DE7205499U - Vorrichtung zum entwickeln von lichtempfindlichen materia - Google Patents

Vorrichtung zum entwickeln von lichtempfindlichen materia

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DE7205499U DE19727205499 DE7205499U DE7205499U DE 7205499 U DE7205499 U DE 7205499U DE 19727205499 DE19727205499 DE 19727205499 DE 7205499 U DE7205499 U DE 7205499U DE 7205499 U DE7205499 U DE 7205499U
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D7/00Gas processing apparatus

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Dry Development In Electrophotography (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

»tv*
tut» «■■»
Gbm 551
4. Februar 1972
Beschreibung zur Anmeldung der
KALLE AKTIENGESELLSCHAFT Wiesbaden-Biebrich
für ein Gebrauchsmuster auf
Vorrichtung zum Entwickeln von lichtempfindlichem Material
Die Neuerung betrifft eine Vorrichtung zum Entwickeln von lichtempfindlichem Material, mit einem gasförmigen Medium, insbesondere einem Gemisch aus Ammoniakgas und Wasserdampf in einer Entwicklungskammer. Mit der Vorrichtung können z.B. Materialien mit Diazoschichten wie Mikrofilme oder Lichtpausen entwickelt werden.
Bei den bekannten, drucklos arbeitenden Entwicklungsvorrichtungen wird die ammoniakhaltige Luft an einer beliebigen Stelle der Vorrichtung abgesaugt und in einer Abluftleitung ins Freie geleitet. Bei diesen Entwicklungsvorrichtungen gelangt durch die Ein- und Ausgabeöffnungen trotz des Absaugens noch ammoniakhaltige Luft in den Außenraum. Ferner ist es aufwendig, Abluftleitungen von der Vorrichtung ins Freie zu verlegen, und schließlich trägt die ins Freie geleitete Abluft zur Verschmutzung bei.
Aus der deutschen Offenlegungsschrift 1 597 682 ist eine Entwicklungsvorrichtung bekannt, bei der das Entwicklungsgas mit einem Gebläse im Kreislauf geführt wird. Dazu wird das Entwicklungsgas in der Nähe der Eingabeöffnung in die Entwicklungskammer geblasen und in der Nähe der Ausgabeöffnung aus der Entwicklungskammer abgesaugt. Um die Konzentration des im Kreislauf
befindlichen Entwicklungsgases, in diesem Fall Ammoniak, innerhalb bestimmter Grenzwerte zu halten, wird neues Ammoniakgas zudosiert . Damit wird das Gesamtvolumen des Gases vergrößert, was
j dazu führt, daß an der Ein- und Ausgabeöffnung
\ der Entwicklungsvorrichtung Entwicklungsgas aus-
tritt. Auch bei dieser Entwicklungsvorrichtung kann also ammoniakhaltiges Gas in den Außenraum . treten.
• Aufgabe der vorliegenden Neuerung ist es, eine
Entwicklungsvorrichtung zu schaffen, bei der kein Entwicklungsgas in den Außenraum tritt und bei der keine
■ aufwendigen Abluftrohre notwendig sind, durch die
■ das Entwicklungsgas ins Freie geleitet wird.
's Neuerungsgemäß wird eine Vorrichtung zum Entwickeln
; von lichtempfindlichem Material mit einem gasförmi-
i gen Medium in einer Entwicklungskammer vorgeschlagen,
die dadurch gekennzeichnet ist, daß die Entwicklungs-': kammer im Bereich ihrer Ein- bzw. Ausgabeöffnung
: für das lichtempfindliche Material mit einer Vor-
I kammer versehen ist und daß die Vorkammer eine mit
• einem Absorber verbundene Absaugeinrichtung enthält.
Die neuerungsgemäße Vorrichtung ist z.B. zur Entwicklung von Lichtpausen und Mikrofilmen geeignet. Sind die Ein- und Ausgabeöffnung der Entwicklungskammer räumlich voneinander getrennt, so schließt sich an die Ein- und die Ausgabeöffnung jeweils eine Vorkammer an. Sind dagegen die Ein- und Ausgabeöffnung auf derselben Seite der Entwicklungskammer z.B. übereinander angeordnet, genügt eine Vorkammer, die sich an die Ein- und Ausgabeöffnung anschließt. Bei Entwicklungsvorrichtungen für Mikrofilm-Fensterkarten, bei denen nur eine Öffnung vorhanden ist, in die die Fensterkarten zur Entwicklung hineingesteckt und nach der Entwicklung wieder herausgezogen werden, wird vor dieser öffnung eine Vorkammer angebracht. Sind die Vorrichtungen für die Fensterkarten als Durchlaufentwicklungsgeräte ausgebildet, ist jeweils eine Vorkammer vor der Ein- und der Ausgabeöffnung vorhanden.
Die Ein- und Ausgabeöffnungen der Entwicklungskammer können von Walzenpaaren begrenzt werden oder können, wie häufig bei Geräten für Mikrofilmkarten üblich, einfach
ein Schlitz in der Kammerwand sein. Werden die Ein- und /sgabeöffnungen der Entwicklungskammer von Walzenpaaren begrenzt, so müssen ihre in den Seitenwänden der Entwicklungskammer gelagerten
Achsen gut abgedichtet sein. Die Vorkammer kann sich auch über den Bereich der Seitenwände der Entwicklungskammer erstrecken, in dem die Achsen der Walzenpaare gelagert sind. In diesem Fall ist dort eine sehr gute Abdichtung nicht nötig, da an den Achsen entweichendes Entwicklungsgas ebenfalls in die Vorkammer gelangt, wo es abgesaugt wird.
Wird als Entwicklungsgas Ammoniak verwendet, so kann dieses in der Entwicklungskammer durch Erwärmen von wäßrigem Ammoniak entstehen oder von außen in die Entwicklungskammer geleitet werden.
Die Vorkammer enthält eine Absaugvorrichtung, deren Absaugkanäle vorzugsweise ober- und unterhalb der Ein- bzw. Ausgabeöffnung der Vorkammer angeordnet
sind. Sie verlaufen vorzugsweise parallel zur öffnung. Die Absaugkanäle sind z.B. an eine Pumpe
angeschlossen. Die abgesaugte Luft wird in einen Absorber geleitet, der z.B. Citronensäure enthält. Während der Entwicklung w: in der Entwicklungskammer Entwicklungsgas zudosiert. Nur ein Teil dieses Gases wird bei der Entwicklung des lichtempfindlichen Materials verbraucht. Infolge der Zunahme an Entwicklungsgas wird eine entsprechende Gasmenge durch die Ein- bzw. Ausgabeöffnung in die Vorkammer entweichen. Die Saugleistung der Absaugeinrichtung ist so bemessen, daß eine Gasmenge abgesaugt werden kann, die mindestens der größten pro Zeiteinheit während des Betriebs zudosierten Gasmenge entspricht.
Um zu gewährleisten, daß das aus der Entwicklungskammer austretende Gas in der Vorkammer abgesaugt wird und nicht in den Außenraum gelangt, ist der Abstand zwischen der Öffnung der Entwicklungskammer und der Öffnung der Vorkammer vorzugsweise groß gegenüber der Höhe der Vorkammeröffnung. Wird die Öffnung der Entwicklungskammer von einem Walzenpaar begrenzt, so ist der Abstand der Berührungslinie der Walzen zur öffnunfl der Vorkammer vorzugsweise
größer als der Radius der Walzen zuzüglich der Höhe der Vorkammeröffnung. Wird auch die Vorkammeröffnung von einem Walzenpaar begrenzt, so sollte in diesem Fall der Abstand der öffnungen größer sein als der Abstand der beiden entferntesten Stellen in der Vorkammerwand, an denen Gas aus der Vorkammer entweichen kann, zuzüglich der beiden Walzenradien. Ebenso kann nur die Ein- bzw. Ausgabeöffnung der Vorkammer von einem Walzenpaar begrenzt werden; dann ist der Abstand der Öffnungen vorzugsweise größer als der Abstand der entferntesten Stellen in der Yorkammerwand, an denen Gas entweichen kann, zuzüglich des Radius der Walzen.
Anhand der Zeichnungen soll die Neuerung näher erläutert werden.
Es zeigen
Figur 1 einen Teillängsschnitt durch eine erste
Ausführungsform der Entwicklungsvorrichtung,
Figur 2 eine perspektivische Teilansicht der Entwicklungsvorrichtung von Fig. 1,
7205489-4.5.72
Figur 3 einen Teillängsschnitt durch eine zweite Ausführungsform der Entwicklungsvorrichtung,
Figur 4 einen Teillängsschnitt durch eine dritte Ausführungsform der Entwicklungsvorrichtung.
Gemäß der in den Figuren 1 und 2 dargestellten Ausführungsform hat die Entwicklungskammer 1 in ihrer Frontwand 2 eine Eingabeöffnung 3, die von den Walzen 4 und 5 begrenzt wird. Zwischen der Frontwand
2 und den Walzen 4 und 5 sind Dichtungen 6. Desgleichen sind Dichtungen zwischen den Walzen 4 und 5 und den Seitenwänden 7 der Entwicklungskammer 1 ( in den Figuren nicht abgebildet). An die Frontwand 2 der Entwicklungskammer 1 schließt sich eine Vorkammer an. In der Vorkammer 8 sind als Führungen für das zu entwickelnde Material perforierte Leitbleche 9 angebracht. Das zu entwickelnde Material wird durch die Öffnung 10 der Vorkammer 8 zwischen die perforierten Leitbleche 9 eingeführt und wird dann von den Walzen 4 und 5 erfaßt und in die Entwicklungskammer 1 gefördert. Der Abstand b zwischen der Eingabeöffnung
3 zwischen den Walzenpaaren 4 und 5 der Entwicklungskammer 1 und der Eingabeöffnung 10 der Vorkammer
ist größer als der Radius r der Walze 4 bzw. 5 zuzüglich der Höhe a der Eingabeöffnung 10 der Vorkammer
Parallel zur Eingabeöffnung IC sind die Absaugkanäle 11 und 12 angebracht. Dabei verläuft in den Figuren 1 und 2 der Absaugkanal 12 im Boden 13 der Vorkammer 8. Wie aus der Figur 2 zu ersehen ist, sind die Absaugkanäle 11 und 12 mit Bohrungen oder öffnungen 14 versehen. Die Absaugkanäle 11 und 12 sind über die Rohre 15 mit einer in den Zeichnungen nicht dargestellten Pumpe verbunden. Das abgesaugte Gas wird in einen ebenfalls nicht dargestellten Absorber geleitet, der als Absorptionsmittel z.B. Zitronensäure enthält. Die Bohrungen bzw. Öffnungen 14 sind so klein gehalten, daß durch sie unabhängig von ihrer Lage in den Absaugkanäle 11 und 12 jeweils die gleiche Gasmenge pro Zeiteinheit gesaugt wird. Sind die Bohrungen bzw. öffnungen 14 größer, so kann man ebenfalls eine gleichmäßige Saugleistung an allen Bohrungen bzw. öffnungen 14 erreichen, wenn diese um so größer werden, je weiter sie von den Ansätzen der Rohre 15 an die Absaugkanäle 11 und 12 entfernt sind.
Ist in der Entwicklungsvorrichtung kein zu entwickelndes Material und wird daher kein Ammoniakgas in die Entwicklungskammer 1 eingeleitet bzw.
in der Entwicklungskammer 1 durch Erwärmen einer wäßrigen Ammoniaklösung erzeugt, wird durch die Absaugkanäle 11 und 12 Luft aus dem Außenraum durch die öffnung 10 der Vorkammer 8 angesaugt. Führt man dagegen Material durch die öffnung 10 und anschließend durch die Walzen 4 und 5 in die Entwicklungskammer 1 ein, dann wird zur Entwicklung pro Zeiteinheit eine bestimmte Menge Ammoniakgas in der Kammer 1 freigesetzt bzw. in die Kammer 1 eingeführt. Durch dieses zudosierte Ammoniakgas wird eine entsprechende Gasmenge durch die Eingabeöffnung der Entwicklungskammer 1 in die Vorkammer 8 verdrängt. Geringe Mengen an Gas werden auch noch zwischen den Walzen 4 und 5 und der Frontwand 2 an den Dichtungen
6 austreten. Das aus der Entwicklungskammer 1 austretende Gas wird durch die Absaugkanäle 11 und abgesaugt, bevor es die öffnung 10 der Vorkammer erreicht, über die Rohre 15 wird das Gas in den Absorber geleitet, in dem das Ammoniak aus dem Gas beseitigt wird. Die Saugleistung der Pumpe
wird so eingestellt, daß sie gerade ausreicht, die aus der Entwicklungskammer 1 in die Vorkammer 8 austretende Gasmenge abzusaugen. Damit wird die abgesaugte Gasmenge, die den Absorber passiert, möglichst klein gehalten.
In den Figuren 1 und 2 ist nur der Eingabteil der Entwicklungsvorrichtung dargestellt. Ganz entsprechend sieht der Ausgabeteil aus, der sich nach rechts hin anschließt.
In der Figur 3 ist eine Ausführungsform dargestellt, die für die Entwicklung von Mikrofilmkarten geeignet ist. Die Eingabeöffnung 3 ist ein Schlitz in der Frontwand 2 der Entwicklungskammer 1. Die Mikrofilmkarten werden durch die öffnung IO der Vorkammer 8 und durch die Öffnung 3 in die Entwicklungskammer 1 eingeführt und nach der Entwicklung wieder herausgenommen. Der Abstand b zwischen den öffnungen 10 und 3 ist größer als die Höhe a der öffnung 10.
In der in Figur 4 dargestellten Ausführungsform sind die Ein- bzw. Ausgabeöffnung 10 der Vorkammer 8
und die Ein- bzw. Ausgabeöffnung 3 der Entwicklungskammer 1 von den Walzenpaaren 16, 17 bzw. 4, 5 begrenzt. Zwischen der Frontwand 18 und den Walzen 16 unl 17 sind Dichtungen 6 angebracht. Der Abstand b zwischen der Ein- bzw. Ausgabeöffnung 3 der Entwicklungskammer 1 und der Ein- bzw. Ausgabeöffnung 10 der Vorkammer 8 ist vorzugsweise größer als die Summe der Radien rl und r2 der beiden Walzenpaare 4, 5 und 16, 17 zuzüglich des Abstand c zwischen der oberen und der unteren Dichtung 6, den beiden entferntesten Stellen in der Vorkammerfrontwand 18, an denen, wenn auch geringe Mengen, Entwicklungsgas entweichen kann. Bestehen die Walzenpaare 4, 5 bzw. 16, jeweils aus Walzen mit unterschiedlichen Radien, so ist die Summe der größten Radien ausschlaggebend.
Wenn wie in den Figuren 1 bis 3 die Einführungsöffnung 10 ein Schlitz in der Frontwand 18 ist, kann eine Klappe oder ähnliche Einrichtung angebracht sein, um die Öffnung 10 während des Stillstandes der Vorrichtung zu schließen. Damit wird verhindert, daß während des Stillstands, wenn die Absaugvorrichtung nicht angestellt ist, durch Diffusion ammoniakhaltiges Gas aus der Entwicklungskammer 1 durch die Vorkammer 8 in den Außenraum gelangt.

Claims (5)

Schut aansprüche
1. Vorrichtung zum Entwickeln von lichtempfindlichem Material mit einem gasförmigen Medium in einer Entwicklungskammer, dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklungskammer (1) im Bereich ihrer Ein- bzw. Ausgabeöffnung (3) für das lichtempfindliche Material mit einer Vorkammer (8) versehen ist und daß die Vorkamire"'1 (8) eine mit einem Absorber verbundene Absaugeinrichtung (11, 12, 15) enthält.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Absaugkanäle (11, 12) der Absaugeinrichtung ober- und unterhalb sowie parallel zur Ein- bzw. Ausgabeöffnung (10) der Vorkammer (8) angeordnet sind.
-Ik-
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Ein- und Ausgabeöffnungen (3j 10) der Entwicklungskammer (1) und d^r Vorkammer (8) Schlitze sind und daß der Abstand (b) dieser Ein- bzw. Ausgabeöffnungen (3, 10) größer ist als die Höhe (a) der Ein- bzw. Ausgabeöffnung (10) der Vorkammer (8).
4. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Ein- bzw. Ausgabeöffnung (3) der Entwicklungskammer (1) von einem Walzenpaar (4, 5) begrenzt wird und daß der Abstand (b) der Ein- bzw. Ausgabeöffnung (3) der Entwicklungskammer (1) zur Ein- bzw. Ausgabeöffnung (10) der Vorkammer (8) größer ist als der Radius (r) der Walzen (4, 5) zuzüglich der Höhe (a) der Einbzw. Ausgabeöffnung (10) der Vorkammer (8).
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Ein- bzw. Ausgabeöffnung (10) der Vorkammer (8) von einem Walzenpaar (16, 17) begrenzt wird und daß der Abstand (b) der Ein- bzw. Ausgabe-
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öffnungen (3, 10) voneinander größer ist als der Abstand- (c) der. beiden entferntesten Stellen an der Ein- bzw. Ausgabeöffnung (10) der Vorkammer (8), an denen Entwicklungsgas aus der Vorkammer entweichen
kann, zuzüglich des Radius (rl) des Walzenpaares (4, 5) und des Radius (r2) des Walzenpaares (16, 17)·
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