DE85978T1 - Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke und des refractionsindexes transparenter materialien. - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke und des refractionsindexes transparenter materialien.Info
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Claims (13)
1. Verfahren zum Messen der Dicke und des Brechungsindex transparenter
Materialien, gekennzeichnet durch die folgenden Verfahrensschritte
:
man erzeugt zwei Lichtstrahlungen von geringfügig unterschiedlicher
Frequenz;
man erzeugt ein erstes elektrisches Signal mit einer Frequenz gleich der Differenz zwischen den Frequenzen der beiden
Strahlungen, das die Schwebung zwischen diesen Strahlungen darstellt, nachdem sie einem Weg außerhalb des Materials gefolgt
sind;
man trennt die beiden Strahlungen zur Erzeugung eines ersten und eines zweiten monochromatischen Strahlenbündels;
man erzeugt ein zweites und ein drittes elektrisches Signal einer Frequenz gleich der Differenz zwischen den beiden genannten
Frequenzen, wobei das zweite und das dritte Signal die Schwebungen zwischen den Strahlungen des ersten monochromatischen
Strahlenbündels, nachdem es auf einem Weg außer-
— Δ —
halb des Materials geleitet worden ist, und des zweiten monochromatischen
Strahlenbündels, nachdem es auf zwei verschiedenen Wegen im Material geleitet worden ist, darstellt;
man mißt die auf den Differenzen des optischen Wegs beruhenden Phasendifferenzen zwischen dem zweiten bzw. dritten
Schwebungssignal und dem ersten Schwebungssignal;
und man ermittelt die Werte für die Dicke und den Brechungsindex des Materials aus den Phasendifferenzen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die beiden Lichtstrahlungen durch den Zeeman-Effekt erhält.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man das getestete Material in aufeinanderfolgenden Schichten auf
einem Träger aufbringt; daß man das zweite und das dritte Schwebungssignal dadurch erzeugt, daß man das erste monochromatische
Strahlenbündel zuerst durch den Träger allein treten läßt und dann durch den Träger mit dem aufgebrachten
Material nach der Aufbringung jeder Schicht treten läßt; daß man die Werte der Phasendifferenzen zwischen dem ersten und
zweiten und zwischen dem ersten und dritten Schwebungssignal nach jeder Messung speichert; und daß man die Werte des
Brechungsindex und der Dicke aus der Differenz zwischen aufeinanderfolgenden Messungen ermittelt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten dotierte Siliciumschichten sind, die man für die Herstellung
von Vorformen optischer Fasern an einem Trägerrohr aufgebracht hat.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man die Messungen der Dicke und des Brechungsindex entlang der
gesamten Vorformachse und für jede axiale Stellung entlang dem gesamten Schichtumfang durchführt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn-
zeichnet, daß man die beiden unterschiedlichen Wege für das zweite Strahlenbündel durch Aufspalten dieses Strahlenbündels
mit Hilfe eines optischen Systems in zwei Teilbündel, die man mit unterschiedlichem Einfallswinkel auf das Material richtet, erhält.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß man die beiden unterschiedlichen Wege für das zweite Strahlenbündel aufeinanderfolgend unter Drehung des
Trägers erhält und daß man wenigstens eines der jeweilig
resultierenden elektrischen Signale für die Auswertung speichert.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß man zum Messen von Dickenwerten, die
Phasenunterschiede über 2/ff im Vergleich zum ersten Schwebungssignal
zur Folge haben, dadurch einen Bezugswert bestimmt, daß man das zweite Strahlenbündel das Material mit einem ersten
Einfallswinkel durchsetzen läßt, und man das zweite und das dritte Schwebungssignal dadurch erzeugt, daß man das zweite
Strahlenbündel das Material mit zwei verschiedenen Einfallswinkeln so durchsetzen läßt, daß die Phasendifferenz, die sie im
Vergleich zum Bezugswert ergeben, niedriger ist als 2ΤΓ .
9. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch:
- eine Quelle (3) eines Lichtbündels (4), das zwei Strahlungen
von geringfügig unterschiedlicher Frequenz (Fl, F2) enthält;
- eine erste Fotodiode (6), die ein erstes elektrisches Signal
einer Frequenz erzeugt, die gleich der Differenz zwischen den Frequenzen der beiden Strahlungen ist;
- einen Strahlspalter (5) zur Abtrennung eines Bruchteils des von der Quelle emittierten Lichtbündels (4) und zum Senden
dieses Bruchteils zur ersten Fotodiode (6) entlang einem Weg, der das Material (1,2a; 101) nicht durchsetzt;
- Einrichtungen (8,9), die den restlichen Lichtbündel-Bruchteil
in die beiden monochromatischen Strahlungen teilen;
- Einrichtungen (14,15), die ein zweites und ein drittes elektrisches Signal jeweils mit einer Frequenz gleich der
Differenz der Frequenzen der beiden Strahlungen erzeugen;
- ein optisches System (10,11,12,13,16,17), das den das zweite
und das dritte elektrische Signal erzeugenden Einrichtungen eine der beiden Strahlungen entlang einem Weg, der das
Material nicht durchsetzt, und die andere entlang zwei unterschiedlichen Wegen durch das Material zuführt;
- ein Phasenvergleichsystem (20,21), das die elektrischen Signale empfängt und Signale erzeugt, welche die Phasendifferenzen
zwischen dem ersten und dem zweiten bzw. zwischen dem ersten und dem dritten Signal angeben;
- ein Rechensystem (24), das aus den Wertepaaren der Phasendifferenz
die Werte der Dicke und des Brechungsindex ermittelt.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Quelle ein Zeeman-Effekt-Laser ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß das optische System Einrichtungen (16,17) zum Teilen der
zweiten Strahlung in zwei getrennte Bündel umfaßt, welche den unterschiedlichen Wegen durch das Material folgen, und daß die
Einrichtungen zum Erzeugen des zweiten und des dritten elektrischen Signals eine zweite und eine dritte Fotodiode
(14,15) umfassen, die jeweils die auf einem der unterschiedlichen Wege gelaufene zweite Strahlung empfangen und
einem jeweiligen Phasenkomparator (20,21) zugeordnet sind.
12. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet,
daß das Material (101) an einem Träger montiert ist, der zur Aufnahme der zweiten Strahlung mit zwei unterschiedlichen
Einfallswinkeln drehbar ist, und daß die Einrichtungen zum
Erzeugen des zweiten und des dritten elektrischen Signals eine einzige Fotodiode (15) umfassen, die die zweite Strahlung
entlang den beiden unterschiedlichen Wegen zu zwei verschiedenen Zeitpunkten empfängt.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12, gekennzeichnet
durch eine Einrichtung zum Erzeugen einer Relativbewegung zwischen dem Material (1,2a; 101) und der zweiten Strahlung
zur Bewirkung von Messungen an verschiedenen Punkten der Oberfläche des Materials.
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