DE911049C - Verfahren zur Herstellung eines Trockengleichrichters - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines TrockengleichrichtersInfo
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Description
Es ist ein Verfahrest! zur Herstellung eines Trockengleichrichters vorgeschlagen worden, dessen
Elektroden durch einen Leiter und einen Halbleiter gebildet werden und bei dem die Sperrschicht, die
nach dem Zusammenbau der Elektroden den elektrischen Strom im wesentlichen nur in einer Richtung
durchläßt, schon vor dem Zusammenbau der beiden Elektroden, und zwar vorzugsweise auf der
metallischen Leiterelektrode, hergestellt wird. Dies hat den Vorteil, daß man die Dicke der Sperrschicht
sowie ihre sonstigen Eigenschaften weit besser bestimmen und beeinflussen kann, als wenn die Bildung
dieser Schicht dem Zusammenwirken des Leiters und des Halbleiters mit oder ohne Einwirkung
des elektrischen Stromes überlassen bleibt. Ein bevorzugtes Verfahren nach jenem Vorschlag
besteht darin, die Metallelektrode mit einer Sperrschicht zu versehen und die Halbleiterelektrode in
geschmolzenem oder wenigstens erweichtem Zustand auf die Sperrschicht aufzubringen, so daß
eine innige Berührung mit der Sperrschicht sichergestellt ist.
Eine besonders gute Ausführungsform des Gleichrichters
nach dem Vorschlag entsteht z. B. dadurch, daß eine Aluminiumschicht mit Aluminiumoxyd als
Sperrschicht überzogen wird, auf diese Sperrschicht Selen aufgeschmolzen und dann durch Wärmebehandlung
in den leitenden Zustand übergeführt wird. Die Selenschicht wird dann mit einer Ableitungselektrode
versehen. Die Bildung der Aluminiumoxydschicht geschieht dabei vorzugsweise auf elektrolytischem Wege, ζ. B. nach dem bekannten
Eloxalverfahren. Zwischen der Selenschicht und der z. B. durch Aufspritzen hergestellten metallischen
Ableitungselektrode kann noch eine Graphitschicht angeordnet sein. Hierdurch wird u.a. verhindert,
daß zwischen der Selenschicht und der Ableitungselektrode unbeabsichtigt eine zweite Sperrschicht
entsteht. Die so erhaltenen Gleichrichterzellen sind für eine verhältnismäßig hohe Sperrspannung (bis
zu 30 V) geeignet, besonders wenn vor dem Aufbringen des Selens die Aluminiumoxydschicht zwecks
Schließung der Poren noch in einem geeigneten Bad behandelt wird. An Stelle von Aluminiumoxyd kann
für die Sperrschicht auch das Oxyd von Magnesium, Tantal, Ger, Niob, Eisen oder einem Schwermetall
verwendet werden. Allgemein sind solche isolierenden Verbindungen, besonders Oxyde, Sulfide, Silikate, geeignet, die sich in dünnsten, zusammenhängenden
und gut haftenden Schichten auf einer Metalloberfläche herstellen lassen. Zweckmäßig verwendet
man das Metall, dessen Verbindung als Sperrschicht benutzt werden soll, als eine Elektrode,
da man die Sperrschicht unmittelbar auf ihr aufwachsen lassen kann. Man kann aber auch zwecks
Herstellung der Sperrschicht zunächst die metallische Komponente auf irgendeine Metallelektrode aufbringen,
z. B. durch Aufdampfen im Vakuum, auf galvanischem Wege, durch Kathodenzerstäubung
oder nach einem sonstigen bekannten Verfahren.. Die so hergestellte dünne Metallschicht wird dann
auf chemischem Wege in die nicht leitende Verbindung übergeführt, die als Sperrschicht verwendet
werden soll. Dieses Verfahren empfiehlt sich aus Ersparnisgründen, wenn die Verbindungen, teurer
Metalle, wie z. B. solche von Tantal, als Sperrschicht benutzt werden.
Als Halbleiter können an Stelle von Selen z. B. auch Schwefel, Tellur, deren Gemenge oder gut
leitende Verbindungen dieser Stoffe verwendet werden.
Gemäß der Erfindung gelangt man unter Benutzung des vorgeschlagenen Verfahrens zu Trockengleichrichtern
von bisher unerreicht hoher Sperrspannung, nämlich bis zu etwa 75V pro Zelle, indem
man für die metallische Leiterelektrode AIuminiummetall
mit einem Reinheitsgrad von über 99>5°/o> zweckmäßig 99,6 bis 99,90.0, und zur
elektrolytischen Bildung der Metalloxydschicht verdünnte Schwefelsäure verwendet. Bei Anwendung
von Gleichstrom mit rund 15 V Badspannung beträgt die Schwefelsäurekonzentration des elektrolytischen
Bades beispielsweise 15 Volumprozent, die Behandlungsdauer 30 Minuten, bei Anwendung von
Wechselstrom mit rund 30 V Badspannung beträgt die Schwefelsäurekonzentration etwa 4 Gewichtsprozent,
die Behandlungsdauer ebenfalls 30 Minuten. Es kann jedoch mitunter von Vorteil sein,
noch etwas höhere Schwefelsäurekonzentrationen zu wählen.
Als Ursache dafür, daß es gerade mit AIuminiummetall
von einem Reinheitsgrad über 99,5°/o gelingt, Selengleichrichterzellen für Sperrspannungen
bis zu 75V zu erzielen, dürfte der außerordentlich
geringe Kupfergehalt der aus so reinem Aluminium unter Anwendung verdünnter Schwefelsäure
elektrolytisch erzeugten Aluminiumoxydschicht j anzusehen sein. Der Kupfergehalt läßt sich, wie
Versuche gezeigt haben, bei Anwendung des Verfahrens
gemäß der Erfindung leicht auf eine Größenordnung von etwa 0,001 o/q herabdrücken.
Zu ähnlich günstigen Ergebnissen, wie vorstehend geschildert, gelangt man auch, wenn man das Aluminium
teilweise oder auch ganz durch Magnesium ersetzt, das bekanntlich auch nur wenig durch
Kupfer verunreinigt zu sein pflegt. Da jedoch j Magnesium in verdünnter Schwefelsäure löslich ist,
muß man in diesem Falle einen alkalischen Elektrolyt anwenden, der beispielsweise so zusammengesetzt
sein kann, wie es bei der Durchführung des bekannten elektrolytischen Oxydationsverfahrens für
Magnesium üblich ist.
In der Zeichnung ist in Fig. 1 ein so hergestell ter Trockengleichrichter als Ausführungsbeispiel der
Erfindung dargestellt, wobei die Dicke der verschiedenen Schichten der Deutlichkeit wegen stark über
trieben gezeichnet ist. Auf der Aluminiumplatte 1, die aus sehr reinem Aluminium besteht, ist auf
elektrolytischem Wege eine Schicht 2 aus Aluminiumoxyd gebildet, unter Verwendung von verdünnj
ter Schwefelsäure als Elektrolyt. Auf diese Oxydschicht 2 ist eine Selenschicht 3 aufgeschmolzen und
dann durch Wärmebehandlung in den leitenden Zustand übergeführt. Auf diese Selenschicht 3 wird
dann eine Ableitungselektrode gebracht. Im allgemeinen wird es unerwünscht sein, daß bei der Verbindung
der Selenschicht mit der Ableitungselektrode eine zweite Sperrschicht unbeabsichtigt entsteht. Um dies zu vermeiden, wird z. B. die punktiert
dargestellte Graphitschicht 4 auf die Selenschicht 3 aufgebracht und auf die Graphitschicht 4 wird eine
metallische Ableitungselektrode 5 aufgespritzt. Sie kann auch angepreßt werden.
Verbindet man die Aluminiumplatte 1 mit einem Zuleitungsdraht 6 und die Ableitungselektrode 5 mit
einem Zuleitungsdraht 7, so läßt das dargestellte Gleichrichterelement einen positiven Strom zum Zuleitungsdraht
7 über die Schichten 5, 4, 3, 2, 1 zum Zuleitungsdraht 6 hindurchfließen, während in entgegengesetzter
Richtung der Strom gesperrt oder wenigstens auf einen kleinen Rest beschränkt ist.
Wesentlich ist, daß die Aluminiumschicht 1 vor der Bildung der Oxydschicht 2 aufgerauht wird, beispielsweise
durch ein Sandstrahlgebläse oder durch chemische Ätzung. Diese aufgerauhte Schicht 2 wird
oxydiert, und hierauf hält die aufgeschmolzene Selenschicht 3 wesentlich besser und zuverlässiger
als auf glatter Unterlage. Außerdem vergrößert die Aufrauhung die Oberfläche und damit die Leitfähigkeit
der Kontaktfläche.
Der Gleichrichter gemäß der Erfindung kann
beispielsweise auch so hergestellt werden, daß, wie iao in Fig. 2 dargestellt, auf die Aluminiumplatte 11 mit
der Oxydschicht 12 eine dünne Selenschicht 13 aufgeschmolzen
wird und daß auf eine Ableitungselektrode 15, die z. B. aus Eisen, Nickel oder Kobalt
oder auch aus einer vernickelten Eisenplatte besteht, ias
die Selenschicht 14 in dünner Schicht aufgeschmol-
zen wird. Die beiden so entstandenen Teile werden dann bei erhöhter Temperatur mit den Selenschichten
13 und 14 gegeneinandergelegt. Durch entsprechend
bemessenen Druck kann man überschüssiges Selen in geschmolzenem Zustand herauspressen, so
daß die entstehende einheitliche Selenschicht eben gerade die gewünschte Stärke erhält. Nach der Erstarrung
wird dann die Selenschicht durch Wärmebehandlung in die leitende Form übergeführt.
Claims (2)
- Patentansprüche:i. Verfahren zur Herstellung eines Troekenplattengleichrichters, dessen Elektroden durch einen Leiter und einen Halbleiter gebildet werden und bei dem die vorzugsweise aus Selen bestehende Halbleiterelektrode auf die vorzugsweise aus Aluminium oder Magnesium bestehende und elektrolytisch, z. B. nach dem bekannten. Eloxalverfahren, mit einer Oxydschicht bedeckte Leiterelektrode aufgeschmolzen wird, dadurch gekennzeichnet, daß für die metallische Leiterelektrode Aluminiummetall mit einem Reinheitsgrad von über 99,5% und zur elektrolytischen Bildung der Metalloxydschicht verdünnte Schwefelsäure verwendet wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für die metallische Leiterelektrode Magnesiummetall oder eine Magnesium-Aluminium-Legierung, z. B. Elektron, und zur elektrolytischen Bildung der Metalloxydschicht ein alkalischer Elektrolyt verwendet wird.Hierzu 1 Blatt Zeichnungen© 9517 4.54
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