DE69938512T2 - Optischer autofokus zur verwendung bei mikrotiterplatten - Google Patents

Optischer autofokus zur verwendung bei mikrotiterplatten Download PDF

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Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Diese Erfindung betrifft im Allgemeinen ein Verfahren zum Fokussieren von Licht für optische Messungen in Volumenräume und insbesondere ein automatisches Fokussierungssystem zur Verwendung bei Messungen in Vertiefungen innerhalb Mikroplatten.
  • STAND DER TECHNIK
  • Zahlreiche Forschungsanalysen verwenden Fluoreszenz, um ein interessierendes Ziel zu identifizieren oder zu spezifizieren. Die Fluoreszenzerfassung besitzt viele Anwendungen in der Serologie, Zytologie, Mikrobiologie und Histopathologie. Ein Hauptvorteil der Verwendung der Fluoreszenz sind die niedrigen Pegel, bei denen die Fluoreszenz erfasst werden kann, was sehr empfindliche Tests ermöglicht. Ein zweiter Vorteil bei der Verwendung von Fluoreszenz besteht darin, dass verschiedene fluoreszierende Verbindungen verschiedene unterschiedliche Anregungs- und Emissionswellenlängen aufweisen. Dies ermöglicht die Entwicklung eines Tests von mehreren Zielen in einer einzelnen Probe, wobei der Test für jedes interessierende Ziel einer anderen Wellenlänge als Marker zugeordnet ist. Ein zusätzlicher Vorteil besteht darin, dass die Fluoreszenz nicht die Verwendung von Radioisotopen erfordert, was zu Reagenzien führt, die sowohl sicher zu verwenden sind als auch leichter entsorgt werden können.
  • Eine Anwendung der Verwendung von Tests auf Fluoreszenzbasis besteht im Aussondern von Verbindungen, um potentielle Pharmazeutika zu identifizieren. Der Prozess der Arzneimittelentdeckung umfasst das Aussondern einer riesigen Anzahl von Arzneimittelkandidaten, die durch kombinatorische Chemie hergestellt werden, was eine äußerst große Anzahl von Tests erfordert. Um diesen Prozess zu vereinfachen, werden die Testprozeduren häufig automatisiert. Die Automatisierung erhöht den Aussonderungsdurchsatz erheblich, was eine kosteneffizientere Isolation von möglichen neuen Arzneimitteln ermöglicht.
  • Ein Verfahren zum Automatisieren des Aussonderungsprozesses beinhaltet die Einführung von Proben in eine Mikroplattenvertiefung. Diese Vertiefungen sind häufig kleine, zylindrische Behälter, die in Reihen in einer rechteckigen Matrix an einer Kunststoffprobenplatte angeordnet sind. Üblicherweise verwendete Mikroplatten weisen 96, 384 oder mehr Vertiefungen pro Platte auf. Die automatisierte Handhabung dieser Platten ermöglicht einen höheren Durchsatz beim Aussondern von Proben in Mikroplatten.
  • Derzeit erfassen Tests unter Verwendung von Mikroplatten und Fluoreszenz die Emission bei einem zweidimensionalen Lesen von Mikroplattenvertiefungen. Das US-Pat. Nr. 5 589 351 lehrt beispielsweise ein Fluoreszenzanalysesystem, das Licht erfasst, das von Vertiefungen in einer Mikroplatte übertragen wird. Das Licht von einer Vertiefung wird gesammelt und zu einem Reflektor übertragen, der nacheinander Licht auf einen einzelnen Detektor richtet. Dieses System ermöglicht das fortlaufende Lesen von Reihen von Vertiefungen. Das Lesen von Vertiefungen wird zweidimensional durchgeführt, wobei jede Vertiefung als einheitliche Quelle von emittiertem Licht gelesen wird. Dies beseitigt die Fähigkeit, dass der Test eine Information über lokalisierte Ereignisse innerhalb der Vertiefung sammelt. Das US-Pat. Nr. 5 784 152 lehrt einen weiteren Mikroplattenleser, der eine Fluoreszenzemission erfasst. In diesem Leser sind optische Elemente enthalten, um eine abstimmbare Erfassung auf spezifische Wellenlängen zu ermöglichen. Die Erfassung wird wieder auf eine zweidimensionale Weise durchgeführt.
  • Das dreidimensionale Lesen von Mikroplattenvertiefungen würde ermöglichen, dass mehr Informationen gesammelt werden, während Mikroplatten verwendet werden. Die anvisierte Fluoreszenz ist häufig am Boden der Mikroplattenvertiefungen lokalisiert. Die Flüssigkeit in den Mikroplattenvertiefungen enthält häufig zusätzliche ungebundene fluoreszierende Reagenzien. In zweidimensionalen Standard- Mikroplatten-Fluoreszenztests ist die Erfassung von Fluoreszenz am Boden einer Mikroplattenvertiefung in einer homogenen Flüssigkeit nicht möglich. Die Fluoreszenzemission am Boden der Vertiefung würde durch die Hintergrundfluoreszenz, die von den ungebundenen fluoreszierenden Verbindungen im Rest der Tiefe der Vertiefung emittiert wird, verdeckt werden. Vereinfachte Raster mit hohem Durchsatz würden idealerweise die Erfassung der Bodenschicht in einer Vertiefung ohne Entfernung der nicht zur Reaktion gebrachten fluoreszierenden Reagenzien ermöglichen.
  • Die Fluoreszenz von der Bodenschicht einer Mikroplattenvertiefung erfassen zu können, erfordert die Fähigkeit, automatisch auf eine dünne Schicht am Boden der Vertiefung zu fokussieren, um die Fluoreszenzemission anzuregen. Dies erfordert, dass die Lichtquelle auf eine Tiefe von 30 bis 150 Mikrometer am Boden der Mikroplattenvertiefung fokussieren kann. Diese Tiefenschärfe würde eine virtuelle Kapillare am Boden der Vertiefung, eine Brennpunktschicht mit der Fläche des Vertiefungsbodens, aber eine Tiefe von nur 30 bis 150 Mikrometer erzeugen.
  • Die Geometrie von Mikroplatten macht die Versuche, auf den Boden von Mikroplattenvertiefungen zu fokussieren, kompliziert. Eine Standardbrennweite wäre möglich, wenn die Platten für die optische Toleranz gleichmäßig wären. Der Ort der Bodenfläche einer Mikroplattenvertiefung ist jedoch bis auf Toleranzen von 30 bis 150 Mikrometer nicht gleichmäßig. Dieses Problem zu beseitigen, erfordert die Entwicklung eines Verfahrens zum genauen Auffinden des Bodens einer Mikroplattenvertiefung und das Fokussieren auf diesen Ort. Bei einem System mit hohem Durchsatz muss dieses Verfahren schnell und genau sein.
  • Ein bekanntes Verfahren zum Erfassen einer Bodenschicht in einer Mikroplatte verwendet die Fluoreszenzerfassung, um optisch automatisch auf eine Zielschicht innerhalb einer Mikroplattenvertiefung zu fokussieren. Wenn der Brennpunkt von Laserlicht unter der Vertiefungsbasisoberseite liegt, wird eine minimale Fluoreszenz erfasst. Wenn die Mikroplatte entlang der z-Achse einer Mikroplattenvertiefung (die z-Achse ist die Längsachse der Mikroplattenvertiefung) bewegt wird, beginnt der Brennpunkt an einem gewissen Punkt die Vertiefungsbasisoberseite zu kreuzen. Das Licht vom Brennpunkt beginnt, die Fluoreszenzemission von einigen der fluoreszierenden Verbindungen in der Vertiefung anzuregen, wenn der Brennpunkt in die Vertiefung eintritt. Wenn der ganze Brennpunkt über der Vertiefungsbasisoberseite liegt, wird eine maximale Fluoreszenzintensität erreicht. 2 ist ein Graph der Fluoreszenzintensität, wenn der Brennpunkt in die Vertiefung bewegt wird. Der Beginn des maximalen Plateaus der Fluoreszenzintensität ist ein Punkt am Ort der Platte, wenn sich der Brennpunkt vollständig über der Vertiefungsbasisoberseite befindet. Dies wurde verwendet, um den Strahl innerhalb der Mikroplattenvertiefung neu zu fokussieren. In der Praxis hat sich jedoch dieses Verfahren als schwierig durchführbar erwiesen. Die Zeit, die erforderlich ist, um eine graphische Fluoreszenzdarstellung zu verwenden, um die Brennpunktanordnung innerhalb einer Vertiefung zu ermitteln, ist für Anwendungen mit hohem Durchsatz nicht schnell genug.
  • Daher ist es eine Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung bereitzustellen, die in der Lage sind, automatisch auf eine dünne Schicht am Boden einer Mikroplattenvertiefung zu fokussieren. Die Fokussierungsprozedur sollte schnell, genau und an die Fluoreszenzmessung in heterogenen Tests, die ungebundene fluoreszierende Reagenzien enthalten, anpassbar sein. Eine zusätzliche Aufgabe der Erfindung besteht darin, das Fokussierverfahren verwenden zu können, um das Volumen der Flüssigkeit innerhalb der Mikroplattenvertiefung zu ermitteln.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Die obigen Aufgaben werden durch ein Verfahren und eine Vorrichtung gelöst, die einen fokussierten Lichtstrahl verwenden, um einen Bezugspunkt an einer Mikroplatte wie z. B. den Ort der oberen Oberfläche der Mikroplattenvertiefungsbasis, d. h. die Oberfläche, die den Boden der Vertiefung definiert, optisch abzutasten und diesen Bezugsort zu verwenden, um den Lichtstrahl erneut auf ein Ziel innerhalb der Mikroplattenvertiefung zu fokussieren, das in einer definierten Beziehung zum Bezugsort angeordnet ist. Eine Abtastung der Zielschicht ermöglicht einen Test einer dünnen Schicht innerhalb einer Mikroplattenvertiefung ohne optische Störung von Nicht-Ziel-Stellen innerhalb der Mikroplattenvertiefung, insbesondere wenn Fluoreszenz verwendet wird, um Zielsubstanzen zu identifizieren.
  • Bei einem ersten Ausführungsbeispiel wird dieses Verfahren durch Fokussieren eines Lichtstrahls in Richtung der Materialgrenzfläche, die an einer optisch erfassbaren Bezugsoberfläche an der Unterseite einer Mikroplatte vorkommt, erreicht. Die Bezugsoberfläche wird dann relativ zum Brennpunkt des Lichtstrahls bewegt. Wenn diese Bewegung stattfindet, wird eine Spiegelreflexion von der Bezugsoberfläche aufgefangen und durch eine Brennpunktblendenöffnung auf einen Lichtdetektor gerichtet, wo die Intensität der Spiegelreflexion gemessen wird. Eine Spitzenintensität wird gemessen, wenn sich der Brennpunkt des Lichtstrahls auf der Bezugsoberfläche befindet, was ermöglicht, dass eine maximale Menge an Licht durch eine Brennpunktblendenöffnung und auf einen Detektor gerichtet wird. Sobald der Ort der Bezugsoberfläche bekannt ist, kann dieser Ort verwendet werden, um den Lichtstrahl auf eine Zielschicht in der Mikroplattenvertiefung zu verschieben, wenn sich die Zielschicht in einer bekannten Beziehung zur Bezugsoberfläche befindet. Sobald der Brennpunkt auf die Zielschicht verschoben ist, wird die Fluoreszenz angeregt und unter Verwendung einer Abtastung der Zielschicht erfasst.
  • Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel des automatischen Fokussierverfahrens werden die Brennpunktblendenöffnung und der Detektor gegen einen positionsempfindlichen Detektor ausgetauscht. Wieder wird ein Brennpunkt eines Lichtstrahls auf eine Bezugsoberfläche an der Unterseite einer Mikroplattenvertiefung gerichtet. Die Bezugsoberfläche wird relativ zum Brennpunkt des Lichtstrahls bewegt, aber der Detektor wird stationär gehalten. Wenn diese Bewegung stattfindet, wird die Spiegelreflexion vom Bezugsstandard auf den positionsempfindlichen Detektor mit einer empfindlichen Fläche gerichtet, die groß genug ist, um den reflektierten Brennpunkt während seiner Bewegung abzubilden. Der positionsempfindliche Detektor misst sowohl die Intensität des reflektierten Lichts als auch die Position des reflektierten Lichts am Detektor. Wie beim ersten Ausführungsbeispiel korreliert die Messung der maximalen erfassten Lichtintensität damit, wo sich der Brennpunkt auf der Bezugsoberfläche befindet. Wenn das Licht die maximale Intensität der gemessenen Spiegelreflexion erreicht, wird das Licht auch in einer Position am positionsempfindlichen Detektor erfasst. Diese Position am positionsempfindlichen Detektor ist der Ort, an dem der Brennpunkt auf die Bezugsoberflächen gezielt wird. Sobald diese Position am positionsempfindlichen Detektor bekannt ist, kann sie als deterministischer Indikator zum Auffinden der Position der Bezugsoberfläche an anderen Orten an der Mikroplatte verwendet werden. Sobald die Bezugsoberfläche aufgefunden ist, wird sie wie beim ersten Ausführungsbeispiel verwendet, um den Brennpunkt auf eine Zielschicht umzupositionieren, die anschließend optisch abgetastet wird.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 zeigt die optischen Elemente eines Fluoreszenzspektrometers mit automatischer Fokussierfähigkeit gemäß der vorliegenden Erfindung.
  • 2 zeigt ein graphisches Ergebnis eines Fokussierverfahrens des Standes der Technik.
  • 3a zeigt die zum automatischen Fokussieren vorgesehenen optischen Elemente von 1, die verwendet werden, um den Vertiefungsbasisboden zu erfassen.
  • 3b zeigt das optische System von 3a unter Verwendung eines alternativen Detektors.
  • 3c zeigt die zum automatischen Fokussieren vorgesehenen optischen Elemente von 1, die verwendet werden, um die Vertiefungsbasisoberseite zu erfassen.
  • 3d zeigt die zum automatischen Fokussieren vorgesehenen optischen Elemente von 1, die verwendet werden, um die Oberfläche der Flüssigkeit innerhalb einer Mikroplattenvertiefung zu erfassen.
  • 4 zeigt einen Graphen der Spiegelreflexion von Licht, wenn der Boden einer Mikroplattenvertiefung entlang der Längsachse der Vertiefung relativ zu einem Brennpunkt eines Lichtstrahls bewegt wird.
  • 5 zeigt einen zweiten Graphen der Intensität von reflektiertem Licht, wenn die Basis einer Mikroplattenvertiefung entlang der Längsachse der Vertiefung in Bezug auf einen Brennpunkt eines Lichtstrahls bewegt wird.
  • 6 zeigt einen Abschnitt einer Mikroplatte mit optisch erfassbaren Registrierungsmarkierungen.
  • 7 zeigt optisch erfassbare Registrierungsmarkierungen eines Mikroplattenvertiefungsbodens, die bei der Mikroplatte von 6 verwendet werden.
  • 8 stellt einen Schaltplan der Schaltung dar, die bei dem positionsempfindlichen Detektor von 3b verwendet wird.
  • BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
  • Mit Bezug auf 1 erzeugt ein Laser 10 einen Laserstrahl 11. Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel wird ein Helium-Neon-Laser verwendet. Dieser Laser kann kohärentes Licht mit einer Wellenlänge von 633 nm erzeugen. Die Verwendung von Licht mit dieser Wellenlänge ermöglicht eine optimale Erfassung von fluoreszierenden Zielverbindungen in biologischen Proben, da das Lichtabsorptionsvermögen von typischen biologischen Proben unter dieser Wellenlänge liegt, daher wird die Eigenfluoreszenz von den Proben minimiert. Das Laserlicht 11 wird durch einen ersten Lenkspiegel 12 durch eine erste Verschlussblende 22 gerichtet. Das Licht wird als nächstes durch einen zweiten Lenkspiegel 14 durch eine zweite Verschlussblende 24 gerichtet. Die Verschlussblenden 22 und 24 sind enthalten, um Lasersicherheitsanforderungen zu genügen. Nach dem Durchtritt durch die zweite Verschlussblende 24 tritt das Laserlicht als nächstes durch ein Laserlinienfilter 26 hindurch. Das Laserlinienfilter ist enthalten, um das Plasmaröhrenlicht zu unterdrücken, aber zu ermöglichen, dass das Laserlicht durchgelassen wird. Dies ist erforderlich, da das Plasmalicht das zu sammelnde Fluoreszenzlicht stört. Das Laserlicht tritt durch das Laserlinienfilter 26 auf den Strahlteiler 28. Der Strahlteiler 28 reflektiert einiges des Lichts in den Laserleistungssensor 16. Der Leistungssensor 16 überwacht kontinuierlich die Leistung des Lasers und kann erfassen, wenn die Lichtleistungsausgabe unter den Spezifikationsanforderungen liegt. Außerdem würde die Überwachung der Lichtleistung die Normierung der Lichtausgabe ermöglichen. Das Laserlicht, das nicht durch den Strahlteiler 28 abgelenkt wird, wird durch den Strahlteiler und durch die positive Kontraktionslinse 30 und die negative Kontraktionslinse 32 durchgelassen. Diese Linsen werden verwendet, um die Größe des Laserlichtstrahls zu formen, um die erforderliche Brennpunktgröße auf der Zielmikroplattenvertiefung zu erzeugen. Das Laserlicht wird dann durch den dichroitischen Laserteiler 34 auf einen oszillierenden Galvanometerspiegel 36 gelenkt. Die Bewegung des oszillierenden Galvanometerspiegels 36 erzeugt eine Bewegung des Laserlichts entlang einer Achse. Das Licht wird durch den oszillierenden Galvanometerspiegel 36 durch eine Galvanometer-Übertragungslinse 38 gerichtet und wird durch einen Übertragungsknickspiegel 56 durch eine Objektivübertragungslinse 54 gelenkt, die das Licht fokussiert. Der Zweck der Galvanometer-Übertragungslinse 38 und der Objektivübertragungslinse 54 besteht darin, das mit dem Laser beleuchtete Zentrum des Galvanometers auf die Eintrittspupille der Objektivlinse abzubilden. Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel lenkt der Übertragungsknickspiegel 56 das Laserlicht 11 in einer Richtung derart, dass das Licht zu der Ebene senkrecht ist, in der das Licht vorher gelenkt worden war. Das Licht tritt als nächstes durch das Objektiv 51 hindurch und trifft auf den Zielmikroplatten-Vertiefungsbasisboden 53.
  • Dieses optische System ermöglicht die zweidimensionale Abtastung des Vertiefungsbasisbodens 53. Der Galvanometerspiegel 36 ermöglicht die Bewegung des fokussierten Lichts entlang einer Achse. Der Tisch (nicht dargestellt) zum Halten der Mikroplatte 53 ermöglicht eine Bewegung des fokussierten Lichts entlang einer anderen Achse. Eine inkrementale Bewegung des Tischs erzeugt eine Rasterlinienabtastung des Bodens der Mikrotiterplatte. Eine Rasterlinienabtastung der Ebene einer dünnen Zielschicht, die in einer Mikroplattenvertiefung enthalten ist, ermöglicht die Erfassung von Fluoreszenz über einen großen Oberflächenbereich mit einer begrenzten Tiefenschärfe.
  • Sobald das Licht durch den Vertiefungsbasisboden 53 und in die Mikroplattenvertiefung 55 gerichtet ist, kann das Licht von zwei Quellen in Abhängigkeit davon gesammelt werden, worauf der Brennpunkt des Lichts zielt.
  • Zuerst kann einiges des Laserlichts von der Spiegelreflexion von einer gewissen Oberfläche gesammelt werden, wo sich ein Materialübergang befindet, wie z. B. der Übergang von Luft zu Glas/Kunststoff am Vertiefungsbasisboden 53. Dieses Licht wird durch das Objektiv 51 und die Objektivübertragungslinse 54 zurück reflektiert und wird durch den Übertragungsknickspiegel 56 durch eine Galvanometer-Übertragungslinse 38 gerichtet. Das reflektierte Licht wird dann durch den Galvanometerspiegel 36 auf den dichroitischen Laserteiler 34 gerichtet. Da dieses Licht reflektiertes Licht ist, besitzt es dieselbe Wellenlänge wie das ursprüngliche Laserlicht 11 und tritt nicht durch den dichroitischen Laserteiler 34 hindurch, sondern wird statt dessen durch die negative Kontraktionslinse 32 und die positive Kontraktionslinse 30 auf den Strahlteiler 28 gerichtet. Der Strahlteiler 28 lenkt das spiegelreflektierte Laserlicht durch die Brennpunktsensorlinse 58 und in Richtung der Blendenöffnung 50. Das reflektierte Licht, das fokussiert wird, wird durch die Blendenöffnung 50 nicht gestoppt und wird vom Sensor 52 erfasst. Dies wird mit Bezug auf 3a, 3b, 3c und 3d weiter erläutert.
  • Zweitens kann das Laserlicht in das Innere einer Vertiefung 55 an der Mikroplatte 53 fokussiert werden. Innerhalb der Vertiefung sind fluoreszierende Verbindungen enthalten, die durch Licht der Wellenlänge des Laserlichts 11 angeregt werden. Wenn das Laserlicht auf die fluoreszierenden Verbindungen im Inneren der Mikroplattenvertiefung 55 gerichtet wird, wird Fluoreszenzlicht mit einer bekannten Wellenlänge erzeugt. Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel sind die fluoreszierenden Verbindungen Cy5TM und Cy5.5TM, Fluorophore, die von Amersham Life Sciences, Inc., in Arlington Heights, Illinois, erhältlich sind und die Fluoreszenzlicht maximal mit 670 nm bzw. 698 nm emittieren. Dieses Licht wird emittiert und einiges tritt in das Objektiv 51 ein und tritt durch die Objektivübertragungslinse 56 auf den Übertragungsknickspiegel 56. Das emittierte Fluoreszenzlicht wird durch die Galvanometer-Übertragungslinse 38 und auf den Galvanometerspiegel 36 gerichtet, der das Fluoreszenzlicht auf den dichroitischen Laserspiegel 34 richtet. Der dichroitische Laserteiler 34 wird so ausgewählt, dass er Licht mit der Wellenlänge des Laserlichts reflektiert, aber Licht mit der Wellenlänge der Fluoreszenzemission durchlässt. Das Fluoreszenzlicht, das durch den dichroitischen Laserteiler 34 hindurch tritt, tritt dann in ein Langpassfilter 40 ein. Das Langpassfilter unterdrückt jegliches Laserlicht, das durch den dichroitischen Laserteiler 34 hindurchgetreten ist. Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel lässt das Langpassfilter 40 Licht hindurch, das eine Wellenlänge über 645 nm aufweist, und unterdrückt niedrigere Lichtwellenlängen. Das Fluoreszenzlicht wird dann durch den Knickspiegel 42 durch die Raumfilterlinse 44 gerichtet, die das Fluoreszenzlicht durch die Blendenöffnung 46 fokussiert. Die Blendenöffnung blockiert Strahlen der Fluoreszenzemission, die außerhalb des interessierenden Sammelvolumens entstehen. Das Fluoreszenzlicht, das durch die Blendenöffnung 46 hindurch tritt, wird dann durch das dichroitische Fluoreszenzfilter 48 gelenkt, das das Licht in zwei Kanäle spaltet. Licht unterhalb 680 nm wird durch das dichroitische Fluoreszenzfilter 48 auf eine Photovervielfacherröhre 62 reflektiert, die Fluoreszenzlicht erfasst. Licht über der Grenze von 680 nm tritt durch das dichroitische Fluoreszenzfilter 48 hindurch und wird durch die Photovervielfacherröhre 64 erfasst.
  • Homogene Tests erfordern die Begrenzung der Tiefenschärfe der Abtastung einer Mikroplattenvertiefung auf eine dünne Zielschicht, die innerhalb der Mikroplattenvertiefung vorgesehen ist. Zielzellen oder Fluoreszenzkügelchen befinden sich häufig am Boden einer Mikroplattenvertiefung. Dies ist ein Ergebnis entweder der Bindung des Ziels an irgendeine Verbindung, die mit dem Vertiefungsboden verbunden ist, oder ist das Ergebnis von Schwerkraftabsetzung. Nicht zur Reaktion gebrachte fluoreszierende Verbindungen, die in Lösung bleiben, würden gewöhnlich die lokalisierte Erfassung von Fluoreszenz von einer spezifischen Zielschicht innerhalb einer Mikroplattenvertiefung verhindern. Die Hintergrundfluoreszenz von nicht zur Reaktion gebrachten fluoreszierenden Verbindungen würde die Fluoreszenz von einer Zielschicht in einer Mikroplattenvertiefung effektiv unerfassbar machen. Es ist erforderlich, die Zielschicht in der Mikroplattenvertiefung aufzufinden und einen Lichtstrahl auf diesen Ort zu fokussieren. Dies verhindert die Beleuchtung und Fluoreszenzemission von dem Bereich der Vertiefung, der nicht das Ziel ist. Die erforderliche Tiefenschärfe liegt im Bereich von 30 bis 150 Mikrometer von der Bodenoberfläche einer Mikroplattenvertiefung. Da Mikroplatten nicht so ausgelegt sind, dass sie auf diese Toleranzen optisch flach sind, muss es ein gewisses Verfahren zur automatischen Erfassung eines Bezugspunkts geben, der eine bekannte Beziehung zur Zielschicht aufweist.
  • Ein Hauptausführungsbeispiel der optischen automatischen Fokussierung ist in den 3a, 3c und 3d gezeigt. 3a zeigt die zur automatischen Fokussierung vorgesehenen Elemente von 1, die verwendet werden, um den Vertiefungsbasisboden 114 einer Mikroplattenvertiefungsbasis zu erfassen. Eine Mikroplattenvertiefung ist durch Wände gebildet, die sich von der Oberseite der Mikroplatte nach unten erstrecken. Die Basis der Vertiefung ist durch eine Schicht aus transparentem Glas- oder Kunststoffmaterial gebildet. Eine obere Vertiefungsbasisoberfläche der Vertiefungsbasis ist dem offenen oberen Ende der Vertiefungen zugewandt. Eine Bodenoberfläche der Vertiefungsbasis dieser Vertiefungsbasis ist von der offenen Unterseite der Mikroplatte nach unten gewandt. Die Zielzellen 120 haben sich durch Schwerkraft am Boden der Flüssigkeit in einer Mikroplattenvertiefung abgesetzt. Die Schicht aus Kunststoff oder Glas, die die Vertiefungsbasis bildet, besitzt eine Vertiefungsbasisoberseite 116, wo sich die Zielzellen abgesetzt haben, und einen Vertiefungsbasisboden 114. Ein Strahl von Laserlicht 110 wird durch den Strahlteiler 124 gerichtet und wird durch die Linse 112 in einen Brennpunkt fokussiert. Dieser Brennpunkt wird in Richtung des Vertiefungsbasisbodens 114 gerichtet. Einiges des Lichts, das in Richtung des Vertiefungsbasisbodens 114 gerichtet wird, wird durch Spiegelreflexion in Richtung der Linse 112 zurück reflektiert. Dieses Licht wird durch den Strahlteiler 124 durch die Brennpunktsensorlinse 128 und in Richtung der Brennpunktsensorblendenöffnung 132 gerichtet. Die Brennpunktsensorblendenöffnung wirkt als Blende für Licht, das nicht fokussiert wird. Durch Ändern der Größe dieser Blendenöffnung kann die Größe des Brennpunkts angepasst werden. Das Licht, das durch die Brennpunktsensorblendenöffnung 132 hindurch tritt, wird vom Brennpunktsensor 136 erfasst. Dieser Brennpunktsensor könnte eine Photodiode oder eine andere Vorrichtung sein, die die Intensität des reflektierten Lichts misst. Um den Ort des Vertiefungsbasisbodens 114 zu ermitteln, wird die Mikrotiterplatte entlang der Längsachse einer Mikroplattenvertiefung bewegt. Dies führt zur Bewegung des Brennpunkts entlang dieser Achse. Wenn sich der Brennpunkt des Strahls nicht am Vertiefungsbasisboden 114 befindet, wird die Spiegelreflexion vom Vertiefungsbasisboden 114 breiter gestreut. Dieses gestreute Licht wird durch die Brennpunktsensorblendenöffnung 132 gestoppt, was dazu führt, dass weniger Licht vom Detektor 136 erfasst wird. Wenn dagegen die Einschnürung des fokussierten Strahls am Vertiefungsbasisboden 114 liegt, wird die Spiegelreflexion vom Vertiefungsbasisboden 114 weniger gestreut. Dies führt dazu, dass mehr Licht durch die Brennpunktsensorblendenöffnung 132 hindurch tritt, wo das Licht vom Detektor 136 erfasst wird. 4 stellt die Intensität des erfassten Lichts, wenn der Vertiefungsbasisboden 114 entlang der Z-Achse bewegt wird, relativ zur Einschnürung des fokussierten Lichtstrahls graphisch dar. In der Position 5 auf der z-Achse liegt der Brennpunkt des Strahls unter dem Vertiefungsbasisboden der Platte und wenig Licht wird durch die Brennpunktsensorblendenöffnung fokussiert. Wenn die Mikroplatte entlang der z-Achse bewegt wird und der Brennpunkt des Strahls näher an den Vertiefungsbasisboden kommt, wird mehr Spiegelreflexion vom Vertiefungsbasisboden erfasst. Nahe der Position 5,4 auf der z-Achse wird die maximale Intensität der Spiegelreflexion erreicht. Dies geschieht, wenn der Brennpunkt des Lichtstrahls auf den Vertiefungsbasisboden 114 fokussiert wird. Wenn die Mikroplatte entlang der z-Achse bewegt wird, nimmt die Intensität der Spiegelreflexion ab, wenn sich der Brennpunkt des Strahls in das Innere der Vertiefungsbasis bewegt. Unter Verwendung dieses Verfahrens kann der Ort entlang der z-Achse, auf den der Brennpunkt des Strahls am Vertiefungsbasisboden 114 fokussiert wird, ermittelt werden. Dieser Ort wird dann als Bezugspunkt für das Verschieben des Brennpunkts des Lichtstrahls zu einer Zielschicht in der Mikroplattenvertiefung verwendet. Der Abstand zwischen dem Vertiefungsbasisboden 114 und der Vertiefungsbasisoberseite 116 ist die Dicke des Kunststoff- oder Glasmaterials, das die Vertiefungsbasis bildet. Die Abmessung dieser Dicke ist vom Hersteller der Mikroplatte erhältlich. Die Einschnürung des Lichtstrahls kann bis direkt über die Vertiefungsbasisoberseite 116 bewegt werden, um zelluläre Ziele 120 aufzufinden. Das optische System kann dann eine Abtastung der Zielschichten durchführen.
  • Das in Bezug auf 3a beschriebene Verfahren zur automatischen Fokussierung erfordert, dass die Längsachse des fokussierten Lichtstrahls zum Vertiefungsbasisboden 114 des Mikroplattenvertiefungsbodens im Wesentlichen senkrecht ist. Dies wird bewirkt, indem der Galvanometer-Übertragungsspiegel 36 zentriert und der Spiegel stationär gehalten wird. Das Licht wird dann durch die Linse 112 senkrecht zum Vertiefungsbasisboden 114 fokussiert.
  • Bei einem alternativen Ausführungsbeispiel, das in 3b zu sehen ist, ermöglicht der Austausch des Detektors zusätzliche Merkmale im System zum automatischen Fokussieren. Bei diesem Ausführungsbeispiel tritt Laserlicht 110 durch den Strahlteiler 124 und auf den Galvanometer-Übertragungsspiegel 142. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist der Galvanometer-Übertragungsspiegel 142 nicht zentriert, sondern wird in eine feste Position bewegt, so dass der Laserstrahl 110 in einem nicht-senkrechten Winkel in Bezug auf den Vertiefungsbasisboden 114 gerichtet wird, und wird wieder stationär gehalten. Folglich wird das Laserlicht 110 durch die Linse 112 und auf den Vertiefungsbasisboden 114 gerichtet, so dass die Längsachse des Laserlichts zum Vertiefungsbasisboden 114 nicht senkrecht ist, sondern statt dessen in einem nicht-rechten Winkel in Bezug auf den Vertiefungsbasisboden 114 gerichtet wird. Das Laserlicht 110 wird durch den Vertiefungsbasisboden 114 durch Spiegelreflexion reflektiert, die reflektiertes Licht 126 erzeugt. Dieses Licht tritt durch die Linse 112 hindurch und wird durch den Galvanometer-Übertragungsspiegel 142 auf den Strahlteiler 124 gerichtet. Da das reflektierte Licht 126 dieselbe Wellenlänge wie das ursprüngliche Laserlicht 110 aufweist, tritt das Licht nicht durch den Strahlteiler 124 hindurch, sondern wird statt dessen durch die Brennpunktsensorlinse 128 auf den positionsempfindlichen Detektor 140 gerichtet.
  • Ein Beispiel eines positionsempfindlichen Detektors (PSD) ist eine Siliziumphotodiode, die ein analoges Ausgangssignal erzeugt, das zur Position eines Lichtflecks auf dem optisch empfindlichen Streifen des Detektors direkt proportional ist. Dies ermöglicht eine gleichzeitige Messung der Lichtintensität und der Lichtposition am Detektor. Wenn das Licht auf die Photodiode auftrifft, wird ein photoelektrischer Strom erzeugt. Der durch das einfallende Licht erzeugte photoelektrische Strom ist ein Eingangsstrom, der in zwei Ausgangsströme aufgeteilt wird. Die Verteilung der Ausgangsströme auf dem optisch empfindlichen Streifen gibt die Lichtposition am Detektor an. Die Summe des Ausgangstroms gibt die Lichtintensität an.
  • Die Messung der Lichtintensität wird in der gleichen Weise verwendet, wie in 3a zu sehen. Um den Ort einer Oberfläche an der Unterseite einer Mikroplatte zu ermitteln, wird der Vertiefungsbasisboden 114 relativ zum Brennpunkt des Strahls bewegt. Dies bewirkt, dass sich der Brennpunkt von unter dem Vertiefungsbasisboden 114 auf den Vertiefungsbasisboden 114 bewegt. Wenn die geschieht, nimmt die Intensität von Licht, die durch den PSD erfasst wird, zu, da der immer kleinere Lichtfleck ermöglicht, dass mehr Licht innerhalb der Breite des lichtempfindlichen Elements am PSD auftrifft. An der Lichtintensitätsspitze ist die Einschnürung des Strahls auf den Vertiefungsbasisboden 114 fokussiert. Dies kann wieder als Bezugsstelle für die Verschiebung der Einschnürung des Strahls auf eine Zielschicht innerhalb der Mikroplattenvertiefung verwendet werden. Wenn sich der Brennpunkt von unter dem Vertiefungsbasisboden 114 auf diese Oberfläche und dann in die Vertiefungsbasis bewegt, bildet die Intensität des reflektierten Lichts wieder eine Gauß-Kurve mit einer ähnlichen Form zu der in 4 gezeigten Kurve. Bei der Spitze der Kurve liegt die Intensität des reflektierten Lichts auf einem Maximum, das darauf hinweist, dass sich der Brennpunkt am Vertiefungsbasisboden 114 befindet.
  • Die Breite des lichtempfindlichen Streifens am PSD 140 legt fest, welche optische Konfiguration bei dem PSD 140 verwendet wird. Wenn die Breite des Streifens sehr schmal ist, kann eine Blendenöffnung zwischen der Brennpunktsensorlinse 128 und dem PSD 140 angeordnet werden. Die Blendenöffnung fungiert als Blende für unfokussiertes Licht, was eine Gauß-Kurve erzeugt, wenn sich der Brennpunkt auf den Vertiefungsbasisboden 114 und von diesem weg bewegt. Wenn dagegen die Breite des lichtempfindlichen Streifens am PSD breit ist, könnte der PSD 140 ohne Brennpunktsensorlinse 128 verwendet werden. Die Intensität des Lichts wird gemessen, wenn die Spiegelreflexion kollimiert wird, wenn es auf den Vertiefungsbasisboden 114 fokussiert wird.
  • Zusätzlich zur Intensität von Licht misst der PSD auch den Ort des Lichts entlang der lichtempfindlichen Länge des PSD. Da das Licht in einem nicht-rechten Winkel in Bezug auf den Vertiefungsbasisboden 114 gerichtet wird, ändert die Bewegung des Vertiefungsbasisbodens 114 relativ zur Einschnürung des Lichtstrahls, wo das Zentrum des fokussierten Strahls unter der Oberfläche 114 auftrifft. Dies ändert wiederum, wo das reflektierte Licht entlang der Länge der lichtempfindlichen Länge des PSD auftrifft. Folglich bewegt sich das Licht entlang der Länge des PSD, wenn der Vertiefungsbasisboden 114 relativ zum Brennpunkt bewegt wird. Der Punkt, an dem sich der Brennpunkt am Vertiefungsbasisboden 114 befindet, entspricht Licht, das auf einen Ort am PSD auftrifft. Das Licht bewegt sich von diesem Ort in einer Richtung entlang des PSD weg, wenn der Brennpunkt unter den Vertiefungsbasisboden 114 bewegt wird, und das Licht bewegt sich in der anderen Richtung von diesem Ort weg, wenn der Brennpunkt über den Vertiefungsbasisboden 114 bewegt wird.
  • Die Verwendung des PSD für das Fokussieren auf eine Zielschicht innerhalb einer Mikroplattenvertiefung erfordert zuerst die Messung sowohl der Intensität von reflektiertem Licht als auch der Position des reflektierten Lichts am PSD, wenn die Mikroplatte entlang der z-Achse bewegt wird. Die Spitzenintensität entspricht dem Ort, an dem sich der Brennpunkt am Vertiefungsbasisboden befindet. Dies erfordert einen Bewegungsbereich entlang der z-Achse für eine Mikroplattenvertiefung. Sobald diese Messungen für eine Mikroplattenvertiefung durchgeführt sind, ist der Ort entlang der Länge des PSD, der der Messung für die Spitzenlichtintensität entspricht, bekannt. Sobald dieser Ort bekannt wird, wird er zu einer Bezugsmessung, die eine deterministische automatische Fokussierung für andere Vertiefungen an der Mikroplatte ermöglicht. Für jede andere Vertiefung an der Platte entspricht eine einzelne Messung der Spiegelreflexion entlang der z-Achse einem Ort entlang der lichtempfindlichen Länge des PSD. Dieser Ort entlang des PSD kann mit der Position entlang des PSD verglichen werden, die als Intensitätsspitze bekannt ist. Dies gibt sowohl die Richtung als auch das Ausmaß an, in die bzw. um das der Boden bewegt werden muss, um die Einschnürung des Strahls auf den Vertiefungsbasisboden zu fokussieren.
  • Eine Schaltung wird bei dem PSD verwendet, um die relevanten Messungen durchzuführen. Mit Bezug auf die optische Positionsabtast-Erfassungsschaltung von 8 trifft Licht auf eine Siliziumphotodiode 160 auf, die ein analoges Ausgangssignal liefert, das zur Position eines Lichtflecks auf der optisch aktiven Fläche des Detektors direkt proportional ist. Ausgangssignale werden an den Elektroden 161 und 162 entnommen. Das Ausgangssignal aus der Elektrode 161 wird dem Operationsverstärker 170 zugeführt, während das Ausgangssignal aus der Elektrode 162 dem Operationsverstärker 172 in einem zum Operationsverstärker 170 parallelen Weg zugeführt wird. Die zwei Operationsverstärker liegen in parallelen symmetrischen Wegen, die kreuzgekoppelt sind. Der Operationsverstärker 170 ist mit einem Eingang des Operationsverstärkers 192 kreuzgekoppelt, der auch ein Eingangssignal vom Operationsverstärker 172 empfängt. Der Operationsverstärker 190 ist mit dem Operationsverstärker 172 kreuzgekoppelt, der auch ein Eingangssignal vom Operationsverstärker 170 empfängt. Auf diese Weise werden die Signale sowohl addiert als auch subtrahiert, so dass im oberen Kanal durch geeignete Eingangssignale des Operationsverstärkers 190 das Ausgangssignal des Operationsverstärkers 190 ein subtraktives Signal X1 – X2 ist, während im unteren Kanal das Ausgangssignal des Operationsverstärkers 192 ein additives Signal X1 + X2 ist. Diese zwei kombinierten Signale werden einem analogen Dividierer 196 zugeführt, der das Verhältnis der zwei Signale als X1 – X2/X1 + X2 nimmt. Das Ausgangssignal des Operationsverstärkers 192, X1 + X2, gibt die Intensitätsmessung an. Das Ausgangssignal des analogen Dividierers 196 gibt die Position von einfallendem Licht am Detektor an, die hinsichtlich der Lichtintensität normiert ist.
  • 3c stellt ein alternatives optisches Verfahren zum automatischen Fokussieren dar, das dem Auffinden einer Zielschicht in einer Mikroplattenvertiefung dient. Bei diesem Verfahren wird der Brennpunkt in Richtung der Vertiefungsbasisoberseite 116 gerichtet. Wie in 3a wird die Spiegelreflexion von dieser Oberfläche aufgefangen und durch die Brennpunktsensorblendenöffnung 132 fokussiert und vom Brennpunktsensor 136 erfasst. Wie in 3a wird der Brennpunkt entlang der z-Achse bewegt. Auch wie in 3a tritt die maximale Intensität der Spiegelreflexion auf, wenn sich der Brennpunkt des Strahls an der Vertiefungsbasisoberseite 116 befindet. Diese Oberfläche kann wieder als Bezugspunkt für das Auffinden der Schicht, die das interessierende Ziel enthält, verwendet werden. 5 stellt die Intensitätsprofile dar, die vom Vertiefungsbasisboden und von der Vertiefungsbasisoberseite erfasst werden, wenn eine Vertiefungsbasis relativ zu einem Brennpunkt eines Lichtstrahls bewegt wird. Die größere Intensitätsspitze bei etwa 20,5 ist die Spiegelreflexion vom Vertiefungsbasisboden. Die kleinere zweite Spitze bei etwa 21,4 ist die Reflexion von der Vertiefungsbasisoberseite. Diese zweite Spitze ist viel kleiner als die erste Spitze, was auf eine viel geringere Spiegelreflexion von der Vertiefungsbasisoberseite hindeutet. Dies ist ein Ergebnis des niedrigeren Reflexionsindex.
  • Der niedrigere Reflexionsindex ist ein Ergebnis der verschiedenen Übergänge von einem Material zum anderen. Die Menge an Licht, das durch Spiegelreflexion erzeugt wird, ist durch die Formel festgelegt: = (N – N')2/(N + N')2
  • N ist der Reflexionsindex des ersten Materials, das das Licht durchläuft.
  • N' ist der Reflexionsindex des zweiten Materials, das das Licht durchläuft.
  • Aus dieser Formel ist zu sehen, dass die Spiegelreflexion für Übergänge zwischen Materialien mit Brechungsindizes, die weiter auseinander liegen, größer ist. Der Vertiefungsbasisboden der Mikroplattenvertiefungsbasis ist ein Übergang von Luft mit einem Reflexionsindex von 1 zu Kunststoff oder Glas mit einem Reflexionsindex von 1,47 bis 1,5. Die relativ große Differenz zwischen diesen zwei Reflexionsindizes erzeugt die Spiegelreflexion, wie bei der Intensitätsspitze bei 20,5 zu sehen, die in 5 dargestellt ist. Dagegen ist die Vertiefungsbasisoberseite der Mikroplattenvertiefungsbasis ein Übergang von Kunststoff mit einem Reflexionsindex von 1,47 zu einer Flüssigkeit, die innerhalb der Vertiefung enthalten ist, mit einem Brechungsindex von 1,33. Die relativ kleine Differenz zwischen den Reflexionsindizes erzeugt die viel kleinere Intensitätsspitze bei 21,4, die in 5 zu sehen ist. Bei einigen Mikroplatten reicht die optische Qualität der verwendeten Materialien nicht aus, um die Intensitätsspitze von der Spiegelreflexion von der Vertiefungsbasisoberseite aufzulösen.
  • Beschichtungen können zu einer Oberfläche hinzugefügt werden, um den Reflexionsindex zu ändern und die Erfassung der oberen Oberfläche durch die Spiegelreflexion durchführbar zu machen. Der Vertiefungsbasisboden könnte beispielsweise mit einer Beschichtung überzogen werden, um die Reflexion zu verringern. Die Antireflexbeschichtung wird zum Vertiefungsbasisboden durch Vakuumaufdampfungsabscheidung hinzugefügt. Beispiele von Verbindungen, die für Antireflexbeschichtungen verwendet werden, umfassen Magnesiumfluorid und Lanthantrifluorid. Alternativ könnte die obere Oberfläche der Vertiefung mit einer Beschichtung überzogen werden, um die Reflexion zu erhöhen. Verbindungen zum Erhöhen der Reflexion umfassen metallische Beschichtungen mit neutraler Dichte, die auf der Vertiefungsbasisoberseite mit der gewünschten Dicke im Vakuum abgeschieden werden können, um das gewünschte Ausmaß an Reflexion vorzusehen.
  • Ein weiteres Verfahren zum optischen Fokussieren auf eine Zielschicht in einer Mikroplattenvertiefung verwendet optisch erfassbare Merkmale, die zur Unterseite einer Mikroplatte hinzugefügt werden und die als Bezugspunkt für das Auffinden der dünnen Schicht in einer Mikroplattenvertiefung fungieren. 6 zeigt einen Teil des Bodens der Mikroplatte 150 mit diesen Merkmalen. Die optisch erfassbare Vertiefung 154 weist ein optisch erfassbares Merkmal auf, das eine genaue Lokalisierung der Vertiefungsbasisoberseite ermöglicht. Sobald diese Oberfläche erfasst wurde, wird sie als Bezugspunkt für die Erfassung der oberen Oberfläche der Vertiefung 152 verwendet, die nicht die optischen Merkmale aufweist.
  • Ein Beispiel der optisch erfassbaren Registrierungsmarkierungen ist in 7 gezeigt. 7 zeigt die obere Oberfläche eines Vertiefungsbodens, die physikalisch geändert wurde, so dass sie optisch erfassbar ist. Die schattierten Abschnitte geben Bereiche der Oberfläche an, die aufgeraut wurden, um die Reflexion von der Oberfläche zu verringern. Die unschattierten Bereiche geben Bereiche an, die nicht aufgeraut wurden und vergleichsweise höhere Mengen an Spiegelreflexion aufweisen. Wenn der Brennpunkt auf die optisch geänderte Bodenoberfläche fokussiert und über die Oberfläche abgetastet wird, besteht ein scharfer Übergang, wenn der Brennpunkt vom rauen Bereich des Bodens zum nicht-rauen Bereich des Bodens der Platte bewegt wird. Wenn der Punkt unfokussiert ist, ist der Übergang weniger scharf.
  • Die optischen Bezugsmarkierungen können sich am Vertiefungsbasisboden, an der Vertiefungsbasisoberseite oder an einer anderen Stelle an der Unterseite einer Mikroplatte befinden, solange diese Stelle eine definierte Beziehung zur Stelle der Vertiefungsbasis aufweist. Die optisch erfassbare Referenz können die beschriebenen Ritzmarkierungen sein oder könnten alternativ Strichcodeangaben oder eine gemusterte Reflexionsbeschichtung (wie z. B. die vorher beschriebenen Beschichtungen mit neutraler Dichte) sein.
  • 3d zeigt die zum automatischen Fokussieren vorgesehenen Elemente von 1, die verwendet werden, um die Flüssigkeitsoberfläche 118 zu erfassen. Sobald die Vertiefungsbasisoberseite 116 des Bodens der Vertiefung aufgefunden ist, kann der Brennpunkt des Lichtstrahls entlang der z-Achse in Richtung der Oberseite der Vertiefung bewegt werden. Wenn der Brennpunkt nahe der Flüssigkeitsoberfläche liegt, kann spiegelnd reflektiertes Licht durch den Brennpunktsensor 136 erfasst werden. Wie bei den anderen Oberflächen nimmt, wenn der Brennpunkt in Richtung der Oberfläche 118 bewegt wird, die Intensität des reflektierten Lichts bis zu einem Maximalpunkt zu, wenn sich der Brennpunkt an der Flüssigkeitsoberfläche 118 befindet. Sobald der Ort der Flüssigkeitsoberfläche 118 und der Mikroplatten-Vertiefungsbasisoberseite 116 bekannt sind, kann das Volumen der Flüssigkeit in der Vertiefung berechnet werden, wenn die Geometrie der Vertiefung bekannt ist.

Claims (3)

  1. Verfahren zum Fokussieren auf einer Flüssigkeitsoberfläche einer in einer Mikroplattenvertiefung enthaltenen Flüssigkeit, mit den Schritten a) Richten eines Strahls auf die Flüssigkeitsoberfläche; b) Fokussieren des Strahls derart, dass der Strahl einen Brennpunkt aufweist, der auf die Oberfläche der Flüssigkeit gerichtet ist, was eine Spiegelreflexion von dieser verursacht; c) Messen der Intensität der Spiegelreflexion, wenn die Flüssigkeitsoberfläche entlang der Längsachse der Vertiefung bewegt wird, relativ zum Brennpunkt; d) Auffinden der Flüssigkeitsoberfläche durch Auffinden der Position der Flüssigkeitsoberfläche, wenn eine maximale Intensität der Spiegelreflexion erfasst wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, welches ferner das optische Erfassen des Orts einer oberen Oberfläche der Vertiefungsbasis der Mikroplattenvertiefung aufweist.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, welches ferner die Verwendung des Orts der Flüssigkeitsoberfläche in der Mikroplattenvertiefung und die Verwendung des Orts der oberen Oberfläche der Vertiefungsbasis der Mikroplattenvertiefung zum Berechnen eines Volumens der Flüssigkeit in der Mikroplattenvertiefung aufweist.
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