RU2004103474A

RU2004103474A - Материал подложки для рентгенооптических компонентов

Info

Publication number: RU2004103474A
Application number: RU2004103474/03A
Authority: RU
Inventors: Удо ДИНГЕР (DE); Удо Дингер; Франк АЙЗЕРТ (DE); Франк Айзерт; Мартин ВАЙЗЕР (DE); Мартин Вайзер; Конрад КНАПП (DE); Конрад Кнапп; Ина МИТРА (DE); Ина Митра; Ханс МОРИАН (DE); Ханс Мориан
Original assignee: Шотт Глас (De); Шотт Глас; Карл Цейсс Смт Аг (De); Карл Цейсс Смт Аг
Priority date: 2001-08-16
Filing date: 2002-08-14
Publication date: 2005-06-27
Also published as: DE10139188A1; JP2005500241A; US20040202278A1; ATE488479T1; DE50214776D1; US7031428B2; EP1417159B1; WO2003016233A1; EP1417159A1; RU2264995C2; JP5059283B2

Claims

1. Материал подложки для рентгенооптических компонентов для рентгеновских лучей с длиной волны λ_R, содержащий стеклокерамику со стеклянной фазой из аморфного материала и кристаллической фазой, содержащей микрокристаллиты, при этом аморфный материал имеет положительное тепловое расширение, а микрокристаллиты - отрицательное тепловое расширение, и стехиометрическое соотношение кристаллической к стеклянной фазе установлено так, что величина теплового расширения α в температурном диапазоне от 20 до 100°С составляет менее 5·10^-6 K^-1, в частности, менее 1·10^-6 K^-1, при этом средняя величина микрокристаллитов составляет менее 4λ_R, в частности, менее 2λ_R, предпочтительно менее λ_R, особенно предпочтительно менее 2/3 λ_R, в частности, менее λ_R/2, отличающийся тем, что материал подложки после обработки поверхности имеет шероховатость в диапазоне высоких пространственных частот (HSFR) менее λ_R/30 (среднеквадратическое значение), предпочтительно менее λ_R/50 (среднеквадратическое значение), особенно предпочтительно менее λ_R/100 (среднеквадратическое значение).

2. Материал подложки по п.1, отличающийся тем, что длина волны рентгеновских лучей лежит в диапазоне от 10 до 30 нм.

3. Материал подложки по любому из п.1 или 2, отличающийся тем, что после обработки поверхности погрешность в диапазоне низких пространственных частот лежит в диапазоне от λ_R/50 до λ_R/100 (среднеквадратическое значение).

4. Материал подложки по п.1, отличающийся тем, что после обработки поверхности погрешность в диапазоне средних пространственных частот (MSFR) лежит в диапазоне от λ_R/50 до λ_R/100 (среднеквадратическое значение).

5. Материал подложки по п.3, отличающийся тем, что после обработки поверхности погрешность в диапазоне средних пространственных частот (MSFR) лежит в диапазоне от λ_R/50 до λ_R/100 (среднеквадратическое значение).

6. Материал подложки по п.1, отличающийся тем, что при обработке поверхности материала подложки поверхность рентгенооптического компонента сначала подвергается суперполированию, а затем поверхность обрабатывается далее с помощью способа лучевой обработки.

7. Материал подложки по п.4, отличающийся тем, что при обработке поверхности материала подложки поверхность рентгенооптического компонента сначала подвергается суперполированию, а затем поверхность обрабатывается далее с помощью способа лучевой обработки.

8. Материал подложки по п.5, отличающийся тем, что при обработке поверхности материала подложки поверхность рентгенооптического компонента сначала подвергается суперполированию, а затем поверхность обрабатывается далее с помощью способа лучевой обработки.

9. Материал подложки по любому из п.1, или 6, или 7, или 8, отличающийся тем, что материал подложки является материалом подложки для визирной маски для литографии в экстремальном ультрафиолетовом свете.

10. Материал подложки по любому из п.1, или 6, или 7, или 8, отличающийся тем, что материал подложки является материалом подложки для зеркала нормального падения, при этом на материале подложки создается многослойная система с множеством слоев с высокой отражательной способностью в рентгеновском диапазоне при не скользящем падении.

11. Материал подложки по п.10, отличающийся тем, что зеркало имеет не сферическую форму.

12. Материал подложки по п.10, отличающийся тем, что на материал подложки наносится многослойная система, содержащая 40-200 пар слоев, состоящих из одного из следующих материалов: Mo/Si, Mo/Bi, MoRu/Be.

13. Материал подложки по п.11, отличающийся тем, что на материал подложки наносится многослойная система, содержащая 40-200 пар слоев, состоящих из одного из следующих материалов: Mo/Si, Mo/Bi, MoRu/Be.

14. Рентгенооптический компонент, отличающийся тем, что он содержит материал подложки по любому из пп.1-13.

15. Рентгенооптический компонент по п.14, отличающийся тем, что рентгенооптический компонент является зеркалом нормального падения или зеркалом скользящего падения.

16. Рентгенооптический компонент по п.14, отличающийся тем, что рентгенооптический компонент является визирной маской.

17. Способ изготовления рентгенооптического компонента для рентгеновского излучения с длиной волны λ_R, при этом материал подложки является стеклокерамикой и способ содержит следующие стадии: поверхность рентгенооптического компонента суперполируют до достижения шероховатости в диапазоне высоких пространственных частот (HSFR) менее λ_R/30 (среднеквадратическое значение), предпочтительно менее λ_R/50 (среднеквадратическое значение), особенно предпочтительно менее λ_R/100 (среднеквадратическое значение); затем поверхность обрабатывают далее с помощью способа лучевой обработки, пока погрешность не будет составлять в диапазоне низких пространственных частот от λ_R/50 до λ_R/100 (среднеквадратическое значение), и погрешность в диапазоне средних пространственных частот (MSFR) - в диапазоне от λ_R/50 до λ_R/100 (среднеквадратическое значение), при этом шероховатость в диапазоне высоких пространственных частот (HSFR) сохраняется менее λ_R/30 (среднеквадратическое значение), предпочтительно менее λ_R/50 (среднеквадратическое значение), особенно предпочтительно менее λ_R/100 (среднеквадратическое значение).

18. Применение материала подложки для рентгенооптических компонентов по любому из пп.1-13 в проекционной системе для экстремального ультрафиолетового света, содержащей систему освещения и проекционный объектив.

19. Применение материала подложки по любому из пп.1-13 для рентгенооптических компонентов в одной из следующих областей: рентгеномикроскопия, рентгеноастрономия, рентгеноспектроскопия.