DE69926551T2 - Verfahren und Vorrichtung zur Regelung des Druckes in Vakuumprozessoren - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Regelung des Druckes in Vakuumprozessoren Download PDF

Info

Publication number
DE69926551T2
DE69926551T2 DE69926551T DE69926551T DE69926551T2 DE 69926551 T2 DE69926551 T2 DE 69926551T2 DE 69926551 T DE69926551 T DE 69926551T DE 69926551 T DE69926551 T DE 69926551T DE 69926551 T2 DE69926551 T2 DE 69926551T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
pressure
value
change
time
electronic memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69926551T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69926551D1 (de
Inventor
Brian K. Mcmillan
Michael Barnes
Farro F. Kaveh
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lam Research Corp
Original Assignee
Lam Research Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lam Research Corp filed Critical Lam Research Corp
Application granted granted Critical
Publication of DE69926551D1 publication Critical patent/DE69926551D1/de
Publication of DE69926551T2 publication Critical patent/DE69926551T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D16/00Control of fluid pressure
    • G05D16/20Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
    • G05D16/2006Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
    • G05D16/2013Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B11/00Automatic controllers
    • G05B11/01Automatic controllers electric
    • G05B11/36Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential
    • G05B11/42Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential for obtaining a characteristic which is both proportional and time-dependent, e.g. P. I., P. I. D.
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/0318Processes
    • Y10T137/0396Involving pressure control
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/2496Self-proportioning or correlating systems
    • Y10T137/2559Self-controlled branched flow systems
    • Y10T137/2564Plural inflows
    • Y10T137/2572One inflow supplements another
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00Fluid handling
    • Y10T137/7722Line condition change responsive valves
    • Y10T137/7758Pilot or servo controlled
    • Y10T137/7761Electrically actuated valve

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Control Of Fluid Pressure (AREA)

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Erfindung
  • Diese Erfindung betrifft das Gebiet der Halbleiterwaferverarbeitung und insbesondere ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Regeln des Druckes der Reaktionskammer bei der Halbleiterwaferverarbeitungsgerät.
  • Beschreibung der betroffenen Technik
  • Vollautomatisierte Waferverarbeitungssysteme sind zur Zeit im kommerziellen Einsatz weit verbreitet. Bei derartigen Systemen werden Wafer mit Robotern in und aus einer Reaktionskammer oder Prozeßkammer transportiert, wo unter einer kontrollierten evakuierten Umgebung verschiedene Prozesse ausgeführt werden. Ein Beispiel eines derartigen Waferverarbeitungssystems ist das TCPTM 9400 Einwaferplasma-Ätzsystem, das von Lam Research Corporation hergestellt wird.
  • In dem Fall von Plasmaätzen werden Halbleiterwafer in der Reaktionskammer geätzt, indem der Wafer den ionisierten Gasverbindungen (Plasma) unter sehr niedrigen Drücken ausgesetzt wird. Üblicherweise müssen während der Verarbeitung Drücke unter einem Torr in der Reaktionskammer aufrechterhalten werden. Prozeßanweisungen bestehen aus einer Reihe von Schritten, die die Gasströmraten, den Kammerdruck, die RF-Leistung, den Lückenabstand, den Kammerdruck und die Wafertemperatur regeln. Vorprogrammierte Sätze von Prozeßanweisungen werden typischerweise von dem Hersteller angegeben. Der Bediener kann entweder eine programmierte Anweisung auswählen, oder eine geänderte oder vertriebene Anweisung einsetzen.
  • Wenn das Ätzverfahren beginnt, werden ausgewählte Gase, die für die Verarbeitung eingesetzt werden, gemischt und in die Reaktionskammer mit Raten gemäß der Prozeßanweisung eingeleitet. Die RF-Leistung wird durch eine Spule im oberen Teil der Reaktionskammer geliefert und eingestellt, um die Prozeßgase zu ionisieren. Die RF-Leistung wird auch zu dem Wafer geliefert und eingestellt, um eine DC-Vorspannung auf dem Wafer zu induzieren, wodurch die Richtung und die Energie der Ionenbombardierung des Wafers gesteuert wird. Während des Ätzverfahrens reagiert das Plasma chemisch mit der Waferoberfläche, um Material zu entfernen, das nicht durch eine Maske bedeckt ist. Das Plasma und das elektrische RF-Feld sind vollständig in der Reaktionskammer enthalten. Ein Evakuiersystem entfernt andauernd Gase aus der Reaktionskammer, und hält dadurch den gewünschten Druck aufrecht. Das Evakuiersystem umfaßt typischerweise eine Turbopumpe, die von der Reaktionskammer durch einen Regelschieber getrennt ist. Ein Druckregler verwendet Druckdaten von einem Manometer in der Reaktionskammer, um den Grad der Schließstellung des Regelschiebers einzustellen. Der Druckregler öffnet und schließt den Schieber, um das von der Turbopumpe an die Reaktionskammer gelieferte Vakuum zu verstärken oder zu vermindern. Auf diese Weise versucht der Druckregler, den gewünschten Druck in der Reaktionskammer aufrechtzuerhalten, wenn sich die Gasströmraten in die Reaktionskammer von einem Prozeßschritt zu dem nächsten verändern.
  • Der Druckregler vergleicht die Daten von dem Reaktionskammermanometer mit den in der Anweisung programmierten Einstellwerten. Wenn sich entweder die Prozeßgasströmrate oder der gewünschte Druck in der Reaktionskammer stark von einem Prozeßschritt zu dem nächsten ändert, kann der Druckregler nicht fähig sein, die Schieberstellung entsprechend einzustellen.
  • Wenn es zum Beispiel der nächste Prozeßschritt erfordert, daß Gas mit viel höheren Strömraten eingeleitet wird, kann der Schieber anfänglich über- oder unterkompensieren, was zu einem falschen Druck in der Reaktionskammer an dem Anfang des Schritts führt. Um dieses Problem abzuschwächen, führen derzeit erhältliche Systeme ein Lernverfahren durch, jedes Mal, wenn eine neue Anweisung eingesetzt wird. Das Lernverfahren erzeugt eine Tabelle der ungefähren Schieberstellungen, die für jeden Prozeßschritt in der neuen Anweisung erforderlich sind. Bei dem Lernverfahren werden Dummywafer gemäß den Prozeßschritten der Anweisung verarbeitet, und der Regler zeichnet die Schieberstellungen auf, die für jeden Schritt erforderlich sind.
  • Ein Problem mit den derzeitigen Systemen besteht darin, daß ein neues Lernverfahren jedes Mal erforderlich ist, wenn eine neue Prozeßanweisung auf einer Maschine eingesetzt wird. Folglich veranlaßt der Bediener, wenn er die Anweisung durch Ändern des Einstelldrucks oder der Gasströmung von einem der Prozeßschritte ändert, notwendigerweise die Zeit und die Kosten zum Ableiten einer neuen Tabelle. Das Fahren neuer Lernverfahren kann insbesondere zeitintensiv sein, wenn man mit neuen Ansätzen experimentiert.
  • Ein anderes Problem bei den derzeitigen Systemen besteht darin, daß die Ergebnisse von den Lernverfahren ungültig sein werden, wenn irgendeines der Gaszuführventile oder -instrumente falsch eingestellt oder kalibriert ist. Wenn zum Beispiel eines der Gaseinströmventile während des Lernverfahrens falsch kalibriert ist, wird auch die sich ergebende Tabelle der Schieberstellungen falsch sein. überdies kann der Fehler in der Tabelle nicht detektiert werden, bis verschiedene Wafer falsch verarbeitet sind.
  • Ein weiteres Problem bei den derzeit erhältlichen System betrifft die Bewegung des Schiebers selber. Während des Verarbeitens sammelt sich eine bestimmte Menge Abfallmaterial, das von dem Ätzvorgang erzeugt wird, auf der Oberfläche des Schiebers.
  • Wann immer die Schieberstellung geändert wird, werden Schwebstoffteilchen in die Umgebung entlassen. Aufgrund der extrem niedrigen Betriebsdrucke kann eine Zurückdiffusion die Schwebstoffteilchen zurück stromauf zu der Reaktionskammer tragen, wo eine unerwünschte Verunreinigung des Wafers auftreten kann.
  • Eine weitere Einschränkung bei den derzeitigen Systemen besteht darin, daß die Übergangszeit oder Stabilisationszeit manchmal unerwünscht lang sein kann. Die übergangs- oder Stabilisationszeit ist die Zeit, die erforderlich ist, um den Druck in der Reaktionskammer auf den Druckeinstellpunkt für den Verarbeitungsschritt zu stabilisieren. Insbesondere, wenn die Kammer von einem relativ niedrigen Druck aus startet, wie zum Beispiel am Beginn der Verarbeitung, und der nächste Schritt einen relativ hohen Druck erfordert, wie zum Beispiel 80 mTorr, dauert die Stabilisierungszeit üblicherweise ungefähr 20 Sekunden in Abhängigkeit von dem Einstellwert der Gasströmung. Gemäß der derzeitigen Praxis wird die Kammerstabilisierung erreicht, indem die Prozeßgase in die Reaktionskammer mit den Einstellströmraten eingeleitet werden, die für den nächsten Verarbeitungsschritt erforderlich sind. Folglich ist in Fällen, wo der nächste Verarbeitungsschritt eine relativ niedrige Strömung erfordert, und der Kammerdruck wesentlich vergrößert werden muß, die Stabilisierungszeit oft unerwünscht lang.
  • Die WO 97/37161 beschreibt ein Verfahren, das einige der oben erwähnten Probleme überwindet. Dabei wird der Druck in der Prozeßkammer geregelt, indem ein Ballastgas in das Evakuierungssystem eingeleitet und die Strömrate des Ballastgases gemäß dem gemessenen Druck in der Prozeßkammer eingestellt wird.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Es ist eine Aufgabe dieser Erfindung, die derzeitige Technik der Druckregelung auf dem Gebiet der Waferverarbeitung zu verbessern, indem die Bewegung minimiert wird, die von dem Schieber während der Verarbeitung erforderlich ist, um dadurch die Menge an Schwebstoffteilchenabfallmaterial zu minimieren, das in die Reaktionskammer eingeleitet wird.
  • Es ist eine weitere Aufgabe dieser Erfindung, die vorliegende Technik der Druckregelung auf dem Gebiet der Waferverarbeiturig zu verbessern, indem die Notwendigkeit eliminiert wird, ein Lernverfahren durchzuführen, wann immer die Einstellwerte des Drucks oder der Gasströmraten für einen bestimmten Prozeßschritt wesentlich geändert werden, oder wann immer eine neue Anweisung eingesetzt wird.
  • Es ist eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die gegenwärtige Technik der Druckregelung auf dem Gebiet der Waferverarbeitung zu verbessern, indem die Stabilisierungs oder Übergangszeit erheblich reduziert wird, die für bestimmte Prozeßschritte mit einem Druckeinstellwert erforderlich ist, der erheblich höher oder niedriger als der von dem vorhergehenden Schritt ist.
  • Um diese und andere Aufgaben zu erfüllen, ist die vorliegende Erfindung auf ein Verfahren wie in dem unabhängigen Anspruch angegeben gerichtet. Einige bevorzugte Merkmale sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 zeigt eine Ansicht der rechten Seite, die einige der größeren Baugruppen einer Waferverarbeitungsmaschine darstellt;
  • 2 zeigt eine schematische Darstellung eines Gaszufuhrsystems, einer Reaktionskammer und eines Evakuiersystems einer Waferverarbeitungsmaschine;
  • 3 zeigt eine Kurve, die Beispiele von Stabilisierungszeiten darstellt;
  • 4 zeigt ein Blockdiagramm, das einige Komponenten eines Regelsystems und verschiedene Verbindungen zwischen solchen Komponenten darstellt;
  • 5 zeigt eine Kurve, die Beispiele von Schieberstellungsabschätzungskurven darstellt;
  • 6 zeigt ein Flußdiagramm, das ein alternatives Druckregelungsschema darstellt;
  • 7 zeigt charakteristische Zeitläufe des Drucks und von dP/dt nach Druckeinstellwertänderungen;
  • 8a zeigt ein Blockdiagramm einer konventionellen bekannten PID-Regeleinstellung; und
  • 8b zeigt ein Blockdiagramm einer PID-Regeleinstellung.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Die folgenden Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden im Zusammenhang mit einem automatisierten Einwaferplasmaätzsystem beschrieben, obwohl den Fachleuten klar sein wird, daß die offenbarten Verfahren und Strukturen ohne weiteres für breitere Anwendung anpaßbar sind. Zum Beispiel ist die Erfindung ohne weiteres für andere Waferverarbeitungsgeräte und Vakuumverarbeitungsgeräte anpaßbar. Man beachte, daß, wann immer das gleiche Bezugszeichen bezüglich verschiedener Figuren wiederholt wird, es auf die entsprechende Struktur in jeder derartigen Figur verweist.
  • Ein Plasmaätzsystem 100 ist in 1 dargestellt. Es sollte erwähnt werden, daß die vorliegende Erfindung in den 1 bis 2 nur beispielhaft dargestellt wird, wenn sie mit dem TCPTM 9400 Einwaferplasmaätzsystem verwendet wird, das von Lam Research Corporation hergestellt wird. Aufgrund der oben dargelegten Lehre kann ein Durchschnittsfachmann ohne weiteres die vorliegende Erfindung mit irgendeinem geeigneten Vakuum- oder Waferverarbeitungsgerät verwenden, das die Regelung und Manipulation von Bearbeitungsdrucken in einer evakuierten Umgebung erfordert.
  • Wie in 1 gezeigt, umfaßt das Ätzsystem 100 eine Bedienerschnittstelle und Schalttafel 102, von der die Bediener die verschiedenen Prozesse und Merkmale des Ätzsystems überwachen und steuern. Wafersender- und -empfängerindizierer 104 senden Wafer zu und empfangen Wafer von den anderen Prozeßbaugruppen in dem Ätzsystem 100. In dem Fall des TCPTM 9400 werden die Wafer mit Robotern von den Sendeindizierern entlang der linken Seite des Ätzsystems zu der Eingangsschleuse (nicht gezeigt) transportiert. Von der Eingangsschleuse werden die Wafer in der Reaktionskammer 106 angeordnet, wo der Plasmaätzprozess stattfindet. In 1 ist das obere Kammergehäuse 108, das Quarzfenster 110 und das Kammermanometer 112 gezeigt. Nach der Verarbeitung treten die Wafer in die Ausgangschleuse 114 ein, und sie werden zurück zu den Indizierern 104 transportiert. Ebenso sind in 1 eine Gasbox 120, ein Luftverteiler 122, ein Schieber 124 und eine Turbopumpe 126 gezeigt, die alle unten detaillierter beschrieben werden.
  • 2 stellt in schematischer Form die Reaktionskammer 106, das Gasliefersystem 128, das Abgassystem 130 und das Regelsystem 132 dar. Während des Ätzvorgangs ist ein Wafer an einer unteren Elektrodenanordnung in der Reaktionskammer 106 angeordnet oder darangeklemmt. Um eine kontrollierte Waferätzumgebung aufrechtzuerhalten, wird die Reaktionskammer 106 immer unter Vakuum gehalten, außer während der Wartung. Das Abgas-System 130 dient dazu, dieses Vakuum aufrechtzuerhalten, indem Gas aus der Reaktionskammer evakuiert wird.
  • Das Gasliefersystem 128 leitet Prozeßgase in die Reaktionskammer 106 durch einen Gasring 134 ein, der eine Vielzahl an Gasauslässen umfaßt, die in einem Ring um die untere Elektrodenanordnung und den Wafer angeordnet sind. Das Gasliefersystem 128 steht unter der Kontrolle des Regelsystems 132. Das Gasliefersystem 128 liefert Prozeßgase zu der Reaktionskammer über mehrere Gasströmwege, die manuelle Absperrventile 138, Hauptabsperrventile 140, Massenströmregler 142 und Gasmischkrümmer 144 umfassen. Obwohl vier getrennte Gasströmwege in 2 gezeigt sind, kann im großen und ganzen irgendeine beliebige Anzahl von Gasströmwegen gemäß den Bedürfnissen der besonderen Anwendung eingesetzt werden. Von dem Gasmischkrümmer 144 treten die Prozeßgase durch die Prozeßgasleitung 146 und dann in die Reaktionskammer 106 über den Gasring 134.
  • Das Regelsystem 132 weist die Gassteuerschnittstelle 136 an, die Massenströmregler 142 zu öffnen und zu schließen, um die Strömung von Gasen zu dem Gasmischkrümmer 144 zu regulieren. Gemäß den zur Zeit erhältlichen Systemen würde während eines Stabilisierungsschritts oder eines Übergangs zwischen zwei Schritten, die eine Zunahme oder eine Abnahme in den Druckeinstellwerten erfordern, das Regelsystem die Massenströmregler anweisen, einfach die Strömung der Gase auf die Strömrate einzustellen, die für den nächsten Schritt erforderlich ist. Jedoch hat man herausgefunden, daß für Schritte, die eine Zunahme im Druck erfordern, die Geschwindigkeit der Antwort eine starke Funktion der Gaseinströmrate ist. Somit kann die Stabilisierungszeit oder Übergangszeit vorteilhafterweise reduziert werden, indem anfänglich die Massenströmregler auf Strömraten gestellt werden, die viel größer als die sind, die für den nächsten Ätzschritt erforderlich sind. Überdies hat man herausgefunden, daß diese vergrößerte Gasströmrate während der Stabilisierung einen minimal schädlichen Einfluß auf den Prozeß hat, weil die RF-Leistung während des Stabilisierungsschritts nicht eingesetzt wird.
  • 3 zeigt Beispiele von Kurven, die zwei Stabilisierungs- oder Übergangszeiten 200 und 202 darstellen. Bei dem Beispiel von 3 muß die Reaktionskammer nur um einige paar mTorr für einen Prozeßschritt angehoben werden, der 80 mTorr Druck erfordert, und eine Strömrateneinstellwert von 40 SCCM. Unter Verwendung herkömmlicher Verfahren, wie in Kurve 200 gezeigt, wird das Gas einfach bei einem Einstellwert von 40 SCCM eingeleitet, und die Stabilisierungszeit beträgt ungefähr 20 Sekunden. Wie in Kurve 202 gezeigt, führt das Einleiten des Prozeßgases während der Stabilisierung am Anfang bei einer Rate von 320 SCCM zu einer Stabilisierungszeit von nur ungefähr 3 Sekunden. Eine derartige Abnahme in der Stabilisierungszeit führt zu einer erheblichen Zunahme im Durchsatz.
  • Andere Einleitungsraten können in Abhängigkeit von den Prozeßanforderungen und dem sich ergebenden Vorteil des erhöhten Durchsatzes eingesetzt werden. Im großen und ganzen wird die Stabilisierungszeit multipliziert mit der Durchflußrate unmittelbar proportional zu der Änderung im Druck sein. Unter Verwendung dieser Beziehung kann für eine gewünschte Druckzunahme eine geeignete Strömrate ausgewählt werden, um die Stabilisierungszeit zu vermindern.
  • Jetzt mit Bezug auf 4 wird ein Blockdiagramm des Regel-Systems 132 dargestellt, das einen Hostcomputer 180, einen Bus 184, eine Gassteuerschnittstelle 136 und einen Druckregler 160 umfaßt. Der Hostcomputer 180 ist an einen Speicher 182 angeschlossen, der üblicherweise die Prozeßanweisungen in der Form einer Tabelle von Prozeßschritten und den entsprechenden Kammerdrucken, Prozeßgasströmraten, RF-Leistungseinstellungen, Lückenabständen und Temperatureinstellungen für jeden Prozeßschritt speichert. Der Bus 184 umfaßt typischerweise einen Standardbus, wie zum Beispiel einen VME-Bus, der mit dem Host 180 über ein lokales Netz kommuniziert, wie zum Beispiel dem Ethernet. Die Gassteuerschnittstelle 136 kommuniziert mit dem Bus 184 typischerweise über Analogleitungen und Digital- zu Analog- und Analog- zu Digitalkonvertern, die an dem Bus 184 sitzen. Durch die Gassteuerschnittstelle 136 und den Bus 184 kann der Host 180 Strömraten für die Massenströmregler 142 einstellen und Strömeinstellungen davon auslesen. Jedoch sind die Massenströmregler 142 auch durch Druckregler 160 über Konverter 188 regelbar. Der Druckregler 160 kommuniziert mit dem Bus 184 über einen RS232-Anschluß oder dergleichen. Der Druckregler 160 empfängt Druckauslesungen von dem Manometer 112, regelt den Schieberantriebsmotor 162 und regelt die Ballastgasmassenströmregler 164a oder 164b (unten detaillierter erläutert).
  • Die zunehmende Einströmung von Prozeßgas in die Reaktionskammer kann entweder durch den Druckregler 160 oder durch den Host 180 geregelt werden. In dem Fall, wo der Druckregler 160 den Einfluß von Prozeßgas regelt, stellt der Druckregler 160 den Einfluß auf eine hohe Flußrate ein und überwacht den Druck in der Reaktionskammer 106 über das Kammermanometer 112. Wenn der Druck in der Reaktionskammer 106 in einen Bereich des Drucks gerät, der für den folgenden Prozeßschritt erforderlich ist, setzt der Druckregler 160 die Massenstromrelger 142 zurück, um Gas bei der Einstellwertrate des folgenden Prozeßschritts einzuleiten. Ein geeigneter Schwellwertdruck zum Rücksetzen der Strömraten auf die Einstellwertströmrate sollte für jeden bestimmten Aufbau des Geräts gewählt werden, so daß ein glatter Übergang zu dem Einstellwertdruck erreicht wird. Zum Beispiel hat man bei einigen Maschinen herausgefunden, daß, wenn der Druck innerhalb von 10 des Einstellwertdrucks liegt, die Strömrate auf die Einstellwertströmrate zurückgesetzt werden sollte.
  • Alternativ kann der Host 108 die Gaseinströmraten über die Gassteuerschnittstelle 136 regeln. Bei der Reglung durch den Host wird das Prozeßgas mit einer hohen Rate für eine Zeit t eingeleitet, nach der die Strömraten auf die Einstellwerte zurückgesetzt werden. Man hat herausgefunden, daß die richtige Zeit t zum Ändern der Strömrate von dem hohen Wert auf den Einstellwert per Experiment herausgefunden werden kann, indem ein Dummywafer einmal gefahren wird, und die Zeit überwacht wird, die erforderlich ist, um den Einstellwertdruck zu erreichen. Die Zeit t kann auch berechnet werden, indem eine Beziehung verwendet wird, die über einfaches Modellieren der Kammer geschaffen wurde, wie unten gezeigt: P = αṁ·t – t = P/αṁ
  • Der Wert von alpha variiert mit dem bestimmten Aufbau des Geräts; einen Wert von ungefähr 0,3 hat man für eine Experimentiermaschine herausgefunden, die von Lam Research Corporation hergestellt wurde.
  • Folglich kann gemäß einer alternativen erfindungsgemäßen Ausführungsform die Stabilisierungszeit und die Übergangszeit während Druckschrittänderungen erheblich verkürzt werden, wodurch das Prozeß effizienter gemacht und der Durchsatz erhöht wird.
  • Wieder mit Bezug auf 2 wird das Evakuiersystem detaillierter beschrieben. Das Evakuiersystem 130 dient dazu, ein Vakuum in der Reaktionskammer 106 zu erzeugen. Das Evakuiersystem 130 umfaßt einen Luftverteiler 122, einen Schieber 124, eine Turbopumpe 126 und Ballastöffnungen iii und bi. Wie in 2 gezeigt, ist der Luftverteiler 122 unmittelbar mit der Reaktionskammer 106 verbunden. Zwischen dem Luftverteiler 122 und der Turbopumpe 126 ist der Schieber 124. Man beachte, daß, obwohl das Ventil 124 gezeigt und als Schieber bezeichnet ist, die Durchschnittsfachleute auf dem Gebiet erkennen, daß viele alternative Ventilarten eingesetzt werden können, die einen Drosseleffekt auf die Strömung von Gas zwischen der Prozeßkammer und der Vakuumpumpe haben. Derartige Ventile umfassen zum Beispiel Klappenventile, Flügelventile, schlitzartige Ventile und irisartige Ventile.
  • Außerdem kann das Evakuiersystem 130 auch eine Unterstützungspumpe (nicht gezeigt) umfassen, die verwendet wird, um anfänglich die Reaktionskammer 106 von Athmosphärendruck auf einen Grobvakuumdruck von ungefähr 1 mTorr leerzupumpen. Das Regel-System 132 koordiniert das Öffnen und Schließen der Isolierventile, die jede Pumpe mit der Kammer verbinden, so daß die Turbopumpe 126 fortfährt, den Druck zu vermindern, wenn die Hilfspumpe ihre untere Druckgrenze erreicht. Sobald die Hilfspumpe die Kammer auf ihre untere Druckgrenze leergepumpt hat, wird die Turbopumpe 126 benutzt, um den Kammerdruck auf weniger als 1 mTorr zu vermindern.
  • Bei zur Zeit erhältlichen Systemen verwendet der Druckregler 160 Druckdaten von dem Kammermanometer 112, um den Schieber 124 zu öffnen und zu schließen, um den Druck in der Reaktionskammer 106 zu regeln. Jedoch hat man herausgefunden, daß der Druck in der Reaktionskammer 106 geregelt werden kann, indem ein Ballastgas in die Turbopumpe durch die Ballastöffnung eingeleitet wird. In 2 stellen die Ballastöffnung 150a und die Ballastöffnung 150b zwei alternative Anordnungen einer Ballast-Öffnung dar. Die Ballastöffnung 150a ist unmittelbar stromaufwärts von dem Schieber 124 angeordnet; die Ballastöffnung 150b ist stromabwärts von dem Schieber 124 angeordnet und leitet Ballastgas unmittelbar in die Turbopumpe 126 ein. Im großen und ganzen bevorzugt man, daß die Anordnung der Ballastöffnung soweit stromabwärts wie möglich liegt, um die Möglichkeit zu vermindern, daß Ballastgas zurück in die Reaktionskammer diffundiert und bei dem Prozeß stört. In dem Fall der Ballast-Öffnung 150b kann das Ballastgas vorzugsweise unmittelbar in eine der Stufen der Turbopumpe gedrängt werden, wodurch die Möglichkeit der Rückdiffusion in starkem Maße reduziert wird. Es ist auch vorzuziehen, ein neutrales Gas als ein Ballastgas zu verwenden, wie zum Beispiel Stickstoff, das für andere Zwecke bei dem Systembetrieb oder der Wartung eingesetzt werden kann.
  • Die Strömrate des Ballastgases wird vorzugsweise durch einen Massenstromregler kontrolliert, unter der Leitung von dem Regelsystem 132. Die Massenstromregler 164a und 164b regeln die Strömrate von Ballastgas für die Ballastöffnung 150a bzw. 150b. Wie in 4 gezeigt, werden die Massenstromregler 164a und 164b durch Druckregler 160 geregelt.
  • Das Einleiten von Ballastgas durch die Ballastöffnung kann vorteilhafterweise eingesetzt werden, um die Antwortgeschwindigkeit während Druckeinstellwertänderungen zu vergrößern, ebenso wie zur aktiven Kontrolle des Kammerdrucks anstatt des Bewegens des Schiebers. Während des Betriebs kann die Ballastgaseinleitung genau den Druck in der Kammer über einen erheblichen Bereich von Betriebsdrucken regeln, wobei vorteilhafterweise die Notwendigkeit für Schieberstellungsänderungen vermindert wird. Der Schieber kann in ein paar vorbestimmte feste Stellungen angeordnet werden, wodurch der Bereich der Kontrolle durch das Ballastgas über den gesamten Betriebsbereich der Reaktionskammerdrucke erweitert wird. Zum Beispiel hat man herausgefunden, daß bei bestimmten von Lam Research Corporation hergestellten Maschinen das Verwenden des Ballastgases in Kombination mit dem Anordnen des Schiebers in drei verschiedene Stellungen, zum Beispiel voll offen, zwei Drittel geschlossen und voll geschlossen, eine Abdeckung eines adäquaten Bereichs von Konduktanzen für das Evakuiersystem schafft.
  • Folglich kann ein Ballastgas vorteilhafterweise über eine Ballastöffnung unmittelbar in oder unmittelbar stromaufwärts von der Turbopumpe eingeleitet werden, um dadurch den Druck der Reaktionskammer effektiv zu kontrollieren, ohne die Notwendigkeit, die Prozeßgaseinströmrate einzustellen oder die Turbopumpendrehzahl einzustellen, um auf diese Weise die Menge an erforderlicher Bewegung des Schiebers zu minimieren. Durch das Minimieren der Bewegung des Schiebers wird die Menge an eingeleiteten Schwebstoffteilchen und Änderungen der Schwebstoffteilchenverunreinigung des Prozesses in starkem Maße vermindert.
  • Eine Anzahl von Konduktanzkurven kann eingesetzt werden, um die Stellung des Schiebers für einen bestimmten Strömraten- und Druckeinstellwert abzuschätzen, um dadurch die Notwendigkeit zu eliminieren, ein Lernverfahren durchzuführen, wann immer eine Änderung im Druckeinstellwert oder Stromeinstellwert für einen bestimmten Schritt gemacht wird, oder wann immer eine neue Anweistung eingesetzt wird. 5 stellt Beispiele derartiger Schieberabschätzkurven dar. Insbesondere wird eine Familie von Kurven für verschiedene Strömraten gezeigt. Man hat herausgefunden, daß die Kurven dazu neigen, bei hohen Strömraten zu konvergieren; in dem Fall von 5 neigen die Kurven dazu, bei Strömraten oberhalb von 100 SCCM zu konvergieren.
  • Ein bevorzugtes Verfahren zum Ableiten der Schieberstellungsabschätzungskurven ist wie folgt. Gehe für jede Strömrate durch eine Abfolge von Schieberstellungen und messe den sich für jede Stellung ergebenden Druck. Die Strömrate geteilt durch den gemessenen Druck ist die Konduktanz für diese Schieberstellung. Wiederhole dieses Verfaren für jede Strömrate. Man hat herausgefunden, daß, sobald die Schieberstellungsabschätzungskurven abgeleitet wurden, sie in Abwesenheit einiger drastischer Änderungen bei der Turbopumpe oder dem Schieber genau bleiben. Somit können die Kurven permanent in dem Speicher des Regel-Systems gespeichert werden. Bei 4 wird der Speicher 190 als ein Teil des Druckreglers 160 gezeigt und vorzugsweise eingesetzt, um die Schieberstellungsabschätzungskurven zu speichern. Zum Beispiel können die Kurven in dem Speicher 190 in der Form einer Matrix oder eines Felds von Werten oder in der Form von Formeln oder Funktionen gespeichert werden, die an die experimentiell abgeleiteten Kurven angepaßt wurden.
  • Schieber und Regler, die derzeit erhältlich sind, arbeiten typischerweise entweder auf eine Druckregelweise oder eine Stellungsregelweise. Bei der Druckregelweise überwacht der Regler den Druck in der Kammer und versucht, den eingestellten Druck aufrechtzuerhalten, indem die Stellung des Schiebers eingestellt wird, während bei der Stellungsregelweise der Regler einfach den Schieber auf eine eingestellte Stellung einstellt. Am Anfang sollte der Schieber auf eine Stellungsregelweise betrieben werden, die den Schieber in einen Punkt voreinstellt, der geeignet ist, um das System in die Nähe des Druckeinstellwertes zu bringen. Der Stellungsregler kann den Voreinstellungswert von der Schieberstellungsabschätzungskurve abschätzen, die in dem Speicher gespeichert ist. Wenn zum Beispiel der Prozeßeinstellwert 20 mTorr Druck bei 100 SCCM Strömung ist, schätzt der Druckregler die Schieberstellung aus der in dem Speicher gespeicherten Kurve ab. In dem Fall von 5 würde die Stellung ungefähr 380 sein. Wenn der Druck in einem kleinen Prozentbereich des Einstellwerts liegt, wird der Druckregler vorzugsweise auf Druckregelweise geschaltet. Zum Beispiel hat man bei einigen Maschinen herausgefunden, daß, wenn der Druckregler auf Druckregelweise geschaltet ist, wenn der Druck innerhalb von 5 Prozent des Einstellwertdrucks liegt, eine glatte Annäherung an den Einstellwertdruck im großen und ganzen geschieht.
  • Die Schieberstellungsabschätzungskurven können auch eingesetzt werden, wenn der Druck unter Verwendung von Ballastgas geregelt wird. Um einen größeren Bereich von Konduktanzen abzudecken, kann der Schieber auf eine kleine Anzahl vorgewählter Stellungen eingestellt werden. Die Schieberabschätzungskurven können eingesetzt werden, um auszuwählen, welche Schieberstellung für einen bestimmten Prozeßschritt am besten ist. Im allgemeinen ist für ein System ein bestimmter Bereich an Ballastströmung optimal zum Regeln des Drucks in der Reaktionskammer. Das Annehmen einer Ballastgasströmung in der Nähe des Mittelpunkts des geeigneten Bereichs an Ballastgasströmraten, das Addieren dieser Raten zu der Einstellwertrate und dann das Teilen der kombinierten Strömrate durch den Einstellwertdruck wird einen Konduktanzwert ergeben. Dieser Konduktanzwert wird anzeigen, wenn die Schieberstellungsabschätzungskurven verwendet werden, welche der wenigen vorgewählten Schieberstellungen geeignet ist. Zum Beispiel nehme man an, daß der Bereich an Ballastgasströmung 0 bis 300 SCCM für einen bestimmten Aufbau ist, der Prozeßgasströmungseinstellwert 50 SCCM ist, und der Kammerdruckeinstellwert 15 mTorr ist. Dann ergibt 150 SCCM, der Mittelwert des Bereichs an Ballastgas, addiert zu dem Einstellwertstrom und geteilt durch den Druck, eine Konduktanz von ungefähr 13,3 SCCM/mTorr. Unter Verwendung der Kurven in 5 würde die ideale Schieberstellung ungefähr 500 sein, und die nächste vorausgewählte Stellung würde ausgewählt werden. In dem Fall des Verwendens von drei vorausgewählten Schieberstellungen, weit offen, vollkommen geschlossen und zwei Drittel geschlossen, würde die Stellung von zwei Drittel geschlossen gewählt werden.
  • Die Schieberstellungskurven, die die Systempumpgeschwindigkeit als eine Funktion der Ventilschließstellung darstellen, die auch auch als Pumpgeschwindigkeitskorrelationsfunktionen bekannt sind, werden unter Bedingungen ermittelt, die tatsächlichen Prozeßbedingungen angenähert sind. Da die Bedingungen tatsächlichen Bedingungen angenähert sind, haben die Ventilstellungskurven eine bestimmte Menge an inhärenten Fehlern, wenn sie für die Ventileinstellung und die Druckregelung unter tatsächlichen Prozeßbedingungen verwendet werden. Unterschiede, die zwischen Kurven-"ermittlungs"-bedingungen und tatsächlichen Prozeßbedingungen existieren, umfassen das Verhältnis der spezifischen Wärmen, der Molekulargewichte, der Temperaturen und dergleichen. Für bestimmte Prozesse beeinflußt dieser inhärente Fehler die Druckstabilisierungszeiten nicht entscheidend, aber bei anderen kann er zu unerwünscht langen Einstellzeiten führen. Eine Lösung würde es sein, viele Ventilstellungskurven unter vielen verschiedenen Bedingungen zu erzeugen. Eine Alternative oder eher bevorzugte Lösung ist es, eine einzige Korrelationskurve einzusetzen, und den Fehler in dem Druckregelschema einzuberechnen, um auf diese Weise die Zeit, die für den Vorgang des Ermittelns vieler Korrelationskurven verbraucht wird, erheblich zu reduzieren.
  • Folglich wird die Ventilstellungsabschätzungskurve eingesetzt, um das Ventil auf der Basis des aktuellen Strömungseinstellwertes und eines vorbestimmten Anteils des Druckeinstellwertes voreinzustellen. Der Anteil wird gewählt, um zu gewährleisten, daß der Druck monoton in Richtung des Einstellwertes für den Prozeß zunehmen wird, der eine Zunahme im Druck erfordert, und daß der Druck monoton in Richtung des Einstellwertes für Prozeßschritte abnehmen wird, die eine Abnahme im Druck erfordern, ohne ein Überregeln beziehungsweise ein Unterregeln zu zeigen. Das Verwenden eines vorbestimmten Anteils des Druckeinstellwertes ist vorteilhaft beim Verhindern der Drucküberregelungen/-unterregelungen aufgrund des inhärenten Fehlers in den Schieberstellungsabschätzungskurven, wie oben erläutert. Im großen und ganzen wird der vorbestimmte Anteil sich zwischen ungefähr 50 bis 150 Prozent des Druckeinstellwertes bewegen, und vorzugsweise zwischen ungefähr 70 bis 130 Prozent. Ein Wert von weniger als 100 Prozent gilt für Schritte, bei denen der Druckeinstellwert vergrößert wird, oder ein Wert größer als 100 Prozent gilt für Schritte, bei denen der Druckeinstellwert vermindert wird.
  • Die Ventilabschätzungskurven werden eingesetzt, um das Ventil aufgrund eines berechneten effektiven Einflusses voreinzustellen, wobei der effektive Einfluß bestimmt wird, indem die Gleichung zur Erhaltung von Masse, der gespeicherten Pumpgeschwindigkeitskorrelation und des gemessenen Drucks kombiniert wird. In dieser alternativen Ausführungsform wird das Ventil auf irgendeine geeignete Anfangsstellung eingestellt, und nachdem die Strömung sie stabilisiert hat, wird der effektive Einfluß berechnet, indem die Massen-erhaltungsgleichung für die Kammer verwendet wird: mein – maus = V·dρgemischt/dt.
  • Dabei ist mein die Massenströmrate in die Kammer, maus die Massenströmrate aus der Kammer, V das Kammervolumen und dρgemischt/dt die Zeitableitung der Gasdichte in der Kammer. Durch Ersetzen durch die Massenströmrate in Ausdrücken der Dichte und der Volumenströmrate bei Standardbedingungen und Verwenden des idealen Gasgesetzes reduziert sich die Massenerhaltungsgleichung zu:
  • Figure 00190001
  • Dabei ist M das Molekulargewicht, verweist die tief gestellte Schrift "gemischt" auf das Gas in der Kammer, ist P der Gasdruck, und ist T die Gastemperatur. Man hat implizit angenommen, daß dtgemischt/dt = 0 ist, und daß Mgemischt = Maus ist. Durch Definieren der effektiven Einströmung als Q eff / ein = Qein·Mein/Maus und Setzen des Parameters β = PSTP·Tgemischt/V·TSTP, vereinfacht sich die Gleichung zu Qeffein – Qaus = β·dPgemischt/dt
  • Der Parameter β kann unter Verwendung des bekannten oder abgeschätzten Kammervolumens und eines gemessenen oder abgeschätzten Wertes für Tgemischt berechnet werden.
  • Mit Bezug auf 6 verweist 300 auf eine Ventilvoreinstellungsregelschleife. Der Block 302 representiert das Inverse der Schieberstellungsabschätzungskurve. Ein Eingang von Q/P in Block 302 führt zu einer entsprechenden Ventilstellung θ. Der Block 304 repräsentiert die Schieberstellungsabschätzungskurve, wobei ein Eingang von einer Ventilstellung zu einem entsprechenden Q/P-Wert führt. Der Block 308 gibt β(dP/dt) aus. In diesem Fall ist Qeingestellt/Peingestellt, was aus der Anweisung oder anderweitig bekannt ist, der Eingang in Block 302, der unter Verwendung der inversen Schieberstellungsabschätzungskurve eine erste Ventilstellung θf ausgibt. θf ist der Eingang in Block 304 und in den Ventilregler 310. Der Ventilregler 310 stellt die Ventilstellung entsprechend ein, und Block 304 gibt unter Verwendung der Schieberstellungsabschätzungskurve Qaus/P aus, wobei P = Pgemessen unter der Annahme, daß die Kurven vollständig genau sind. Qaus/P wird mit Pgemessen in Block 306 multipliziert, wobei Pgemessett von Manometer 312 bereitgestellt wird, um Qaus zu ergeben. Qaus wird in Block 316 zu β(dP/dt) addiert, um eine effektive Volumeneinströmung Q eff / ein zu ergeben. Q eff / ein wird dann in Block 314 durch Pgemessett geteilt, und der Ausgang Q eff / ein/Pgemessen wird in dem Block 302 eingegeben, der unter Verwendung der inversen Schieberstellungsabschätzungskurve eine neue Ventilstellung θneu ausgibt. θneu wird dann verwendet, um das Ventil über den Ventilregler 310 einzustellen. Durch Verwenden dieser Technik wird das Einstellen des Ventils anschließend unter Verwendung der berechneten effektiven Einströmung korrigiert, wodurch mögliche Drucküberregelungen/-unterregelungen reduziert werden, die aufgrund des inhärenten Fehlers in den Kurven auftreten können. Die Schleife kann wiederholt werden, wenn es notwendig ist. Die Kontrollschleife kann weiterhin durch sich selbst verwendet werden, um einen Druck innerhalb der Prozeßkammern, oder, alternativ, kann die Kontrollschleife als Voreinstellschritt vor der Übergabe der Regelung zu einem anderen Regelungsschema verwendet werden, wie zum Beispiel Proportional-, Integral- und/oder Differentialregelung, wie unten detaillierter beschrieben ist.
  • Folglich beseitigt der Einsatz der Schieberstellungsabschätzungskurven, die im Speicher gespeichert sind, vorteilhafterweise die Notwendigkeit, ein neues Lernverfahren durchzuführen, wann immer eine neue Prozeßanweisung eingesetzt wird. Indem die Ström- und Druckeinstellwertinformation mit den gespeicherten Pumpgeschwindigkeitskorrelationen eingesetzt wird, kann die Ventilvoreinstellung zuverlässig durchgeführt werden, sogar wenn Anweisungsänderungen damit verbunden sind. Im Gegensatz dazu sind konventionelle Druckregelschemata oft auf das Sichern der gelernten Schieberstellungen im Speicher für jeden Schritt einer Anweisung angewiesen, und rufen einfach diese gelernten Werte für die Voreinstellungen des Ventils bei jedem Schritt wieder ab. Diese Technik arbeitet gut, wenn die gleiche Anweisung wiederholt läuft. Wenn jedoch die Anweisung modifiziert wird, oder wenn eine vollständig neue Anweisung eingesetzt wird, können die gelernten Werte, die in dem Speicher gespeichert sind, für die neue Anweisung nicht passend sein. Daher wird üblicherweise ein Dummywafer an dem Beginn von jeder neuen Anweisung gefahren, um es dem Regler zu ermöglichen, die passenden Ventilvoreinstellungswerte zu lernen, um zu gewährleisten, daß alle Produktionswafer identisch verarbeitet werden. Durch Verwenden der beschriebenen Abschätzungskurven werden diese Dummywaferabläufe beseitigt und folglich wird die Werkzeugproduktivität verbessert.
  • Das Ventil wird zuerst gemäß einer der obigen Voreinstellungsalternativen oder einfach gemäß einer Stellung eines früheren Durchgangs voreingestellt. Nach der anfänglichen Ventilvoreinstellung wird eine Proportional-(oder Proportional- und Differential-)Regelung angewendet, bis eine bestimmte Bedingung erfüllt ist, nach der eine integrale Regelung auch aktiviert wird. Durch das anfängliche Anwenden nur einer Proportional-(oder Proportional- und Differential-)Regelung wird der Druck nahe zu dem gewünschten Einstellwert ohne Überregelung/Unterregelung und ohne unerwünschte Ventilbewegung gebracht. Anschließend wird die integrale Regelung aktiviert, um irgendeinen ständigen Unterschied zwischen dem Einstellwert und dem tatsächlichen Druck zu vermindern. Das Verzögern des Anstellens der integralen Regelung beseitigt effektiv Drucküberregelungen/-Unterregelungen, die aus einem Aufbauen des Integrators oder einem Überregeln des Integrators herrühren, was durch die Nichtlinearität und die Natur höherer Ordnungen des Systems verursacht wird.
  • Das Ventil wird am Anfang auf Basis eines früheren Durchlaufs oder durch die oben beschriebenen Einstellalternativen voreingestellt. Im Anschluß an die Voreinstellung wird eine Proportional-(oder Proportional- und Differential-)Regelung angewendet, bis der Absolutwert des Druckfehlers,
    Figure 00220001
    unter ungefähr 0,25 fällt und vorzugsweise unter 0,05, wonach die Integralregelung auch aktiviert wird. Dieses Druckfehlerkriterium zum Aktivieren der Integralregelung arbeitet sehr effektiv, insbesondere in Fällen, wo das Ventil aufgrund eines früheren Durchlaufs voreingestellt wird.
  • In einigen Fällen kann jedoch die Kombination aus Ventilvoreinstellung und Proportional-(oder Proportional- und Differential-)Regelung nicht einen Druckfehler erreichen, der klein genug ist, um das Anstellen der Integralregelung auszulösen, Das passiert manchmal, zum Beispiel in Fällen, wo die Voreinstellung auf einer extrem ungenauen Pumpgeschwindigkeitskorrelation basiert. In dieser Situation ist es vorteilhaft, den Integrator zu aktivieren, nachdem ein Zeitkriterium erfüllt ist. Diese Zeit kann abgeschätzt werden, indem dP/dt gemessen wird, und unter der Annahme, daß dP/dt konstant ist, die Zeit, um den Einstellwert zu erreichen (dP/dt)–1 (Pgemessen) ist. Ein anderer Weg, um die Zeit abzuschätzen, um den Einstellwert zu erreichen, ist es, die folgende Beziehung zu verwenden:
  • Figure 00230001
  • Wenn die Schieberstellungsabschätzungskurve ohne Korrektur eingesetzt wird, um das Ventil voreinzustellen, macht sich die Zeit als ein gutes Kriterium zur Aktivierung der Integralregelung wegen der Ungenauigkeiten, die in der gespeicherten Pumpgeschwindigkeitskorrelation existieren können. Das Berechnen der Verzögerungszeit für den Integrator auf diese Weise ist vorteilhaft gegenüber der Verwendung einer festen Verzögerung für den Integrator, weil die Verzögerungszeit des Integrators für jeden Prozeßschritt minimiert werden kann, was die Produktivität des Werkzeugs vergrößern kann. Außerdem ist das Berechnen der Verzögerung des Integrators auf diese Weise vorteilhaft gegenüber dem Verfahren, den Anwender eine Verzögerungszeit des Integrators für jeden Prozeßschritt spezifizieren zu lassen, weil keine Tätigkeit des Bedieners erforderlich ist. Außerdem sind keine nicht produktiven Prozeßzyklen mit. Dummywafern erforderlich, um empirisch die optimale Verzögerungszeit des Integrators zu bestimmen. Ein Durchschnittsfachmann wird ohne weiteres weitere Wege erkennen, die Zeit abzuschätzen, die erforderlich ist, um den Druckeinstellwert zu erreichen.
  • Das Kriterium zum Aktivieren der Integralregelung basiert auf der Zeitableitung des gemessenen Drucks. Genauer wird die Integralregelung nur aktiviert, nachdem der Absolutwert von dP/dt unter ungefähr 50% des maximalen Werts von dP/dt abgenommen hat, der für den aktuellen Anweisungsschritt oder die Einstellbedingungen aufgezeichnet wurde. Dieses Verfahren beruht auf der Messung von dP/dt und der erwarteten charakteristischen Veränderung von dP/dt mit der Zeit. 7 zeigt charakteristische Zeitspuren von Druck und dP/dt gefolgt von Druckeinstellwertänderungen von 0 auf 40 auf 20 mTorr bei einer konstanten Strömung von 200 SCCM. Bei diesem Beispiel nimmt, wenn der Druckeinstellwert von 0 auf 40 mTorr zunimmt, der Druck monoton zu und stellt sich anschließend auf den neuen Einstellwert ein, mit einer minimalen Überregelung. Der gemessene Wert von dP/dt nimmt anfänglich zu, hat eine Spitze und nimmt dann ab, wenn sich der gemessene Druck an den Einstell-wert annähert. Die Spitze bei dP/dt tritt typischerweise auf, wenn der gemessene Druck in der Nähe der Mitte zwischen Anfangs- und Enddruck ist. Ein ähnlicher Trend wird beobachtet, wenn der Einstellwert von 40 auf 20 mTorr geändert wird, außer daß das Vorzeichen von dP/dt umgekehrt ist.
  • Bei einer Ausführung der vorliegenden Erfindung wird eine neue Anwendung der Löschkompensation eingesetzt, um die Nichtlinearität des Gesamtsystems zu vermindern. 8a zeigt einen herkömmlichen bekannten PID-Blockdiagrammansatz eines Druckregelsystems, wobei die Ventilvoreinstellungslogik zur Klarheit weggelassen ist. Bei dem herkömmlichen PID-Druckregelsystem wird der Druckfehler in einen PID-Kompensationsblock eingegeben, der ein Betätigungssignal erzeugt, das zu dem System gesendet wird. Die Systemantwort (in diesem Fall der Druck) wird dann gemessen, zurückgeführt und mit dem Druckeinstellwert verglichen, um den Systemfehler zu bestimmen. Die Ventilbetätigungs- und die Druckmeßeinrichtung sind bei diesem herkömmlichen Ansatz ohne weiteres als ein System erster Ordnung mit einem exponentiellen Zeitantwortverhalten aufgebaut. Jedoch ist es bei diesem konventionellen Ansatz aufgrund der Nichtlinearität des Ventil-/Kammersystems schwierig, das gesamte System mathematisch unter Verwendung, einer Standardregeltheorie zu modellieren. Das Ventil-/Kammersystem ist bei diesem konventionellen Ansatz effektiv aus der Faltung der nichtlinearen (Ausströmungs-)Schieberstellungsabschätzungsfunktion und der integratorartigen Natur der Kammer zusammengesetzt (das heißt, daß der Druck in der Kammer durch das Zeitintegral des Unterschieds zwischen der Gaseinströmrate und der Gasausströmrate der Kammer bestimmt wird).
  • Folglich ist in einer erfindungsgemäßen Ausführungsform die inverse Funktion der Schieberstellungsabschätzungskurve, F–1, in das Modell eingebaut, wie in 8b gezeigt, was im wesentlichen die Nichtlinearität des Ventil-/Kammersystems beseitigt. Bei dieser alternativen bevorzugten Ausführung, wobei auf 8 verwiesen wird, ist der Druckfehler ein Eingang für die PID-Kompensationsblöcke. Der Ausgang der PID-Kompensation ist effektiv ein Volumenströmungsbefehl Q, dessen Einheiten Standardkubikzentimeter pro Minute (sccm) sind. Q wird dann durch den Druck in Einheiten von mTorr (entweder den Druckeinstellwert oder den gemessenen Druck) geteilt, um den Quotienten von Q/P zu berechnen. Der Quotient wird dann in die inverse Schieberstellungsabschätzungskurve, F–1, eingegeben, um den neuen Ventilstellungsbefehl zu bestimmen, der wiederum in den Ventilregler eingegeben wird. Wenn angewendet, dann stellt die neue Ventilstellung den Kammerausfluß durch die Systempumpgeschwindigkeit ein, zum Beispiel mathematisch als die Schieberstellungsabschätzungskurve, F, modelliert. Bei diesem Ansatz wirkt die inverse Schieberstellungsabschätzungskurve als eine Systemverstärkung, aber, noch wichtiger, sie bewirkt auch, daß im wesentlichen die Nichtlinearität des Ventil-/Kammersystems ausgelöscht wird. (Von einem Regeltheoriegesichtspunkt werden nachfolgende Blocks in einem Blockdiagramm multipliziert. Das Produkt von F–1 und F ist nominell eine Einheit; jedoch ist in der Realität ihr Produkt nicht exakt eine Einheit aufgrund der inhärenten Differenzen zwischen der gespeicherten und tatsächlichen Pumpgeschwindigkeitskorrelationskurve bei verschiedenen Bedingungen. Das Bilden des Produkts von F–1 und F ist eine bestimmte Implementierung einer Technik, die als Löschungskompensation in der Regelungstheorie bekannt ist. Siehe Edward Doebelin, Dynamic Analysis and Feedback Control 254 (1962)). Bei diesem Ansatz kann das System unter Verwendung einer Standardregeltheorie analysiert werden, um die Regelung zu optimieren.
  • Folglich wird bei diesem alternativen bevorzugten Ausführungsbeispiel das Ventil anfänglich aufgrund eines früheren Durchlaufs oder durch die oben beschriebenen Voreinstellungsalternativen voreingestellt. Im Anschluß an die Voreinstellung wird eine Proportional-(oder Proportional- und Differential-)-Regelung angewendet, bis eine bestimmte Bedingung erfüllt ist, nach der die Integralregelung aktiviert wird. Das ist genau wie oben beschrieben, außer daß bei diesem alternativen bevorzugten Ausführungsbeispiel die inverse Schieberstellungsabschätzungskurve angewendet wird, um im wesentlichen die Nichtlinearität des Ventil-/Kammersystems herauszulöschen. Während man bevorzugt, das Ventil voreinzustellen, wird ein Durchschnittsfachmann ohne weiteres erkennen, daß eine Proportional-, Integral-und/oder Differentialregelung in irgendeiner Kombination gekoppelt mit der inversen Schieberstellungskurve, um die Nichtlinearität des Ventil-/Kammersystems herauszulöschen, wie hier offenbart, mit oder ohne die Voreinstellung eingesetzt werden kann, um den Druck in der Kammer zu regeln. Im großen und ganzen wird bei dem PID-Ansatz die optimale Steigerung, die auf die Proportional-, Integral- und Differentialregelung angewendet wird, empirisch bestimmt. Bei einem Ziegler-Nicols-Schema können zum Beispiel (G. F. Franklin, J. D. Powel & A. Eamami-Naeini, Feedback Control of Dynamic Systems 103–106 (1986)) die optimalen Anstiege mit der Reaktionsrate und der Verzögerung der Systemantwort verbunden werden. Die ausgewählten Anstiege sind üblicherweise Konstanten oder werden mit einigen Parametern geplant, die das System betreffen. Man hat experimentiell herausgefunden, daß die optimale Druckregelung erreicht wird, indem der integrale Anstieg mit der Ventilstellung geplant wird, wobei der Anstieg durch Ki = (konstant)(F(θaktuell)) gegeben ist, wobei F die Schieber-stellungsabschätzungskurve ist. Kp, und Kd, die Proportional-beziehungsweise Differentialanstiege, können Konstanten oder mit der Strömung geplant sein. Typische Werte von Kp und Kd für Prozeßkammern für 200 mm Wafer sind in der Größenordnung von 1, wobei Kd im großen und ganzen auf einen Bruchteil von Kp eingestellt wird (zum Beispiel 0,1).
  • Während die oben beschriebenen alternativen bevorzugten Ausführungen der vorliegenden Erfindung Proportional- und Integralregelung einsetzen, wird der Durchschnittsfachmann ohne weiteres erkennen, daß auch eine Differentialregelung zusätzlich zu der Proportional- und Integralregelung zu irgendeiner Zeit nach der Voreinstellung des Ventils eingesetzt werden kann, ohne den Schutzbereich der vorliegenden Erfindung zu verlassen. Außerdem wurden verschiedene Wege des Voreinstellens des Ventils vor der PID-Regelung beschrieben. Der Durchschnittsfachmann wird ohne weiteres erkennen, daß viele weitere Wege des Voreinstellens des Ventils vor der PID-Regelung eingesetzt werden können, ohne den Schutzbereich der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
  • Während bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung beschrieben wurden, sind die Beschreibungen nur illustrativ und nicht dazu gedacht, die vorliegende Erfindung zu beschränken. Zum Beispiel ist es klar, daß, obwohl die Erfindung unter Verwendung eines Beispiels eines Vakuumplasmawaferverarbeitungsgeräts beschrieben wurde, die Erfindung auf andere Arten von Waferverarbeitungsgeräten anwendbar ist, ebenso wie auf andere Arten von Vakuumverarbeitungsgeräten. Folglich wird ein Durchschnittsfachmann erkennen, daß die Erfindung gleichermaßen auf andere Arten von Geräten anwendbar ist, wo es eine Notwendigkeit gibt, einen niedrigen Druck in der Nähe des Vakuums in einer evakuierten Kammer zu manipulieren und genau zu regeln.

Claims (14)

  1. Verfahren zum Steuern des Drucks in einer evakuierten Prozesskammer (106), umfassend die folgenden Schritte: Lesen eines Werts eines gewünschten Drucks, der ein gewünschtes Druckniveau für die Prozesskammer (106) wiedergibt, aus einem elektronischen Speicher; Lesen eines Werts einer gewünschten Gasströmung aus dem elektronischen Speicher, der eine gewünschte Gasströmrate durch die Prozesskammer (106) hindurch repräsentiert; Zugreifen auf eine mathematische Funktion aus dem elektronischen Speicher (190), wobei die Funktion eine Wertedomäne aufweist, die Drücke in der Prozesskammer (106) und Gasströmraten in die Prozesskammer (106) hinein umfasst, und mit einem Wertebereich, der Stellungen eines Drosselventils (124) umfasst; Messen des Drucks in der Prozesskammer (106); Berechnen eines Druckwertfehlers, welcher gleich dem Unterschied zwischen dem gewünschten Druck und dem gemessenen Druck ist; und Positionieren des Drosselventils (124) durch Wiederholen der folgenden Schritte: (a) Lesen proportionaler, integraler und differentieller Zuwächse aus dem elektronischen Speicher (190), wobei wenigstens einer der Zuwächse nicht gleich Null ist; (b) Berechnen einer Proportional-Kompensation der Ventilposition, einer Integral-Kompensation der Ventilposition und einer Differential-Kompensation der Ventilposition jeweils durch Anwenden des Druckwertfehlers auf den proportionalen Zuwachs, auf den integralen Zuwachs und auf den differentiellen Zuwachs; (c) Bilden der Summe der Ausgabewerte aus Schritt (b), um einen eine volumetrische Strömungsrate repräsentierenden Wert bereitzustellen; (d) Dividieren des Werts der volumetrischen Strömungsrate durch einen Druckwert, um einen Quotienten bereitzustellen, welcher Strömung/Druck repräsentiert; (e) Anwenden des Quotienten auf das Inverse der aus dem elektronischen Speicher (190) zugegriffenen mathematischen Funktion, um eine neue Ventilposition bereitzustellen; und (f) Umpositionieren der Ventilposition auf die neue Ventilposition.
  2. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Druckwert der gewünschte Druck ist.
  3. Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Druckwert der gemessene Druck ist.
  4. Verfahren gemäß Anspruch Z, wobei der integrale Zuwachs während einer vorbestimmten Periode auf im wesentlichen Null gesetzt wird.
  5. Verfahren gemäß Anspruch 4, weiterhin umfassend: Lesen eines aktuellen Werts für die Ventilposition; und wobei nach der vorbestimmten Periode der integrale Zuwachs durch Anwenden der aktuellen Ventilposition auf die aus dem elektronischen Speicher (190) zugegriffene mathematische Funktion und durch Multiplizieren des Ergebnisses mit einer Konstanten bestimmt wird.
  6. Verfahren gemäß Anspruch 4, weiterhin umfassend: Einstellen des Ventils (124) in eine Anfangsposition vor dem Einstellschritt.
  7. Verfahren gemäß Anspruch 4, wobei der Einstellschritt weiterhin umfasst: Berechnen des Absolutwerts eines Bruchteilfehlers zwischen dem gemessenen Wert und dem gewünschten Wert, wobei die vorbestimmte Periode ausgeführt wird, wenn der Absolutwert des Bruchteildrucks unter einen voreingestellten Schwellenwert fällt.
  8. Verfahren gemäß Anspruch 7, wobei der Schwellenwert weniger als etwa 0,25 beträgt.
  9. Verfahren gemäß Anspruch 7, wobei der Schwellenwert weniger als etwa 0,05 beträgt.
  10. Verfahren gemäß Anspruch 4, wobei der Einstellschritt weiterhin umfasst: Abschätzen einer zum Stabilisieren des Kammerdrucks erforderlichen Zeit, wobei die vorbestimmte Periode im wesentlichen gleich der geschätzten Zeit ist.
  11. Verfahren gemäß Anspruch 10, wobei der Einstellschritt weiterhin umfasst: Speichern des gemessenen Werts in dem elektronischen Speicher (190); Speichern der Zeit in dem elektronischen Speicher (190), zu welcher der Druck gemessen wird, wobei die geschätzte Zeit durch Berechnen der Änderung im Druck mit Bezug auf die Änderung in der Zeit und durch Dividieren des gemessenen Drucks durch die Änderung im Druck mit Bezug auf die Änderung in der Zeit bestimmt wird.
  12. Verfahren gemäß Anspruch 4, wobei die geschätzte Zeit durch Benutzen der folgenden Formel berechnet wird: t ≈ Pgewünscht·VKammer/Qgewünscht
  13. Verfahren gemäß Anspruch 4, weiterhin umfassend: Speichern des gemessenen Drucks in dem elektronischen Speicher (190); Speichern der Zeit in dem elektronischen Speicher (190), zu welcher der Druck gemessen wird; Berechnen der Änderung im Druck mit Bezug auf die Änderung in der Zeit; Speichern der Änderung im Druck mit Bezug auf die Änderung in der Zeit in dem elektronischen Speicher (190); Auswählen des maximalen Absolutwerts der Änderung im Druck mit Bezug auf die Änderung in der Zeit, wobei die vorbestimmte Periode ausgeführt wird, wenn der Absolutwert der Änderung im Druck mit Bezug auf die Änderung in der Zeit unter einen voreingestellten Schwellenwert-Prozentsatz des maximalen Absolutwerts fällt.
  14. Verfahren gemäß Anspruch 13, wobei der Schwellenwert-Prozentsatz weniger als etwa 50% beträgt.
DE69926551T 1998-03-31 1999-03-30 Verfahren und Vorrichtung zur Regelung des Druckes in Vakuumprozessoren Expired - Lifetime DE69926551T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US53530 1998-03-31
US09/053,530 US6142163A (en) 1996-03-29 1998-03-31 Method and apparatus for pressure control in vacuum processors

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69926551D1 DE69926551D1 (de) 2005-09-08
DE69926551T2 true DE69926551T2 (de) 2006-06-08

Family

ID=21984910

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69907890T Expired - Lifetime DE69907890T2 (de) 1998-03-31 1999-03-30 Verfahren und vorrichtung zur druckregelung in vakuumanlagen
DE69926551T Expired - Lifetime DE69926551T2 (de) 1998-03-31 1999-03-30 Verfahren und Vorrichtung zur Regelung des Druckes in Vakuumprozessoren

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69907890T Expired - Lifetime DE69907890T2 (de) 1998-03-31 1999-03-30 Verfahren und vorrichtung zur druckregelung in vakuumanlagen

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6142163A (de)
EP (2) EP1306737B1 (de)
JP (1) JP4382984B2 (de)
KR (1) KR100528229B1 (de)
AT (2) ATE240544T1 (de)
DE (2) DE69907890T2 (de)
ES (2) ES2242820T3 (de)
TW (1) TW425592B (de)
WO (1) WO1999050730A1 (de)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6445980B1 (en) * 1999-07-10 2002-09-03 Mykrolis Corporation System and method for a variable gain proportional-integral (PI) controller
US6814096B2 (en) * 2000-12-15 2004-11-09 Nor-Cal Products, Inc. Pressure controller and method
US20020147510A1 (en) * 2001-01-29 2002-10-10 Francis Robert Henry Process for rapidly controlling a process variable without overshoot using a time domain polynomial feedback controller.
KR20040024854A (ko) * 2001-04-24 2004-03-22 셀레리티 그룹 아이엔씨 질량유량 제어장치를 위한 시스템 및 방법
US6655408B2 (en) * 2001-06-13 2003-12-02 Applied Materials, Inc. Tunable ramp rate circuit for a mass flow controller
DE50108787D1 (de) 2001-11-23 2006-04-13 Siemens Ag Verfahren zur kontinuierlichen Regelung einer Stellung eines Stellventils
KR100452318B1 (ko) * 2002-01-17 2004-10-12 삼성전자주식회사 압력조절시스템 및 이를 이용하는 압력조절방법
KR100863782B1 (ko) * 2002-03-08 2008-10-16 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판처리방법
US6986361B2 (en) * 2002-04-23 2006-01-17 Mendoza Michael J Compressed air flow controller
GB0214273D0 (en) * 2002-06-20 2002-07-31 Boc Group Plc Apparatus for controlling the pressure in a process chamber and method of operating same
US7073392B2 (en) * 2002-07-19 2006-07-11 Celerity, Inc. Methods and apparatus for pressure compensation in a mass flow controller
US6926775B2 (en) 2003-02-11 2005-08-09 Micron Technology, Inc. Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces
CN100382249C (zh) * 2003-04-07 2008-04-16 优利讯美国有限公司 时分复用(tdm)蚀刻工艺中的过程控制方法及设备
US7381650B2 (en) * 2003-04-07 2008-06-03 Unaxis Usa Inc. Method and apparatus for process control in time division multiplexed (TDM) etch processes
US7115520B2 (en) * 2003-04-07 2006-10-03 Unaxis Usa, Inc. Method and apparatus for process control in time division multiplexed (TDM) etch process
US7282239B2 (en) * 2003-09-18 2007-10-16 Micron Technology, Inc. Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers
US7258892B2 (en) 2003-12-10 2007-08-21 Micron Technology, Inc. Methods and systems for controlling temperature during microfeature workpiece processing, e.g., CVD deposition
GB0401396D0 (en) * 2004-01-22 2004-02-25 Boc Group Plc Pressure control method
US8133554B2 (en) 2004-05-06 2012-03-13 Micron Technology, Inc. Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces
US7699932B2 (en) 2004-06-02 2010-04-20 Micron Technology, Inc. Reactors, systems and methods for depositing thin films onto microfeature workpieces
US7216019B2 (en) * 2004-07-08 2007-05-08 Celerity, Inc. Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity
US7369920B2 (en) * 2006-03-21 2008-05-06 Mks Instruments, Inc. Pressure control system with optimized performance
US7643909B2 (en) * 2006-03-30 2010-01-05 Mks Instruments, Inc. Highly responsive master-slave valve positioning
JP4961223B2 (ja) * 2007-01-31 2012-06-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置の圧力制御方法
US20080216901A1 (en) * 2007-03-06 2008-09-11 Mks Instruments, Inc. Pressure control for vacuum processing system
US8147222B2 (en) * 2007-05-15 2012-04-03 Agilent Technologies, Inc. Vacuum divider for differential pumping of a vacuum system
US10342461B2 (en) 2007-10-15 2019-07-09 Alterg, Inc. Method of gait evaluation and training with differential pressure system
US20120238921A1 (en) 2011-03-18 2012-09-20 Eric Richard Kuehne Differential air pressure systems and methods of using and calibrating such systems for mobility impaired users
WO2014153201A1 (en) 2013-03-14 2014-09-25 Alterg, Inc. Method of gait evaluation and training with differential pressure system
EP2221704A4 (de) * 2007-12-05 2011-10-12 Hitachi Shipbuilding Eng Co Verfahren und einrichtung zur regelung des drucks eines vakuumbehälters
US20110087378A1 (en) * 2008-03-26 2011-04-14 Tokyo Electron Limited Control method and processor of exhaust gas flow rate of processing chamber
DE102011103748A1 (de) 2011-05-31 2012-12-06 Ipsen International Gmbh Verfahren zur Steuerung von Vakuumpumpen in einer Industrieofenanlage
US9267605B2 (en) 2011-11-07 2016-02-23 Lam Research Corporation Pressure control valve assembly of plasma processing chamber and rapid alternating process
JP5881467B2 (ja) * 2012-02-29 2016-03-09 株式会社フジキン ガス分流供給装置及びこれを用いたガス分流供給方法
JP6061545B2 (ja) * 2012-08-10 2017-01-18 株式会社日立国際電気 半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置
KR101620395B1 (ko) 2014-03-19 2016-05-23 아이케이씨코리아 주식회사 복수의 진자식 자동압력제어밸브의 압력제어방법
JP6996289B2 (ja) * 2016-12-26 2022-01-17 株式会社島津製作所 バルブ装置
JP6828446B2 (ja) * 2017-01-12 2021-02-10 株式会社島津製作所 バルブ制御装置
JP6375486B1 (ja) * 2017-09-27 2018-08-22 イノビータ ピーティーイー リミテッド 処理チャンバの圧力制御方法及び処理チャンバの圧力制御装置
WO2019079655A1 (en) 2017-10-18 2019-04-25 Alterg, Inc. SYSTEM FOR COLLECTING AND ANALYZING APPROPRIATE DATA AND METHODS OF OPERATING DRIVING SYSTEMS WITH RELIEF
WO2019089850A1 (en) 2017-10-31 2019-05-09 Alterg, Inc. System for unweighting a user related methods of exercise
JP6969465B2 (ja) * 2018-03-20 2021-11-24 株式会社島津製作所 目標開度推定器および圧力調整真空バルブ

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2811345C2 (de) * 1978-03-16 1986-12-11 Knorr-Bremse AG, 8000 München Druckregler für pneumatische Drücke, insbesondere in Fahrzeugen
US4394871A (en) * 1980-12-31 1983-07-26 The Boeing Company Programmable pressure regulator for titanium superplastic forming apparatus
JPS6011622A (ja) * 1983-06-30 1985-01-21 Honda Motor Co Ltd 電磁弁手段のデユ−テイ比制御方法
WO1985003460A1 (en) * 1984-02-13 1985-08-15 Schmitt Jerome J Iii Method and apparatus for the gas jet deposition of conducting and dielectric thin solid films and products produced thereby
US4720807A (en) * 1985-05-20 1988-01-19 Vacuum General, Inc. Adaptive pressure control system
US4702273A (en) * 1986-03-07 1987-10-27 Parker Hannifin Corporation Electrically controlled starter air valve
DE3680910D1 (de) * 1986-05-02 1991-09-19 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zur regelung und/oder steuerung des druckes in einem rezipienten.
US4911103A (en) * 1987-07-17 1990-03-27 Texas Instruments Incorporated Processing apparatus and method
US5220940A (en) * 1988-04-07 1993-06-22 David Palmer Flow control valve with venturi
US4949670A (en) * 1988-11-04 1990-08-21 Tegal Corporation Method and apparatus for low pressure plasma
US5031674A (en) * 1989-03-03 1991-07-16 Eaton Corporation Fluid flow control method and apparatus for minimizing particle contamination
US5020564A (en) * 1989-06-29 1991-06-04 Allied-Signal Inc. Doser system for regulating pressure in a control chamber of a test stand
US5020176A (en) * 1989-10-20 1991-06-04 Angel Echevarria Co., Inc. Control system for fluid-filled beds
US4961441A (en) * 1989-11-13 1990-10-09 Salter Stuart C Method and system for controlling a pressure regulator
JP2825172B2 (ja) * 1992-07-10 1998-11-18 東京エレクトロン株式会社 減圧処理装置および減圧処理方法
US5534069A (en) * 1992-07-23 1996-07-09 Canon Kabushiki Kaisha Method of treating active material
US5292370A (en) * 1992-08-14 1994-03-08 Martin Marietta Energy Systems, Inc. Coupled microwave ECR and radio-frequency plasma source for plasma processing
US5624394A (en) * 1994-10-28 1997-04-29 Iolab Corporation Vacuum system and a method of operating a vacuum system
US5803107A (en) * 1996-03-29 1998-09-08 Lam Research Corporation Method and apparatus for pressure control in vacuum processors
US5939414A (en) * 1996-10-31 1999-08-17 Merck & Co., Inc. Benzodiazepine hydrazide derivatives as inhibitors of HIV integrase
US5935982A (en) * 1997-02-28 1999-08-10 The University Of North Carolina At Chapel Hill Methods of treating retroviral infection and compounds useful therefor
US6063198A (en) * 1998-01-21 2000-05-16 Applied Materials, Inc. High pressure release device for semiconductor fabricating equipment
CN1142909C (zh) * 1998-03-26 2004-03-24 盐野义制药株式会社 具有抗病毒活性的吲哚衍生物

Also Published As

Publication number Publication date
WO1999050730A1 (en) 1999-10-07
EP1066550A1 (de) 2001-01-10
KR20010042381A (ko) 2001-05-25
ES2242820T3 (es) 2005-11-16
DE69907890T2 (de) 2004-02-19
DE69926551D1 (de) 2005-09-08
ATE240544T1 (de) 2003-05-15
DE69907890D1 (de) 2003-06-18
TW425592B (en) 2001-03-11
JP2002510083A (ja) 2002-04-02
EP1306737A2 (de) 2003-05-02
ES2197633T3 (es) 2004-01-01
EP1306737A3 (de) 2003-05-28
US6142163A (en) 2000-11-07
EP1306737B1 (de) 2005-08-03
KR100528229B1 (ko) 2005-11-15
EP1066550B1 (de) 2003-05-14
ATE301303T1 (de) 2005-08-15
JP4382984B2 (ja) 2009-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69926551T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Regelung des Druckes in Vakuumprozessoren
DE60015003T2 (de) Druckregelvorrichtung für eine Vakuumkammer, und eine mit einer solchen Vorrichtung versehenen Vakuumpumpeinheit
DE19830588C2 (de) System zur Verminderung von Luftströmungs-Störungen
DE112006000836B4 (de) Gas-Zuführungsverfahren und -System unter Einschluss einer Strömungsverhältnis-Steuerung unter Verwendung einer antisymmetrischen optimalen Steuerung
DE60207609T2 (de) Verfahren zur Bestimmung einer Ventilöffnung für einen Massenflussregler
DE69823271T2 (de) Verbesserter adaptiver Durchflussregler
DE10231417B4 (de) Modellfreie Adaptation eines Prozessreglers (Prozesssteuereinheit)
DE69833893T2 (de) Ventilstellungsregelsystem
WO2008000459A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum durchführen eines stellorganfunktionstests an einer strömungsmaschine
EP0243527A1 (de) Verfahren zur Regelung und/oder Steuerung des Druckes in einem Rezipienten
DE4206875A1 (de) Gasdruckregelsystem
DE10155953A1 (de) Adaptives Pulsmodulations-Regelungsverfahren für die Aktivierung einer elektrischen Vorrichtung
EP3874338B1 (de) Verfahren zum betreiben eines ventils, zugehörige elektronische ansteuereinheit und ventilantrieb
EP2933502B1 (de) Digitalhydraulisches Antriebssystem
EP0589629B1 (de) Regelung von zweistufigen Ventilen
DE602006000731T2 (de) Autoadaptives Einstellungsgerät zur Positionssteuerung von Aktuatoren in einem Antriebssystem mittels Gleitmodusverfahren und entsprechendes Betriebsverfahren
DE2939586A1 (de) Verfahren und anordnung zur regelupng der wassertemperatur von warmwasser-flaechenheizungen
DE102019216401B3 (de) Vorrichtung zum Regeln eines Ventils
DE112020002927T5 (de) Trockenvorvakuumpumpe und Verfahren zur Steuerung der Einleitung eines Spülgases
DE102009051514A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Druckregelung eines Volumens
EP3477173A1 (de) Erweiterte vakuumprozesssteuerung
EP3916236B1 (de) Verfahren zum betreiben eines ventilatorsystems und ventilatorsystem mit einem rückwärtsgekrümmten radialventilator
DE102017115376A1 (de) Verfahren zur Durchführung eines hydraulischen Abgleichs eines Heizungs- und/oder Kühlungssystems wie z. B. ein Gebäude
DE2943354A1 (de) Verfahren zum anfahren von regelkreisen durch aufschaltung einer anfahrfunktion
EP1513033B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Regelung einer Regelgrösse

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition