DK141976B - Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag. - Google Patents

Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag. Download PDF

Info

Publication number
DK141976B
DK141976B DK439176AA DK439176A DK141976B DK 141976 B DK141976 B DK 141976B DK 439176A A DK439176A A DK 439176AA DK 439176 A DK439176 A DK 439176A DK 141976 B DK141976 B DK 141976B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
layer
oxide
reflector
evaporated
layers
Prior art date
Application number
DK439176AA
Other languages
English (en)
Other versions
DK439176A (da
DK141976C (da
Inventor
Johannes Maria Marinus Pasmans
Johannes Van Der Wal
Wilhelmus Adrianus Jac Gielens
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Publication of DK439176A publication Critical patent/DK439176A/da
Publication of DK141976B publication Critical patent/DK141976B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK141976C publication Critical patent/DK141976C/da

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/08Mirrors
    • G02B5/0816Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/0825Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only
    • G02B5/0833Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only comprising inorganic materials only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059Constructional details of the reflector, e.g. shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
    • H01S3/0346Protection of windows or mirrors against deleterious effects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

(11) FREMLÆ66ELSESSKMFT 141976 DANMARK m ® 02 ® H 01 S 3/08 «(21) Anfgnmg nr. ^391/76 (22) IndtoverM den 2g. Ββρ. 1976 (23) Ubedag 29· Ββρ. 1976 (44) Antegningen fremlagt eg fremtoggetoeetfcrffte*cffent#øg(ortdan 28. Jul. i960
DIREKTORATET FOR
PATENT-OG VAREMÆRKEVÆSENET ™ PHoritat bagaemt fra dan
2. okt. 1975# 7511581, NL
(71) N.V. PHILIPS* GLQEILAMPENFABRIEKEN, Emmaeingel 29» Eindhoven» NL.
(72) Opfinder: Johannes van der Wal, Enmasingel, Eindhoven, NL: Wil» helmus Adrianos Jacohue GieTens, Emmaeingel» Eindhoven, NL: Johan= nee Maria Marinus gasmans, Emmaeingel, Eindhoven, NL.
(74) FaMnwagtlg undar aagana UelwntMng:
Internationalt Patent-Bureau.
(54) Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag.
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor omfattende en bærer og et heraf båret arrangement af pådampede oxidlag med skiftevis højt og lavt brydningsindeks.
Flerlagsreflektorer reflekterer lys i et givet bølgelængdeområde helt eller delvis og benyttes i et bredt område inden for optikken, for eksempel til smalbåndsinterferensfiltre, spejle til gasudladningsiaeere af høj kvalitet og kondensorspejle til projektører.
Sådanne reflektorer er beskrevet i østrigsk patentbeskrivelse 218.193; i det mindste ét af lagene i disse reflektorer er blevet pådampet fra en blanding af metaller og/eller metaloxider. En sådan blanding består for eksempel af titanoxid blandet med et eller flere grundstoffer fra gruppen indeholdende yttrium, lanthan, cerium og/eller en eller flere forbindelser af 2 141976 disse grundstoffer. I sådanne blandinger er en efteroxidation af lagene efter pådampningen i almindelighed ikke nødvendig, eller der kræves kun en svag efteroxidation, medens pådampning kan udføres hurtigt. Ikke desto mindre viser resultatet ved brug af disse blandinger sig ikke at være helt tilfredsstillende, eftersom lagene har en mindre fordelagtig struktur, dvs. er mere eller mindre porøse, således at reduktion af oxidet, for eksempel med hydrogen, er mulig.
Fremgangsmåden ifølge opfindelsen er ejendommelig ved, at under pådampningen af i det mindste det sidste lag udgør mængden af anvendt oxid af et grundstof fra gruppe Ila i det periodiske system efter Mendelejeff mellem 1 vægtprocent og 30 vægtprocent af den samlede mængde af anvendte oxider af grundstoffer fra gruppe Ila og IVa.
Opfindelsen er baseret på den erkendelse, at i det mindste ét af de stabiliserende oxider (berylliumoxid, magniumoxid og calciumoxid) skal tilføjes. Molekyler af dette stabiliserende oxid påvirker krystalvæksten, fordi de forefindes både interstitialt og i højere grad ved krystalkorngrænserne. På denne måde fremkommer et lag, som er mindre følsomt over for f.eks. reaktioner med plasmaet i en gasudladningslaser.
Sådanne reflektorer er særligt egnet til brug i gasudladningslasere, eftersom de bidrager til en lang driftslevetid (5000 timer eller derover).
Det stabiliserende oxid, der består af berylliumoxid, calciumoxid og magniumoxid eller en blanding heraf skal udgøre 1 til 30 vægtprocent af den samlede mængde oxider, som anvendes under pådampningen. Det viser sig, at vægtprocenterne af oxider i pådampningsapparatets smeltedigel (digler) ikke behøver at svare til de procenter, der forekommer i laget efter pådampningen. For eksempel indeholder et lag, der er pådampet fra en udgangsblanding indeholdende 5% calciumoxid, 16 til 20 vægtprocent calciumoxid.
Den maksimale stabiliserende effekt opnåedes, når fra 5 til 15 procent af oxidblandingen i pådampningsapparatets smeltedigel bestod af calciumoxid.
Den bedste blanding for pådampning er tilnærmelsesvis 95% titanoxid, suppleret med tilnærmelsesvis 5% calciumoxid.
Lagene kan også påføres ved ionforstøvning i et ionforstøvningsapparat. Styringen af lagenes tykkelse er imidlertid meget vanskeligere ved ionforstøvning end ved pådampning.
Opfindelsen beskrives nærmere i det følgende ved hjælp af udførelseseksempler under henvisning til tegningen, der på skematisk måde viser et snit gennem en reflektor fremstillet ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen.
Et første lag 2 på en glasbærer 1 består generelt af et lag (H) med et højt brydningsindeks. Efterfølgende lag har skiftevis lavt (L) og højt (H) i.
i U1976
3 X
>· brydningsindeks. Da det sidste lag sædvanligvis har et højt brydningsindeks, vil sådanne reflektorer i almindelighed bestå af et alige antal lag. Glas- eller kvartsbærere vil være hyppigt benyttede. Når to parallelle overflader 3 og 4 K·· betragtes, og kravet er, at de fra disse overflader reflekterede lysstråler skal være i fase for at forstærke hinanden ved interferens, skal den optiske tykkelse af laget 5 fortrinsvis være en fjerdedel af bølgelængden (1/4X) i det pågældende lag. Den mekaniske tykkelse er i dette tilfælde λ/η, favor n er brydningsindeks. , Når der benyttes et stort antal lag, vil successive overflader reflektere lys, og " hver overflade vil forstærke den første refleksion. Det maksimale antal l*g bestemmes af: 1) absorptionen og spredningen i lagmaterialet, og 2) problemer i forbindelse med lagenes ved læengen til bæreren og til hinanden.
Absorptionen og spredningen bestennes også af lagets struktur, der viste sig at blive væsentligt forbedret ved anvendelse af materialer og fremgangsmåden ifølge opfindelsen..
Det første trin ved fremstillingen af sådanne reflektorer er rensning af bæreren, således at det første lags vedfaængen til bæreren forbedres, og nønsket spredning forebygges. Bærerne anbringes derefter i et pfidampningsapparat, hvor de materialer, der skal pådaspes, også forefindes, og opvarmes til en høj temperatur, idet trykket i apparatet er tilnærmelsesvis 10~* torr. Få denne måde pådampes lag med 1/4λ optisk tykkelse (λ er laserlysets bølgelængde) successivt med skiftevis et højt og et lavt brydningsindeks.
Pådampningen kan for eksempel udføres i overensstemmelse med følgende eksempler:
Eksempel 1: 5 g titandioxidpulver blev blandet med 0,25 g calciumeaiid. Denne blanding blev sammenpresset og overført til et pådampningsapperat og blev pidampet sost det 23. lag på en reflektor efter at 22 lag 1 forvejen var pådampet. Lagpakningen barde følgende opbygning:
Lagets nr. 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11· Ϊ
Materiale SHLHLHLHLHLH 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 LHLHLHLHLHL H*, hvilket kort skrives som S(HL)H'. ’ S glasbærer H = titanoxid L m siliciumoxid \ i H'= det 23. lag af den ovennævnte blanding af tltandioxid og calciumoxid. *
Spejlet fremstilledes til en He-Ne-laser, der virker ved λ" 632,8 nm. Hvert 141976 4 lag var 1/4λ tykt (optisk tykkelse). En He-Ne-laser omfattende denne reflektor havde en konstant udgangseffekt på 1800 pW i en periode på 4500 timer.
Eksempel 2;
En blanding af 95 vægtprocent zirconiumoxid og 5 vægtprocent calciumoxid blev sammenpresset og fordampet i et pådampningsapparat ved hjælp af en elektronstråle på en for fagmanden kendt måde. Det sidste lag (dvs. laget fjernest fra glasbæreren) af en titanoxid-siliciumoxidreflektor pådampedes under brug af denne blanding. Lagpakningen havde følgende sammensætning: S (HL)11 H* S = glasbærer H = titanoxid L = siliciumoxid H'= det ovennævnte sidste lag.
He-Ne-laseres laservirkning ved λ* 632,8 nm med disse reflektorer blev opretholdt i 2500 timer med en i hovedsagen konstant udgangseffekt på 1600 pW.
Eksempel 3:
Et sidste lag, dvs. laget fjernest fra bæreren, blev pådampet som i eksempel 1, men i dette tilfælde under anvendelse af en blanding af titanoxid og calciumoxid indeholdende 2 vægtprocent calciumoxid. Den resulterende laserreflektor havde et langt liv og en konstant kvalitet.
Eksempel 4:
Et sidste lag blev pådampet som i eksempel 1, men i dette tilfælde under anvendelse af en blanding af zirconiumoxid og magniumoxid indeholdende 2 vægtprocent magniumoxid. Også i dette eksempel havde den resulterende laserreflektor et langt liv og en konstant kvalitet.
Eksempel 5:
Et sidste lag blev pådampet som i eksempel 1, men i dette tilfælde under anvendelse af en blanding af metallisk titan og calciumoxid indeholdende 2 vægtprocent calciumoxid. Resultatet blev også i dette tilfælde et spejl af høj kvalitet.
Den grundlæggende idé i opfindelsen er brugen af en kombination af metaloxider i i det mindste det sidste lag (dvs. laget fjernest fra bæreren), hvilken kombination har et højt brydningsindeks. Denne kombination af metaloxider kan også påføres ved pådampning eller ionforstøvning af en fagmand, ud fra i det mindste ét af metallerne thorium, titan, hafnium og zirconium og i det mindste ét af metaloxiderne berylliumoxid, magniumoxid og calciumoxid i en oxiderende atmos-
DK439176AA 1975-10-02 1976-09-29 Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag. DK141976B (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL7511581 1975-10-02
NL7511581A NL7511581A (nl) 1975-10-02 1975-10-02 Reflektor.

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK439176A DK439176A (da) 1977-04-03
DK141976B true DK141976B (da) 1980-07-28
DK141976C DK141976C (da) 1980-12-08

Family

ID=19824569

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK439176AA DK141976B (da) 1975-10-02 1976-09-29 Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag.

Country Status (13)

Country Link
US (1) US4099840A (da)
JP (1) JPS5243443A (da)
AU (1) AU503724B2 (da)
BE (1) BE846814A (da)
CA (1) CA1075053A (da)
CH (1) CH608107A5 (da)
DE (1) DE2643586C3 (da)
DK (1) DK141976B (da)
FR (1) FR2326713A1 (da)
GB (1) GB1564618A (da)
IL (1) IL50585A (da)
IN (1) IN144661B (da)
NL (1) NL7511581A (da)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7802454A (nl) * 1978-03-07 1979-09-11 Philips Nv Gasontladingslaser voor het opwekken van lineair gepolariseerde straling.
JPS5585608A (en) * 1978-12-20 1980-06-27 Kawasaki Steel Corp Operating method for blowing out of blast furnace
US4519708A (en) * 1981-05-20 1985-05-28 Raytheon Company Mode discrimination apparatus
JPS6037631B2 (ja) * 1981-06-08 1985-08-27 株式会社東芝 アルゴン・イオン・レ−ザ装置
US4932754A (en) * 1983-10-07 1990-06-12 U.S. Philips Corp. Multilayer optical component
US4615034A (en) * 1984-03-30 1986-09-30 Spectra-Physics, Inc. Ultra-narrow bandwidth optical thin film interference coatings for single wavelength lasers
JPS6113202A (ja) * 1984-06-29 1986-01-21 Nec Corp レ−ザミラ−
FR2605748B1 (fr) * 1986-10-28 1989-04-28 Comp Generale Electricite Miroir multidielectrique notamment pour l'infrarouge moyen notamment pour laser a dioxyde de carbone
EP0300579B1 (de) * 1987-07-22 1995-06-14 Philips Patentverwaltung GmbH Optisches Interferenzfilter
JP2571964B2 (ja) * 1989-04-19 1997-01-16 豊田合成株式会社 強化ポリプロピレン樹脂組成物
DE4024308C2 (de) * 1989-07-31 1993-12-02 Central Glass Co Ltd Wärmeisolierglas mit dielektrischem Vielschichtenüberzug
US5127018A (en) * 1989-08-08 1992-06-30 Nec Corporation Helium-neon laser tube with multilayer dielectric coating mirrors
AU655119B2 (en) * 1992-07-11 1994-12-01 Pilkington Glass Limited Coatings on glass
US5274661A (en) * 1992-12-07 1993-12-28 Spectra Physics Lasers, Inc. Thin film dielectric coating for laser resonator
GB9400319D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
GB9400320D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coating on glass
GB9400323D0 (en) * 1994-01-10 1994-03-09 Pilkington Glass Ltd Coatings on glass
CZ20011442A3 (cs) * 1998-11-09 2001-12-12 Ppg Industries Ohio, Inc. Předmět a přední sklo s vícevrstvým povlakem
SG93245A1 (en) * 1999-07-13 2002-12-17 Johnson & Johnson Vision Care Reflectors for uv radiation source
DE10204363A1 (de) * 2002-02-02 2003-08-14 Schott Glas Interferenzbeschichtung zur Verbesserung des Energiehaushaltes von HID-Lampen
US7065109B2 (en) * 2002-05-08 2006-06-20 Melles Griot Inc. Laser with narrow bandwidth antireflection filter for frequency selection
BE1019641A3 (fr) * 2010-03-10 2012-09-04 Agc Glass Europe Vitrage a reflexion elevee.
IL218364A0 (en) 2012-02-28 2012-04-30 Kilolambda Tech Ltd Responsivity enhancement for thermochromic compositions and devices
US9268158B2 (en) 2012-02-22 2016-02-23 Kilolambda Technologies Ltd. Responsivity enhancement of solar light compositions and devices for thermochromic windows
WO2014047724A1 (en) 2012-09-26 2014-04-03 Ledtech International Inc. Multilayer optical interference filter
CN105093852B (zh) * 2015-08-28 2017-07-11 沈阳仪表科学研究院有限公司 紫外光刻机曝光系统用精密介质膜反射镜及其镀制方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2904452A (en) * 1956-04-16 1959-09-15 Heraeus Gmbh W C Oxide coating
GB1098305A (en) 1964-01-15 1968-01-10 Le I Kinoinzhenerov Cold light mirror
US3851973A (en) * 1972-01-03 1974-12-03 Sperry Rand Corp Ring laser magnetic bias mirror compensated for non-reciprocal loss
JPS5138240B2 (da) * 1972-07-05 1976-10-20
CH556548A (de) * 1972-09-19 1974-11-29 Balzers Patent Beteilig Ag Aus abwechselnd hoch- und niederbrechenden oxidschichten aufgebautes verlustarmes, hochreflektierendes vielschichtsystem.
GB1529813A (en) * 1974-10-16 1978-10-25 Siemens Ag Narrow-band interference filter

Also Published As

Publication number Publication date
DE2643586B2 (de) 1978-02-09
DK439176A (da) 1977-04-03
US4099840A (en) 1978-07-11
BE846814A (fr) 1977-03-30
AU503724B2 (en) 1979-09-20
IN144661B (da) 1978-06-03
JPS5243443A (en) 1977-04-05
IL50585A0 (en) 1976-11-30
DE2643586C3 (de) 1978-10-12
FR2326713B1 (da) 1979-07-13
GB1564618A (en) 1980-04-10
DE2643586A1 (de) 1977-04-07
DK141976C (da) 1980-12-08
IL50585A (en) 1979-01-31
NL7511581A (nl) 1977-04-05
JPS5648845B2 (da) 1981-11-18
CH608107A5 (da) 1978-12-15
FR2326713A1 (fr) 1977-04-29
CA1075053A (en) 1980-04-08
AU1831176A (en) 1978-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK141976B (da) Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag.
JP4338977B2 (ja) Euvl用多層構造の反射鏡、およびeuvl用多層構造の反射鏡の製造方法
JP5382975B2 (ja) 高出力ガスレーザ装置
JPH03502378A (ja) 多層光学誘電被膜
Frumar et al. Reversible photodarkening and structural changes in As2S3 thin films
US3949259A (en) Light-transmitting, thermal-radiation reflecting filter
JP5443375B2 (ja) 紫外線反射光学素子、紫外線反射光学素子を作製する方法、および紫外線反射光学素子を備える投影露光装置
JP3631063B2 (ja) フッ化物の精製方法及びフッ化物結晶の製造方法
JP7192056B2 (ja) 光学装置
CN102089683A (zh) 反射光学元件及其制造方法
WO2007119357A1 (ja) 波長変換光学素子、波長変換光学素子の製造方法、波長変換装置、紫外線レーザ照射装置およびレーザ加工装置
US5862163A (en) Apparatus for generating ultraviolet laser radiation
JPH01244623A (ja) 酸化膜の製造方法
US20040091612A1 (en) Thin layer of hafnium oxide and deposit process
TW476018B (en) Wave length changing crystal and method for generating a laser light, and a laser generating device
JP5337848B2 (ja) 高出力ガスレーザ装置
KR101991530B1 (ko) 안정된 조성을 갖는 옥시나이트라이드 캐핑층을 포함하는 euv 미러, euv 리소그래피 장치, 및 그 작동 방법
NO123093B (da)
RU2004103474A (ru) Материал подложки для рентгенооптических компонентов
JP2005526904A (ja) Hidランプの石英バーナーの被覆方法
JPS63159811A (ja) 多層膜反射鏡及びその製造方法
Dai et al. Progress on the optical materials and components for the high power laser system in China
JPS59148002A (ja) 蒸着およびスパツタ用酸化ジルコニウム組成物およびそれを用いる光学用薄膜の製造方法
Tsai et al. Comparative study of ultraviolet-infrared cutoff filters prepared by reactive electron-beam deposition and reactive ion-assisted deposition
Jiao et al. Design and fabrication of superior non-polarizing beam splitter applied in laser beam combining technology