DE9106909U1 - Excimerlaser - Google Patents
ExcimerlaserInfo
- Publication number
- DE9106909U1 DE9106909U1 DE9106909U DE9106909U DE9106909U1 DE 9106909 U1 DE9106909 U1 DE 9106909U1 DE 9106909 U DE9106909 U DE 9106909U DE 9106909 U DE9106909 U DE 9106909U DE 9106909 U1 DE9106909 U1 DE 9106909U1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- gas
- laser
- compressor
- excimer laser
- bypass line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000012717 electrostatic precipitator Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
91 G 3 2 h 5 DE
Siemens Aktiengesellschaft
Excimerlaser
5
5
Die Erfindung bezieht sich auf einen Excimerlaser mit einer von einem Lasergas durchströmten Laserkammer.
Excimerlaser werden durch eine zwischen Elektroden stattfindende Gasentladung angeregt. Die im elektrischen Feld zwischen
den Elektroden beschleunigten geladenen Teilchen treffen mit hoher Geschwindigkeit auf die Elektroden auf und bewirken eine
Erosion und einen Abbrand des Elektrodenmaterials. Dadurch werden Staubpartikel freigesetzt, die in die Laserkammer gelangen
und das Betriebsverhalten des Lasers beeinträchtigen.
Zur Verringerung der von diesen freigesetzten Staubpartikeln ausgehenden störenden Auswirkungen auf das Betriebsverhalten
eines Excimerlasers ist aus der deutschen Patentschrift
32 12 928 eine Reinigungseinrichtung für das Lasergas bekannt, bei der einer im Gaskreislauf für das Lasergas angeordneten
Umwälzpumpe ein Elektrofilter nachgeschaltet ist.
Das in Serie zur Umwälzpumpe geschaltete Elektrofilter stellt
jedoch innerhalb des Gaskreislaufes einen zusätzlichen Strömungswiderstand dar, gegen den die Umwälzpumpe zur Aufrechterhaltung
eines ausreichenden Gasdurchsatzes arbeiten muß. Die bei Excimerlasern erforderliche Gasaustauschrate beträgt pro
Puls etwa das Zwei- bis Dreifache des aktiven Volumens der Laserkammer. Da außerdem der Betriebsdruck in der Laserkammer
mit etwa 5 bar relativ hoch ist, ist ein hoher Gasdurchsatz erforderlich. Der bei einem Excimerlaser erforderliche Volumendurchsatz
in Norm-mVh ist somit sehr viel größer als der beispielsweise beim Betrieb eines C02-Lasers erforderliche
Volumendurchsatz.
01 01
Moe/Gr - 24.05.1991
91 G 3 2 4 5 DE
Um diesen erforderlichen Volumendurchsatz zu gewährleisten,
darf der Strömungswiderstand der zum Reinigen verwendeten Filter nicht zu groß sein. Passive mechanische Filter mit
ausreichendem Abscheidegrad haben jedoch einen hohen Strömungswiderstand,
so daß bei gegebener Verdichterleistung und beengten räumlichen Verhältnissen der Einsatz von mechanischen
Filtern, die keine Fremdenergie benutzen, praktisch nicht möglich ist.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde einen Excimerlaser mit einer in einem Gaskreislauf angeordneten Laserkammer
und einer dem Gaskreislauf zugeordneten Reinigungseinrichtung für eine kontinuierliche Reinigung des Lasergases anzugeben,
bei dem die vorstehend genannten Nachteile vermieden sind.
Die genannte Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelöst mit den Merkmalen des Hauptanspruches. Durch die parallel zum Verdichter
angeordnete Bypass-Leitung entsteht aufgrund des am Verdichter vorhandenen Druckabfalles ein der Strömungsrichtung
des Hauptgasstromes entgegengerichteter Teilgasstrom. Durch die in der Bypass-Leitung angeordneten Mittel zum Reinigen des
Gases wird nur ein Teil des umgewälzten Gases gereinigt und nach erfolgter Reinigung wieder dem Hauptgasstrom zugeführt.
Zum Erzielen eines ausreichenden Abscheidegrades können die in der Bypass-Leitung angeordneten Filter einen hohen Strömungswiderstand
haben, ohne daß die Umwälzung des Gases im gesamten Gaskreislauf wesentlich behindert wird. Der Abscheidegrad
und der Strömungswiderstand der Filter in der Bypass-Leitung können so optimiert werden, daß der während des
Laserbetriebes pro Zeiteinheit anfallende Staub der pro Zeiteinheit im Filter zurückgehaltenen Staubmenge entspricht, so
daß eine Anreicherung von Staub im Lasergas verhindert wird und die erforderliche Austauschrate des Lasergases auch bei
üblicher Verdichterleistung in der Laserkammer nicht unterschritten wird.
01 02
91 G 3 2 45 DE
Zur weiteren Erläuterung der Figur wird auf die Zeichnung verwiesen,
in deren einziger Figur ein Excimerlaser mit einem Gaskreislauf gemäß der Erfindung veranschaulicht ist.
Gemäß der Figur sind in einem Gaskreislauf 2 eine Laserkammer 4, ein Verdichter 6 und ein Kühler 7 angeordnet. Der Verdichter
6, beispielsweise ein Axialverdichter, insbesondere ein Radialverdichter, wälzt das im Gaskreislauf befindliche Lasergas
um, so daß in der Laserkammer 4 ein steter Austausch des laseraktiven Gases erfolgt. Der Kühler 7 ist zwischen Verdichter
6 und Laserkammer 4 angeordnet und kühlt das in der Laserkammer 4 durch die Entladung aufgeheizte Gas. Der für den
Betrieb eines Excimer-Lasers erforderliche Gasdurchsatz liegt in der Größenordnung von wenigen 100 mVh bei einem Betriebsdruck
von etwa 5 bar in der Laserkammer 4.
Parallel zum Verdichter 6 ist eine Bypass-Leitung 8 angeordnet, die ein Filter 10, beispielsweise einen Staubfilter
oder einen Gasreiniger, zum Reinigen des sich in der Bypass-Leitung 8 ausbreitenden Teilgasstromes enthält.
Als Filter 10 ist beispielsweise ein metallisches Feingewebefilter
mit einer Filterweite von 1 bis 5 pm vorgesehen. Zur chemischen Reinigung des Lasergases können im Filter 10 auch
Zeolithe vorgesehen sein, wie sie beispielsweise aus der DE-Al-36 32 995 bekannt sind.
Der sich in der Bypass-Leitung 8 ergebende Teilgasstrom ist dem Hauptgasstrom entgegengesetzt und hängt im wesentlichen
von der vom Verdichter erzeugten Druckdifferenz und dem Strömungswiderstand des Filters 10 ab. Da die pro Zeiteinheit
durch das Filter 10 strömende Gasmenge mit wachsendem Differenzdruck am Verdichter 6 zunimmt sind bei einer vorgegebenen
Gasaustauschrate als Verdichter 6 insbesondere Radialverdichter geeignet, die gegenüber Tangential- oder Axialverdichtern
bei gleichem Volumenstrom einen höheren Differenzdruck erzeugen.
01 03
Claims (2)
1. Excimerlaser mit einer Laserkammer (4), die an einem Gaskreislauf (2) für ein Lasergas angeschlossen ist, einen im
Gaskreislauf (2) angeordneten Verdichter (6) zum Umwälzen des Lasergases, einer in Parallelschaltung zum Verdichter (6)
angeordneten Bypass-Leitung (8) und in dieser Bypass-Leitung (8) angeordnete Mittel (10) zum Reinigen des die Bypass-Leitung
(8) durchströmenden Teilgasstromes. 10
2. Excimerlaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Verdichter (6) ein Radialverdichter
vorgesehen ist.
02 01
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9106909U DE9106909U1 (de) | 1991-06-05 | 1991-06-05 | Excimerlaser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9106909U DE9106909U1 (de) | 1991-06-05 | 1991-06-05 | Excimerlaser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE9106909U1 true DE9106909U1 (de) | 1991-08-22 |
Family
ID=6867989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE9106909U Expired - Lifetime DE9106909U1 (de) | 1991-06-05 | 1991-06-05 | Excimerlaser |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE9106909U1 (de) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4206803A1 (de) * | 1992-03-04 | 1993-09-16 | Lambda Physik Gmbh | Excimer-laser mit einem gasreservoir und einem auffangbehaeltnis sowie verfahren zum nachfuellen von halogengas in das gasreservoir des lasers |
| DE4417468A1 (de) * | 1994-05-19 | 1995-11-23 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Gaslaser |
| DE29716875U1 (de) * | 1997-09-19 | 1997-11-20 | TUI Laser AG, 82166 Gräfelfing | Excimerlaser |
-
1991
- 1991-06-05 DE DE9106909U patent/DE9106909U1/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4206803A1 (de) * | 1992-03-04 | 1993-09-16 | Lambda Physik Gmbh | Excimer-laser mit einem gasreservoir und einem auffangbehaeltnis sowie verfahren zum nachfuellen von halogengas in das gasreservoir des lasers |
| US5396514A (en) * | 1992-03-04 | 1995-03-07 | Lamba Physik Gesellschaft Zur Herstelling Von Lasern Mbh | Excimer laser comprising a gas reservoir and a collecting receptacle and a method of refilling the gas reservoir of the laser with halogen gas |
| DE4417468A1 (de) * | 1994-05-19 | 1995-11-23 | Trumpf Lasertechnik Gmbh | Gaslaser |
| DE29716875U1 (de) * | 1997-09-19 | 1997-11-20 | TUI Laser AG, 82166 Gräfelfing | Excimerlaser |
| DE19840035C2 (de) * | 1997-09-19 | 2002-01-24 | Tui Laser Ag | Excimerlaser |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3212928C2 (de) | Entladungsgepumpter Laser | |
| DE3685580T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von luft durch bestrahlen mittels ultraviolettstrahlen. | |
| EP0088973B1 (de) | Schaltungsanordnung zum impulsförmigen Betreiben eines oder mehrerer Hochfrequenz-Ozonisatoren | |
| DE10305701B4 (de) | Anordnung zur Erzeugung von EUV-Strahlung mit hohen Repetitionsraten | |
| DE4417468A1 (de) | Gaslaser | |
| DE676589C (de) | Anordnung zum Schutz von Roehren mit Schirmgitter gegen UEberstroeme | |
| DE9106909U1 (de) | Excimerlaser | |
| DE2528343A1 (de) | Vorrichtung zur begrenzung der laserverstaerkung eines mediums | |
| DE1803162B2 (de) | Überspannungsableiter | |
| DE3632405A1 (de) | Filter fuer farbspritz- und einbrennkabinen | |
| EP0681360A2 (de) | Kompaktantrieb aus Motor und Steuerung | |
| EP0126735B2 (de) | Vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung | |
| DE69206600T2 (de) | Laservorrichtung. | |
| DE19840035C2 (de) | Excimerlaser | |
| DE2509836C3 (de) | Sicherheitskühlvorrichtung für einen Kernreaktor | |
| DE2434830A1 (de) | Elektronenstrahlanlage zur thermischen bearbeitung von objekten durch elektronenbeschuss | |
| DE3810604C2 (de) | ||
| DE1148664B (de) | Hilfskuehlkreislauf zum Abfuehren der Reaktornachwaerme | |
| EP0254045B1 (de) | Gaslaser mit Hochfrequenzanregung | |
| DE19613357A1 (de) | Gepulste Lichtquelle | |
| DE4112160A1 (de) | Diffusionsgekuehlter laser, vorzugsweise co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-laser | |
| DE4400345C2 (de) | Vorrichtung für die Reinigung von Lasergas | |
| AT356744B (de) | Anordnung zum ueberspannungsschutz von nieder- spannungsanlagen | |
| EP1465301B1 (de) | Gaslaserresonator | |
| DE707326C (de) | Schutzschaltung fuer gittergesteuerte Elektronenroehren |