und der Abgriff des zweiten Spannungsteilers mit einem dritten Spannungsteiler verbunden ist, dessen Abgriff seinerseits mit dem Steuergate zumindest eines der IG-FETs der zweiten Stufe verbunden ist.
  • Die Referenzquelle liefert nicht nur Gleichspannungen bzw. Gleichströme, sondern wechselnde Spannungen bzw. Ströme mit nachträglich abgeglichenem Arbeitspunkt,wenn gemäß Patentanspruch 7 zumindest einer der IG-FETs und/ oder zumindest einer der damit verbundenen Widerstände der beiden Stufen mit einem Steuereingang zur Überlagerung eines steuernden Wechselsignals verbunden ist. Dadurch wird die Referenzquelle nämlich am Steuereingang steuerbar, wodurch z.B. die Gleichströme bzw. Gleichspannungen ein- und ausgeschaltet werden können, indem gemäß Patentanspruch 8 dem Steuereingang ein binäres Wechselsignal zugeleitet wird. Die Gleichströme bzw. Gleichspannungen können auch mit analogen Signalen moduliert werden, indem gemäß Patentanspruch 9 dem Steuereingang ein analoges Wechselsignal zugeleitet wird.
  • Die Erfindung und ihre Weiterbildungen werden anhand der in den Figuren gezeigten Beispiele weiter erläutert, wobei
    • Fig. 1 schematisch das durch die oben zitierte Druckschrift ESSCIRC angeregte Referenzelement,
    • Fig. 2 ein gegen Gleichstromversorgungsschwankungen und gegen Temperaturschwankungen stabilisiertes Beispiel der Erfindung,
    • Fig. 3 Schwellspannung/Aufladungsdauer-Diagramm als Beispiel für die Einflüsse von Zeit und von Drainvorspannungen während der Aufladung mittels der Kanalinjektion,
    • Fig. 3 Details eines erfindungsgemäßen Beispiels einer Referenzspannungsquelle,
    • Fig. 5 ein bekanntes Beispiel einer Referenzstromquelle, und
    • Fig. 6 das durch die erfindungsgemäße Lehre weitergebildete Beispiel von Fig. 5 zeigen.
  • Fig. 1 zeigt, daß durch ESSCIRC die Verwendung zweier IG-FETs mit unterschiedlichen Kanalbereichtypen angeregt wird, die anscheinend zumindest je einen Arbeitswiderstand R1, R2 aufweisen sollen. Bei Belastung mit den Strömen J1, J2 der Gleichstromversorgungscuelle tritt zwischen den Abgriffen eine insbesondere unmittelbar als Referenzspannung verwendbare Differenzspannung RS auf. In ESSCIRC ist nicht im Detail angegeben, wie diese Differenzspannung RS verwendet wird. Denkbar wäre z.B. die Pegeländerung, evtl. auch Verstärkung mittels eines Differenzverstärkers DV, um erst mittelbar dessen Ausgangssignale U3/J3 als Referenzen zu verwenden. In ESSCIRC ist auch nichts über die Größe von U1, U2, U10, U20 berichtet. Man kann aber davon ausgehen, daß dort konstante Potentiale, z.B. Erde oder konstante sonstige Betriebsspannungen anliegen, die die IG-FETs F1, F2 in ihren leitenden Zustand steuern, so daß aufgrund der Verschiedenartigkeit ihrer Kanalbereichtypen, nämlich Verarmungstyp und Anreicherungstyp, an den Abgriffen bzw. an den Eingängen des Differenzverstärkers DV eine der gewünschten Referenzspannung U3 bzw. dem gewünschten Referenzstrom J3 entsprechende Differenzspannung RS auftritt. Die Herstellung solcher IG-FETs F1, F2 erfordert aber sehr enge, kaum einhaltbare Herstellungstoleranzen, um eine solche Anordnung als Referenzquelle wirklich verwenden zu können.
  • Erfindungsgemäß wird diese Schwierigkeit beseitigt, indem zumindest einer der IG-FETs, z.B. F1, zwischen seinem Steuergate und Kanalbereich ein in elektrischer Hinsicht floatendes Speichergate aufweist, vgl. Fig. 2. Dieses Speichergate ist nach der Herstellung des Bausteines nachträglich wahlweise positiv oder negativ mehr oder weniger aufladbar bzw. entladbar, also umladbar, und dadurch die Kennlinie und die Schwellspannung des betreffenden IG-FET beliebig stufenlos verschiebbar. Der betreffende IG-FET wird also ähnlich betrieben wie der z.B. durch Electronics, 11. Juli 1974, S. 29/30 beschriebene, als Analogsignalspeicher verwendete IG-FET mit Speichergate. Bei der Erfindung dienen der oder die betreffenden IG-FETs mit Speichergate F1, F2 aber nicht nur zum Einschreiben,Speichern und Lesen analoger Signale, sondern zur stufenlosen Einstellung des ständigen Arbeitspunktes der gesamten Referenzquelle, um die Fehler der Referenzspannung bzw. des Referenzstromes zu kompensieren, die durch die unvermeidlichen Herstellungstoleranzen einer so komplizierten Referenzquelle zunächst entstanden waren. Um das Speichergate so umzuladen, daß die übrigen Bauelmente des Bausteins geschont werden, kann man die Elektroden des betreffenden IG-FET, vgl. die Steuergates, Sourcen und Drains der IG-FETs mit Speichergate F1, F2 in Fig. 2, jeweils unmittelbar noch mit eigenen Anschlüssen des Bausteins verbinden, z.B. mit den Aluminiumflecken A1, A2, A3 für F1 und A5, A2, A4 für F2. Diese Anschlüsse, die nach der Herstellung des betreffenden IG-FET noch zugänglich sein sollen, können,z.B. durch Berührung mit spannungsführenden Spitzen, mit solchen Spannungen versorgt werden, die die Umladung des Speichergate und damit den genauen Abgleich der Referenzspannung bzw. des Referenzstromes, z.B. RS oder U3/J3, durchführen. Der Differenzverstärker DV liefert also die Referenzgrößen U3 bzw. J3 mit der nach Bedarf einstellbaren Polarität und Größe, indem die Polarität und Größe der Differenzspannung RS nach der Herstellung der Referenzquelle nachträglich auf dem Baustein stufenlos,z.B. auf 1 mV genau,eingestellt werden kann, indem die Werte der Belastungsströme i1, i2 durch Umladung der Speichergates der IG-FETs F1, F2 beliebig nach Bedarf nachträglich eingestellt werden können.
  • Das in Fig. 2 gezeigte Beispiel unterscheidet sich von dem in Fig. 1 gezeigten Beispiel auch dadurch, daß die Potentiale U10, U20 für beide IG-FETs F1, F2 gleich groß sind, indem beide Stufen F1/R1 und F2/R2 dort leitend miteinander verbunden sind. Außerdem ist an diese Parallelschaltung der Stufen F1/R1, F2/R2 ein besonders hochohmiger Emitterfolgerwiderstand RO angeschlossen, zu dem die Arbeitswiderstände R1, R2 vergleichsweise einen deutlich kleineren Widerstandswert aufweisen - die Widerstandswerte sind in für sich bekannter Weise erreichbar, z.B. durch die Wahl des jeweiligen Länge/ Breite-Verhältnisses der Kanalbereiche dieser zweipolig als Widerstände betriebenen FETs. Der Emitterfolgerwiderstand RO gestattet, den von der Gleichstromversorgungsquelle VDD/VSS gelieferten Gesamtstrom i1 + i2 der Stufen gegen Schwankungen der Gleichstromversorgung zu stabilisieren, so daß die Differenzspannung RS und damit auch U3/J3 entsprechend unabhängig von der jeweiligen Größe der Spannung VDD/VSS ist.
  • Bei allen diesen Umladungen entspricht eine teilweise Entladung eines vorher positiv aufgeladenen Speichergate eines IG-FET F1, F2 einer negativen Aufladung. Ebenso entspricht eine teilweise Entladung eines vorher negativ aufgeladenen Speichergate einer positiven Aufladung. Weil man die verschiedenen Abgleichmaßnahmen, d.h. Umlademaßnahmen, grundsätzlich auch nacheinander beim selben IG-FET durchführen kann, sind alle Abgleiche reversibel, d.h. bei irrtümlicherweise zu starker Abgleichmaßnahme später beliebig revidierbar, indem das irrtümlich zu stark oder zu schwach oder mit falscher Polarität aufgeladene Speichergate später beliebig erneut umgeladen werden kann, um den Abgleich zu verbessern.
  • Weil der betreffende IG-FET F1 und/oder F2 in Fig. 2 ein Speichergate aufweist, hängt seine Kennlinie nicht nur vom ursprünglich vorhandenen Kanalbereichtyp (Anreicherungstyp, Verarmungstyp, Sperrtyp) ab, sondern auch noch von der nachträglichen Aufladung des Speichergate:
    • Ist das Speichergate ungeladen, dann gilt im Prinzip weiterhin die ursprüngliche Kennlinie, als ob kein Speichergate vorhanden wäre, je nachdem ob der Kanalbereich vom Verarmungstyp, Anreicherungstyp oder Sperrtyp ist.
  • Wurde hingegen sein Speichergate nachträglich noch aufgeladen, dann hat er, obwohl er z.B. einen Anreicherungstyp-Kanalbereich aufweist, nicht mehr die ursprüngliche Kennlinie, sondern eine verschobene Kennlinie, als ob er einen entsprechend anderen Kanalbereich hätte.
  • Ist nämlich das Speichergate mit Majoritäts-Ladungsträger der Source bzw. des Drain aufgeladen, also mit Löchern bei p-Kanal bzw. mit Elektronen bei n-Kanal, dann findet alleine schon wegen dieser Speichergateaufladung eine solche erste Verschiebung der Kennlinie statt, als ob er nun einen Sperrtyp-Kanalbereich hätte, obwohl er einen Anreicherungstyp-Kanalbereich hat. Zur Steuerung des IG-FET in seinen leitenden Zustandmuß nämlich zuerst die solche Majoritäts-Ladungsträger im Kanalbereich K abstoßende Wirkung der Aufladung des Speichergate, mittels des Steuergate, kompensiert werden, bevor sich ein Kanal zwischen der Source und dem Drain bilden kann.
  • Ist hingegen das Speichergate mit Minoritäts-Ladungsträgern der Source bzw. des Drain aufgeladen, also mit Elektronen bei p-Kanal bzw. mit Löchern bei n-Kanal, dann findet alleine schon wegen dieser Speichergateaufladung eine entgegengesetze Verschiebung der Kennlinie statt, als ob er nun einen Verarmungstyp-Kanalbereich hätte, obwohl er einen Anreicherungstyp-Kanalbereich hat. Zur Steuerung des IG-FET in seinen leitenden Zustand ist nämlich die die Majoritäts-Ladungsträger im Kanalbereich K anreichernde Wirkung dieser Aufladung gar nicht erst mittels des Steuergate zu erzeugen, um einen leitenden Kanal zwischen der Source und dem Drain zu erhalten.
  • Hat der IG-FET aber eine Kanalbereich-Dotierung, die bereits für sich einem Verarmungstyp entspricht, dann kann man ebenfalls durch die nachträgliche Aufladung seines Speichergate mit den Majoritätsladungsträgern die erste Verschiebung der Kennlinie erreichen, als ob nun der IG-FET z.B. einen Anreicherungstyp- oder Sperrtyp-Kanalbereich hätte; oder durch nachträgliche Aufladung mit den Minoritäts-Ladungsträgern auch die entgegengesetzte Verschiebung der Kennlinie erreichen , als ob er einen noch stärker dotierten Verarmungstyp-Kanalbereich hätte.
  • Hat der IG-FET ursprunglich jedoch eine Kanalbereich-Dotierung, die bereits für sich einem Sperrtyp entspricht, dann kann man durch die nachträgliche Aufladung mit den Majoritäts-Ladungsträgern wieder die erste Verschiebung, durch nachträgliche Aufladung mit den Minoritäts-Ladimgsträgern wieder die entgegengesetzte Verschiebung der Kennlinie erreichen.
  • Durch die nachträgliche Aufladung des Speichergate mit den entsprechenden Ladungen kann man also eine Verschiebung der Kennlinie beliebig nach links und nach rechts erreichen, wobei je nach der Stärke der Aufladung die Verschiebung stark oder nur schwach ist.
  • Fig. 2 zeigt ein Beispiel für die stufenlose Aufladung, bzw. für die entsprechende Wirkung der Abgleichmaßnahmen auf die Kennlinie bzw. auf den Schwellwert UE, bei dem ein merklicher Source-Drain-Strom zu fließen beginnt. Es handelt sich hier um einen n-Kanal-IG-FET mit 6 µm langem Kanalbereich, dessen Speichergate während verschieden lang andauernden Dauern t, jeweils vom entladenen Zustand ausgehend, mittels der Kanalinjektion negativ aufgeladen wird. Die während des Abgleichs angelegten Source-Drain-Spannungen VDS betragen 15V, 17,5V, 20V und 22,5V. Die Steuergate-Source-Spannung beträgt während des Abgleichs 25V. Die Kurven zeigen, daß sich die Schwellspannung UE, abhängig insbesondere von der Dauer t, durch den Abgleich erhöhen, wobeiein Grenzwert von ca. 13 bis 14V erkennbar ist, der insbesondere von der verwendeten Steuergate-Source-Spannung abhängt und bei langen Dauern von mehreren Minuten weitgehend erreicht wird. Ein leichter allgeneiner Anstieg der Schwellspanmmgskurven UE um größenordnungsmäßig Zehntel Volt ist noch zwischen t = 10 sec und t = 100 sec erkennbar, so daß der Grenzwert eigentlich erst nach Stunden und Tagen gleichsam völlig erreicht wird.
  • Bein in Fig. 2 erkennbaren, grenzwertnahen Zustand, z.B. nach 1 sec,befindet sich anschließend das Speichergate auf einem Potential von ca. -10V bei VDS = 0V und bei Sourcepotential am Steuergate. Dieses Speichergate-Potential ergibt sich, wenn man von der Steuergate-Source-Spannung von 25V die Schwellspannungsverschiebung von ca. 12V abzieht und die kapazitive Spannungsteilung zwischen Steuergate, Speichergate, Source, Kanalbereich und Drain berücksichtigt.
  • Bei diesem IG-FET ist, auch abhängig von der Kanalbereichslänge, mit einer Steuergate-Source-Spannung von 25V schon in 100 msec eine Schwellspannungerhöhung von z.B. 5 bis 10V möglich. Für einen nachträglich auf dem Baustein durchgeführten Abgleich sind aber häufig nur Schwellspannungsänderungen von z.B. 20 mV erforderlich. Werden beim Abgleich Steuergatespannugsimpulse von z.B. nur 12V verwendet, wodurch das Speichergate sich im ungeladenen Zustand wegen der kapazitiven Spannungsteilung auf einem Potential von etwa +10V befindet, so ergeben sich,bei Verwendung von Impulsdauern von 1 msec,Schwellspannungsverschiebungen häufig weit unter 1 mV pro Impuls. Bei Impulsdauern weit unter 1 msec erhält man bei Bedarf noch geringere Schwellspannungsverschiebungen, selbst wenn das Speichergatepotential inzwischen etwas aufgeladen ist.
  • Auch dadurch, daß der Spitzenwert der Steuergatespannungsimpulse von Impuls zu Impuls um z.B. 10 mV erhöht wird, läßt sich eine Schwellspannungsverschiebung mit einer genügenden Genauigkeit in kurzen Zeiten durchführen.
  • Die Aufladung wird beendet, wenn, bei für die Verwendung als Referenzquelle üblichen, z.B. geerdeten Eingängen U1, U2,am Ausgang des Differenzverstärkers die gewünschte Referenzspannung von z.B. U3 = 0V oder U3 = XV gemessen wird. Diese Messung kann jeweils zwischen den einzelnen Steuergatespannungsimpulsen durchgeführt werden.
  • Die Stärke der Aufladung kann also durch eine entsprechende Wahl der Amplituden und/oder Dauern der zur Aufladung verwendeten Abgleichmaßnahmen nahezu beliebig gewählt werden - vgl. die bekannte Verwendung eines solchen IG-FET als Analogsignalspeicher. Daher kann die Kennlinie um beliebige Werte, also nicht nur um einen festen wert, verschoben und die Differenzspannung RS nach Polarität und Betrag beliebig eingestellt werden. Da manche der Ahgleichmaßnahmen die Kennlinien in positive, andere in negative Richtung verschieben, kann das Speichergate stufenlos nahezu beliebig, auch reversibel mehrmals abwechselnd in positive und negative Richtung umgeladen werden, und zwar beliebig aufgeladen und teilweise oder ganz wieder entladen werden - insbesondere mit Hilfe der obengenannten, für sich alle bei IG-FETs mit Speichergate bekannten Umlademaßnahmen, die hier Abgleichmaßnahmen bzw. Abgleichspannungen darstellen. Man hat bei Bedarf zum Abgleich nur vorübergehend an die Elektroden des IG-FET die zur Umladung nötigen Spannungen anzulegen, bis schließlich der gewünschte Abgleich erreicht ist.
  • Die Abgleichspannungen können dem jeweils betreffenden IG-FET, z.B. F1, z.B. bei der Scheibenprüfung bzw. während der Prüfung des fertigen Chip,mittels Spitzen über dafür vorgesehene Aluminiumflecke, d.h. über speziell dafür angebrachte Anschlüsse des Chip, zugeführt werden. Insbesondere um andere auf dem Integrierten Baustein angebrachte Bauelemente nicht nachhaltig zu beeinträchtigen, kann man alle oder einen Teil der Elektroden des das Speichergate G1 enthaltenden IG-FET direkt mit den Aluminiumflecken verbinden, über die die Abgleichspannungen unmittelbar diesem IG-FET zugeleitet werden können, vgl. die Aluminiumflecke A1/A2/A3 für F1 und A5/A2/A4 für F2 in Fig. 2. Es ist aber auch möglich, entsprechende Gehäuseanschlüsse vorzusehen, die einen Abgleich auch nach dem Einbau in das Gehäuse ermöglichen.
  • Es ist auch möglich, einen vorläufigen, groben, also ungenauen Abgleich bereits auf der Scheibe bzw. auf dem Chip durchzuführen und den endgültigen Feinabgleich erst nach dem Einbau in das Gehäuse, z.B. mit Hilfe einer UV-Lichtbestrahlung durch ein Quarzfenster,durchzuführen. Wird hierbei ein UV-Laser verwendet, läßt sich der Abgleich in wenigen msec durchführen,vgl.z.B. IEEE-Trans. on ED, Band ED-24 (1977) No. 2, S. 159.
  • Häufig genügt es, je nach dem Vorzeichen des abzugleichenden Fehlers der Differenzspannung, nur den einen IG-FET F1 oder den anderen FG-FET F2 umzuladen.
  • Die IG-FETs mit Speichergates sind z.B. mit der für sich bekannten Doppelsilizium-N-Kanal-Technologie realisierbar, vgl. z.B. DE-OS 24 45 030.
  • Für eine große Verstärkung der Stufen ist häufig ein großes Breite/Länge-Verhältnis des Kanalbereichs, von z.B. 35, günstig,was auch bei IG-FETs mit Speichergate möglich ist, vgl. auch TEEE-J. of Sol. St. Circ., SC-11 (Dez. 1976) 748-753.
  • Die Differenzspannung RS entsteht durch Nichtübereinstimmung der beiden Stufen F1/R1, F2/R2 insbesondere wegen der unterschiedlicher Geometrien, Dotierungen und Aufladungen der IG-FETs F1, F2, die auch für U1 = U2 unterschiedliche Ströme i1 bzw. i2 bewirken. Um z.B. RS = 0 zu machen, könnte z.B. U1 + ΔU = U2 an den Eingang U2 gelegt werden. Bei der Erfindung kann, statt ΔU + U1 = U2 anzulegen, bei U1 = U2 eine entsprechende Aufladungmindestens eines der Speichergates durchgeführt werden, um RS = OVzu machen. Ein solcher Abgleich ist z.B. dann nützlich, wenn der Differenzverstärker DV Referenzgrößen U3 bzw. J3 liefert, die aufgrund der Dimensionierung aller Bauelemente etwa bei RS = 0 erhalten werden. In diesem Fall werden beide Stufen möglichst gleich dimensioniert.
  • Wegen der relativ kleinen Kanalabmessungen, insbesondere bez. der Kanallänge, wird die dann trotzdem zunächst erhaltene Nichtübereinstimmung der Stufen vor allem durch die fotolithografischen Schwankungen,d.h. Toleranzen, der Strukturbreiten bzw. der sonstigen geometrischen Abmessungen,sowie der Dotierungsintensitäten bewirkt. Die Schwankungen insbesondere der Oxiddicke, der Grenzflächenladungen und damit auch der Schwellspannung sind geringer, wenn die beiden Stufen R1/F1, R2/F2 dicht beieinander auf dem Baustein ancebracht sind. Entsprechend gering werden die für den Abgleich nötigen Umladungen des Speichergate.
  • Bei sorgfältig angebrachter Isolation ist das Langzeitspeicherverhalten der IG-FETs mit Speichergate gut. Wegen der oft nur sehr geringen Aufladungen, die zum Abgleich notwendig sind, sind die Feldstärken in den IG-FETs beider Stufen untereinander ähnlich. Daher ist eine spätere, unerwünschte Umladung im späteren Betrieb der Referenzquelle im allgemeinen nicht mehr zu erwarten, solange die Source-Drain-Spannungen bzw. Steuergate-Source-Spannungen im Betrieb der Referenzquelle mindestens ca. 5V unter jenen Werten bleiben, bei denen eine Aufladung oder Entladung des Speichergate nach 1 Minute merkbar einsetzen würde, vgl. Fig. 3.
  • Ähnliches gilt, wenn eine Differenzspannung RS eingestellt werden soll, die stark von Null abweicht. Einen gewissen noch ungenügenden Abgleich erhält man z.B., wenn man das Breite/Länge-Verhältnis der Kanalbereiche der IG-FETs beider Stufen entsprechend verschieden wählt, so daß nur noch ein Feinabgleich mittels der Aufladung mindestens eines der Speichergates nötig ist. Die Toleranzen der Schwellspannungen der IG-FETs machen fast immer einen gewissen Abgleich erforderlich, wenn eine nur kleine Toleranz des Referenzspannung bzw. Referenzstromes zugelassen wird. Wegen der unterschiedlichen Spannungs- und wegen der unterschiedlichen Temperatur-Abhängigkeiten von Verarmungstyp-und Anreicherungstyp-FETs wäre die erreichbare Toleranz der Referenzspannung bzw. des Referenzstromes oft viel zu groß, wenn man die bekannte Referenzquelle von Fig. 1 verwenden würde. Hier kann die Erfindung aber kleinere Toleranzen zulassen.
  • Bei der Erfindung, vgl. Fig. 2, kann also die Schwellspannung zumindest des einen der beiden IG-FETs F1,F2 nach Bedarf vermindert oder erhöht werden und damit eine gewünschte Referenzgröße, z.B. RS, U3, J3, genau und dauerhaft eingestellt werben. In Fig. 2 sind alle FETs als Verarmungstyp-FETs ausgeführt. Ebenso ist aber eine Ausführung der FETs z.B. als Anreicherungs-FET oder Sperrtyp-FET möglich. Auch eine CMOS-Technik ist möglich, indem die Arbeitswiderstände R1, R2 einen entgegengesetzt dotierten Kanalbereich im Vergleich zu den IG-FETs F1, F2 aufweisen. Die Konstanz der Referenzgrößen ist gegenüber der Referenzquelle in Fig. 1 deutlich verbessert, da bei Bedarf die beiden IG-FETs F1, F2 der Stufen, ausgenommen die unterschiedlichen Ladungen des Speichergate,untereinander nahezu gleiche Eigenschaften haben können. Anhand von Fig. 4 soll nämlich an einem Beispiel gezeigt werden, daß trotz gleicher Geomentrien und gleicher Dotierungen beider Stufen auch ohne Aufladung eine stark von 0 abweichende Differenzspannung RS erreichbar ist, so daß nur noch ein Feinabgleich durch Umladung nachträglich nötig ist.
  • Die Fig. 4 zeigt Details einer Variante des in Fig. 2 gezeigten Beispiels, die insbesondere als Referenzspannungsquelle verwendbar ist. An dem Ausgang des Differenzverstärkers DV ist ein Spannungsteiler R31/R32 angebracht, um dem Steuergate eines der IG-FET, vgl. F2 in Fig. 2, eine Vorspannung U2 zuzuleiten, die sich von der Vorspannung U1, z.B. Erde, des Steuergate des anderen IG-FET F1 stark unterscheidet. Auf diese Weise kann die in diesem Beispiel vom Differenzverstärker DV gelieferte Referenzspannung U3, die vergleichsweise sehr groß sein darf, zur Erzeugung der Vorspannung U2 mitausgenutzt werden. Die Zuleitung untereinander unterschiedlicher Vorspannungen U1, U2 zu diesen Steuergates, d.h. eine entsprechende Dimensionierung des Spannungsteilers R31/R32,gestattet also , den gewünschten nachträglichen Abgleich der Stufen mit besonders geringen Umladungen der Speichergates auch dann zu erreichen, wenn RS bzw. U3 sehr groß ist.
  • Es ist jedoch auch möglich, bei U2 = U1 einen nachträglichen Abgleich für sehr große RS bzw. U3 zu erreichen, ohne den in Fig. 4 gezeigten Spannungsteiler R31/R32 anzubringen, und ohne die Stufen F1/R1, F2/R2 untereinander verschieden aufzubauen. Man kann nämlich beim Abgleich auch sehr hohe positive oder negative Aufladungen des Speichergate mittels entsprechend großer und entsprechend lang andauernder Abgleichmaßnahmen erreichen, z.B. eine Aufladung auf +10V, wobei die Schwellspannung bzw. die Differenzspannung RS trotzdem sehr genau, z.B. auf 1 mV genau, einstellbar ist. Diese Variante ist besonders dann zu empfehlen, wenn der endgültig einzustellende Wert der Referenzgröße bei der Herstellung des Bausteins noch nicht bekannt ist und wenn die einmal eingestellte Aufladung des Speichergate nicht unbedingt über sehr lange Zeit, z.B. über viele Jahre hinweg, mit der gleichen Genauigkeit auf dem Speichergate bleiben soll. Je geringer die Aufladung ist, umso länger ist die Zeit, in der die Aufladung mit der eingestellten Genauigkeit auf dem Speichergate bleibt.
  • Die Genauigkeit der Einstellung der Aufladung wird besonders groß, wenn dem IG-FET mit Speichergate F1 ein weiterer IG-FET in der gleichen Stufe parallelgeschaltet wird. Die Aufladung des IG-FET mit Speichergate F1 hat dann nur noch wenig Einfluß auf die resultierende Schwellspannung dieser Parallelschaltung, besonders wenn F1 ein relativ kleines Breite/Länge-Verhältnis seines Kanalbereiches im Vergleich zum parallelgeschalteten IG-FET hat. Dementsprechend genau, z.B. auf 0,1 mV, kann man aber leicht die resultierende Schwellspannung der Parallelschaltung beim Abgleich einstellen.
  • Weisen bei dieser zuletzt beschriebenen Variante beide IG-FETs der Parallelschaltung ein eigenes Speichergate auf, wobei zusätzlich eine getrennte Ansteuermöglichkeit für die Steuergates beider IG-FETs, z.B. durch eigene Aluminium-flecken und durch z.B. einen Schalter in der Verbindung zwischen den beiden Steuergates dieser beiden IG-FETs, angebracht ist, dann kann man beide IG-FETs getrennt voneinander abgleichen. Daher kann man die resultierende Kennlinie der Parallelschaltung dieser beiden IG-FETs beliebig stark in positive und negative Richtung verschieben. Bei dieser Weiterbildung kann man auch das Verhältnis von Kanallänge zu Kanalbreite beim ersten dieser beiden IG-FETs bei der Herstellung vergleichsweise klein und beim zweiten dieser beiden IG-FETs vergleichsweise groß wählen. Bei dieser speziellen Variante kann man zunächst den ersten IG-FET grob so abgleichen, daß die resultierende Kennlinie der Parallelschaltung angenähert den gewünschten Verlauf hat. Anschließend kann man durch einen Abgleich des zweiten IG-FET rasch und leicht einen präzisen Feinabgleich erreichen, da sein Abgleich selbst bei relativ starker Umladung seines Speichergate nur noch einen kleinen Einfluß auf die resultierende Kennlinie der Parallelschaltung hat.
  • Für einen PCM-Kodierer und Dekodierer mit R-2R-Netzwerk wird oft eine Referenzstromquelle benötigt, die insbesondere mit einem einseitig auf Erdpotential liegenden Lastwiderstand RL betrieben werden kann. Fig. 6 zeigt ein erfindungsgemäß aufgebautes Beispiel, das in Anlehnung an das in Fig. 5 gezeigte Referenzstromquellenbeispiel entwickelt wurde. Dazu ist ein Ausgang des Differenzverstärkers DV mit einem ersten Spannungsteiler KR/KR verbunden, dessen Abgriff mit dem-Steuergate zumindest eines der IG-FETs, hier F1, der ersten der beiden Stufen F1/R1 verbunden ist.. Der gleiche Ausgang des Differenzverstärkers DV ist mit einem zweiten Spannungsteiler αR/RL verbunden, dessen erstes Teilerglied αR direkt mit dem Ausgang des Differenzverstärkers DV verbunden ist und dessen anderes Teilerglied RL den mit dem Referenzstrom 13 zu beliefernden Lastwiderstand RL darstellt, wobei der Abgriff des zweiten Spannungsteilers mit einem dritten Spannungsteiler (1-α)·R/R verbunden ist, dessen Abgriff seinerseits mit dem Steuergate zumindest eines der IG-FETs, hier F2, der zweiten Stufe F2/R2 verbunden ist.
  • Fig. 5 zeigt nämlich die Schaltung einer Referenzstromquelle, die unter der Bezeichnung "Howland Current Source" bekannt ist, vgl. Roberge, Operational Amplifier 1975, Seiten 452 - 455. Der Strom 13 durch den Lastwiderstand RL ist bei der dort gewählten Dimensionierung
    Figure imgb0001
  • Die Stromquelleneigenschaft mit unendlichem ausgangsseitigen Innenwiderstand erfordert hierzu z.B. die in Fig. 6 eingetragenen Widerstandsverhältnisse, wobei die Faktoren K und α an sich beliebig sein können. Die ausreichende Einhaltung einer solchen Dimensionierung bei der Herstellung der Referenzstromquelle als Teil eines integrierten Bausteins bereitet relativ wenig Schwierigkeiten. Der Absolutwert des Widerstandes R, der I3 mitbestimmt, ist, wenn er als Polysiliziumbahn oder als Diffusionsbahn ausgeführt wird, relativ konstant. Er weist aber noch die herstellungsbedingten Schwankungen bzw. Toleranzen auf. Daher sollte der Referenzstrom I3 noch über die Referenzspannung Ui genau eingestellt, also abgeglichen werden. Dazu kann z.B. der erfindungsgemäße Aufbau gemäß Fig. 6 gewählt werden. Anstelle der Referenzspannung Ui wird bei der Erfindungzur Einstellung des Referenzstromes I3 die abgleichbare Stufe F1/R1 bzw. F2/R2 verwendet, wobei deren Differenzspannung RS in der oben beschriebenen Weise nach Bedarf nachträglich auf dem hergestellten Baustein genau abgleichbar ist. Der Abgleich des Referenzstromes I3 kann insbesondere durch eine geeignete Anzahl von Abgleichspannungsimpulsen, die die Schwellspannungsverschiebung bewirken, durchgeführt werden. Sogar eine Referenzstromquelle mit umgekehrter Stromrichtung -I3 kann insbesondere durch Vorzeichenwechsel von RS bzw. von der Schwellspannungsverschiebung durchgeführt werden. In diesem Fall kann z..B. der andere IG-FET F2 statt des IG-FET F1 aufgeladen werden.
  • Eine gemäß der Erfindung aufgebaute Referenzquelle kann im Betrieb ununterbrochen die konstante Referenzgröße liefern, die eingestellt wurde. Man kann diese Referenzquelle jedoch auch so bilden, daß sie mit Wechselsignalen steuerbar ist und dann eine eingestellte Referenzspannung U3 bzw. Referenzstrom I3 nur zeitweise, z.B. während der Abwesenheit von steuernden Wechselsignalen, liefert. Dazu kann z.B. zumindest einer der IG-FETs und/oder zumindest einer der damit verbundenen Widerstände, z.B. R1, RO, der beiden Stufen mit einem Steuereingang U1, U2 zur Überlagerung eines wechselnden Steuersignals verbunden sein. Falls dem Steuereingang ein binäres Wechselsignal zugeleitet wird, wird die Referenzgröße U3/J3 davon ein- und ausgeschaltet. Falls dem Steuereingang ein analoges Wechselsignal zugeleitet wird, wird.die Referenzgröße entsprechend moduliert. In diesem Fall dient die Referenzquelle als nachträglich abgleichbare Quelle von modulierbaren Konstantströmen oder Konstantspannungen.

Claims (9)

1. Referenzquelle auf einem integrierten FET-Baustein, wobei
- zwei getrennte, aber von derselben Gleichstromversorgungsquelle gespeiste Stufen jeweils die Serienschaltung mindestens eines IG-FET und mindestens eines Arbeitswiderstandes enthalten,
- jeweils ein Abgriff zwischen einem der IG-FETs und einem der Arbeitswiderstände in jeder Stufe angebracht ist, und
- zwischen den Abgriffen der Stufen eine Differenzspannung definiertes Wertes auftritt, die unmittelbar selbst als Referenzspannung, oder die mittelbar zur Einstellung des Wertes einer Referenzspannung bzw. eines Referenzstromes, z.B. mittels eines Spannungsteilers, verwendet wird,
insbesondere für Quellen von Referenzströmen bzw. von Referenzspannungen bei A/D-Wandlern und D/A-Wandlern z.B. eines PCM-Femsprechvermittlungssystems, dadurch gekennzeichnet , daß
- in zumindest einer der beiden Stufen (F1/R1, F2/R2) zumindest einer der IG-FETs (F1) ein zumindest teilweise zwischen dem steuerbaren Steuergate und dem Kanalbereich angebrachtes, allseitig von einem Isolator umgebenes und daher in elektrischer Hinsicht schwebendes Speichergate enthält (Fig. 2).
2. Referenzquelle nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß
- die Parallelschaltung beider Stufen in Reihe zu einem hochohmigen Emitterfolgerwiderstand (RO) liegt (Fig.2).
3. Referenzquelle nach Patentanspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß
- die Elektroden des das Speichergate enthaltenden IG-FET mit eigenen Anschlüssen (A, A2, A3), z.B. mit Aluminiumflecken, des integrierten Bausteins verbunden sind, die nach der Herstellung des IG-FET,zumindest vor der Verkapselung des Bausteins, zugänglich sind (Fig. 2).
4. Referenzquelle nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß
- jeder der beiden Eingänge eines Differenzverstärkers (DV) jeweils mit dem Abgriff einer Stufe (F1/R1, F2/R2) verbunden ist (Fig. 2).
5. Referenzquelle nach Patentanspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß
- ein Ausgang des Differenzverstärkers mit einem ersten Spannungsteiler (R31/R32) verbunden ist, dessen Abgriff mit dem Steuergate eines der IG-FETs (F2) der ersten der beiden Stufen (F2/R2) verbunden ist.
6. Referenzquelle nach Patentanspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß
- ein Ausgang des Differenzverstärkers (DV) mit einem ersten Spannungsteiler (K.R/K.R) verbunden ist, dessen Abgriff mit dem Steuergate zumindest eines der IG-FETs (F1) der ersten der beiden Stufen (F1/R1) verbunden ist,
- der gleiche Ausgang des Differenzverstärkers (DV) mit einem zweiten Spannungsteiler (αR/RL) verbunden ist, dessen erstes Teilerglied (αR) direkt mit dem Ausgang des Differenzverstärkers (DV) verbunden ist und dessen anderes Teilerglied (RL) den mit dem Referenzstrom (I3) zu beliefernden Lastwiderstand (RL) darstellt, und
- der Abgriff des zweiten Spannungsteilers mit einem dritten Spannungsteiler ((1-α)R/R) verbunden ist, dessen Abgriff seinerseits mit dem Steuergate zumindest eines der IG-FETs (F2) der zweiten Stufe (F2/R2) verbunden ist.
7. Referenzquelle nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß
- zumindest einer der IG-FETs (F1) und/oder zumindest einer der damit verbundenen Widerstände (R1,RO) der beiden Stufen mit einem Steuereingang (U1, U2) zur Überlagerung eines steuernden Wechselsignals (U1 in Fig. 2 und 6) verbunden ist.
8. Verfahren zum Betrieb einer Referenzquelle nach Patentanspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
- dem Steuereingang ein binäres Wechselsignal (U1) zugeleitet wird.
9. Veriahren zum Betrieb einer Referenzquelle nach Patentanspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
- dem Steuereingang ein analoges Wechselsignal (U1) zugeleitet wird.
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