DK141976B - Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag. - Google Patents
Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag. Download PDFInfo
- Publication number
- DK141976B DK141976B DK439176AA DK439176A DK141976B DK 141976 B DK141976 B DK 141976B DK 439176A A DK439176A A DK 439176AA DK 439176 A DK439176 A DK 439176A DK 141976 B DK141976 B DK 141976B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- layer
- oxide
- reflector
- evaporated
- layers
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/0825—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only
- G02B5/0833—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only comprising inorganic materials only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08059—Constructional details of the reflector, e.g. shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
(11) FREMLÆ66ELSESSKMFT 141976 DANMARK m ® 02 ® H 01 S 3/08 «(21) Anfgnmg nr. ^391/76 (22) IndtoverM den 2g. Ββρ. 1976 (23) Ubedag 29· Ββρ. 1976 (44) Antegningen fremlagt eg fremtoggetoeetfcrffte*cffent#øg(ortdan 28. Jul. i960
DIREKTORATET FOR
PATENT-OG VAREMÆRKEVÆSENET ™ PHoritat bagaemt fra dan
2. okt. 1975# 7511581, NL
(71) N.V. PHILIPS* GLQEILAMPENFABRIEKEN, Emmaeingel 29» Eindhoven» NL.
(72) Opfinder: Johannes van der Wal, Enmasingel, Eindhoven, NL: Wil» helmus Adrianos Jacohue GieTens, Emmaeingel» Eindhoven, NL: Johan= nee Maria Marinus gasmans, Emmaeingel, Eindhoven, NL.
(74) FaMnwagtlg undar aagana UelwntMng:
Internationalt Patent-Bureau.
(54) Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag.
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor omfattende en bærer og et heraf båret arrangement af pådampede oxidlag med skiftevis højt og lavt brydningsindeks.
Flerlagsreflektorer reflekterer lys i et givet bølgelængdeområde helt eller delvis og benyttes i et bredt område inden for optikken, for eksempel til smalbåndsinterferensfiltre, spejle til gasudladningsiaeere af høj kvalitet og kondensorspejle til projektører.
Sådanne reflektorer er beskrevet i østrigsk patentbeskrivelse 218.193; i det mindste ét af lagene i disse reflektorer er blevet pådampet fra en blanding af metaller og/eller metaloxider. En sådan blanding består for eksempel af titanoxid blandet med et eller flere grundstoffer fra gruppen indeholdende yttrium, lanthan, cerium og/eller en eller flere forbindelser af 2 141976 disse grundstoffer. I sådanne blandinger er en efteroxidation af lagene efter pådampningen i almindelighed ikke nødvendig, eller der kræves kun en svag efteroxidation, medens pådampning kan udføres hurtigt. Ikke desto mindre viser resultatet ved brug af disse blandinger sig ikke at være helt tilfredsstillende, eftersom lagene har en mindre fordelagtig struktur, dvs. er mere eller mindre porøse, således at reduktion af oxidet, for eksempel med hydrogen, er mulig.
Fremgangsmåden ifølge opfindelsen er ejendommelig ved, at under pådampningen af i det mindste det sidste lag udgør mængden af anvendt oxid af et grundstof fra gruppe Ila i det periodiske system efter Mendelejeff mellem 1 vægtprocent og 30 vægtprocent af den samlede mængde af anvendte oxider af grundstoffer fra gruppe Ila og IVa.
Opfindelsen er baseret på den erkendelse, at i det mindste ét af de stabiliserende oxider (berylliumoxid, magniumoxid og calciumoxid) skal tilføjes. Molekyler af dette stabiliserende oxid påvirker krystalvæksten, fordi de forefindes både interstitialt og i højere grad ved krystalkorngrænserne. På denne måde fremkommer et lag, som er mindre følsomt over for f.eks. reaktioner med plasmaet i en gasudladningslaser.
Sådanne reflektorer er særligt egnet til brug i gasudladningslasere, eftersom de bidrager til en lang driftslevetid (5000 timer eller derover).
Det stabiliserende oxid, der består af berylliumoxid, calciumoxid og magniumoxid eller en blanding heraf skal udgøre 1 til 30 vægtprocent af den samlede mængde oxider, som anvendes under pådampningen. Det viser sig, at vægtprocenterne af oxider i pådampningsapparatets smeltedigel (digler) ikke behøver at svare til de procenter, der forekommer i laget efter pådampningen. For eksempel indeholder et lag, der er pådampet fra en udgangsblanding indeholdende 5% calciumoxid, 16 til 20 vægtprocent calciumoxid.
Den maksimale stabiliserende effekt opnåedes, når fra 5 til 15 procent af oxidblandingen i pådampningsapparatets smeltedigel bestod af calciumoxid.
Den bedste blanding for pådampning er tilnærmelsesvis 95% titanoxid, suppleret med tilnærmelsesvis 5% calciumoxid.
Lagene kan også påføres ved ionforstøvning i et ionforstøvningsapparat. Styringen af lagenes tykkelse er imidlertid meget vanskeligere ved ionforstøvning end ved pådampning.
Opfindelsen beskrives nærmere i det følgende ved hjælp af udførelseseksempler under henvisning til tegningen, der på skematisk måde viser et snit gennem en reflektor fremstillet ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen.
Et første lag 2 på en glasbærer 1 består generelt af et lag (H) med et højt brydningsindeks. Efterfølgende lag har skiftevis lavt (L) og højt (H) i.
i U1976
3 X
>· brydningsindeks. Da det sidste lag sædvanligvis har et højt brydningsindeks, vil sådanne reflektorer i almindelighed bestå af et alige antal lag. Glas- eller kvartsbærere vil være hyppigt benyttede. Når to parallelle overflader 3 og 4 K·· betragtes, og kravet er, at de fra disse overflader reflekterede lysstråler skal være i fase for at forstærke hinanden ved interferens, skal den optiske tykkelse af laget 5 fortrinsvis være en fjerdedel af bølgelængden (1/4X) i det pågældende lag. Den mekaniske tykkelse er i dette tilfælde λ/η, favor n er brydningsindeks. , Når der benyttes et stort antal lag, vil successive overflader reflektere lys, og " hver overflade vil forstærke den første refleksion. Det maksimale antal l*g bestemmes af: 1) absorptionen og spredningen i lagmaterialet, og 2) problemer i forbindelse med lagenes ved læengen til bæreren og til hinanden.
Absorptionen og spredningen bestennes også af lagets struktur, der viste sig at blive væsentligt forbedret ved anvendelse af materialer og fremgangsmåden ifølge opfindelsen..
Det første trin ved fremstillingen af sådanne reflektorer er rensning af bæreren, således at det første lags vedfaængen til bæreren forbedres, og nønsket spredning forebygges. Bærerne anbringes derefter i et pfidampningsapparat, hvor de materialer, der skal pådaspes, også forefindes, og opvarmes til en høj temperatur, idet trykket i apparatet er tilnærmelsesvis 10~* torr. Få denne måde pådampes lag med 1/4λ optisk tykkelse (λ er laserlysets bølgelængde) successivt med skiftevis et højt og et lavt brydningsindeks.
Pådampningen kan for eksempel udføres i overensstemmelse med følgende eksempler:
Eksempel 1: 5 g titandioxidpulver blev blandet med 0,25 g calciumeaiid. Denne blanding blev sammenpresset og overført til et pådampningsapperat og blev pidampet sost det 23. lag på en reflektor efter at 22 lag 1 forvejen var pådampet. Lagpakningen barde følgende opbygning:
Lagets nr. 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11· Ϊ
Materiale SHLHLHLHLHLH 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 LHLHLHLHLHL H*, hvilket kort skrives som S(HL)H'. ’ S glasbærer H = titanoxid L m siliciumoxid \ i H'= det 23. lag af den ovennævnte blanding af tltandioxid og calciumoxid. *
Spejlet fremstilledes til en He-Ne-laser, der virker ved λ" 632,8 nm. Hvert 141976 4 lag var 1/4λ tykt (optisk tykkelse). En He-Ne-laser omfattende denne reflektor havde en konstant udgangseffekt på 1800 pW i en periode på 4500 timer.
Eksempel 2;
En blanding af 95 vægtprocent zirconiumoxid og 5 vægtprocent calciumoxid blev sammenpresset og fordampet i et pådampningsapparat ved hjælp af en elektronstråle på en for fagmanden kendt måde. Det sidste lag (dvs. laget fjernest fra glasbæreren) af en titanoxid-siliciumoxidreflektor pådampedes under brug af denne blanding. Lagpakningen havde følgende sammensætning: S (HL)11 H* S = glasbærer H = titanoxid L = siliciumoxid H'= det ovennævnte sidste lag.
He-Ne-laseres laservirkning ved λ* 632,8 nm med disse reflektorer blev opretholdt i 2500 timer med en i hovedsagen konstant udgangseffekt på 1600 pW.
Eksempel 3:
Et sidste lag, dvs. laget fjernest fra bæreren, blev pådampet som i eksempel 1, men i dette tilfælde under anvendelse af en blanding af titanoxid og calciumoxid indeholdende 2 vægtprocent calciumoxid. Den resulterende laserreflektor havde et langt liv og en konstant kvalitet.
Eksempel 4:
Et sidste lag blev pådampet som i eksempel 1, men i dette tilfælde under anvendelse af en blanding af zirconiumoxid og magniumoxid indeholdende 2 vægtprocent magniumoxid. Også i dette eksempel havde den resulterende laserreflektor et langt liv og en konstant kvalitet.
Eksempel 5:
Et sidste lag blev pådampet som i eksempel 1, men i dette tilfælde under anvendelse af en blanding af metallisk titan og calciumoxid indeholdende 2 vægtprocent calciumoxid. Resultatet blev også i dette tilfælde et spejl af høj kvalitet.
Den grundlæggende idé i opfindelsen er brugen af en kombination af metaloxider i i det mindste det sidste lag (dvs. laget fjernest fra bæreren), hvilken kombination har et højt brydningsindeks. Denne kombination af metaloxider kan også påføres ved pådampning eller ionforstøvning af en fagmand, ud fra i det mindste ét af metallerne thorium, titan, hafnium og zirconium og i det mindste ét af metaloxiderne berylliumoxid, magniumoxid og calciumoxid i en oxiderende atmos-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL7511581 | 1975-10-02 | ||
NL7511581A NL7511581A (nl) | 1975-10-02 | 1975-10-02 | Reflektor. |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DK439176A DK439176A (da) | 1977-04-03 |
DK141976B true DK141976B (da) | 1980-07-28 |
DK141976C DK141976C (da) | 1980-12-08 |
Family
ID=19824569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK439176AA DK141976B (da) | 1975-10-02 | 1976-09-29 | Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag. |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4099840A (da) |
JP (1) | JPS5243443A (da) |
AU (1) | AU503724B2 (da) |
BE (1) | BE846814A (da) |
CA (1) | CA1075053A (da) |
CH (1) | CH608107A5 (da) |
DE (1) | DE2643586C3 (da) |
DK (1) | DK141976B (da) |
FR (1) | FR2326713A1 (da) |
GB (1) | GB1564618A (da) |
IL (1) | IL50585A (da) |
IN (1) | IN144661B (da) |
NL (1) | NL7511581A (da) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7802454A (nl) * | 1978-03-07 | 1979-09-11 | Philips Nv | Gasontladingslaser voor het opwekken van lineair gepolariseerde straling. |
JPS5585608A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-27 | Kawasaki Steel Corp | Operating method for blowing out of blast furnace |
US4519708A (en) * | 1981-05-20 | 1985-05-28 | Raytheon Company | Mode discrimination apparatus |
JPS6037631B2 (ja) * | 1981-06-08 | 1985-08-27 | 株式会社東芝 | アルゴン・イオン・レ−ザ装置 |
US4932754A (en) * | 1983-10-07 | 1990-06-12 | U.S. Philips Corp. | Multilayer optical component |
US4615034A (en) * | 1984-03-30 | 1986-09-30 | Spectra-Physics, Inc. | Ultra-narrow bandwidth optical thin film interference coatings for single wavelength lasers |
JPS6113202A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-21 | Nec Corp | レ−ザミラ− |
FR2605748B1 (fr) * | 1986-10-28 | 1989-04-28 | Comp Generale Electricite | Miroir multidielectrique notamment pour l'infrarouge moyen notamment pour laser a dioxyde de carbone |
EP0300579B1 (de) * | 1987-07-22 | 1995-06-14 | Philips Patentverwaltung GmbH | Optisches Interferenzfilter |
JP2571964B2 (ja) * | 1989-04-19 | 1997-01-16 | 豊田合成株式会社 | 強化ポリプロピレン樹脂組成物 |
DE4024308C2 (de) * | 1989-07-31 | 1993-12-02 | Central Glass Co Ltd | Wärmeisolierglas mit dielektrischem Vielschichtenüberzug |
US5127018A (en) * | 1989-08-08 | 1992-06-30 | Nec Corporation | Helium-neon laser tube with multilayer dielectric coating mirrors |
AU655119B2 (en) * | 1992-07-11 | 1994-12-01 | Pilkington Glass Limited | Coatings on glass |
US5274661A (en) * | 1992-12-07 | 1993-12-28 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Thin film dielectric coating for laser resonator |
GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
GB9400320D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
GB9400323D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
CZ20011442A3 (cs) * | 1998-11-09 | 2001-12-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Předmět a přední sklo s vícevrstvým povlakem |
SG93245A1 (en) * | 1999-07-13 | 2002-12-17 | Johnson & Johnson Vision Care | Reflectors for uv radiation source |
DE10204363A1 (de) * | 2002-02-02 | 2003-08-14 | Schott Glas | Interferenzbeschichtung zur Verbesserung des Energiehaushaltes von HID-Lampen |
US7065109B2 (en) * | 2002-05-08 | 2006-06-20 | Melles Griot Inc. | Laser with narrow bandwidth antireflection filter for frequency selection |
BE1019641A3 (fr) * | 2010-03-10 | 2012-09-04 | Agc Glass Europe | Vitrage a reflexion elevee. |
IL218364A0 (en) | 2012-02-28 | 2012-04-30 | Kilolambda Tech Ltd | Responsivity enhancement for thermochromic compositions and devices |
US9268158B2 (en) | 2012-02-22 | 2016-02-23 | Kilolambda Technologies Ltd. | Responsivity enhancement of solar light compositions and devices for thermochromic windows |
WO2014047724A1 (en) | 2012-09-26 | 2014-04-03 | Ledtech International Inc. | Multilayer optical interference filter |
CN105093852B (zh) * | 2015-08-28 | 2017-07-11 | 沈阳仪表科学研究院有限公司 | 紫外光刻机曝光系统用精密介质膜反射镜及其镀制方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2904452A (en) * | 1956-04-16 | 1959-09-15 | Heraeus Gmbh W C | Oxide coating |
GB1098305A (en) | 1964-01-15 | 1968-01-10 | Le I Kinoinzhenerov | Cold light mirror |
US3851973A (en) * | 1972-01-03 | 1974-12-03 | Sperry Rand Corp | Ring laser magnetic bias mirror compensated for non-reciprocal loss |
JPS5138240B2 (da) * | 1972-07-05 | 1976-10-20 | ||
CH556548A (de) * | 1972-09-19 | 1974-11-29 | Balzers Patent Beteilig Ag | Aus abwechselnd hoch- und niederbrechenden oxidschichten aufgebautes verlustarmes, hochreflektierendes vielschichtsystem. |
GB1529813A (en) * | 1974-10-16 | 1978-10-25 | Siemens Ag | Narrow-band interference filter |
-
1975
- 1975-10-02 NL NL7511581A patent/NL7511581A/xx not_active Application Discontinuation
-
1976
- 1976-09-22 IN IN1749/CAL/1976A patent/IN144661B/en unknown
- 1976-09-23 CA CA261,867A patent/CA1075053A/en not_active Expired
- 1976-09-24 US US05/726,175 patent/US4099840A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-09-28 DE DE2643586A patent/DE2643586C3/de not_active Expired
- 1976-09-29 GB GB40414/76A patent/GB1564618A/en not_active Expired
- 1976-09-29 CH CH1233476A patent/CH608107A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-09-29 DK DK439176AA patent/DK141976B/da unknown
- 1976-09-30 BE BE171135A patent/BE846814A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-09-30 IL IL50585A patent/IL50585A/xx unknown
- 1976-09-30 JP JP51116682A patent/JPS5243443A/ja active Granted
- 1976-10-01 FR FR7629584A patent/FR2326713A1/fr active Granted
- 1976-10-01 AU AU18311/76A patent/AU503724B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2643586B2 (de) | 1978-02-09 |
DK439176A (da) | 1977-04-03 |
US4099840A (en) | 1978-07-11 |
BE846814A (fr) | 1977-03-30 |
AU503724B2 (en) | 1979-09-20 |
IN144661B (da) | 1978-06-03 |
JPS5243443A (en) | 1977-04-05 |
IL50585A0 (en) | 1976-11-30 |
DE2643586C3 (de) | 1978-10-12 |
FR2326713B1 (da) | 1979-07-13 |
GB1564618A (en) | 1980-04-10 |
DE2643586A1 (de) | 1977-04-07 |
DK141976C (da) | 1980-12-08 |
IL50585A (en) | 1979-01-31 |
NL7511581A (nl) | 1977-04-05 |
JPS5648845B2 (da) | 1981-11-18 |
CH608107A5 (da) | 1978-12-15 |
FR2326713A1 (fr) | 1977-04-29 |
CA1075053A (en) | 1980-04-08 |
AU1831176A (en) | 1978-04-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DK141976B (da) | Fremgangsmåde til fremstilling af en reflektor med et arrangement af pådampede oxidlag. | |
JP4338977B2 (ja) | Euvl用多層構造の反射鏡、およびeuvl用多層構造の反射鏡の製造方法 | |
JP5382975B2 (ja) | 高出力ガスレーザ装置 | |
JPH03502378A (ja) | 多層光学誘電被膜 | |
Frumar et al. | Reversible photodarkening and structural changes in As2S3 thin films | |
US3949259A (en) | Light-transmitting, thermal-radiation reflecting filter | |
JP5443375B2 (ja) | 紫外線反射光学素子、紫外線反射光学素子を作製する方法、および紫外線反射光学素子を備える投影露光装置 | |
JP3631063B2 (ja) | フッ化物の精製方法及びフッ化物結晶の製造方法 | |
JP7192056B2 (ja) | 光学装置 | |
CN102089683A (zh) | 反射光学元件及其制造方法 | |
WO2007119357A1 (ja) | 波長変換光学素子、波長変換光学素子の製造方法、波長変換装置、紫外線レーザ照射装置およびレーザ加工装置 | |
US5862163A (en) | Apparatus for generating ultraviolet laser radiation | |
JPH01244623A (ja) | 酸化膜の製造方法 | |
US20040091612A1 (en) | Thin layer of hafnium oxide and deposit process | |
TW476018B (en) | Wave length changing crystal and method for generating a laser light, and a laser generating device | |
JP5337848B2 (ja) | 高出力ガスレーザ装置 | |
KR101991530B1 (ko) | 안정된 조성을 갖는 옥시나이트라이드 캐핑층을 포함하는 euv 미러, euv 리소그래피 장치, 및 그 작동 방법 | |
NO123093B (da) | ||
RU2004103474A (ru) | Материал подложки для рентгенооптических компонентов | |
JP2005526904A (ja) | Hidランプの石英バーナーの被覆方法 | |
JPS63159811A (ja) | 多層膜反射鏡及びその製造方法 | |
Dai et al. | Progress on the optical materials and components for the high power laser system in China | |
JPS59148002A (ja) | 蒸着およびスパツタ用酸化ジルコニウム組成物およびそれを用いる光学用薄膜の製造方法 | |
Tsai et al. | Comparative study of ultraviolet-infrared cutoff filters prepared by reactive electron-beam deposition and reactive ion-assisted deposition | |
Jiao et al. | Design and fabrication of superior non-polarizing beam splitter applied in laser beam combining technology |