EA024428B1 - Устройство для маркировки объекта, содержащее по меньшей мере один газовый лазер и радиатор - Google Patents
Устройство для маркировки объекта, содержащее по меньшей мере один газовый лазер и радиатор Download PDFInfo
- Publication number
- EA024428B1 EA024428B1 EA201490245A EA201490245A EA024428B1 EA 024428 B1 EA024428 B1 EA 024428B1 EA 201490245 A EA201490245 A EA 201490245A EA 201490245 A EA201490245 A EA 201490245A EA 024428 B1 EA024428 B1 EA 024428B1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- laser
- gas
- heat
- tubes
- marking
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0407—Liquid cooling, e.g. by water
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/355—Texturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/361—Removing material for deburring or mechanical trimming
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
- B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0385—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
- H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
- H01S3/076—Folded-path lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/083—Ring lasers
- H01S3/0835—Gas ring lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2383—Parallel arrangements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Lasers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Изобретение относится к маркировочному аппарату для маркировки объекта лазерным излучением. Аппарат содержит по меньшей мере один газовый лазер, испускающий по меньшей мере один лазерный пучок с целью маркировки объекта. Данный лазер содержит несколько лазерных трубок (12), заполняемых активным газом, и несколько теплорассеивателей (30) для рассеивания тепла, выделяющегося из лазерных трубок (12). При этом каждая лазерная трубка (12) приведена в тепловой контакт с одним из теплорассеивателей (320), каждый из которых имеет микроканалы для заполнения их охлаждающей текучей средой.
Description
Изобретение относится к маркировочному аппарату (устройству для маркировки) согласно ограничительной части п.1, предназначенному для маркировки объекта посредством лазерного излучения.
Предшествующий уровень техники
Известен маркировочный аппарат для маркировки объекта лазерным излучением, содержащий по меньшей мере один газовый лазер для испускания по меньшей мере одного маркирующего лазерного пучка.
Генерируемое лазерное излучение нагревает среду в зоне газового лазера и должно быть рассеяно.
Для этого известные маркировочные аппараты оборудуются охлаждающим устройством, которое в типичном варианте размещено в том же корпусе, где находятся газовые лазеры и многие другие компоненты маркировочного аппарата. Известные охлаждающие устройства занимают довольно много места, лишая аппарат мобильности, что ограничивает область его применения.
В конструкцию известных маркировочных аппаратов заложен компромисс между охлаждающей способностью и гибкостью использования. В частности, для обеспечения гибкого применения аппарата могут быть пригодны простые и компактные охлаждающие устройства, ограниченные по подаче воздуха и по количеству ребер охлаждения. Однако эти преимущества достигаются за счет уменьшения охлаждающей способности.
В 1Р 63094695 описан газовый лазер с прямоугольным расположением лазерных трубок. Для их охлаждения рядом с ними установлены металлические трубки, содержащие охлаждающую текучую среду.
Другой газовый лазер описан в υδ 3705999. Рядом с лазерной трубкой в нем выполнено множество охлаждающих каналов.
Решение, описанное в υδ 4500998, направлено на создание газового лазера, в котором охлаждающая трубка позиционирована внутри трубки, которая содержит активный газ, используемый для получения лазерного излучения.
В υδ 5982803 описан щелевой газовый лазер, выполненный с возможностью охлаждения посредством водяных охлаждающих каналов, которым придана извилистая форма. В порядке альтернативы, может быть предусмотрено наличие ребристого теплоотводящего устройства и вентилятора, обеспечивающих воздушное охлаждение.
Решение, описанное в 1Р 05129678, направлено на создание лазерного маркировочного аппарата с охлаждающими водяными каналами, проходящими рядом с лазерными газоразрядными полостями.
В υδ 5115446 А описана несущая конструкция для компонентов газового лазера, обеспечивающая горизонтальное положение лазерной трубки.
Сущность изобретения
Задача, на решение которой направлено изобретение, состоит в создании маркировочного аппарата, обладающего особенно эффективным охлаждением и, в то же время, удовлетворяющего умеренным требованиям в отношении занимаемого пространства.
Данная задача решена посредством маркировочного аппарата с признаками, включенными в п.1.
Предпочтительные варианты раскрыты в зависимых пунктах, а также в нижеследующем описании, содержащем ссылки на прилагаемые чертежи.
Согласно изобретению аппарат описанного типа характеризуется тем, что по меньшей мере один газовый лазер содержит лазерные трубки, заполняемые активным газом, и предусмотрено наличие нескольких радиаторов (теплорассеивателей) для рассеивания тепла, выделяющегося из лазерных трубок. Каждая лазерная трубка находится в тепловом контакте с одним из теплорассеивателей, а каждый теплорассеиватель имеет микроканалы для заполнения их охлаждающей текучей средой.
В качестве основной идеи изобретения может рассматриваться использование охлаждающей текучей среды для поглощения тепла, производимого газовым лазером, а также для отведения тепла от газового лазера. Параметры микроканалов обеспечивают особенно эффективную теплопередачу от их стенок к содержащейся в микроканалах охлаждающей текучей среде. Преимущество заключается в возможности посредством данной среды отводить тепло от газового лазера. Тогда теплообменник, переносящий тепло из охлаждающей текучей среды в окружающее пространство, не будет нагревать непосредственное окружение газового лазера и не ухудшит свою охлаждающую способность.
Микроканалы, к которым обычно относят каналы с высоким значением отношения длины к ширине, могут иметь гидравлический диаметр примерно 1 мм. В принципе, любой канал с размером гидравлического диаметра меньше 2 мм или, альтернативно, меньше 1 мм можно считать микроканалом.
Охлаждающие устройства на основе микроканалов наиболее часто используют в приложениях, отличающихся высокой плотностью теплового излучения, т.е. наличием источника тепла, локализованного в небольшом объеме. Так, данные устройства находят применение в компьютерах, где они охлаждают, например, процессоры, в том числе и центральные. В зоне локализованного источника тепла можно выполнить много таких каналов. Поэтому за счет относительно большой площади поверхности хладагента, отводящего тепло, в этих устройствах получают высокую эффективность охлаждения.
Однако маленький гидравлический диаметр в какой-то степени приводит к тому, что проходящий через устройство поток становится полностью сформированным, т.е. ламинарным. Чтобы обеспечить
- 1 024428 скорость потока, достаточную для создания его турбулентности в таком небольшом канале, может потребоваться чрезмерно большой насос. В типичных приложениях, использующих микроканалы с небольшой длиной, достигаемое незначительное улучшение охлаждающей способности не оправдывает применение мощных насосов.
Обычные СО2-лазеры имеют большие габариты, так что тепло распределяется по большой площади поверхности. Такая конструкция не способствует микроканальному охлаждению, поэтому подобные охлаждающие средства в обычных СО2-лазерах применения не находят.
Но в предлагаемой конструкции СО2-лазера по изобретению плотность теплового потока достаточно высока, что позволяет эффективно использовать микроканальное охлаждение. При этом желательно выполнить остальную часть охлаждающей системы настолько маленькой, насколько это возможно.
В принципе, охлаждающая текучая среда может находиться в любом состоянии, т.е. как в газообразном, так и в жидком. В этом качестве может быть использована вода или жидкость, у которой удельная теплоемкость больше, чем у воды. Предпочтительна охлаждающая текучая среда, согласующаяся с принципом действия обычного воздушного кондиционера. Это означает, что температура испарения охлаждающей текучей среды должна быть ниже рабочей температуры газовых лазеров. В этом случае тепла, выделяемого лазерными трубками, будет достаточно для испарения охлаждающей текучей среды внутри микроканалов, что выразится в особенно эффективном охлаждении лазерных трубок. Одним из примеров такой охлаждающей текучей среды являются фторированные углеводороды.
Теплорассеиватели, содержащие микроканалы, можно также рассматривать как тепловые коллекторы, поскольку они принимают или поглощают тепло лазерных трубок. Материалом теплорассеивателей может служить любое вещество, пригодное для выполнения в нем микроканалов. Предпочтительно выбрать этот материал так, чтобы его коэффициент теплового расширения соответствовал этому же параметру для лазерных трубок. Тем самым, независимо от температуры охлаждаемых лазерных трубок, обеспечивается хороший тепловой контакт. Сообщение по тепловому потоку между лазерными трубками и теплорассеивателем можно обеспечить посредством механического контакта. Дополнительно или альтернативно, между ними может быть введен материал с высоким коэффициентом теплопередачи, например термореактивный компаунд или теплопроводная паста.
По меньшей мере одним газовым лазером может быть, в принципе, любой лазер известного типа, такой как Не-Ν лазер, СО-лазер, аргоновый лазер, азотный лазер или эксимерный лазер. В данном случае предпочтителен СО2-лазер, способный функционировать в непрерывном или импульсном режимах. Активный газ должен рассматриваться как газовая смесь, соответствующая типу лазера, т.е. она может содержать СО2, Ν2 и Не.
Маркировка объекта может создаваться посредством любых различимых изменений поверхности объекта, например путем гравирования, вырезания или изменения цвета/яркости. Маркировкой может быть точка или линия, которые в возможном варианте являются частью знака, буквы или изображения. Соответственно, по меньшей мере один газовый лазер можно активировать на короткие периоды, чтобы сформировать точки на объекте, или в течение заданного времени, чтобы сформировать линии определенной длины.
В контексте изобретения маркируемым объектом может быть любой продукт или изделие с поверхностью, которую можно изменить под воздействием излучения газовых лазеров. В частности, объект может являться упаковкой, например для пищевого продукта или напитка, фруктом или этикеткой. К другим сферам приложения относится печатная информация на ярлыках для почтовых отправлений или на таблетках. Материалом объекта могут быть, в частности, пластики, бумага, металлы, керамика, материи, композиты или ткани органического происхождения.
Несколько лазерных трубок одного газового лазера сообщаются одна с другой, образуя один общий объем, в который введен активный газ. Данный объем герметизирован, т.е. во время нормального функционирования активный газ не обновляется. По сравнению с лазером, использующим проточный активный газ, это позволяет создать компактную конструкцию. Однако в то время как в лазере, использующем проточный активный газ, нагретый газ можно легко заменить, использование активного газа, заключенного в герметизированных трубках, предъявляет к охлаждению более жесткие требования.
Каждая лазерная трубка может быть прямой. Предусмотрена возможность соединить эти прямые трубки под углом одна к другой посредством соединительных элементов (соединительных трубок). Для перенаправления лазерного излучения, генерируемого внутри лазерных трубок, из одной лазерной трубки в примыкающую к ней трубку в каждую соединительную трубку может быть установлено зеркало.
Согласно предпочтительному варианту изобретения по меньшей мере у одной стенки микроканала имеются отклонения от ее базовой поверхности, такие как ступеньки или другие выступы. Они выполняют функцию средства, возмущающего ламинарный поток и индуцирующего нарушение граничного слоя охлаждающей текучей среды у поверхностей стенок микроканала. Данный граничный слой обладает высоким термосопротивлением по отношению к переносу тепла в охлаждающую текучую среду. Нарушение граничного слоя понижает это термосопротивление и улучшает охлаждающую способность микроканала. При таком подходе появляется возможность использовать более длинные каналы, причем нет необходимости прибегать к высоким скоростям потока. Преимущество заключается в том, что неста- 2 024428 ционарный турбулентный поток образует завихрения, которые переносят в микроканалах нагретую у стенок охлаждающую текучую среду к центру. В отличие от полностью сформированного ламинарного потока, это приводит к достаточно равномерному распределению температуры по поперечному сечению микроканалов, в результате чего улучшается поглощение тепла охлаждающей текучей средой.
Другой предпочтительный вариант изобретения характеризуется тем, что микроканалы каждого теплорассеивателя проходят, по существу, по всей длине соответствующей лазерной трубки, т.е. в тепловом контакте с ним находится вся лазерная трубка. Преимущество заключается в возможности поглощения тепла по всей длине трубок, а это повышает охлаждающую способность. Прикрепив теплорассеиватели к соединительным трубкам, соединяющим смежные лазерные трубки, можно получить жесткую конструкцию.
Предусмотрена возможность соединить микроканалы одного теплорассеивателя между собой и расположить их в любой конфигурации, предпочтительно взаимно параллельно или извилистым образом. Каждый теплорассеиватель можно снабдить входным и выходным каналами, предназначенными соответственно для введения охлаждающей текучей среды в его микроканалы и выведения ее наружу.
Предусмотрена возможность приведения внутренних каналов всех теплорассеивателей в сообщение по текучей среде с общей подающей магистралью, выполненной в виде трубопровода или шланга и переносящей охлаждающую текучую среду после ее охлаждения охлаждающим устройством. Соответственно, все выходные каналы могут быть подключены к одной общей магистрали, рассеивающей тепло посредством отведения охлаждающей текучей среды после ее нагрева лазерами.
Альтернативно, выходной канал одного теплорассеивателя может быть подключен к входному каналу другого теплорассеивателя. В таком варианте устройство имеет только один входной канал, подключенный к подающей магистрали, и только один выходной канал, подключенный к теплорассеивающей магистрали.
Предпочтительно для каждой лазерной трубки предусмотреть наличие по меньшей мере одного электрода, возбуждающего введенный в нее активный газ, а каждый теплорассеиватель сформировать в виде корпуса, заключающего в себе микроканалы и по меньшей мере один из электродов. Каждый корпус может быть сформирован цельным. В этом корпусе обеспечено наличие микроканалов, а также электрода. Другой электрод можно установить напротив соответствующей лазерной трубки, т.е. вне теплорассеивателя. Электроды служат для возбуждения активного газа внутри трубок. Для этого к ним по электрическим линиям подается постоянный или переменный ток, причем предпочтителен переменный ток с частотой, лежащей в радиодиапазоне.
Предпочтительно возбуждать электроды с помощью плоских обмоток, т.е. обмоток, лежащих только в двумерной плоскости. Тем самым дополнительно минимизируется требуемое пространство.
Предпочтительный вариант маркировочного аппарата по изобретению характеризуется тем, что в нем предусмотрен коннектор (соединительный элемент, конкретно патрубок или втулка) для присоединения гибкого кабеля со шлангом, по которому охлаждающая текучая среда подается в маркировочный аппарат и выводится из него. Таким образом, отпадает необходимость устанавливать в кожухе маркировочного аппарата теплорассеивающий компонент, рассеивающий тепло охлаждающей текучей среды в окружающее пространство. Вместо этого шланг в составе гибкого кабеля направляет охлаждающую текучую среду в дополнительный теплорассеивающий компонент, расположенный в базовом блоке, вне маркировочного аппарата. В результате размер маркировочного аппарата дополнительно уменьшается. Предпочтительно разместить в базовом блоке, вне маркировочного аппарата также и источник питания, например аккумуляторную батарею или трансформатор, который преобразует напряжение сети до уровня, пригодного для газовых лазеров. В таком варианте нет необходимости устанавливать источник питания в маркировочном аппарате, что, в свою очередь, позволяет дополнительно понизить требования, предъявляемые к занимаемому пространству. В дополнение к сказанному, отпадает необходимость рассеивать из аппарата тепло, выделяемое источником питания.
Согласно другому иллюстративному варианту изобретения на поверхности лазерных трубок сформированы канавки, принимающие охлаждающую текучую среду. Предусмотрена возможность плотно прикрепить теплорассеиватель к лазерным трубкам таким образом, чтобы из канавок сформировались каналы, закрытые по периферии. Кроме того, по меньшей мере, некоторые из микроканалов теплорассеивателей проходят перпендикулярно продольным осям тех лазерных трубок, с которыми теплорассеиватель соответствующих микроканалов находится в тепловом контакте, причем, по меньшей мере, некоторые из этих микроканалов сопряжены по текучей среде с канавками, выполненными на поверхности лазерных трубок. Другими словами, по меньшей мере, некоторые из микроканалов теплорассеивателей проходят, по существу, перпендикулярно канавкам, сформированным на поверхности лазерных трубок. Канавки на лазерных трубках могут иметь такой же диаметр, как у микроканалов теплорассеивателей, так что они также могут считаться микроканалами. Предусмотрена возможность герметизировать канавки, механически прикрепив теплорассеиватели к лазерным трубкам, причем теплорассеиватель может быть сформирован в виде пластины, выполненной, например, из пластиков, металла или керамики и с возможностью покрывать канавки на поверхности лазерной трубки. Микроканалы теплорассеивателей могут быть сформированы в виде микрофорсунок или отверстий, проделанных в пластине. Тем самым
- 3 024428 достигается повышение эффективности, поскольку микроканалы оказываются расположенными очень близко к источнику тепла, т.е. к газовому лазеру.
Альтернативно канавкам или дополнительно к ним, в стенках лазерных трубок можно выполнить микроканалы и соединить их с микроканалами теплорассеивателей.
Далее предпочтительно, по меньшей мере, частично окружить лазерными трубками внутреннее пространство и разместить в нем оптические компоненты и/или электронику. Частичное окружение внутреннего пространства следует понимать в том смысле, что это пространство окружено лазерными трубками в пределах центрального угла, составляющего по меньшей мере 180°, т.е. полукруг. Таким образом, из лазерных трубок могут быть сформированы разомкнутая или замкнутая петля (кольцо).
При таком расположении лазерных трубок их суммарная длина может быть гораздо больше длины аппарата. В комплект электроники могут входить драйверные контура для управления электродами. В число оптических компонентов, изменяющих направление лазерного пучка, излученного газовым лазером, могут входить зафиксированные зеркала и сканирующие зеркала или световоды. Размещение электроники и/или оптических компонентов во внутреннем пространстве обеспечивает преимущество при создании конструкции, занимающей мало места.
В отличие от сложенной конфигурации расположения лазерных трубок, в которой лазерные трубки одного лазера примыкают одна к другой по зигзагообразному или извилистому контуру, их расположение согласно варианту изобретения позволяет разместить электронику и оптические компоненты между трубками. В обоих вариантах габаритные размеры аппарата сопоставимы, однако, в конструкции по изобретению расстояние между лазерными трубками больше, а этим обеспечивается преимущество при их охлаждении. Кроме того, увеличивается та часть поверхности лазерных трубок, которая используется для теплового контакта с теплорассеивателями.
Согласно предпочтительному варианту изобретения аппарат дополнительно содержит направляющие средства, такие как по меньшей мере одно зеркало, для направления лазерного пучка или лазерных пучков во внутреннее пространство. В принципе, возможен также вариант, в котором средства для направления пучков сформированы зеркалами выходных компонентов газовых лазеров. В этом случае в каждом газовом лазере концевой участок лазерной трубки может быть ориентирован в сторону внутреннего пространства. Кроме того, во внутреннем пространстве предусмотрено наличие средств, отклоняющих лазерный пучок в сторону маркируемого объекта. В число этих средств может входить по меньшей мере одно отклоняющее средство на каждый лазерный пучок, а конкретно - по меньшей мере одно, а предпочтительно - по меньшей мере два зеркала или световода на каждый лазерный пучок, индивидуально отклоняющие каждый из лазерных пучков в желаемом направлении. С этой целью для каждого отклоняющего средства предусмотрена возможность индивидуальной регулировки обеспечиваемого им направления отклонения и/или индивидуального смещения. Предпочтительна механизированная регулировка отклоняющих средств под контролем блока управления, в частности для выполнения сканирования.
Другой предпочтительный вариант изобретения характеризуется тем, что обеспечено наличие множества газовых лазеров (по меньшей мере одного газового лазера). Кроме того, предусмотрен блок управления для индивидуального активирования каждого из газовых лазеров, чтобы получить лазерный пучок, соответствующий маркируемому знаку. Каждый газовый лазер содержит лазерные трубки, по меньшей мере, частично окружающие внутреннее пространство, причем газовые лазеры установлены один над другим с образованием стопы таким образом, чтобы каждая лазерная трубка одного газового лазера располагалась параллельно одной из лазерных трубок другого газового лазера.
Другими словами, совокупность лазерных трубок одного газового лазера состоит из первой лазерной трубки и по меньшей мере второй лазерной трубки, причем все первые лазерные трубки установлены в стопу и расположены параллельно одна другой. Аналогично, все вторые лазерные трубки установлены в стопу и расположены параллельно одна другой. В данном варианте лазерные пучки, испускаемые газовыми лазерами, образуют упорядоченный (конкретно - линейный) набор лазерных пучков, проходящих параллельно друг другу.
Желательно, чтобы для этих лазерных трубок, установленных в стопу и расположенных параллельно одна другой, из нескольких теплорассеивателей в составе аппарата использовался один, имеющий тепловой контакт со всеми этими параллельными трубками. Другими словами, все лазерные трубки различных газовых лазеров, расположенные параллельно одна другой и одна над другой (в виде стопы), используют один теплорассеиватель.
Предпочтительный вариант аппарата по изобретению характеризуется тем, что каждый газовый лазер содержит соединительные элементы, которыми соединяются его взаимно примыкающие лазерные трубки с образованием общего трубчатого пространства, причем в каждом из соединительных элементов газовых лазеров имеется внутренняя полость, сообщающаяся по текучей среде по меньшей мере с двумя взаимно примыкающими лазерными трубками, присоединенными к соединительному элементу.
Согласно следующему предпочтительному варианту изобретения лазерные трубки каждого газового лазера установлены в виде треугольника, прямоугольника, многоугольника, квадрата, разомкнутого/замкнутого кольца или по И-образному контуру. Термин замкнутое кольцо может означать, что
- 4 024428 обеспечено наличие одного соединительного элемента, который заключает в себе как концевое зеркало газового лазера, отражающее лазерное излучение обратно во внутренний лазерный объем, так и частично отражающий выходной компонент для выведения лазерного пучка. Соответственно, термин разомкнутое кольцо следует понимать в том смысле, что в одном и том же газовом лазере концевое зеркало и выходной компонент установлены в разных концевых элементах (т.е. не в одном соединительном элементе).
В замкнутой конструкции активный газ может сформировать единый объем или объемы, разделенные внутри соединительного элемента, заключающего в себе выходной компонент и концевое зеркало.
Изобретение относится также к маркировочной установке, которая содержит описанный маркировочный аппарат, а также насос, который предназначен для прокачивания охлаждающей текучей среды через микроканалы и может относиться к любому распространенному типу насосов. Одним из примеров такого насоса является электроосмотический насос, использующий внешнее электрическое поле, которое проникает, например, через стеклокерамический слой типа фритты и перемещает ионы во внутреннем объеме охлаждающей текучей среды, после чего просто за счет торможения ионов индуцируется перемещение охлаждающей текучей среды в целом.
Согласно другому иллюстративному варианту маркировочной установки по изобретению все газовые лазеры установлены в первом кожухе, а насос помещен во второй кожух или в базовый блок. Теплорассеивающий компонент, рассеивающий тепло охлаждающей текучей среды в окружающее пространство, также можно разместить во втором кожухе. Оба кожуха соединены гибким кабелем со шлангом. В результате получают маркировочный аппарат меньшего размера. Поскольку гибкий кабель эластичен, улучшается мобильность маркировочного аппарата. Для перемещения маркировочного аппарата относительно второго кожуха может быть использован двигатель с приводом.
Предусмотрена возможность дополнительной регулировки мощности накачки в зависимости от температуры лазерных трубок. Чтобы определять эту температуру, можно обеспечить наличие соответствующего датчика, поместив его в первом кожухе вместе с лазерными трубками или во втором кожухе, где могут быть установлены насос и дополнительный теплорассеивающий компонент. Во втором варианте такой датчик может определять температуру охлаждающей текучей среды, нагретой лазерными трубками, а в первом его можно установить на поверхность одной из лазерных трубок. Альтернативно, датчик температуры может быть выполнен в виде резистора, установленного в том кожухе, где находится один из электродов для возбуждения активного газа.
Перечень фигур, чертежей
Изобретение будет далее описано на примере своих предпочтительных вариантов, проиллюстрированных на прилагаемых чертежах.
На фиг. 1 схематично, в перспективном изображении, представлена часть газового лазера маркировочного аппарата по изобретению.
На фиг. 2 представлен, в перспективном изображении, газовый лазер маркировочного аппарата по изобретению.
На фиг. 3 представлен комплект газовых лазеров маркировочного аппарата по изобретению.
На фиг. 4 представлен вариант маркировочного аппарата по изобретению.
На фиг. 5 представлен другой вариант маркировочного аппарата по изобретению.
На фиг. 6 представлен вариант маркировочной установки по изобретению.
На всех чертежах эквивалентные компоненты идентифицированы посредством идентичных обозначений.
Сведения, подтверждающие возможность осуществления изобретения
На фиг. 1 схематично представлена часть газового лазера маркировочного аппарата по изобретению. Проиллюстрированы одна из лазерных трубок 12 аппарата, а также теплорассеиватель 30 и электроды 20, 31.
Лазерная трубка 12 заполнена активным газом. Ее концы присоединены к соединительным элементам (не показаны), формируя герметизированный объем.
Для возбуждения активного газа в каждой лазерной трубке 12 предусмотрено наличие двух электродов 20, 31. Теплорассеиватель 30 помещен внутрь электрода 20 или напрямую прикреплен к нему.
Электрод 20 приведен в контакт с лазерной трубкой 12 по всей своей длине, т.е. в осевом направлении. Чтобы сформировать большую площадь контакта, поверхности электрода 20, обращенной к лазерной трубке 12, придана вогнутая форма, отвечающая выпуклой форме лазерной трубки 12. Желательно, чтобы площадь контакта охватывала по меньшей мере четвертую часть периметра лазерной трубки 12. Чтобы избежать воздушного зазора, предусмотрена возможность прижать электрод 20 к лазерной трубке 12. Альтернативно или дополнительно, между ними можно ввести термореактивный компаунд.
Желательно, чтобы материал теплорассеивателя 30 имел высокий коэффициент теплопередачи. Для этого могут быть использованы медь или алюминий. Внутри теплорассеивателя 30 выполнены микроканалы для переноса охлаждающей текучей среды, которая вводится через входной микроканал, проходящий перпендикулярно продольной оси лазерной трубки 12. Входной микроканал сообщается с одним или несколькими продольными микроканалами, проходящими вдоль продольной оси лазерной трубки
- 5 024428
12, а эти микроканалы приведены в сообщение с выходным микроканалом, через который охлаждающая текучая среда может быть откачана из теплорассеивателя 30. Выходной канал можно считать также теплорассеивающим микроканалом.
Во время функционирования газового лазера активный газ и, таким образом, лазерная трубка 12 нагреваются. Высокая температура отрицательно влияет на эффективность генерации лазерного излучения и может даже вызвать ее срыв. Поэтому избыточное тепло необходимо рассеять. Для этого предусмотрено наличие теплорассеивателя 30 с микроканалами. В первую очередь, теплорассеиватель 30 поглощает выделяющееся через электрод 20 тепло лазерной трубки 12, что приводит к соответствующему нагреву охлаждающей текучей среды в микроканалах. Диаметр микроканалов очень мал и может составлять менее 2 мм или даже менее 1 мм. Вследствие наличия отклонений от базовой поверхности, выполненных по меньшей мере на одной стенке каждого микроканала, поток охлаждающей текучей среды внутри микроканалов (по меньшей мере, внутри продольных микроканалов) имеет турбулентный характер, за счет которого улучшается теплообмен между теплорассеивателем и охлаждающей текучей средой.
Количество продольных микроканалов может превышать количество входных и выходных микроканалов. В этом случае поперечное сечение входных и выходных микроканалов по сравнению с поперечным сечением продольных микроканалов можно увеличить и выбрать его равным суммарному поперечному сечению всего комплекта продольных микроканалов.
На фиг. 2 схематично показан газовый лазер 10а, содержащий несколько лазерных трубок 12. В представленном варианте использованы четыре трубки 12, составляющие прямоугольник. Однако, в принципе, возможно любое количество лазерных трубок, которые устанавливаются по выпуклому кольцеобразному периметру (например в форме, близкой к окружности).
В трех углах прямоугольника находятся соединительные элементы 16 для соединения взаимно примыкающих лазерных трубок 12. Эти соединительные элементы 16 выполнены в виде полых трубок, так что лазерные трубки 12 образуют общий объем газа, который герметизирован, чтобы избежать утечек активного газа.
Критичным условием является обеспечение постоянства газовой смеси, введенной в общий объем, поскольку ее изменения могут привести к снижению эффективности лазера. С целью замедлить эти изменения предусмотрен дополнительный газовый резервуар в виде газовой трубки 13. Эта трубка заполнена активным газом, но не снабжена электродами, т.е. в процессе функционирования лазера 10а газ в газовой трубке 13 не возбуждают. Трубка 13 расположена параллельно одной из лазерных трубок 12 и образует совместно с лазерными трубками 12 общий объем газа. С этой целью по меньшей мере два соединительных элемента 16 снабжены дополнительным отверстием для подсоединения газовой трубки 13.
В четвертом углу прямоугольной конструкции, составленной из лазерных трубок, взаимно примыкающие лазерные трубки 12 поддерживаются соединительным элементом 17, который несет заднее зеркало 15 и выходной компонент 18. В проиллюстрированном примере общий объем на одном своем конце завершается концевым зеркалом 15, а на другом - выходным компонентом 18, так что в соединительном элементе 17 отсутствуют соединения по текучей среде (по газу).
Выходным компонентом 18 может быть частично отражающее зеркало, выводящее лазерный пучок наружу. Лазерный пучок перенаправляется средством 19, которым может быть зеркало 19, прикрепленное к наружной поверхности соединительного элемента 17. Зеркало 19 направляет лазерный пучок через выполненное в соединительном элементе 17 отверстие во внутреннее пространство 5, т.е. в пространство, охваченное лазерными трубками 12. Предусмотрена возможность установить во внутреннем пространстве 5 дополнительные оптические компоненты для отклонения лазерного пучка в направлении маркируемого объекта.
Хотя на фиг. 2 представлен только один газовый лазер 10а, предпочтительно использовать множество газовых лазеров, каждый из которых можно сформировать в виде лазера по фиг. 2. В частности, каждый газовый лазер может иметь такие собственные детали, как электроды, выходной компонент, заднее зеркало и установленные во внутреннем пространстве оптические компоненты.
Комплект, состоящий из множества газовых лазеров, представлен на фиг. 3. В данном примере в комплект входят девять газовых лазеров 10, установленных друг над другом. Конкретно, над каждой лазерной трубкой первого газового лазера расположена лазерная трубка второго газового лазера.
Для газовых лазеров 10 использованы общие соединительные элементы 16, 17. В таком варианте в каждом соединительном элементе 16 имеются отверстия для соединения двух лазерных трубок каждого газового лазера. В представленном варианте с девятью лазерами это соответствует 18 отверстиям. Тем самым повышается стабильность и уменьшаются производственные затраты. Предпочтительно объемы различных газовых лазеров сообщаются через соединительные элементы 16. Это повышает однородность и стабильность активной газовой смеси, поскольку изменение в составе газа в лазерных трубках одного газового лазера распределяется по всем газовым лазерам и, тем самым, разбавляется. Кроме того, благодаря сообщению объемов различных лазеров посредством соединительных элементов 16 достаточно иметь единственную газовую трубку (не показана) с дополнительным газом для всех лазеров 10.
Каждый соединительный элемент 16 содержит зеркало для перенаправления лазерного излучения из одной лазерной трубки 12 одного газового лазера в другую лазерную трубку 12 того же лазера. Со- 6 024428 единительные элементы 16 предпочтительно снабжены дополнительным отверстием, в котором данное зеркало может быть закреплено снаружи маркировочного аппарата, что упрощает его изготовление.
Общий соединительный элемент 17 несет один выходной компонент 18 и одно заднее зеркало 15 на каждый газовый лазер. Дополнительное упрощение изготовления достигается, если в соединительном элементе 17 выполнены дополнительные отверстия, перекрываемые выходными компонентами 18 и/или задними зеркалами 15. Таким образом, общий соединительный элемент 17 может иметь отверстия на четырех своих сторонах: к двум из этих сторон подведены соединяемые лазерные трубки 12, тогда как в отверстиях на двух остальных сторонах закреплены снаружи выходные компоненты 18 и задние зеркала 15.
Каждая лазерная трубка 12 каждого из газовых лазеров 10 снабжена собственной парой электродов 20, 31, служащих для возбуждения активного газа. Когда лазерные трубки 12 собраны в стопу, электроды 31, обращенные к внутреннему пространству, и электроды 20 на противоположных сторонах лазерных трубок 12 также образуют соответствующие стопы. Все электроды 31 в составе одной стопы лазерных трубок предпочтительно расположены в первом общем кожухе или на первой общей опоре. Аналогично, все электроды 20 в составе одной стопы лазерных трубок предпочтительно расположены во втором общем кожухе или на второй общей опоре.
С наружной стороны лазерных трубок 12, т.е. с их стороны, противоположной внутреннему пространству 5, размещены теплорассеиватели 30. Каждая стопа лазерных трубок 12 предпочтительно находится в тепловом контакте с общим теплорассеивателем 30, чтобы микроканалы внутри него поглощали тепло, поступающее от всей соответствующей стопы.
Использование общих теплорассеивателей позволяет обойтись в нем только одним входным микроканалом и одним выходным микроканалом. Преимущество в данном случае заключается в упрощении конструкции.
В принципе, предусмотрена возможность установить общий теплорассеиватель 30 или электроды 20 ближе к стопе лазерных трубок 12. Если ближе установлен общий теплорассеиватель 30, т.е. если он находится между трубками 12 и электродами 20, входной и выходной микроканалы проходят через вторую общую опору с расположенными на ней электродами 20 или через второй общий кожух с расположенными в нем электродами 20.
Предусмотрена возможность приведения теплорассеивателя 30 и второй общей опоры с электродами во взаимный механический контакт или формирования их заодно с общим корпусом. В таких вариантах преимуществом является дополнительное уменьшение размеров маркировочного аппарата.
В примере, представленном на фиг. 3, во внутреннем пространстве 5 размещена электроника, например драйверные контура для управления электродами 20, 31. Однако лазерные пучки, прошедшие через выходные компоненты 18, в пространство 5 не попадают.
Другой иллюстративный вариант изобретения, относящийся к маркировочному аппарату 100, представлен на фиг. 4. Как и в предыдущем примере, аппарат 100 содержит множество газовых лазеров 10, в каждом из которых имеется один выходной компонент для выведения лазерного пучка.
Однако в данном случае испускаемые лазерные пучки направляются во внутреннее пространство 5. Для этого соединительный элемент 17 сформирован из первой и второй соединительных деталей 17а, 17Ь. Во второй соединительной детали 17Ь выполнены два отверстия на каждый газовый лазер для соединения лазерных трубок 12. Кроме того, вторая соединительная деталь 17Ь снабжена двумя дополнительными отверстиями на каждый газовый лазер, перекрытыми задним зеркалом 15 и выходным компонентом 18. К первой соединительной детали 17а прикреплены направляющие средства 19, такие как зеркала, служащие для перенаправления лазерных пучков, выводимых сквозь выходные компоненты 18, во внутреннее пространство 5.
Во внутреннем пространстве 5 размещены другие оптические компоненты 7, а также электронные компоненты 6. В число оптических компонентов 7 может входить набор 8 отклоняющих средств, содержащий одно отклоняющее средство на каждый газовый лазер. Отклоняющим средством может являться зеркало или световод. Благодаря такому выполнению набор 8 отклоняющих средств позволяет индивидуально перенаправлять каждый испускаемый лазерный пучок. В состав оптических компонентов 7 могут входить также один или два гальванометрических сканера 9, каждый из которых содержит зеркало, на которое падают пучки всех газовых лазеров. Посредством гальванометрических сканеров 9 лазерные пучки могут сканироваться в пределах поля зрения маркировочного аппарата 100.
На фиг. 5 представлен другой вариант маркировочного аппарата 100 по изобретению. Здесь каждый газовый лазер содержит три лазерных трубки 12, расположенные по И-образному контуру. Пространство между двумя ветвями этого контура должно рассматриваться как внутреннее пространство 5. На одном своем конце И-образный контур завершается первым соединительным элементом, к которому прикреплены задние зеркала 15, но не выходные компоненты 18. Соответственно, на другом своем конце этот контур завершается вторым соединительным элементом, к которому прикреплены выходные компоненты 18, но не задние зеркала 15.
Предусмотрен также коннектор 40 (в форме втулки или гнезда) для присоединения гибкого кабеля со шлангом. Через этот коннектор в аппарат может подаваться охлаждающая текучая среда, которая за- 7 024428 тем может проходить по микроканалам. Нагретая в микроканалах охлаждающая текучая среда может выводиться из аппарата через коннектор 40.
Коннектор 40 можно дополнительно снабдить электрическими контактами, через которые к маркировочному аппарату 100 по гибкому кабелю может подводиться электропитание.
На фиг. 6 представлен вариант осуществления маркировочной установки 120 по изобретению. Установка 120 содержит по меньшей мере один маркировочный аппарат 100, установленный в первом кожухе 101. В проиллюстрированном примере использовано четыре маркировочных аппарата 100, каждый из которых заключен в собственный первый кожух 101. Предпочтительно выполнить кожух 101 пыленепроницаемым и обеспечить защиту от воды при погружении на глубину по меньшей мере до одного метра.
Для каждого маркировочного аппарата 100 в установке 120 предусмотрен отдельный базовый блок, сформированный вторым кожухом 102, в котором установлены источник питания и охлаждающее устройство для соответствующего маркировочного аппарата 100. Каждый аппарат 100 подключен к своему базовому блоку 102 через гибкий кабель 50 со шлангом. Гибкость кабеля 50 позволяет выполнять разнообразное позиционирование каждого аппарата 100 относительно базового блока 102.
В дополнение к сказанному, блок 25 управления находится в управляющем модуле (т.е. в отдельном кожухе) 103. Этот блок подключен к каждому из базовых блоков 102 и выполнен с возможностью активирования маркировочных аппаратов 100 через базовые блоки 102 и гибкие кабели 50.
Каждое из охлаждающих устройств базовых блоков 102 снабжено насосом для прокачивания охлаждающей текучей среды. Охлаждающие устройства могут быть пассивными, т.е. не использующими для охлаждения электрическую энергию. В таком варианте охлаждающая текучая среда, нагретая лазерами, может быть охлаждена посредством теплообменника. В случае активного охлаждающего устройства охлаждающая текучая среда дополнительно или альтернативно охлаждается за счет применения электрической энергии, например, с использованием термоэлектрического элемента.
Таким образом, реализуется преимущество, заключающееся в особенно маленьких размерах конструкции. Эффективное охлаждение достигается посредством микроканалов, в которых охлаждающая текучая среда протекает, испытывая возмущения. Пространственные ограничения, накладываемые на маркировочный аппарат, могут быть дополнительно ослаблены путем переноса источника питания, электронных компонентов и/или охлаждающего устройства в отдельный второй кожух, относительно которого маркировочный аппарат можно свободно перемещать, например, с помощью двигателя. Кроме того, тепло, выделяемое в маркировочном аппарате, отводится по шлангу в составе гибкого кабеля. Таким образом, поскольку происходит перенос тепла от охлаждающей текучей среды в окружающее пространство, непосредственное окружение маркировочного аппарата не нагревается, а это обеспечивает желательное увеличение эффективности охлаждения.
Claims (12)
- ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ1. Маркировочный аппарат (100) для маркировки объекта лазерным излучением, имеющий по меньшей мере один газовый лазер (10) для испускания по меньшей мере одного лазерного пучка с целью маркировки объекта, причем по меньшей мере один газовый лазер (10) содержит лазерные трубки (12), заполненные активным газом;предусмотрено наличие теплорассеивателей (30) для рассеивания тепла, выделяющегося из лазерных трубок (12);каждая лазерная трубка (12) приведена в тепловой контакт с одним из теплорассеивателей (30), отличающийся тем, что каждый теплорассеиватель (30) имеет микроканалы, заполняемые охлаждающей текучей средой, при этом наименьший размер микроканалов составляет менее 2 мм, а по меньшей мере одна стенка каждого микроканала выполнена с отклонениями от ее базовой поверхности, в частности в форме выступов, способных придать потоку охлаждающей текучей среды турбулентный характер.
- 2. Маркировочный аппарат по п.1, отличающийся тем, что микроканалы каждого из теплорассеивателей (30) проходят, по существу, по всей длине соответствующей лазерной трубки (12).
- 3. Маркировочный аппарат по п.1 или 2, отличающийся тем, что каждая лазерная трубка (12) снабжена по меньшей мере одним электродом (20) для возбуждения находящегося в ней активного газа, а каждый теплорассеиватель (30) сформирован в виде корпуса, в котором находятся микроканалы теплорассеивателя (30) и который несет, по меньшей мере, указанный электрод (20).
- 4. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что снабжен коннектором (40), в частности в форме патрубка, для подсоединения гибкого кабеля (50) со шлангом, используемым для подведения охлаждающей текучей среды к маркировочному аппарату (100) и отведения ее от маркировочного аппарата (100).
- 5. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что лазерные трубки (12) единственного или каждого газового лазера (10), по меньшей мере, частично окружают внутреннее пространство (5), в котором установлены оптические компоненты (7) и/или электроника.- 8 024428
- 6. Маркировочный аппарат по п.5, отличающийся тем, что дополнительно содержит направляющие средства (19) для направления лазерных пучков во внутреннее пространство (5) и отклоняющие средства (8) для направления лазерных пучков в сторону маркируемого объекта, причем отклоняющие средства (8) установлены во внутреннем пространстве (5).
- 7. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-6, отличающийся тем, что содержит множество газовых лазеров (10) и блок (25) управления для индивидуального активирования каждого из газовых лазеров (10) для получения лазерного пучка, соответствующего маркируемому знаку, при этом каждый из газовых лазеров (10) содержит лазерные трубки (12), которые, по меньшей мере, частично окружают внутреннее пространство (5), а газовые лазеры (10) установлены один над другим с образованием стопы таким образом, что каждая лазерная трубка (12) одного из газовых лазеров (10) располагается параллельно одной из лазерных трубок (12) другого газового лазера (10).
- 8. Маркировочный аппарат по п.7, отличающийся тем, что для лазерных трубок (12), установленных в стопу и расположенных параллельно одна другой, использован общий теплорассеиватель (30) из нескольких теплорассеивателей (30), входящих в состав указанного аппарата, причем указанный общий теплорассеиватель (30) приведен в тепловой контакт со всеми указанными лазерными трубками (12), которые установлены в стопу и расположены взаимно параллельно.
- 9. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что лазерные трубки (12) единственного или каждого газового лазера (10) установлены по замкнутому или разомкнутому контуру, в частности по И-образному контуру или в виде треугольника, прямоугольника или квадрата.
- 10. Маркировочный аппарат по любому из пп.1-9, отличающийся тем, что единственный или каждый газовый лазер (10) содержит соединительные элементы (16), связывающие взаимно примыкающие лазерные трубки (12) единственного или соответствующего газового лазера (10) для образования общего трубчатого пространства, причем каждый из указанных соединительных элементов (16) имеет внутреннюю полость, которая сообщается по потоку по меньшей мере с двумя взаимно примыкающими лазерными трубками (12), присоединенными к соединительному элементу (16).
- 11. Маркировочная установка, отличающаяся тем, что содержит маркировочный аппарат (100), выполненный согласно любому из пп.1-10, и насос для прокачивания охлаждающей текучей среды через микроканалы.
- 12. Маркировочная установка по п.11, отличающаяся тем, что по меньшей мере один газовый лазер (10) установлен в первом кожухе (101); насос установлен во втором кожухе (102);во втором кожухе (102) установлен теплорассеивающий компонент для рассеивания в окружающее пространство тепла, содержащегося в охлаждающей текучей среде, а первый кожух (101) и второй кожух (102) соединены гибким кабелем (50).
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP11007187.5A EP2564976B1 (en) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | Marking apparatus with at least one gas laser and heat dissipator |
PCT/EP2012/003071 WO2013034216A1 (en) | 2011-09-05 | 2012-07-19 | Marking apparatus with at least one gas laser and heat dissipator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EA201490245A1 EA201490245A1 (ru) | 2014-09-30 |
EA024428B1 true EA024428B1 (ru) | 2016-09-30 |
Family
ID=46682787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EA201490245A EA024428B1 (ru) | 2011-09-05 | 2012-07-19 | Устройство для маркировки объекта, содержащее по меньшей мере один газовый лазер и радиатор |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10236654B2 (ru) |
EP (1) | EP2564976B1 (ru) |
CN (1) | CN103764334B (ru) |
BR (1) | BR112014003930A2 (ru) |
EA (1) | EA024428B1 (ru) |
ES (1) | ES2544034T3 (ru) |
WO (1) | WO2013034216A1 (ru) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113794090B (zh) * | 2021-09-17 | 2022-12-13 | 深圳市启扬光学科技有限公司 | 一种高压激励气体激光器谐振腔散热结构及其散热方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3705999A (en) * | 1970-04-13 | 1972-12-12 | Inst Angewandte Physik | Gas discharge tube for a laser |
US4500998A (en) * | 1981-09-09 | 1985-02-19 | Hitachi, Ltd. | Gas laser |
JPS6394695A (ja) * | 1986-10-08 | 1988-04-25 | Nec Corp | ガスレ−ザ発振器 |
US5115446A (en) * | 1990-09-19 | 1992-05-19 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Device for a power laser |
JPH05129678A (ja) * | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Shibuya Kogyo Co Ltd | レーザマーキング装置 |
US5982803A (en) * | 1995-10-17 | 1999-11-09 | Universal Laser Systems, Inc. | Free-space gas slab laser |
Family Cites Families (276)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2359780A (en) | 1938-10-29 | 1944-10-10 | Muffly Glenn | Refrigerating mechanism |
GB1016576A (en) | 1962-08-22 | 1966-01-12 | Varian Associates | Optical maser |
US3628175A (en) | 1963-11-29 | 1971-12-14 | Perkin Elmer Corp | Optical maser having concentric reservoirs and cylindrical resonator |
US3564452A (en) | 1965-08-23 | 1971-02-16 | Spectra Physics | Laser with stable resonator |
US3465358A (en) | 1966-07-21 | 1969-09-02 | Bell Telephone Labor Inc | Q-switched molecular laser |
US3533012A (en) | 1967-02-10 | 1970-10-06 | Optics Technology Inc | Laser apparatus and method of aligning same |
US3638137A (en) | 1969-01-10 | 1972-01-25 | Hughes Aircraft Co | Method of q-switching and mode locking a laser beam and structure |
GB1269892A (en) | 1969-03-20 | 1972-04-06 | Messerschmitt Boelkow Blohm | Weapon system for the detection of and use against stationary or moving objects |
US3596202A (en) | 1969-03-28 | 1971-07-27 | Bell Telephone Labor Inc | Carbon dioxide laser operating upon a vibrational-rotational transition |
US3721915A (en) | 1969-09-19 | 1973-03-20 | Avco Corp | Electrically excited flowing gas laser and method of operation |
US3646476A (en) | 1969-11-24 | 1972-02-29 | Coherent Radiation Lab | Pulsed gas ion laser |
US3609584A (en) | 1970-02-11 | 1971-09-28 | Union Carbide Corp | Method and means for compensating thermal lensing in a laser system |
US3602837A (en) | 1970-03-31 | 1971-08-31 | Us Army | Method and apparatus for exciting an ion laser at microwave frequencies |
US3670259A (en) * | 1970-04-13 | 1972-06-13 | American Optical Corp | Double q-switch laser |
US3801929A (en) | 1972-07-31 | 1974-04-02 | Asahi Optical Co Ltd | Gas laser apparatus having low temperature sensitivity |
US3851272A (en) | 1973-01-02 | 1974-11-26 | Coherent Radiation | Gaseous laser with cathode forming optical resonator support and plasma tube envelope |
US3900804A (en) | 1973-12-26 | 1975-08-19 | United Aircraft Corp | Multitube coaxial closed cycle gas laser system |
US3919663A (en) | 1974-05-23 | 1975-11-11 | United Technologies Corp | Method and apparatus for aligning laser reflective surfaces |
US4053851A (en) | 1975-07-10 | 1977-10-11 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Near 16 micron CO2 laser system |
GB1495477A (en) | 1975-10-31 | 1977-12-21 | Taiwan Fan Shun Co Ltd | Drinking water supply apparatus for vehicles |
IL49999A (en) | 1976-01-07 | 1979-12-30 | Mochida Pharm Co Ltd | Laser apparatus for operations |
US4131782A (en) | 1976-05-03 | 1978-12-26 | Lasag Ag | Method of and apparatus for machining large numbers of holes of precisely controlled size by coherent radiation |
US4122853A (en) | 1977-03-14 | 1978-10-31 | Spectra-Med | Infrared laser photocautery device |
US4125755A (en) | 1977-06-23 | 1978-11-14 | Western Electric Co., Inc. | Laser welding |
US4189687A (en) | 1977-10-25 | 1980-02-19 | Analytical Radiation Corporation | Compact laser construction |
US4170405A (en) | 1977-11-04 | 1979-10-09 | United Technologies Corporation | Resonator having coupled cavities with intercavity beam expansion elements |
US4376496A (en) | 1979-10-12 | 1983-03-15 | The Coca-Cola Company | Post-mix beverage dispensing system syrup package, valving system, and carbonator therefor |
JPS5764718A (en) | 1980-10-09 | 1982-04-20 | Hitachi Ltd | Laser beam printer |
US4404571A (en) | 1980-10-14 | 1983-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Multibeam recording apparatus |
US4376946A (en) | 1980-11-28 | 1983-03-15 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Superluminescent LED with efficient coupling to optical waveguide |
US4500996A (en) | 1982-03-31 | 1985-02-19 | Coherent, Inc. | High power fundamental mode laser |
US4477907A (en) | 1982-05-03 | 1984-10-16 | American Laser Corporation | Low power argon-ion gas laser |
US4554666A (en) | 1982-11-24 | 1985-11-19 | Rca Corporation | High-energy, single longitudinal mode hybrid laser |
US4689467A (en) | 1982-12-17 | 1987-08-25 | Inoue-Japax Research Incorporated | Laser machining apparatus |
US4512639A (en) | 1983-07-05 | 1985-04-23 | The United States Of American As Represented By The Secretary Of The Army | Erectable large optic for outer space application |
US4596018A (en) | 1983-10-07 | 1986-06-17 | Minnesota Laser Corp. | External electrode transverse high frequency gas discharge laser |
FR2556262B1 (fr) | 1983-12-09 | 1987-02-20 | Ressencourt Hubert | La presente invention concerne un centre de faconnage de materiaux en feuilles a commande numerique |
US4660209A (en) | 1983-12-29 | 1987-04-21 | Amada Engineering & Service Co., Inc. | High speed axial flow type gas laser oscillator |
US4652722A (en) | 1984-04-05 | 1987-03-24 | Videojet Systems International, Inc. | Laser marking apparatus |
US4614913A (en) | 1984-04-30 | 1986-09-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Inherently boresighted laser weapon alignment subsystem |
US4655547A (en) | 1985-04-09 | 1987-04-07 | Bell Communications Research, Inc. | Shaping optical pulses by amplitude and phase masking |
US4744090A (en) | 1985-07-08 | 1988-05-10 | Trw Inc. | High-extraction efficiency annular resonator |
DD256440A3 (de) | 1986-01-09 | 1988-05-11 | Halle Feinmech Werke Veb | Anordnung zur wellenlaengenselektion und internen leistungsmodulation der strahlung von hochleistungs-co tief 2-lasern |
DD256439A3 (de) | 1986-01-09 | 1988-05-11 | Halle Feinmech Werke Veb | Verfahren zur steuerung der inneren und unterdrueckung der aeusseren strahlungsrueckkopplung eines co tief 2-hochleistungslasers |
ATE68294T1 (de) | 1986-03-12 | 1991-10-15 | Prc Corp | Verfahren zur stabilisierung des betriebes eines axialgaslasers und axialgaslaser. |
US4672620A (en) | 1986-05-14 | 1987-06-09 | Spectra-Physics, Inc. | Fast axial flow carbon dioxide laser |
US4727235A (en) | 1986-08-07 | 1988-02-23 | Videojet Systems International, Inc. | Method and apparatus for equalizing power output in a laser marking system |
US4720618A (en) | 1986-08-07 | 1988-01-19 | Videojet Systems International, Inc. | Method and apparatus for equalizing power output in a laser marking system |
US4831333A (en) | 1986-09-11 | 1989-05-16 | Ltv Aerospace & Defense Co. | Laser beam steering apparatus |
US4779278A (en) | 1986-12-05 | 1988-10-18 | Laser Photonics, Inc. | Laser apparatus and method for discriminating against higher order modes |
US4846550A (en) | 1987-01-07 | 1989-07-11 | Allied-Signal Inc. | Optical wedges used in beam expander for divergence control of laser |
US5162940A (en) | 1987-03-06 | 1992-11-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Multiple energy level, multiple pulse rate laser source |
SE460570B (sv) | 1987-10-13 | 1989-10-23 | Trumpf Gmbh & Co | Anordning foer en effektlaser |
DE3990051D2 (en) | 1988-01-21 | 1991-01-10 | Siemens Ag | Gaslaser |
US5012259A (en) | 1988-01-28 | 1991-04-30 | Konica Corporation | Color recorder with gas laser beam scanning |
JP2592085B2 (ja) | 1988-02-09 | 1997-03-19 | マツダ株式会社 | アンチロック装置 |
US4819246A (en) | 1988-03-23 | 1989-04-04 | Aerotech, Inc. | Single frequency adapter |
US4770482A (en) | 1988-07-17 | 1988-09-13 | Gte Government Systems Corporation | Scanning system for optical transmitter beams |
US5052017A (en) | 1988-12-01 | 1991-09-24 | Coherent, Inc. | High power laser with focusing mirror sets |
US5023886A (en) | 1988-12-01 | 1991-06-11 | Coherent, Inc. | High power laser with focusing mirror sets |
US4953176A (en) | 1989-03-07 | 1990-08-28 | Spectra-Physics | Angular optical cavity alignment adjustment utilizing variable distribution cooling |
US4958900A (en) | 1989-03-27 | 1990-09-25 | General Electric Company | Multi-fiber holder for output coupler and methods using same |
GB8912765D0 (en) | 1989-06-02 | 1989-07-19 | Lumonics Ltd | A laser |
US5268921A (en) | 1989-07-03 | 1993-12-07 | Mclellan Edward J | Multiple discharge gas laser apparatus |
DE3937370A1 (de) | 1989-11-09 | 1991-05-16 | Otto Bihler | Laser |
US4991149A (en) | 1989-12-07 | 1991-02-05 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Underwater object detection system |
US5065405A (en) | 1990-01-24 | 1991-11-12 | Synrad, Incorporated | Sealed-off, RF-excited gas lasers and method for their manufacture |
US5109149A (en) | 1990-03-15 | 1992-04-28 | Albert Leung | Laser, direct-write integrated circuit production system |
US5214658A (en) | 1990-07-27 | 1993-05-25 | Ion Laser Technology | Mixed gas ion laser |
DE4029187C2 (de) | 1990-09-14 | 2001-08-16 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Längsgeströmter CO¶2¶-Laser |
GB2249843A (en) | 1990-10-25 | 1992-05-20 | Robert Peter Sunman | Image production |
WO1992012820A1 (en) | 1991-01-17 | 1992-08-06 | United Distillers Plc | Dynamic laser marking |
US5229574A (en) | 1991-10-15 | 1993-07-20 | Videojet Systems International, Inc. | Print quality laser marker apparatus |
US5229573A (en) | 1991-10-15 | 1993-07-20 | Videojet Systems International, Inc. | Print quality laser marker apparatus |
JPH07503382A (ja) | 1991-11-06 | 1995-04-13 | ライ,シュイ,ティー. | 角膜手術装置及び方法 |
US5199042A (en) | 1992-01-10 | 1993-03-30 | Litton Systems, Inc. | Unstable laser apparatus |
DE4300700A1 (en) * | 1992-01-14 | 1993-07-29 | Boreal Laser Inc | Carbon di:oxide plate laser group arrangement - has channel between wave-conducting electrode surfaces subdivided into multiple parallel laser resonators |
US5572538A (en) | 1992-01-20 | 1996-11-05 | Miyachi Technos Corporation | Laser apparatus and accessible, compact cooling system thereof having interchangeable flow restricting members |
JP2872855B2 (ja) | 1992-02-19 | 1999-03-24 | ファナック株式会社 | レーザ発振器 |
DE4212390A1 (de) | 1992-04-13 | 1993-10-14 | Baasel Carl Lasertech | Strahlführungssystem für mehrere Laserstrahlen |
US5337325A (en) | 1992-05-04 | 1994-08-09 | Photon Imaging Corp | Semiconductor, light-emitting devices |
US5339737B1 (en) | 1992-07-20 | 1997-06-10 | Presstek Inc | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
JP2980788B2 (ja) | 1992-10-21 | 1999-11-22 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置 |
JP2725569B2 (ja) | 1992-11-18 | 1998-03-11 | 松下電器産業株式会社 | レーザ発振器 |
US5274661A (en) | 1992-12-07 | 1993-12-28 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Thin film dielectric coating for laser resonator |
JP3022016B2 (ja) | 1992-12-28 | 2000-03-15 | 松下電器産業株式会社 | 軸流形レーザ発振器 |
US5729568A (en) | 1993-01-22 | 1998-03-17 | Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Und Raumfahrt E.V. | Power-controlled, fractal laser system |
US5294774A (en) | 1993-08-03 | 1994-03-15 | Videojet Systems International, Inc. | Laser marker system |
US5431199A (en) | 1993-11-30 | 1995-07-11 | Benjey, Robert P | Redundant seal for vehicle filler neck |
JPH07211972A (ja) | 1994-01-20 | 1995-08-11 | Fanuc Ltd | レーザ発振器 |
DE4402054A1 (de) | 1994-01-25 | 1995-07-27 | Zeiss Carl Fa | Gaslaser und Gasnachweis damit |
US5386427A (en) | 1994-02-10 | 1995-01-31 | Massachusetts Institute Of Technology | Thermally controlled lenses for lasers |
DE69509638T2 (de) | 1994-02-15 | 2000-03-02 | Coherent Inc | System zur minimisierung der durch thermisch induzierte doppelbrechung bedingten depolarisation eines laserstrahls |
JPH07246488A (ja) | 1994-03-11 | 1995-09-26 | Fanuc Ltd | レーザ加工装置 |
US5767477A (en) | 1994-03-23 | 1998-06-16 | Domino Printing Sciences Plc | Laser marking apparatus for marking twin-line messages |
US5568306A (en) | 1994-10-17 | 1996-10-22 | Leonard Tachner | Laser beam control and imaging system |
JPH08139391A (ja) | 1994-11-02 | 1996-05-31 | Fanuc Ltd | レーザ共振器 |
US5929337A (en) | 1994-11-11 | 1999-07-27 | M & A Packaging Services Limited | Non-mechanical contact ultrasound system for monitoring contents of a moving container |
US5550853A (en) | 1994-12-21 | 1996-08-27 | Laser Physics, Inc. | Integral laser head and power supply |
US5659561A (en) | 1995-06-06 | 1997-08-19 | University Of Central Florida | Spatial solitary waves in bulk quadratic nonlinear materials and their applications |
US5689363A (en) | 1995-06-12 | 1997-11-18 | The Regents Of The University Of California | Long-pulse-width narrow-bandwidth solid state laser |
JP3427573B2 (ja) | 1995-06-27 | 2003-07-22 | 松下電器産業株式会社 | マイクロ波励起ガスレーザ発振装置 |
US5646907A (en) | 1995-08-09 | 1997-07-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method and system for detecting objects at or below the water's surface |
DE29514319U1 (de) | 1995-09-07 | 1997-01-16 | Sator Alexander Paul | Vorrichtung zum Beschriften von Gegenständen |
US5592504A (en) | 1995-10-10 | 1997-01-07 | Cameron; Harold A. | Transversely excited non waveguide RF gas laser configuration |
US5682262A (en) | 1995-12-13 | 1997-10-28 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and device for generating spatially and temporally shaped optical waveforms |
US5720894A (en) | 1996-01-11 | 1998-02-24 | The Regents Of The University Of California | Ultrashort pulse high repetition rate laser system for biological tissue processing |
FR2748519B1 (fr) | 1996-05-10 | 1998-06-26 | Valeo Thermique Moteur Sa | Dispositif de refroidissement d'un moteur avec reservoir de fluide thermiquement isole |
US5837962A (en) | 1996-07-15 | 1998-11-17 | Overbeck; James W. | Faster laser marker employing acousto-optic deflection |
US5808268A (en) | 1996-07-23 | 1998-09-15 | International Business Machines Corporation | Method for marking substrates |
US6050486A (en) | 1996-08-23 | 2000-04-18 | Pitney Bowes Inc. | Electronic postage meter system separable printer and accounting arrangement incorporating partition of indicia and accounting information |
DE19634190C2 (de) | 1996-08-23 | 2002-01-31 | Baasel Carl Lasertech | Mehrkopf-Lasergravuranlage |
US5864430A (en) | 1996-09-10 | 1999-01-26 | Sandia Corporation | Gaussian beam profile shaping apparatus, method therefor and evaluation thereof |
US6421159B1 (en) | 1996-09-11 | 2002-07-16 | The Domino Corporation | Multiple beam laser marking apparatus |
US6064034A (en) | 1996-11-22 | 2000-05-16 | Anolaze Corporation | Laser marking process for vitrification of bricks and other vitrescent objects |
US5815523A (en) | 1996-11-27 | 1998-09-29 | Mcdonnell Douglas Corporation | Variable power helix laser amplifier and laser |
EP0904616B1 (en) | 1997-03-14 | 2008-12-03 | Demaria Electrooptics inc | Rf excited waveguide laser |
US6141030A (en) | 1997-04-24 | 2000-10-31 | Konica Corporation | Laser exposure unit including plural laser beam sources differing in wavelength |
US6122562A (en) | 1997-05-05 | 2000-09-19 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for selectively marking a semiconductor wafer |
FR2766115B1 (fr) | 1997-07-18 | 1999-08-27 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif et procede de decoupe a distance etendue par laser, en mode impulsionnel |
DE19734715A1 (de) | 1997-08-11 | 1999-02-25 | Lambda Physik Gmbh | Vorrichtung zum Spülen des Strahlenganges eines UV-Laserstrahles |
US6069843A (en) | 1997-08-28 | 2000-05-30 | Northeastern University | Optical pulse induced acoustic mine detection |
US6263007B1 (en) | 1998-03-23 | 2001-07-17 | T & S Team Incorporated | Pulsed discharge gas laser having non-integral supply reservoir |
JP3041599B2 (ja) | 1998-05-14 | 2000-05-15 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 座標出し光学式観察装置および位置情報蓄積方法 |
US6898216B1 (en) | 1999-06-30 | 2005-05-24 | Lambda Physik Ag | Reduction of laser speckle in photolithography by controlled disruption of spatial coherence of laser beam |
US6181728B1 (en) | 1998-07-02 | 2001-01-30 | General Scanning, Inc. | Controlling laser polarization |
US6057871A (en) | 1998-07-10 | 2000-05-02 | Litton Systems, Inc. | Laser marking system and associated microlaser apparatus |
DE19840926B4 (de) | 1998-09-08 | 2013-07-11 | Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg | Anordnung zur Materialbearbeitung mittels Laserstrahlen und deren Verwendung |
WO2000026936A1 (en) | 1998-11-02 | 2000-05-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Laser illumination arrangement for a cathode ray tube |
US6229940B1 (en) | 1998-11-30 | 2001-05-08 | Mcdonnell Douglas Corporation | Incoherent fiber optic laser system |
TW444247B (en) | 1999-01-29 | 2001-07-01 | Toshiba Corp | Laser beam irradiating device, manufacture of non-single crystal semiconductor film, and manufacture of liquid crystal display device |
US6539045B1 (en) | 1999-02-03 | 2003-03-25 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Laser with device for modifying the distribution of laser light intensity across the laser beam cross-section |
US6678291B2 (en) | 1999-12-15 | 2004-01-13 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser |
US6356575B1 (en) | 1999-07-06 | 2002-03-12 | Raytheon Company | Dual cavity multifunction laser system |
JP2001023918A (ja) | 1999-07-08 | 2001-01-26 | Nec Corp | 半導体薄膜形成装置 |
US6335943B1 (en) | 1999-07-27 | 2002-01-01 | Lockheed Martin Corporation | System and method for ultrasonic laser testing using a laser source to generate ultrasound having a tunable wavelength |
US6944201B2 (en) | 1999-07-30 | 2005-09-13 | High Q Laser Production Gmbh | Compact ultra fast laser |
US20090168111A9 (en) | 1999-09-01 | 2009-07-02 | Hell Gravure Systems Gmbh | Printing form processing with fine and coarse engraving tool processing tracks |
US6256121B1 (en) | 1999-10-08 | 2001-07-03 | Nanovia, Lp | Apparatus for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6420675B1 (en) | 1999-10-08 | 2002-07-16 | Nanovia, Lp | Control system for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6886284B2 (en) | 1999-10-08 | 2005-05-03 | Identification Dynamics, Llc | Firearm microstamping and micromarking insert for stamping a firearm identification code and serial number into cartridge shell casings and projectiles |
US6310701B1 (en) | 1999-10-08 | 2001-10-30 | Nanovia Lp | Method and apparatus for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6653593B2 (en) | 1999-10-08 | 2003-11-25 | Nanovia, Lp | Control system for ablating high-density array of vias or indentation in surface of object |
US6833911B2 (en) | 1999-10-08 | 2004-12-21 | Identification Dynamics, Inc. | Method and apparatus for reading firearm microstamping |
US6735232B2 (en) | 2000-01-27 | 2004-05-11 | Lambda Physik Ag | Laser with versatile output energy |
JP2001276986A (ja) | 2000-03-29 | 2001-10-09 | Nec Corp | レーザ加工装置及び方法 |
EP1143584A3 (en) | 2000-03-31 | 2003-04-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor laser array |
US6791592B2 (en) | 2000-04-18 | 2004-09-14 | Laserink | Printing a code on a product |
US7394591B2 (en) | 2000-05-23 | 2008-07-01 | Imra America, Inc. | Utilization of Yb: and Nd: mode-locked oscillators in solid-state short pulse laser systems |
US6605799B2 (en) | 2000-05-25 | 2003-08-12 | Westar Photonics | Modulation of laser energy with a predefined pattern |
EP1248332B1 (en) | 2000-05-30 | 2004-05-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Laser oscillating device |
US6904073B2 (en) | 2001-01-29 | 2005-06-07 | Cymer, Inc. | High power deep ultraviolet laser with long life optics |
DE20011508U1 (de) | 2000-06-30 | 2000-10-12 | Termotek Laserkuehlung Gmbh | Kühlvorrichtung für einen Laser |
JP2002045371A (ja) | 2000-08-01 | 2002-02-12 | Nidek Co Ltd | レーザ治療装置 |
DE10043269C2 (de) | 2000-08-29 | 2002-10-24 | Jenoptik Jena Gmbh | Diodengepumpter Laserverstärker |
US6585161B1 (en) | 2000-08-30 | 2003-07-01 | Psc Scanning, Inc. | Dense pattern optical scanner |
DE50015974D1 (de) | 2000-08-31 | 2010-09-30 | Trumpf Laser & Systemtechnik | Gaslaser |
WO2002025640A2 (en) | 2000-09-21 | 2002-03-28 | Gsi Lumonics Corporation | Digital control servo system |
DE10047020C1 (de) | 2000-09-22 | 2002-02-07 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Laser mit wenigstens zwei Elektrodenrohren und einer Kühleinrichtung, Verfahren zur Herstellung eines Lasers sowie Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens |
AU2002237668A1 (en) | 2000-11-21 | 2002-06-03 | Michael R. Adams | Portable low-power gas discharge laser |
US6693930B1 (en) | 2000-12-12 | 2004-02-17 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Peak power and speckle contrast reduction for a single laser pulse |
EP1215774B1 (de) | 2000-12-16 | 2003-11-19 | TRUMPF LASERTECHNIK GmbH | Koaxialer Laser mit einer Einrichtung zur Strahlformung eines Laserstrahls |
US7496831B2 (en) | 2001-02-22 | 2009-02-24 | International Business Machines Corporation | Method to reformat regions with cluttered hyperlinks |
AU2002306742A1 (en) | 2001-03-19 | 2002-10-03 | Nutfield Technologies, Inc. | Monolithic ceramic laser structure and method of making same |
US6370884B1 (en) | 2001-03-30 | 2002-04-16 | Maher I. Kelada | Thermoelectric fluid cooling cartridge |
US6768765B1 (en) | 2001-06-07 | 2004-07-27 | Lambda Physik Ag | High power excimer or molecular fluorine laser system |
US7642484B2 (en) | 2001-06-13 | 2010-01-05 | Orbotech Ltd | Multiple beam micro-machining system and method |
US6804269B2 (en) | 2001-06-19 | 2004-10-12 | Hitachi Via Mechanics, Ltd. | Laser beam delivery system with trepanning module |
US6915654B2 (en) | 2001-06-20 | 2005-07-12 | Ross Johnson | Portable cooling mechanism |
US6914232B2 (en) | 2001-10-26 | 2005-07-05 | Bennett Optical Research, Inc. | Device to control laser spot size |
KR20050044371A (ko) | 2001-11-07 | 2005-05-12 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 광학 스폿 그리드 어레이 프린터 |
DE10202036A1 (de) | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Zeiss Carl Meditec Ag | Femtosekunden Lasersystem zur präzisen Bearbeitung von Material und Gewebe |
US6804287B2 (en) | 2002-02-02 | 2004-10-12 | The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate | Ultrashort pulse amplification in cryogenically cooled amplifiers |
US20040028108A1 (en) | 2002-02-07 | 2004-02-12 | Govorkov Sergei V. | Solid-state diode pumped laser employing oscillator-amplifier |
US6750421B2 (en) | 2002-02-19 | 2004-06-15 | Gsi Lumonics Ltd. | Method and system for laser welding |
US6756563B2 (en) | 2002-03-07 | 2004-06-29 | Orbotech Ltd. | System and method for forming holes in substrates containing glass |
US6826219B2 (en) | 2002-03-14 | 2004-11-30 | Gigatera Ag | Semiconductor saturable absorber device, and laser |
US7058100B2 (en) | 2002-04-18 | 2006-06-06 | The Boeing Company | Systems and methods for thermal management of diode-pumped solid-state lasers |
US20030219094A1 (en) | 2002-05-21 | 2003-11-27 | Basting Dirk L. | Excimer or molecular fluorine laser system with multiple discharge units |
WO2004017392A1 (ja) | 2002-08-13 | 2004-02-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | レーザ照射方法 |
US20040202220A1 (en) | 2002-11-05 | 2004-10-14 | Gongxue Hua | Master oscillator-power amplifier excimer laser system |
US6903824B2 (en) | 2002-12-20 | 2005-06-07 | Eastman Kodak Company | Laser sensitometer |
US7145926B2 (en) | 2003-01-24 | 2006-12-05 | Peter Vitruk | RF excited gas laser |
US20050094697A1 (en) | 2003-01-30 | 2005-05-05 | Rofin Sinar Laser Gmbh | Stripline laser |
TWI248244B (en) | 2003-02-19 | 2006-01-21 | J P Sercel Associates Inc | System and method for cutting using a variable astigmatic focal beam spot |
US7321105B2 (en) | 2003-02-21 | 2008-01-22 | Lsp Technologies, Inc. | Laser peening of dovetail slots by fiber optical and articulate arm beam delivery |
US7499207B2 (en) | 2003-04-10 | 2009-03-03 | Hitachi Via Mechanics, Ltd. | Beam shaping prior to harmonic generation for increased stability of laser beam shaping post harmonic generation with integrated automatic displacement and thermal beam drift compensation |
US7408687B2 (en) | 2003-04-10 | 2008-08-05 | Hitachi Via Mechanics (Usa), Inc. | Beam shaping prior to harmonic generation for increased stability of laser beam shaping post harmonic generation with integrated automatic displacement and thermal beam drift compensation |
EP1616215A4 (en) | 2003-04-24 | 2010-04-07 | Bae Systems Information | MONOLITHIC OBJECTIVE TELESCOPES AND PHANTOM IMAGE CORRECTION USED TO FORM A LASER BEAM |
US20060287697A1 (en) | 2003-05-28 | 2006-12-21 | Medcool, Inc. | Methods and apparatus for thermally activating a console of a thermal delivery system |
GB0313887D0 (en) | 2003-06-16 | 2003-07-23 | Gsi Lumonics Ltd | Monitoring and controlling of laser operation |
US6856509B2 (en) | 2003-07-14 | 2005-02-15 | Jen-Cheng Lin | Cartridge assembly of a water cooled radiator |
US7521651B2 (en) | 2003-09-12 | 2009-04-21 | Orbotech Ltd | Multiple beam micro-machining system and method |
US7364952B2 (en) | 2003-09-16 | 2008-04-29 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Systems and methods for processing thin films |
US6894785B2 (en) | 2003-09-30 | 2005-05-17 | Cymer, Inc. | Gas discharge MOPA laser spectral analysis module |
CN100544877C (zh) | 2003-10-17 | 2009-09-30 | 通明国际科技公司 | 活动扫描场 |
US20050205778A1 (en) | 2003-10-17 | 2005-09-22 | Gsi Lumonics Corporation | Laser trim motion, calibration, imaging, and fixturing techniques |
EP1528645B1 (en) | 2003-10-30 | 2011-02-16 | Metal Improvement Company, LLC. | Relay telescope, laser amplifier, and laser peening method and system using same |
US7291805B2 (en) | 2003-10-30 | 2007-11-06 | The Regents Of The University Of California | Target isolation system, high power laser and laser peening method and system using same |
AT412829B (de) | 2003-11-13 | 2005-07-25 | Femtolasers Produktions Gmbh | Kurzpuls-laservorrichtung |
JP2005144487A (ja) | 2003-11-13 | 2005-06-09 | Seiko Epson Corp | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
JP4344224B2 (ja) | 2003-11-21 | 2009-10-14 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学マスクおよびmopaレーザ装置 |
US7376160B2 (en) | 2003-11-24 | 2008-05-20 | Raytheon Company | Slab laser and method with improved and directionally homogenized beam quality |
US7046267B2 (en) | 2003-12-19 | 2006-05-16 | Markem Corporation | Striping and clipping correction |
WO2005069450A2 (en) | 2004-01-07 | 2005-07-28 | Spectra-Physics, Inc. | Ultraviolet, narrow linewidth laser system |
US7199330B2 (en) | 2004-01-20 | 2007-04-03 | Coherent, Inc. | Systems and methods for forming a laser beam having a flat top |
DE602005011248D1 (de) | 2004-01-23 | 2009-01-08 | Gsi Group Corp | System und verfahren zum optimieren der zeichenmarkierungsleistung |
JP2005268445A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体レーザ装置 |
US7711013B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-05-04 | Imra America, Inc. | Modular fiber-based chirped pulse amplification system |
JP2005294393A (ja) | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Fanuc Ltd | レーザ発振器 |
US7486705B2 (en) | 2004-03-31 | 2009-02-03 | Imra America, Inc. | Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback |
US7565705B2 (en) | 2004-05-11 | 2009-07-28 | Biocool Technologies, Llc | Garment for a cooling and hydration system |
EP1751967A2 (en) | 2004-05-19 | 2007-02-14 | Intense Limited | Thermal printing with laser activation |
JP4182034B2 (ja) | 2004-08-05 | 2008-11-19 | ファナック株式会社 | 切断加工用レーザ装置 |
DE502004001824D1 (de) | 2004-09-30 | 2006-11-30 | Trumpf Laser Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zur Fokussierung eines Laserstrahls |
US20060092995A1 (en) | 2004-11-01 | 2006-05-04 | Chromaplex, Inc. | High-power mode-locked laser system |
US7204298B2 (en) * | 2004-11-24 | 2007-04-17 | Lucent Technologies Inc. | Techniques for microchannel cooling |
JP3998067B2 (ja) | 2004-11-29 | 2007-10-24 | オムロンレーザーフロント株式会社 | 固体レーザ発振器 |
US20060114956A1 (en) | 2004-11-30 | 2006-06-01 | Sandstrom Richard L | High power high pulse repetition rate gas discharge laser system bandwidth management |
US7346427B2 (en) | 2005-01-14 | 2008-03-18 | Flymg J, Inc. | Collecting liquid product volume data at a dispenser |
US7295948B2 (en) | 2005-01-15 | 2007-11-13 | Jetter Heinz L | Laser system for marking tires |
US7394479B2 (en) | 2005-03-02 | 2008-07-01 | Marken Corporation | Pulsed laser printing |
US7430230B2 (en) | 2005-04-07 | 2008-09-30 | The Boeing Company | Tube solid-state laser |
DE102005024931B3 (de) | 2005-05-23 | 2007-01-11 | Ltb-Lasertechnik Gmbh | Transversal elektrisch angeregter Gasentladungslaser zur Erzeugung von Lichtpulsen mit hoher Pulsfolgefrequenz und Verfahren zur Herstellung |
US7334744B1 (en) | 2005-05-23 | 2008-02-26 | Gentry Dawson | Portable mister and cooling assembly for outdoor use |
US8278590B2 (en) | 2005-05-27 | 2012-10-02 | Resonetics, LLC | Apparatus for minimizing a heat affected zone during laser micro-machining |
US7672343B2 (en) | 2005-07-12 | 2010-03-02 | Gsi Group Corporation | System and method for high power laser processing |
US20100220750A1 (en) | 2005-07-19 | 2010-09-02 | James Hayden Brownell | Terahertz Laser Components And Associated Methods |
JP2007032869A (ja) | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Fujitsu Ltd | 冷却装置および冷却方法 |
JP2007029972A (ja) | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Fanuc Ltd | レーザ加工装置 |
EP1934687A4 (en) | 2005-10-11 | 2009-10-28 | Kilolambda Tech Ltd | COMBINED OPTICAL POWER SWITCHING LIMITATION DEVICE AND METHOD FOR PROTECTING IMAGING AND NON-IMAGING SENSORS |
US20070098024A1 (en) | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Laserscope | High power, end pumped laser with off-peak pumping |
WO2007069516A1 (en) | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and manufacturing method of semiconductor device |
US20090312676A1 (en) | 2006-02-02 | 2009-12-17 | Tylerton International Inc. | Metabolic Sink |
JP2007212118A (ja) | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Makoto Fukada | 冷感度を高めた水冷式冷風扇 |
US7543912B2 (en) | 2006-03-01 | 2009-06-09 | Lexmark International, Inc. | Unitary wick retainer and biasing device retainer for micro-fluid ejection head replaceable cartridge |
WO2007145702A2 (en) | 2006-04-10 | 2007-12-21 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser material processing systems and methods with, in particular, use of a hollow waveguide for broadening the bandwidth of the pulse above 20 nm |
US20070235458A1 (en) | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Mann & Hummel Gmbh | Modular liquid reservoir |
US20070247499A1 (en) | 2006-04-19 | 2007-10-25 | Anderson Jr James D | Multi-function thermoplastic elastomer layer for replaceable ink tank |
US7545838B2 (en) | 2006-06-12 | 2009-06-09 | Coherent, Inc. | Incoherent combination of laser beams |
JP4146867B2 (ja) | 2006-06-22 | 2008-09-10 | ファナック株式会社 | ガスレーザ発振器 |
US7626152B2 (en) | 2006-08-16 | 2009-12-01 | Raytheon Company | Beam director and control system for a high energy laser within a conformal window |
CN100547863C (zh) | 2006-10-20 | 2009-10-07 | 香港理工大学 | 光纤气体激光器和具有该激光器的光纤型环形激光陀螺仪 |
US20090323739A1 (en) | 2006-12-22 | 2009-12-31 | Uv Tech Systems | Laser optical system |
US7784348B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-08-31 | Lockheed Martin Corporation | Articulated robot for laser ultrasonic inspection |
US7729398B2 (en) | 2007-04-10 | 2010-06-01 | Northrop Grumman Systems Corporation | Error control for high-power laser system employing diffractive optical element beam combiner |
US7733930B2 (en) | 2007-04-10 | 2010-06-08 | Northrop Grumman Systems Corporation | Error control for high-power laser system employing diffractive optical element beam combiner with tilt error control |
DE102007023017B4 (de) | 2007-05-15 | 2011-06-01 | Thyssenkrupp Lasertechnik Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen von Tailored Blanks |
US20080297912A1 (en) | 2007-06-01 | 2008-12-04 | Electro Scientific Industries, Inc., An Oregon Corporation | Vario-astigmatic beam expander |
JP5129678B2 (ja) | 2007-07-18 | 2013-01-30 | 株式会社クボタ | 作業車 |
US7924894B2 (en) | 2008-01-18 | 2011-04-12 | Northrop Grumman Systems Corporation | Digital piston error control for high-power laser system employing diffractive optical element beam combiner |
US7756169B2 (en) | 2008-01-23 | 2010-07-13 | Northrop Grumman Systems Corporation | Diffractive method for control of piston error in coherent phased arrays |
US8126028B2 (en) | 2008-03-31 | 2012-02-28 | Novasolar Holdings Limited | Quickly replaceable processing-laser modules and subassemblies |
GB0809003D0 (en) | 2008-05-17 | 2008-06-25 | Rumsby Philip T | Method and apparatus for laser process improvement |
GB2460648A (en) | 2008-06-03 | 2009-12-09 | M Solv Ltd | Method and apparatus for laser focal spot size control |
DE102008030868A1 (de) | 2008-06-30 | 2009-12-31 | Krones Ag | Vorrichtung zum Beschriften von Behältnissen |
US8038878B2 (en) | 2008-11-26 | 2011-10-18 | Mann+Hummel Gmbh | Integrated filter system for a coolant reservoir and method |
CN102318451B (zh) | 2008-12-13 | 2013-11-06 | 万佳雷射有限公司 | 用于激光加工相对窄和相对宽的结构的方法和设备 |
GB0900036D0 (en) | 2009-01-03 | 2009-02-11 | M Solv Ltd | Method and apparatus for forming grooves with complex shape in the surface of apolymer |
WO2010091190A2 (en) | 2009-02-04 | 2010-08-12 | The General Hospital Corporation | Apparatus and method for utilization of a high-speed optical wavelength tuning source |
US20100206882A1 (en) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | Wessels Timothy J | Multi chamber coolant tank |
JP5462288B2 (ja) | 2009-03-04 | 2014-04-02 | パーフェクト アイピー エルエルシー | レンズを形成および修正するためのシステムならびにそれによって形成されたレンズ |
US8184363B2 (en) | 2009-08-07 | 2012-05-22 | Northrop Grumman Systems Corporation | All-fiber integrated high power coherent beam combination |
US8514485B2 (en) | 2009-08-07 | 2013-08-20 | Northrop Grumman Systems Corporation | Passive all-fiber integrated high power coherent beam combination |
US8184361B2 (en) | 2009-08-07 | 2012-05-22 | Northrop Grumman Systems Corporation | Integrated spectral and all-fiber coherent beam combination |
US8320056B2 (en) | 2009-08-20 | 2012-11-27 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Spatial filters for high average power lasers |
US8212178B1 (en) | 2009-09-28 | 2012-07-03 | Klein Tools, Inc. | Method and system for marking a material using a laser marking system |
US8337618B2 (en) | 2009-10-26 | 2012-12-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Silicon crystallization system and silicon crystallization method using laser |
JP2011156574A (ja) | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Hitachi High-Technologies Corp | レーザ加工用フォーカス装置、レーザ加工装置及びソーラパネル製造方法 |
JP5634088B2 (ja) | 2010-03-17 | 2014-12-03 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録装置およびインクタンク |
US10072971B2 (en) | 2010-04-16 | 2018-09-11 | Metal Improvement Company, Llc | Flexible beam delivery system for high power laser systems |
US8233511B2 (en) | 2010-05-18 | 2012-07-31 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Method and system for modulation of gain suppression in high average power laser systems |
US8432691B2 (en) | 2010-10-28 | 2013-04-30 | Asetek A/S | Liquid cooling system for an electronic system |
ES2438751T3 (es) | 2011-09-05 | 2014-01-20 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Dispositivo y procedimiento para marcar un objeto por medio de un rayo láser |
EP2564972B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-08-26 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of lasers, deflection means and telescopic means for each laser beam |
EP2564974B1 (en) | 2011-09-05 | 2015-06-17 | ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Marking apparatus with a plurality of gas lasers with resonator tubes and individually adjustable deflection means |
-
2011
- 2011-09-05 EP EP11007187.5A patent/EP2564976B1/en active Active
- 2011-09-05 ES ES11007187.5T patent/ES2544034T3/es active Active
-
2012
- 2012-07-19 EA EA201490245A patent/EA024428B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-07-19 US US14/342,505 patent/US10236654B2/en active Active
- 2012-07-19 BR BR112014003930A patent/BR112014003930A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2012-07-19 CN CN201280042906.9A patent/CN103764334B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-07-19 WO PCT/EP2012/003071 patent/WO2013034216A1/en active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3705999A (en) * | 1970-04-13 | 1972-12-12 | Inst Angewandte Physik | Gas discharge tube for a laser |
US4500998A (en) * | 1981-09-09 | 1985-02-19 | Hitachi, Ltd. | Gas laser |
JPS6394695A (ja) * | 1986-10-08 | 1988-04-25 | Nec Corp | ガスレ−ザ発振器 |
US5115446A (en) * | 1990-09-19 | 1992-05-19 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Device for a power laser |
JPH05129678A (ja) * | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Shibuya Kogyo Co Ltd | レーザマーキング装置 |
US5982803A (en) * | 1995-10-17 | 1999-11-09 | Universal Laser Systems, Inc. | Free-space gas slab laser |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR112014003930A2 (pt) | 2017-03-14 |
CN103764334B (zh) | 2015-08-26 |
EA201490245A1 (ru) | 2014-09-30 |
ES2544034T3 (es) | 2015-08-27 |
EP2564976B1 (en) | 2015-06-10 |
CN103764334A (zh) | 2014-04-30 |
WO2013034216A1 (en) | 2013-03-14 |
EP2564976A1 (en) | 2013-03-06 |
US20140209580A1 (en) | 2014-07-31 |
US10236654B2 (en) | 2019-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5469168B2 (ja) | 半導体ダイを冷却するための冷却装置 | |
EP2990722B1 (en) | Wavelength conversion device and related light emitting device | |
EP2561271B1 (en) | Liquid cooled led lighting device | |
JP6126644B2 (ja) | 光照射装置 | |
KR101081550B1 (ko) | 엘이디 조명장치 | |
US20110216536A1 (en) | Illumination device | |
EP2655962B1 (en) | Cooling system and method for electronic components | |
JP6599379B2 (ja) | 放熱装置及びそれを備える光照射装置 | |
TW201606228A (zh) | 光照射裝置 | |
JP2006319103A (ja) | 発光ダイオードの冷却装置 | |
JP6659651B2 (ja) | 光照射装置 | |
US20140153225A1 (en) | Led lighting device | |
JP2018092755A (ja) | 照射装置 | |
EA024428B1 (ru) | Устройство для маркировки объекта, содержащее по меньшей мере один газовый лазер и радиатор | |
KR20100003923U (ko) | 냉각장치용 방열구조 | |
RU2619912C2 (ru) | Светодиодный осветительный прибор | |
JP6423900B2 (ja) | 放熱装置及びそれを備える光照射装置 | |
KR20160100712A (ko) | 직접 냉각식 발광다이오드 조명기기 | |
CA2897344C (en) | Led lighting apparatus | |
CN108432351B (zh) | 组件和包括组件的照明设备 | |
JP2006120971A (ja) | 放熱筐体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM RU |