DK175133B1 - Fremgangsmåde og anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske - Google Patents

Fremgangsmåde og anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske Download PDF

Info

Publication number
DK175133B1
DK175133B1 DK198905666A DK566689A DK175133B1 DK 175133 B1 DK175133 B1 DK 175133B1 DK 198905666 A DK198905666 A DK 198905666A DK 566689 A DK566689 A DK 566689A DK 175133 B1 DK175133 B1 DK 175133B1
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
gas
absorbing liquid
liquid
pipe
tube
Prior art date
Application number
DK198905666A
Other languages
English (en)
Other versions
DK566689D0 (da
DK566689A (da
Inventor
Masakazu Onizuka
Atsushi Tatani
Susumo Okino
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Ind Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Ind Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Ind Ltd
Publication of DK566689D0 publication Critical patent/DK566689D0/da
Publication of DK566689A publication Critical patent/DK566689A/da
Application granted granted Critical
Publication of DK175133B1 publication Critical patent/DK175133B1/da

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/48Sulfur compounds
    • B01D53/50Sulfur oxides
    • B01D53/501Sulfur oxides by treating the gases with a solution or a suspension of an alkali or earth-alkali or ammonium compound
    • B01D53/504Sulfur oxides by treating the gases with a solution or a suspension of an alkali or earth-alkali or ammonium compound characterised by a specific device
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/18Absorbing units; Liquid distributors therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/48Sulfur compounds
    • B01D53/50Sulfur oxides
    • B01D53/501Sulfur oxides by treating the gases with a solution or a suspension of an alkali or earth-alkali or ammonium compound

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

DK 175133 B1 2
En sådan statisk aflastning fra et højt tryk til et lavt tryk kræver et relativt omfattende anlæg med trykbeholder ’ og opvarmningsindretninger.
5
Ansøgeren har tidligere foreslået et anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske, som fører til den ovenfor nævnte fremgangsmåde, således som det er beskrevet i japansk brugsmodelansøgning nr. 57-146860 (an-10 søgningen indsendt 28. september 1982, fremlagt som JP U 59-53828).
Det ovenfor nævnte anlæg til kontakt imellem gas og væske vil blive beskrevet under henvisning til fig. 5.
15 I anlægget til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske er placeret en indgang og en afgang for en gas, der skal behandles, således, at en af dem er placeret i den øvre del af et tårn, medens den anden skal være i den 20 nedre del, og man har i tårnet placeret et antal udstrømningsrør, som afgiver en gasabsorberende væske stort set i opadgående retning. Den gasabsorberende væske afleveres stort set i en opadgående retning, ind i den gas, der skal behandles, således at den kommer i kontakt med den 25 gas, der skal behandles. Man kan variere effektiviteten af gas-væske-kontakten ved at regulere højden af væskesøj lerne.
Således betegner fig. 5 symbolerne 5 og 7 hhv. indgang og 30 udgang på den gas, der skal behandles, 6 er hovedlegemet i tårnet, og i tårnet er anbragt et antal udledningsrør 1 på en samleanordning 4 til afgivelse af en gasabsorberende væske 3, hovedsageligt i opadgående retning i form af DK 175133 B1 3 væskesøjler. Normalt behøver et antal fordelingsrør ikke at blive placeret således, at de befinder sig i det samme plan. Den gasabsorberende væske, som udstrømmer fra udstrømningsrørene 1 i form af væskesøjler, tages fra et 5 væskereservoir, som befinder sig i bunden af tårnet, idet man anvender en pumpe 11. Højden af væskesøjlerne kan ændres arbitrært ved regulering af strømningshastigheden for den udsendte væske.
10 Efter at den gasabsorberende væske har nået sin maksimale højde i væskesøjlen, falder den ved tyngdekraften nedad og vender tilbage til væskereservoiret 8 i den nedre del af tårnet. Man kan vælge enhver af de dele, som er beskrevet med symbolerne 5 eller 7, som indgangen for den 15 gas, der skal behandles, og den anden som udgangen.
I anlægget til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske, der er vist på fig. 5, er det areal, som er dækket af den nedfaldende væske efter den maksimale højde, ikke 20 bredt nok. Det har af denne grund været nødvendigt at placere et større antal udledningsrør 1 på tilførselsrøret 4. På grund af dette er det en ulempe, at strømningshastigheden for den gasabsorberende væske, der skal anvendes til gas-væske-kontaktdannelsen i tårnet, er høj.
25
Det er formålet med den foreliggende opfindelse at tilvejebringe en fremgangsmåde og et anlæg af de indledningsvis beskrevne typer til kontakt mellem gas og væske, hvor det i bredt omfang bliver muligt at sprøjte den gasabsor-30 berende væske ind i den gas, der skal behandles med høj effektivitet af kontakten mellem gas og væske, og uden at der kræves et omfattende anlæg med trykbeholder til et højt tryk og opvarmning af den gasabsorberende væske.
DK 175133 B1 4
Formålet opnås ifølge opfindelsen ved at udøve den indledningsvis nævnte fremgangsmåde som angivet i krav l's 1 kendetegnende del eller ved at indrette det indlednings- 5 vis nævnte anlæg som angivet i krav 5's kendetegnende del.
I opfindelsen indgår at bringe trykket af den gasabsorberende væske ned under sit damptryk ved at indføje et for-10 snævringsrør 2 med lille diameter, der er forbundet med tilførselsrøret 4, og som har et diffusorrør 12 med gradvis større og større diameter placeret mellem forsnævringsrøret 2 og udledningsrøret 1, mellem udgangsrøret 1 og tilførselsrøret 4 i anlægget til tilvejebringelse af 15 kontakt mellem gas og væske, som er vist på fig. 5. Begrundelsen for dette vil blive beskrevet i det følgende under henvisning til fig. 1.
I fig. 1 har man givet identiske symboler til sådanne 20 komponenter, der er identiske med komponenterne i anlægget til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske ifølge den kendte teknik, som er vist på fig. S.
Den gasabsorberende væske 3 passerer, før den sendes til 25 udledningsrøret fra tilførselsrøret 4, gennem indsnævringsrøret 2, der har et mindre tværsnitsareal end det tilsvarende for udledningsrøret 1, og den sprøjtes ud fra udledningsrøret 1 gennem diffusorrøret 12, som forbinder indsnævringsrøret 2 og udledningsrøret 1.
30 På fig. 2 er vist det statiske tryk ved forskellige dele af den på fig. 1 viste gasabsorberende væske.
DK 175133 B1 5 Væskens statiske tryk ved det punkt, hvor den sprøjter fra udledningsrøret 1, er normalt atmosfæretrykket. Det statiske tryk i indsnævringsrøret 2 er lavere end trykket i udledningsrøret 1 svarende til forskellen mellem ha-5 stigheden af væsken inden i udledningsrøret 1 og hastigheden af væsken inden i forsnævringsrøret 2, idet man kan anvende Bernoulli's teorem, der er vist i det følgende (se fig. 2).
10 (Bernoulli's teorem): P;+ pxgxH, + ^X = Konst., (1) hvori: 15
Pi er trykket i punktet i, (p)
Hi er højden af punktet i fra et bestemt referencepunkt (m)
Vi er strømningshastigheden i punktet i 20 p er densiteten af den gasabsorberende væske g er tyngdeaccelerationen
Idet man betegner damptrykket af den gasabsorberende væ-25 ske Pw (p), vakuumkoger denne gasabsorberende væske under betingelsen Pi<Pw. Derfor er betingelsen for vakuumkogning af væsken ved et statisk tryk Pt inden i indsnævringsrøret 2 givet ved den i det følgende viste ligning: 1 px(Vd)2 1
Pw>Pt = P0 - - x { (-)2-l}+pxAH+APlf ...... (2) 2xg m DK 175133 B1 6 hvori: pw er damptrykket af den gasabsorberende væske, 5 Pt er det statiske tryk inden i indsnævringsrøret, P0 er det statiske tryk ved udgangen fra udstrømningsrøret, 10 vd er strømningshastigheden af væsken inden i udstrømningsrøret, (tværsnitsareal af indsnævringsrørel) m er givet ved m ---—-- (tværsnitsarealet af udledningsrøret) 15 ΔΗ er højdeforskellen mellem udgangen fra udstrømningsrøret og indsnævringsrøret, og APi er tryktabet i strømningsretningen i strømningssysternet før indsnævringsrøret.
20
Man kan således under betingelsen af konstant værdi for Vd (dvs. betingelserne for konstante forhold mellem den indre diameter i udledningsrøret og væskens strømningshastighed) forårsage kogning ved at bringe det statiske 25 tryk inden i indsnævringsrøret ned under damptrykket af den gasabsorberende væske gennem reduktion af tværsnits-arealet i indsnævringsrøret, og derigennem af værdien for m, således som det fremgår af den ovenfor viste ligning (2) .
30
Fremgangsmåden ifølge opfindelsen forårsager, at den gasabsorberende væske koger under et lavere tryk, ved at bringe trykket af den gasabsorberende væske ned under sit DK 175133 B1 7 damptryk under anvendelse af sådanne midler, som er vist på fig. 1, og at man dispergerer den gasabsorberende væske ind i den gas, der skal behandles, ved den disperge-rende kraft knyttet til væsken og tilvejebragt gennem 5 kogningen. En tilfredsstillende gas-væske-kontakt mellem den gas, der skal behandles, og den gasabsorberende væske kan sikres ved at bringe den dispergerede gasabsorberende væske og den gas, der skal behandles, i kontakt med hinanden.
10
Derudover kan man ved hjælp af opfindelsen midertrykke den skæve strømning af gassen, som passerer igennem uden at komme i kontakt med den gasabsorberende væske og man opnår således en homogen gas-væske-kontakt mellem den 15 gas, der skal behandles, og den gasabsorberende væske, hvorved man forhøjer virkningen af gas-væske-kontakten.
Ved en udførelsesform for fremgangsmåden ifølge opfindelsen som beskrevet i krav 2 placerer man kontakten mellem 20 gas og væske som beskrevet i krav 1 således, at den finder sted oven for et i strømningsretningen placeret pakningsmateriale, hvori sker en yderligere kontakt mellem gas og væske, og som gør det muligt at opnå en høj total effektivitet for gas-væske-kontakten.
25
Ved den udførelsesform fremgangsmåden ifølge opfindelsen som er beskrevet i krav 3 fremmer man yderligere disper-geringen ved kogning under et lavere tryk af den gasab- ’ sorberende væske, og effektiviteten af gas-væske-30 kontakten er på tilsvarende måde forøget derved, at man blæser en gas ind i den gasabsorberende væske.
DK 175133 B1 8
Ved den udførelsesform for fremgangsmåden ifølge opfindelsen som er beskrevet i krav 4 fremskynder man lavtryks-kogning af den gasabsorberende væske ved tilsætning af CaS04-2H20 til den gas absorberende væske, og man opnår 5 en højere virkning af gas-væske-kontakten ved at forbedre dispergeringen af den gasabsorberende væske.
Opfindelsen vil i det følgende blive forklaret på grundlag af udførelseseksempler og under henvisning til teg-10 ningen.
På fig. 1 i tegningen er vist et lodret snit af den udstrømmende del for den gasabsorberende væske til belysning af virkningen af fremgangsmåden ifølge den forelig-15 gende opfindelse.
På fig. 2 er vist et trykfordelingsdiagram for den gasabsorberende væske i afsnittet til udstrømning af den gasabsorberende væske som vist på fig. 1.
20 På fig. 3 og på fig. 4 er hhv. vist lodrette snit af anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske, således som det er anvendt ved udførelses former for den foreliggende opfindelse.
25 På fig. 5 er vist et lodret snit af et anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske ifølge den kendte teknik. 1 I det følgende er vist udførelsesformer for den foreliggende opfindelse.
DK 175133 B1 9 I det anlæg, der er vist på fig. 3, er komponenter, som er identiske med sådanne, der er vist på fig. 5, vist med identiske symboler med undtagelse af indsnævringsrøret 2 og diffusorrøret 12, således som de er vist på fig. 1 og 5 på fig. 2, samt en gastilførselsledning, der vil blive nærmere beskrevet i det efterfølgende.
På fig. 3 er tallet 5 indgangen for en gas, der skal behandles, og som er placeret i den øvre del af tårnet 6, 10 og den gas, der skal behandles, indføres gennem indføringsåbningen 5, strømmer inden i hovedlegemet i tårnet 6 i nedadgående retning og træder ud gennem udgangen 7.
Et antal indsnævringsrør 2, således som de er vist på 15 fig. 1 og fig. 2, er placeret på tilførselsrøret 4, idet diffusorrøret 12 er placeret mellem indsnævringsrøret 2 og udledningsrøret 1, og den gasabsorberende væske udledes i opadgående retning ind i det indre af hovedlegemet 6 i tårnet igennem udtømningsrørene l.
20
Den nederste del af hovedlegemet i tårnet 6 udgør et reservoir for den gasabsorberende væske 3, et rørsystem som leder ud i reservoiret 8, og som yderligere er forsynet med en pumpe 11 anbragt midt i systemet og forbundet med 25 tilførselsrøret 4, således at den gasabsorberende væske føres fra reservoiret 8 til tilførselsrøret 4 ved hjælp af pumpen 11, og den gas absorberende væske udledes i en stort set opadgående retning fra udledningsrørene 1. Derudover er der i reservoiret 8 for den gasabsorberende væ-30 ske anbragt et gastilførselsrør 9 med åbninger 9', og man blæser en gas 10 ind i reservoiret 8 for den gasabsorberende væske gennem åbningerne 9'.
DK 175133 B1 10
Udførelseseksempler Første udførelsesform for den foreliggende opfindelse 5 Idet man anvender det anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske, der er vist på fig. 3, bragte man en spildgas indeholdende 700 ppm S02, der blev tilført med en strømningshastighed på 14.000 m3/time i kontakt med en opslæmning af CaC03, der blev anvendt som den 10 gasabsorberende væske.
Det anvendte anlæg til kontaktdannelse mellem gas og væske havde fire udledningsrør 1 med en indre diameter på 60 mm, den indre diameter af indsnævringsrøret 2 er 36 15 mm, og ekspansionsvinklen i diffusorrøret 12 er 5°.
Den gasabsorberende væske bestod af 20 vægt-% CaC03 og vand for resten, og denne gasabsorberende væske blev sendt til tilførselsrørene 4 i anlægget til kontaktdan-20 nelse mellem gas og væske med en strømningshastighed på 280 mi/time, og man sendte ikke luft til gastilførselsrøret 9. Mens man udsendte den gasabsorberende væske i opadgående retning fra fire udledningsrør 1, blev spildgassen indført ovenover toppen af væskesøj lerne af den ga-25 sabsorberende væske i en nedadgående retning.
Den gasabsorberende væske var 15 °C, og dens damptryk ved denne temperatur er 13 mmHg (-747 mmHg i forhold til et atmosfæretryk på 760 mmHg), og på den anden side var det 30 målte indre tryk i indsnævringsrøret 2 10 mmHg (-750 mmHg i forhold til atmosfæretrykket).
DK 175133 B1 11
Som et resultat heraf indtrådte der ved den foreliggende udformning en lavtrykskogning i den gasabsorberende væske ved indsnævringsrøret 2, og den gasabsorberende væske sprøjtes i opadgående retning ud fra udledningsrørene 1 5 og dispergeres på tilfredsstillende måde ud i spildgassen grundet denne dispersion.
Der fandt således en aktiv kontakt mellem gas og væske sted, og den skæve strøming af spildgassen til undertryk-10 ket, således at man gennemførte en homogen kontakt mellem gas og væske. Koncentrationen af S02 ved udgangen for spildgassen var 60 ppm.
Anden udførelsesform for den foreliggende opfindelse 15
Man sendte under de samme betingelser som i den første udførelsesform luft med en hastighed på 150 m*N/time fra det gastilførselsrør, som er anbragt i reservoiret for den gasabsorberende væske, og den gasabsorberende væske 20 blev tilført med en hastighed på 280 m3/time. I dette tilfælde var koncentrationen af S02 i spildgassen 40 ppm ved udgangen.
Det målte blandingsforhold i den gasabsorberende væske, 25 som blev udtaget fra en prøvestuds anbragt i tilførselsrøret, var 4,0 volumen-% gas i væsken i forhold til volume t af væsken.
Ved den foreliggende udførelsesform forøger man effekti-30 viteten af kontakten mellem gas og væske i forhold til den første udførelsesform ved, at man indblæser gas i den gasabsorberende væske. Som et første sammenligningseksempel afprøvede man kontakten gas-væske på en spildgas in- DK 175133 B1 12 deholdende 700 ppm S02, som blev tilført med en hastighed på 14.000 m3N/time, og idet man som den gasabsorberende væske anvendte en opslæmning af CaC03, idet man anvendte det anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og 5 væske ifølge den kendte teknik, der er vist på fig. 5, svarende til forholdene i den første og den anden udførelsesform. Koncentrationen af opslæmning i den gasabsorberende væske var 20 vægt-% CaC03-opslæmning i forhold til vægten af væsken.
10
Ved at indføre den gasabsorberende væske med en hastighed på 280 m3/time, og ved at indføre spildgassen i en nedadgående retning fra oven over toppen af væskesøjlerne af gasabsorberende væske, som blev udsprøjtet fra fire ud-15 tømningsrør med 60 mm indre diameter, fandt man S02- koncent rat ionen ved udgangen for spildgassen til at være 130 ppm. Man ændrede yderligere i et andet sammenligningseksempel den indre diameter i den første udførelses-form til 48 mm, og idet man holdt andre betingelser iden-20 tiske med betingelserne i den første udførelsesform, sendte man den gasabsorberende væske ind med en hastighed på 280 m3/time. Man fandt at S02-koncentrationen ved udgangen for spildgassen var 130 ppm.
25 Det indre tryk i indsnævringsrøret blev fundet til at være -280 mmHg i forhold til atmosfæretrykket, hvilket ikke er et tryk, der vil fremkalde lavtrykskogningen af den gasabsorberende væske. Koncentrationen af S02 ved udgangen for spildgassen var 130 mmHg, hvilket er det samme 30 som det opnåede i det første sammenligningseksempel.
Som det er beskrevet ovenfor forbedrede man ved den første udførelsesform effektiviteten af kontakten mellem gas DK 175133 B1 13 og væske ved kogning under lavt tryk ved at bringe trykket af den gasabsorbende væske ned under sit damptryk før udsprøjtningen fra udledningsrørene. Ved den anden udførelsesform forøgede man yderligere effektiviteten af kon-5 takten mellem gas og væske ved at blæse en gas (luft) ind i reservoiret for den gasabsorberende væske.
Tredie udførelsesform for den foreliggende opfindelse 10 Man sendte under betingelser, der var identiske med betingelserne ved den første udføre Ise s form, den gasabsorberende væske ind med en hastighed på 280 m3/time, idet man holdt opslæmningskoncentrationen i den gasabsorberende væske på 2 vægt-%. I dette tilfælde var S02 koncentra-15 tionen ved udgangen 100 ppm. Temperaturen af den gasabsorberende væske var 15 °C, og det indre tryk i indsnævringsrøret blev målt til at være 10 mmHg (-750 mmHg i forhold til atmosfæretryk) , hvilket tilfredsstillede betingelsen for lavtrykskogning af den gasabsorberende væ-20 ske.
Fjerde udførelsesform for den foreliggende opfindelse
Ved tilsætning af CaS04, 2H20 i kombination med CaC03 (op-25 slæmningssammensætning i den gasabsorberende væske var 90-95% CaS04, 2H20 og den resterende del CaC03) til den gasabsorberende væske i den tredie udførelsesform, indførte man den gasabsorberende væske med en hastighed på 280 mJ/time ved at regulere opslæmningskoncentrationen 3 0 til 10 vægt-%. Koncentrationen af S02 ved udgangen for spildgassen var 60 ppm, hvilket var den samme absorptions-effektivitet som i den første udførelsesform.
DK 175133 B1 14
Man fandt, som det er vist ovenfor, ved den fjerde udførelsesform, at man opnåede udover en bemærkelsesværdig forbedret kontakt mellem gas og væske fremkaldt ved kogning af den gasabsorberende væske ved et tryk under den-5 nes damptryk, en endnu højere effektivitet af kontakten mellem gas og væske ved at tilsætte CaC03 og CaS04, 2H20 i den gasabsorberende væske.
Femte udføreIsesform for den foreliggende opfindelse 10
Man afprøvede, idet man anvendte et anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske som vist på fig.
4, kontakt mellem gas og væske ved brugen af 14.000 m3N/time af en spildgas indeholdende 700 ppm S02 og en 15 opslæmning af CaC03 som det absorberende middel. Koncentrationen af CaC03 i den gas absorberende væske var 20 vægt-%.
Det anlæg til kontakt mellem gas og væske der er vist på 20 fig. 4, og som er anvendt ved denne udførelsesform, har en sammenpakning under tilførselsrøret som vist i anlægget til kontakt mellem gas og væske på fig. 3. De komponenter, der er vist på fig. 4, er identiske med sådanne på fig. 3, der er vist med identiske betegnelser. Pak-25 ningsmaterialet 13 er et gitterværk, der er dannet ved at opstable ti trin af materiale, hvorved hvert trin består af.36 ark af en polypropylenplade med tykkelsen 4 mm med højden 10 mm og med bredden 500 mm, således at pakningens højde er 1 m. Gitterværket er placeret i strømretningen 30 og neden for indsprøjtningsområdet for den gasabsorberende væske.
DK 175133 B1 15
Indsnævnringsrøret 2, diffusorrøret 12 og udledningsrøret 1, der blev anvendt, var de samme som ved den første udførelsesform.
5 Man sendte luft ind i den gasabsorberende væske med en hastighed på 150 m3N/time gennem tilførselsrøret 9, som var anbragt i reservoiret for den gasabsorberende væske, og den gasabsorberende væske blev sendt til tilførselsrøret med en hastighed på 230 m3/time, og man indførte end-10 videre spildgassen ovenfra i en nedadgående retning fra over toppen af væskesøj lerne af gasabsorberende væske.
Temperaturen af den gasabsorberende væske var 15 °C, og det målte indre tryk ved indsnævringsrøret var 10 mmHg 15 {-750 mmHg i forhold til atmosfæretrykket), således at betingelsen for lavtrykskogning af den gasabsorberende væske var tilfredsstillet.
Den målte koncentration af S02 i udledningsgassen, der 20 strømmede mellem tilførselsrøret 4 og pakningslaget 13 var 112 ppm. S02 koncentrationen ved udgangen af spildgassen var 55 ppm. Afsvovlingsfaktoren ved den væskesøjle, som er en del af udførelsesformen, var således 84%, afsvovlingsfaktoren af pakningen var 51%, og den samlede 25 afsvovlingsfaktor var 92%.
Sammenlicrningseksempel
Til dette eksempel anvendte man et anlæg til tilvejebrin-30 gelse af kontakt mellem gas og væske som er anvendt ifølge den kendte teknik og som vist på fig. 5, hvorved den gasabsorberende væske, som passerer gennem tilførselsrøret 4, udtømmes i opadgående retning i det indre af ho- DK 175133 B1 16 vedlegemet af tårnet 6 direkte fra udledningsrørene 1. Betingelserne i dette eksempel var identisk med betingelserne ved den femte udførelsesform med undtagelse af, at indsnævringsrøret 2 og diffusorrøret 12 var fjernet, og 5 den indre diameter af udledningsrøret var 60 mm.
Når man indførte den gasabsorberende væske med samme koncentration som ved den femte udførelsesform, og denne blev sendt med samme hastighed på 230 m3/time var koncen-10 trat ionen af S02 ved udgangen af spildgassen 125 ppm, og koncentrationen af S02 i spildgassen, som strømmede mellem tilførselsrøret 4 og pakningen 13 var 210 ppm. Derfor var afsvovlingsfaktoren ved væskesøj ledelen ifølge den foreliggende udførelsesform 70%, afsvovlingsfaktoren 15 rundt omkring pakningsmaterialet var 40%, og den samlede afsvovlingsfaktor for det pågældende anlæg var 82%.
Det blev bekræftet, således som det er vist ovenfor i forbindelse med den femte udførelsesform og det tredie 20 sammenligningseksempel, at effektiviteten af kontakten mellem gas og væske ved pakningen blev forbedret ved kogning af den gasabsorberende væske under lavt tryk i den øvre del af pakningsmaterialet, hvilket var frembragt ved at bringe trykket af den gasabsorberende væske til under 25 sit damptryk.
I en udførelsesform er det muligt ved at gennemføre en kontakt mellem gas og væske i den øverste del af en pakning, at forhøje effektiviteten af kontakten mellem gas 30 og væske i selve pakningsmaterialet.
Det er yderligere muligt at forbedre dispersionen af den gasabsorberende væske på grund af lavtrykskogning af den DK 175133 B1 17 gasabsorberende væske, ved at man forud blæser en gas ind i den gasabsorberende væske, og ved at forbedre lavtryks-kogning af den gasabsorberende væske ved hjælp af at anvende CaS04-2H20 i den gasabsorberende væske, hvorved der 5 opnås en høj effektivitet af kontakten mellem gas og væske .
\

Claims (9)

1. Fremgangsmåde til tilvejebringelse af kontakt mellem 5 en gas, der skal behandles, og en gasabsorberende væske, hvorved den gasabsorberende væske bringes til at koge ved lavt tryk under dens damptryk, idet den via et udledningsrør (1) sprøjtes ind i en strøm af gassen, der skal behandles og omfattende et tårn (6) med et reservoir (8) 10 for den gasabsorberende væske i sin nederste del og et rum (5) for en strøm af gassen, der skal behandles, i sin øvre del, et fordelingsrør (4) anbragt i tårnet til at fremføre den gasabsorberende væske, en pumpe (11) til at pumpe den gasabsorberende væske fra reservoiret for ga-15 sabsorberende væske til fordelingsrøret, og et udledningsrør (1) til udledning af den gasabsorberende væske i strømmen af gassen, der skal behandles, kendetegn e t ved, at den gasabsorberende væske bringes ned under sit damptryk ved, at den før indsprøjtningen i strømmen 20 af gassen, der skal behandles, først føres igennem et forsnævringsrør (2) med mindre diameter end udledningsrøret (1) og dernæst føres igennem et diffusorrør (12) med gradvis større og større diameter til udledningsrøret (1) og under opfyldelse af følgende: 25 px(Vd)2 1 Pw>Pt = P0 - - x { (-)2-l}+pxAH+AP2, 2xg m 3. hvori: p er densiteten af den gasabsorberende væske DK 175133 B1 g er tyngdeaccelerationen P„ er damptrykket af den gasabsorberende væske,
5 Pt er det statiske tryk inden i indsnævringsrøret, P0 er det statiske tryk ved udgangen fra udstrømningsrøret,
10 Vd er strømningshastigheden af væsken inden i udstrømningsrøret, , (tværsnitsareal af indsnævringsrøret) m er givet ved m =----- (itværsnitsarealet af udledningsrøret) 15 ΔΗ er højdeforskellen mellem udgangen fra udstrømningsrøret og indsnævringsrøret, og ΔΡΧ er tryktabet i strømningsretningen i strømningssyste-met før indsnævringsrøret. 20
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at der er placeret et gitterværk i strømretningen neden for indsprøjtningsområdet for den gas absorberende væske. 25
3. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at man forinden blæser en gas ind i den gasabsorberende væske. 1
4. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at man tilsætter CaS04-2H20 til den gasabsorberende væske. DK 175133 B1
5. Anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem en gas, der skal behandles, og en absorberende væske omfattende et tårn (6) med et reservoir (8) for den gasabsorberende væske i sin neders te del og et rum {5) for en strøm af 5 gassen, der skal behandles, i sin øvre del, et forde lingsrør (4) anbragt i tårnet til at fremføre den gasabsorberende væske, en pumpe (11) til at pumpe den gasabsorberende væske fra reservoiret for gasabsorberende væske til fordelingsrøret, og et udledningsrør (1) til ud- 10 ledning af den gasabsorberende væske i strømmen af gas sen, der skal behandles, kendetegnet ved, at fordelingsrøret er forbundet til udledningsrøret via et forsnævringsrør (2) med en lille diameter og et diffu-sorrør (12) med gradvis større og større diameter og un-15 der opfyldelse af følgende: px(Vd)2 1 PW>PC = P0 - - X { (-)2-l}+pxAH+APlf 20 2xg m hvori: p er densiteten af den gasabsorberende væske 25 g er tyngdeaccelerationen Pw er damptrykket af den gasabsorberende væske,
30 Pt er det statiske tryk inden i indsnævringsrøret, P0 er det statiske tryk ved udgangen fra udstrømningsrø-ret, DK 175133 B1 Vd er strømningshastigheden af væsken inden i udstrømningsrøret , . (tværsnitsareal af indsnævringsrøret) m er givet ved m ---- (tværsnitsarealet af udledningsrøret) ΔΗ er højdeforskellen mellem udgangen fra udstrømningsrøret og indsnævringsrøret, og
10 APj er tryktabet i strømningsretningen i strømningssystemet før indsnævringsrøret.
DK198905666A 1988-11-14 1989-11-13 Fremgangsmåde og anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske DK175133B1 (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63285869A JP2617544B2 (ja) 1988-11-14 1988-11-14 気液接触方法
JP28586988 1988-11-14

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK566689D0 DK566689D0 (da) 1989-11-13
DK566689A DK566689A (da) 1990-05-15
DK175133B1 true DK175133B1 (da) 2004-06-14

Family

ID=17697090

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK198905666A DK175133B1 (da) 1988-11-14 1989-11-13 Fremgangsmåde og anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5053061A (da)
EP (1) EP0369876B1 (da)
JP (1) JP2617544B2 (da)
CN (1) CN1027232C (da)
AU (1) AU621415B2 (da)
DE (1) DE68914596T2 (da)
DK (1) DK175133B1 (da)
ES (1) ES2051381T3 (da)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5287703A (en) * 1991-08-16 1994-02-22 Air Products And Chemicals, Inc. Process for the recovery of C2 + or C3 + hydrocarbons
TW259725B (da) * 1994-04-11 1995-10-11 Mitsubishi Heavy Ind Ltd
JP3025147B2 (ja) * 1994-05-17 2000-03-27 三菱重工業株式会社 湿式排煙脱硫装置
JP3170158B2 (ja) * 1994-11-08 2001-05-28 三菱重工業株式会社 気液接触装置及び湿式排煙脱硫装置
JP3316322B2 (ja) * 1994-11-17 2002-08-19 三菱重工業株式会社 気液接触装置
PL183927B1 (pl) * 1996-02-01 2002-08-30 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Układ odsiarczania gazu spalinowego
US5950651A (en) * 1997-11-10 1999-09-14 Technology Commercialization Corp. Method and device for transporting a multi-phase flow
EP1599616B1 (de) * 2003-02-25 2012-04-11 Chemetall GmbH Verfahren zur beschichtung von metallischen oberflächen mit einem gemisch enthaltend mindestens zwei silane
BRPI0513094A (pt) * 2004-08-03 2008-04-29 Chemetall Gmbh processo para proteção de uma superfìcie metálica com um revestimento inibidor de corrosão
US8206495B2 (en) * 2009-06-23 2012-06-26 Sam Yung Kwack Gas filtration system
CN108837651B (zh) * 2018-06-24 2020-11-13 江苏兰丰环保科技有限公司 一种脱硫脱硝除尘协同处理装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA687417A (en) * 1964-05-26 Pafla Gerhard Process and apparatus for intimately contacting two fluids
US1777277A (en) * 1927-05-31 1930-09-30 Edmund T Lednum Moistening apparatus for mine ventilation
GB878201A (en) * 1959-09-04 1961-09-27 Gessellschaft Fuer Linde S Eis Heat transfer apparatus
US3399511A (en) * 1966-02-15 1968-09-03 American Hydrotherm Corp Jet compressor
US4157250A (en) * 1972-09-22 1979-06-05 Ulrich Regehr Scrubber apparatus for washing gases and having a coarse and fine droplet separator
US3944402A (en) * 1974-05-06 1976-03-16 Engelhard Minerals And Chemicals Corporation Air pollution control apparatus and process
JPS525063A (en) * 1975-06-30 1977-01-14 Toyoda Autom Loom Works Ltd Wet dust collector
US4047891A (en) * 1976-04-21 1977-09-13 Combustion Engineering, Inc. Density control system
FR2387073A1 (fr) * 1977-04-12 1978-11-10 Air Ind Procede d'epuration d'un courant gazeux chaud pouvant entrainer des particules et/ou des produits gazeux condensables
DE2839516A1 (de) * 1978-09-11 1980-03-20 Ceag Filter Entstaubung Verfahren und vorrichtung zur chemosorptiven abscheidung von schadgasen aus abgasstroemen
US4460552A (en) * 1981-05-26 1984-07-17 Steuler Industriewerke, G.M.B.H. Process for the separation of air components, such as difficultly absorbable air impurities, out of air-gas mixtures
DE3320688A1 (de) * 1982-06-09 1984-01-12 ADL-Innovation K.B., 35240 Växjö Verfahren zur einleitung einer fliessenden substanz, beispielsweise eines schlammes, in zu reinigende gase, beispielsweise abgase, und zerstaeubungseinrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
JPS5953828A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 画像記録複写装置
FR2547189B1 (fr) * 1983-06-09 1987-02-13 Aspiramatic Perfectionnements aux installations de nettoyage central par aspiration
DE3401038A1 (de) * 1984-01-13 1985-07-18 Hölter, Heinz, Dipl.-Ing., 4390 Gladbeck Verfahren zur verbesserung der oxidation beim kalkwaschverfahren zur bindung von sauren bestandteilen wie so(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts), hcl usw.
JPS60222132A (ja) * 1984-04-19 1985-11-06 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 炭酸塩濃度調整方法
US4610840A (en) * 1984-12-27 1986-09-09 Westinghouse Electric Corp. Fission product scrubbing system for a nuclear reactor
DE8506586U1 (de) * 1985-03-07 1987-03-05 Wuppertal Muellverbrennung Balgenwaschvorrichtung
DD248288A1 (de) * 1986-04-18 1987-08-05 Chemieanlagen Baukombinat Leip Gas (dampf)-fluessigkeitskontaktapparat fuer den abwaerts gerichteten phasengleichstrom
US4762686A (en) * 1986-06-09 1988-08-09 Northern States Power Company Flue gas scrubber system
DE3705604A1 (de) * 1987-02-21 1988-09-01 Lentjes Ag Verfahren zum einbringen von reaktanden in einen fluidstrom

Also Published As

Publication number Publication date
EP0369876A1 (en) 1990-05-23
ES2051381T3 (es) 1994-06-16
CN1027232C (zh) 1995-01-04
DE68914596T2 (de) 1994-08-25
US5053061A (en) 1991-10-01
JPH02135116A (ja) 1990-05-24
JP2617544B2 (ja) 1997-06-04
DK566689D0 (da) 1989-11-13
DK566689A (da) 1990-05-15
CN1042666A (zh) 1990-06-06
DE68914596D1 (de) 1994-05-19
AU621415B2 (en) 1992-03-12
AU4455189A (en) 1990-05-31
EP0369876B1 (en) 1994-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK175133B1 (da) Fremgangsmåde og anlæg til tilvejebringelse af kontakt mellem gas og væske
EP1641554B1 (en) Method and device for separating sulphur dioxide from a gas
EP0324763B1 (en) A method for cleansing gases and apparatus herefor
KR930006401B1 (ko) 가스 흡착 탑
US4356131A (en) Circulating device for liquids containing long-chain molecules
US7094382B2 (en) Method and a device for the separation of sulphur dioxide from a gas
US3322178A (en) Flare apparatus for combustible gases
FI102464B (sv) Drivkälla för brandsläckningsanordning
US7560084B2 (en) Method and device for separation of sulphur dioxide from a gas
US4775499A (en) Gas-liquid contacting apparatus
US3420450A (en) Nozzle means for breaking foam
US3284435A (en) Gas absorption apparatus
US3782880A (en) Control system to automatically maintain a smokeless flare
US3802455A (en) Apparatus for controlling the flow of gases
CN108760219B (zh) 一种流量可调式粒子发生器
JPH03232503A (ja) 液体から気体を分離する装置
RU2426092C1 (ru) Система автоматического управления и регулирования промышленной и экологической безопасностью резервуаров со светлым пожаровзрывоопасным продуктом
KR100643123B1 (ko) 초저온 액화가스 기액분리기의 흡입구 분사노즐
US3608281A (en) Apparatus for cleansing flue gases
US2848010A (en) Gas washer overflow apparatus
CN108579485A (zh) 一种溶气设备及溶气方法
CN215800657U (zh) 一种无动力纸浆除气装置
KR100500784B1 (ko) 소화설비
CN116099348A (zh) 一种提高脱硫效率的多层喷淋脱硫塔
RU2057074C1 (ru) Способ обработки жидкостей и устройство для его осуществления

Legal Events

Date Code Title Description
PBP Patent lapsed

Country of ref document: DK