DE954900C - Verfahren und Vorrichtung zur wiederholbaren Einstellung eines Elektronenmikroskopes auf hoechste Leistungsfaehigkeit - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur wiederholbaren Einstellung eines Elektronenmikroskopes auf hoechste Leistungsfaehigkeit

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DE954900C
DE954900C DEL12356A DEL0012356A DE954900C DE 954900 C DE954900 C DE 954900C DE L12356 A DEL12356 A DE L12356A DE L0012356 A DEL0012356 A DE L0012356A DE 954900 C DE954900 C DE 954900C
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Germany
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beam path
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electron
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Expired
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DEL12356A
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English (en)
Inventor
Dr Carl Hein Claussen
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Ernst Leitz Wetzlar GmbH
Original Assignee
Ernst Leitz Wetzlar GmbH
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/21Means for adjusting the focus

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur wiederholbaren Einstellung von Elektronenmikroskopen und insbesondere von Reflexionselektronennikroskopen auf höchste Leistungsfähigkeit.
  • Bisher ist es üblich, bei Elektronenmikroskopen, ähnlich wie bei Lichtmikroskopen, nach der Anordnung des Objekts im Strahlengang dieses durch entsprechende Regelung des Elektronenstroms bzw. der Linsenspannungen scharf auf dem Leuchtschirm abzubilden. Damit ist jedoch keineswegs gewährleistet, daß die beste Leistungsfähigkeit des Elektronenmikroskops hinsichtlich Auflösungsvermögen, Helligkeit usw. erreicht wird.
  • Es ist auch schon bekannt, im Strahlengang von Elektronenmikroskopen zusätzliche klappbare Leuchtschirme un den Stellen anzuordnen, wo jeweils Zwischenbilder des Objekts entstehen. Jedoch bieten auch diese Zwischenbilder kenne Möglichkeit, die variablen Größen des Elektronenmikroskops auf ihre optimale Werte einzustellen. Außerdem erfolgt bei der Beobachtung der Zwischenbilder eine zusätzliche Belastung des Objekts.
  • Das vorliegende Verfahren ermöglicht die Einstellung eines Elektronenmikroskops auf höchste Leistungsfähigkeit erfindungsgemäß dadurch, da.B eine Justiermarke in den Strahlengang eingeschaltet und durch die Justierung der Elektronenquelle und gegebenenfalls der Elektronenlinsen sowie durch Regelung der Beschleunigungs- und Linsenspannungen auf dem Leuchtschirm scharf abgebildet wird und anschließend zwecks Freigabe des Strahlenganges für Beobachtungszwecke wieder aus dem Strahlengang ausgeschaltet wird.
  • Die Justiermarke ist im Strahlengang des Elektronenmikroskops zwischen Kathode und Kollimator oder an einer anderen geeigneten Stelle im Vakuum ein- und ausschaltbar angeordnet.
  • In der Zeichnung sind Beispiele für die Anordnung der Justiermarke dargestellt, und zwar zeigt Fig. i einen Längsschnitt durch ein Elektronenmikroskop mit der Justiermarke, schematisch, Fig. 2 die Lage der Justiermarke bei ein- und ausgeschalteter Stellung, Fig.3 den Strahlengang in einem Reflexionselektronenmikroskop, schematisch.
  • Zwischen der Elektronenquelle i und der Elektronenlinse 2 ist die Justiermarke 3 angeordnet, die beispielsweise aus einem Netz bestehen kann, das in den Träger q. eingespannt ist. Der Träger q. ist exzentrisch an einem Konus 5 befestigt, der in der Wand 6 des Vakuumgefäßes des Elektronenmikroskops vakuumdicht, und mittels Griff 7 drehbar, gelageart ist (Fig. i und 2). In einem neu entwickelten Reflexionselektronenmikroskop (Fig.3), das insbesondere zur Oberflächenprüfung geeignet ist, sind zwischen den Elektronenlinsen 2 und 8 ein Umlenkfeld 9 sowie in einem seitlichen Ansatz die Elektronenlinse i i und der Leuchtschirm 12 vorgesehen, an dessen Stelle bei Oberflächenprüfungen das Objekt tritt.
  • Die Justiermarke 3 wird unter optimalen Bedingungen im Strahlengang so justiert, daß sie auf dem bzw. den Leuchtschirmen io, 12 scharf abgebildet wird. Dann ist bei späterer Benutzung die Justiermarke nur in den Strahlengang einzuschalten und scharf auf dem bzw. den Leuchtschirmen io, 12 abzubilden, um das Elektronenmikroskop auf optimale Bedingungen einzustellen.

Claims (3)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur wiederholbaren Einstellung eines Elektronenmikroskops auf höchste Leistungsfähigkeit, dadurch. gekennzeichnet, daß eine Justiermarke (3) in den Strahlengang eingeschaltet, durch Justierung der Elektronenquelle (i) und gegebenenfalls der Elektronenlinsen sowie Regelung der Beschleunigungs-und Linsenspannungen auf dem Leuchtschirm (io) scharf abgebildet und anschließend zwecks Freigabe des Strahlenganges für Beobachtungszwecke wieder nun dem Strahlengang ausgeschaltet wird.
  2. 2. Verfahren zur wiederholbaren Einstellung eines Reflexionselektronenmikroskops auf höchste Leistungsfähigkeit nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß nach Einschaltung und Justierung des Umlenkfeldes (9) und Regelung der Linsenspannung einer weiteren, im umgelenkten Strahlengang angeordneten Linse (i i), die für die Dauer der Einstellung das Objekt ersetzende Justiermarke (3) auf dem Leuchtschirm (12) scharf abgebildet und anschließend zwecks Freigabe des Strahlenganges für Beobachtungszwecke wieder aus dem Strahlengang ausgeschaltet wird.
  3. 3. Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens gemäß Anspruch i oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Justiermarke (3) an einem in der Wand (6) des Elektronenmikroskops vakuumdicht drehbar gelagerten Konus (5) exzentrisch befestigt ist. q.: Vorrichtung gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Justiermarke (3) ein in einem Träger (q.) eingespanntes Netz ist. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 679 857.
DEL12356A 1952-05-16 1952-05-16 Verfahren und Vorrichtung zur wiederholbaren Einstellung eines Elektronenmikroskopes auf hoechste Leistungsfaehigkeit Expired DE954900C (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3395279A (en) * 1964-11-30 1968-07-30 Phillips Petroleum Co Positioning device for a radiation shield having means for cooling said shield

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE679857C (de) * 1932-03-17 1939-08-15 Bodo Von Borries Dr Ing Anordnung zur Beobachtung und Kontrolle der im Strahlengang eines Elektronenmikroskops mit zwei oder mehr elektronenoptischen Vergroesserungsstufen auftretenden elektronenoptischen Bilder

Patent Citations (1)

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DE679857C (de) * 1932-03-17 1939-08-15 Bodo Von Borries Dr Ing Anordnung zur Beobachtung und Kontrolle der im Strahlengang eines Elektronenmikroskops mit zwei oder mehr elektronenoptischen Vergroesserungsstufen auftretenden elektronenoptischen Bilder

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