DE69912685T2

DE69912685T2 - Vorrichtung und Verfahren zur Normierung und Eichung einer Sensormatrix

Info

Publication number: DE69912685T2
Application number: DE69912685T
Authority: DE
Inventors: Kristina Helena Schnenectady Hedengren
Original assignee: General Electric Co
Current assignee: General Electric Co
Priority date: 1998-06-23
Filing date: 1999-06-18
Publication date: 2004-09-30
Anticipated expiration: 2019-06-19
Also published as: JP2000028585A; US6252393B1; DE69912685D1; EP0969267A1; EP0969267B1; JP4237877B2

Description

Die Erfindung bezieht sich allgemein auf Sensorfelder und insbesondere auf das Normieren und Kalibrieren eines Sensorfeldes.
Ein Feld bzw. eine Matrix von Sensoren kann verwendet werden, um die Abmessung von Defekten in Metallkomponenten und -teilen zu detektieren und/oder zu messen. Diesbezüglich ist jeder Sensor in dem Feld in der Lage, ein elektrisches Signal zu erzeugen, das einen Defekt in einer metallischen Komponente oder einem metallischem Teil anzeigt. Es können viele Sensoren zusammen als ein Feld (Array) verwendet werden, um einen Bereich von der Komponente oder dem Teil abzutasten bzw. zu scannen, der größer ist, als wenn ein einzelner Sensor verwendet werden würde. Um jedoch den Defekt genau zu erfassen und/oder zu messen, ist es wichtig, dass alle Sensoren in dem Feld in der gleichen Weise (d. h. das gleiche elektrische Signal erzeugen) auf den gleichen Defekt reagieren. Damit dies auftritt, sollten die Sensoren in dem Feld alle den gleichen dynamischen Bereich haben und in der Signalamplitude auf den gleichen Defekt in identischer Weise antworten.
Um eine gleichförmige Reaktion von Sensoren zu erhalten, werden die Sensoren normiert und kalibriert. Beispielsweise wurden flexible Wirbelstrom-Feldsensoren, die zum Prüfen von Flugzeugtriebwerkskomponenten verwendet werden, zuvor normiert und kalibriert wobei zwei getrennte Proben verwendet werden, eine zum Normieren des Signals von allen Sensorsensoren und die andere zum Kalibrieren des Elementsignalpegels. Zur Normierung werden alle Elemente über ein lineares Merkmal abgetastet. Ein Korrekturfaktor und eine Versetzung (Offset) werden für jedes Element aus seinem Signalpegel berechnet und zur Verwendung während einer späteren Prüfung von einem Teil gespeichert. Zur Kalibrierung wird eines der Sensorelemente verwendet, um eine einzelne Kerbe auf einer Testprobe in zwei Dimensionen abzutasten. Dieser Prozess kann zeitraubend sein, weil eine signifikante Zeitdauer erforderlich ist, um das Sensorfeld mit jeder Testprobe richtig auszurichten. Diesbezüglich muss der Sensor wenigstens zwei Mal mit der Testprobe ausgerichtet werden. Weiterhin wird die zweidimensionale Abtastung mit einer hohen räumlichen Auflösung ausgeführt. Darüber hinaus ist die Genauigkeit des Ergebnisses begrenzt, weil die Daten unter Verwendung einer Testprobe erhalten werden, die möglicherweise mit der geometrischen Form von dem zu prüfenden Teil nicht zusammenpasst, so dass die Teiletestbedingungen möglicherweise nicht mit dem Kalibrationsbedingungen zusammenpassen. Somit stellen die Daten möglicherweise nicht ausreichend die Abtastbedingungen von einem Sensorfeld dar, das zum Abtasten von Komponenten oder Teilen mit komplexen Oberflächen verwendet wird.
Eine Testprobe mit einer Anzahl unterschiedlicher Kerben zum Kalibrieren eines Sensorfeldes ist aus DE-A-28 53 457 bekannt.
Somit besteht ein Bedürfnis für ein schnelleres und einfacheres und genaueres System und Verfahren zum Normieren und Kalibrieren von Sensorfeldern. Die vorliegende Erfindung ist auf ein System, eine Testprobe und ein Verfahren zu m Normieren und Kalibrieren eines Feldes von Sensoren gerichtet, wobei eine oder mehrere Abtastungen von einer einzigen Testprobe verwendet werden. Es ist zu beachten, dass nur eine einzige Ausrichtung des Sensors mit der Testprobe erforderlich ist. Die Testprobe ist vorzugsweise aus dem gleichen oder ähnlichen Materialtyp hergestellt und hat eine ähnliche geometrische Form (z. B. eine einfache ebene Oberfläche oder eine komplexere Oberfläche) wie die metallische Komponente oder das Teil, das nach Defekten abgetastet werden soll. Die Testprobe enthält weiterhin wenigstens ein lineares Merkmal und viele Kerben, die in die Oberfläche von der Testprobe eingearbeitet sind. Sowohl das lineare Merkmal als auch die Kerben bewirken, dass die Sensoren in dem Feld elektrische Signale erzeugen, die zum Normieren und Kalibrieren der Sensorfelder verwendet werden. Das Verfahren verwendet die elektrischen Signalspur, die von jedem Sensor in dem Feld erzeugt ist und durch den entsprechenden Sensor hervorgerufen ist, der das lineare Merkmal auf der Testprobe während der Abtastung erfasst, um jede Vorspannung zu beseitigen und den dynamischen Bereich von jedem Sensor in dem Feld zu normieren. Das Verfahren verwendet weiterhin die elektrische Signalspur, die von bestimmten Sensoren in dem Feld erzeugt und durch den enstprechenden Sensor hervorgerufen ist, der eine oder mehrere der vielen Kerben von der Testprobe während des Scannens detektiert, um die Verstärkungseinstellungen für jeden Sensor in dem Sensorfeld festzulegen und zu kalibrieren.
Es wird nun ein Ausführungsbeispiel der Erfindung unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben, in denen:
1 ein Fließbild für die Schritte zum Kalibrieren und Normieren eines Feldes von Wirbelstromsensoren gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt;
2 eine Draufsicht auf eine Testprobe mit einer ebenen Oberfläche gemäß der Erfindung zeigt;
3 eine perspektivische Ansicht von einer Testprobe mit einer komplexen Oberfläche zeigt;
4 eine Draufsicht der in 3 gezeigten Testprobe zeigt, wobei die innere Oberfläche von der Testprobe in zwei Dimensionen abgeflacht ist.
1 zeigt ein Fließbild, das die Schritte zum Kalibrieren und Normieren eines Feldes (Array) 50 von Wirbelstromsensoren 60 gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung angibt. Jeder der Wirbelstromsensoren 60 weist zwei unterschiedlich verbundene Elemente 58, 59, d. h. Doppelspulen, auf. Es sei jedoch darauf hingewiesen, dass die Erfindung in gleicher Weise auf Sensoren anwendbar ist, die Elemente des Absoluttyps, d. h. Einzelspulen, aufweist.
Zunächst wird eine Testprobe gewählt. Die Testprobe wird durch das Sensorfeld 50 abgetastet bzw. gescannt, das normiert und kalibriert werden soll. Die Testprobe weist vorzugsweise das gleiche oder ein ähnliches Material auf und hat eine ähnliche geometrische Oberflächenform wie die metallische Komponente oder das Teil, das nach Defekten abgetastet werden soll. In einigen Fällen kann zur Vereinfachung der Fertigung die Testprobe viele Materialstücke aufweisen, die miteinander verbunden sind. 2 zeigt eine Draufsicht auf eine Testprobe 10, die eine ebene Oberfläche hat. 3 zeigt eine perspektivische Ansicht von einer Testprobe 18, die eine komplexe Oberfläche hat. 4 zeigt eine Draufsicht der Testprobe 18, wobei die innere Oberfläche von der Testprobe 18 in zwei Dimensionen abgeflacht ist.
Die Testproben weisen wenigstens ein lineares Merkmal und viele Kerben 14 auf, die in die Oberfläche von der Testprobe eingearbeitet sind, wobei beispielsweise bekannte Elektroentladungs-Bearbeitungsverfahren verwendet werden. In vielen Anwendungsfällen hat das lineare Merkmal eine schmale Breite von etwa 76,2 μm [ 0,003''(3 mils)] und ist genügend tief, um als unendlich tief von den unterschiedlichen Elementen der Sensoren 60 betrachtet zu werden (d. h. die Signalamplitude nimmt nicht zu, wenn die Kerbe 14 sogar noch tiefer ist), obwohl diese Messungen in Abhängigkeit von der Anwendung variieren können. Für alle Anwendungsfälle sollte die Länge von dem linearen Merkmal oder die Kombination von linearen Merkmalen die Abtastfläche von dem Sensorfeld 50 überdecken, so dass alle Sensoren 60 ein Signal als eine Folge des Abtastens des linearen Merkmals erzeugen. Für einige Anwendungen sind die Kerben 14 etwa 380 μm [fünfzehn mils] tief mal etwa 760 μm [dreizig mils] lang mal etwa 76 μm [drei mils (0,015'' × 0,03'' × 0,003'')], obwohl diese Abmessungen in Abhängigkeit von der Anwendung variieren können. Für alle Anwendungen sollten die Kerben in der Richtung der Abtastung in einer derartigen Art und Weise angeordnet sein, dass sich ein Element nur über eine Kerbe zur Zeit bewegen kann. Die Kerben sollten um etwa ¾ der Elementbreite in der horizontalen Richtung getrennt sein, obwohl auch andere Abstände verwendet werden können. Gemäß 2 weist die Testprobe 10 ein lineares Merkmal 12 und Kerben 14 auf. Gemäß 4 weist die Testprobe 18 viele lineare Merkmale 20, 21 und 22 und Kerben 14 auf.
Als nächstes wird das Wirbelstrom-Sensorfeld 50, das in den 2 und 4 mit zwei versetzten Reihen 56 von Sensoren 60 gezeigt ist, mit der zuvor gewählten Testprobe bei 30 ausgerichtet. Gemäß 2 wird das Sensorfeld 50 mit der Testprobe so ausgerichtet, dass (i) das lineare Merkmal die Abtastfläche von dem Sensorfeld 50 überdeckt; und (ii) nur ein Sensor 54 aus der ersten Reihe von dem Sensorfeld 50 und nur ein Sensor 52 aus der zweiten Reihe des Sensorfeldes 50 sich über die Kerben 14 bewegt. Es sei darauf hingewiesen, dass nur eine einzige Ausrichtung des Sensorfeldes 50 mit der Testprobe erforderlich ist.
Als nächstes werden ein anfänglicher Phasenwinkel des Systems und eine Verstärkungseinstellung gewählt, und es wird eine Abtastung (Scan) von der Testprobe bei 31 gemacht. Die Abtastung der Testprobe erfolgt in der Richtung 56. Der Phasenwinkel und die Verstärkungseinstellung werden so gewählt, dass die elektrischen Signale, die durch die Sensoren 60 erzeugt werden, nicht gesättigt werden, wenn das Sensorfeld 50 verwendet wird, um die Testprobe abzutasten. Beispielsweise können der Phasenwinkel und die Verstärkungseinstellung unter Verwendung von Daten gewählt werden, die aus früherer Erfahrung bei Verwendung des Sensorfeldes 50 erhalten wurden. Alternativ kann der Phasenwinkel gewählt werden, um die Amplitude des eletrischen Signals in nur einem Kanal zu optimieren. Der gewählte Phasenwinkel und die Verstärkungseinstellung erzeugen einen Satz von Spuren, einen von jedem Sensor 60 in dem Feld 50, wenn eine Abtastung von der Testprobe gemacht wird. Als Beispiele sind eine Spur 51 für den Sensor 52 und eine Spur 53 für den Sensor 54 in 2 gezeigt. Die Abtastbahn 62 für den Sensor 52 und die Abtastbahn 64 für den Sensor 54 sind ebenfalls in 2 gezeigt.
Als nächstes wird ein dynamischer Bereich für jeden Sensor in dem Feld 50 bei 32 aus der maximalen und minimalen Amplitude der elektrischen Signale ermittelt, die durch jeden Sensor 60 in dem Feld 50 als eine Folge des Detektierens des linearen Merkmals erzeugt werden. Der dynamische Bereich ist eine Reflexion der Sensor-zu-Oberflächen-Passung und der Fertigungsgenauigkeit des Sensorelements. Die Gleichstrom-Vorspannung (DC-Bias) für jeden Sensor 60 wird ebenfalls bei 32 aus der Versetzung der elektrischen Signale ermittelt, die von jedem Sensor 60 in dem Feld 50 erzeugt werden. Gemäß 2 weist die Testprobe 10 das lineare Merkmal 12 auf, das sich über eine Fläche spannt, die breiter als die Prüfbreite von dem Sensorfeld 50 ist und die relativ zu der Abtastrichtung 56 des Sensorfeldes 50 geneigt bzw. schräg ist. Das lineare Merkmal 12 ermöglicht, dass die unterschiedlichen Komponenten von jedem Sensor 60 normiert werden können, wobei die elektrischen Signale verwendet werden, die durch jeden Sensor in dem Feld 50 erzeugt werden. Als eine Folge weisen die erzeugten elektrischen Signale sowohl eine maximale als auch eine minimale Amplitude auf, wie es durch die Spuren in 2 gezeigt ist. Die Breite 70 des erzeugten Signals bezieht sich auf die Breite des unterschiedlichen Elements (Spulen 58 und 59) und den Winkel des linearen Merkmals in Bezug auf das Element. Es sei darauf hingewiesen, dass das lineare Merkmal 12 nicht senkrecht zur Abtastrichtung des Sensorfeldes 50 ist. Wenn das lineare Merkmal 12 senkrecht zur Abtastrichtung des Sensorfeldes 50 angeordnet wäre, würde es nicht möglich sein, das Sensorfeld 50 zu normieren, da die elektrischen Signale, die durch die unterschiedlichen Elemente 58, 59 von jedem Sensor 60 erzeugt werden, sich gegenseitig aufheben würden, wenn sich der Sensor 60 über das lineare Merkmal 12 bewegt. Wenn das Sensorfeld Senoren mit absoluten Elementen aufweist, kann das lineare Merkmal senkrecht zu der Abtastrichtung von dem Sensorfeld angeordnet werden.
4 zeigt eine Testprobe 18, die ein erstes lineares Merkmal 20, ein zweites lineares Merkmal 21 und ein drittes lineares Merkmal 22 aufweist, um eine genauere Messung des dynamischen Bereichs und der Gleichstrom-Vorspannung (DC bias) in metallischen Komponenten und Teilen zu gestatten, die komplexe Oberflächen haben. Diesbezüglich kann es schwierig sein, ein einzelnes lineares Merkmal in ein Teil mit einer komplexen Oberflächengeometrie einzuarbeiten. Infolgedessen können viele sich überlappende Segmente von linearen Merkmalen hergestellt werden, um für die gleiche Funktion von einem einzelnen linearen Merkmal zu sorgen. Die vielen linearen Merkmale überdecken die vollständige Inspektionsbreite von dem Sensorfeld 50. Gemäß 3 ist das erste lineare Merkmal 20 so angeordnet, dass das Ende 23 von dem ersten linearen Merkmal 20 das Ende 25 von dem zweiten linearen Merkmal 21 überlappt, und das Ende 26 von dem zweiten linearen Merkmal 21 überlappt das Ende 27 von dem dritten linearen Merkmal 22. Die Überlappung kompensiert räumliche Unterschiede zwischen den Sensorelementen 58, 59 und dem Teil der Oberfläche der Testprobe 28, die abgetastet wird. Als nächstes wird die Gleichstrom-Vorspannung (DC Bias) aus jeder Signalspur entfernt, und alle Spursignale werden bei 33 auf den gleichen dynamischen Bereich normiert.
Als nächstes wird das maximale Signal, das von einem Sensor 60 als ein Ergebnis der Abtastung der Kerbe 14 erzeugt wird, aus den Kerbsignalen bei 34 berechnet, indem entweder das maximale Signal gewählt oder indem eine gewisse Signalkombination von Sensoren 60 verwendet wird, die benachbart zu überlappenden Elementen in den zwei versetzen Reihen sind, die sich beide über die Kerbe 14 zu Sensoren 52, 54 erstrecken, um die maximale Antwort anzunähern. Gemäß den 2 und 4 weisen die Testproben 10, 18 viele Kerben 14 auf, die etwa senkrecht zu dem Sensorfeld 50 orientiert und von einander so versetzt sind, dass sich die Enden der Kerben nicht überlappen. Die Anzahl von Kerben 14 und die horizontalen Versetzungen zwischen den Kerben 14 werden ermittelt auf der Basis der Geometrie und der räumlichen Antwortfunktion von einem typischen Sensor 60, um sicherzustellen, dass aus den gewonnenen Daten eine Spitzenantwort berechnet werden kann. Je gleichförmiger die Antwort der Sensoren 60 entlang der Breite des Sensor 60 ist, desto weniger Kerben sind erforderlich. Wie in den 2 und 4 gezeigt ist, weist das Feld von Sensoren 50 zwei versetzte Reihen von Wirbelstromsensoren 60 auf. Wie insbesondere in 2 gezeigt ist, sind die Kerben 14 auf der Testprobe 10 so angeordnet, dass die Kerben 14 in die Abtastbahn von nur einem Sensor aus der ersten Reihe der Sensoren und auf nur einen Sensor aus der zweiten Sensorreihe fallen. Beispielsweise sind in 2 eine Spur 51 für den Sensor 52 und eine Spur 53 für den Sensor 54 gezeigt. Die Abtastbahn 62 für den Sensor 52 und die Abtastbahn 64 für den Sensor 54 sind ebenfalls in 2 gezeigt. In ähnlicher Weise sind in 4 die Kerben 14 auf der Testprobe 18 so angeordnet, dass die Kerben 14 in die Abtastbahn von nur einem Sensor aus der ersten Sensorreihe und nur einen Sensor von der zweiten Sensorreihe fällt. Als eine Folge werden die elektrischen Signale, die von den Sensoren 52, 54 erzeugt werden, verwendet, um die Systemverstärkung festzulegen.
Die elektrischen Signale, die von den Sensoren 52, 54 als eine Folge des Detektierens der Kerben 14 erzeugt werden, werden als nächstes verwendet, um die Abschätzung des maximalen Signals zu verbessern, und die erforderliche Systemverstärkung wird dann bei 35 aus der Abschätzung des maximalen Signals festgelegt. Wenn die Verstärkung für die Sensoren 60, die zum Normieren verwendet wurde, nicht hoch genug ist, um zufriedenstellende Signale aus den Sensoren 60 für die Kerben 14 zu ergeben, dann kann eine zweite Abtastung (Scan) bei einer höheren Systemverstärkung gemacht werden (die nun gesättigte Signale aus dem linearen Merkmal zur Folge haben kann), um die Signale besser zu evaluieren, die als Folge davon erzeugt werden, dass die Sensoren 52, 54 die Kerben 14 detektieren. Kleinere Signalamplituden der Kerbe, die eine einzelne Abtastung verwenden, können das Erfordernis für eine Signalverarbeitung des Verstärkungstyps zur Folge haben, um die Kerbantworten zu analysieren, aber mit zwei Abtastungen sollte dies nicht erforderlich sein. Der Normierungs/Kalibrierungs-Prozess wird dann abgeschlossen, und das Sensorteld 50 kann zum Testen von Teilen mit geeigneten Einstellungen verwendet werden, wie sie durch den Normierungs/Kalibrierungs-Prozess ermittelt worden sind, für eine sichere Defekt-Erfassung oder andere Messungen.
Es können zusätzliche Abtastungen gemacht werden, um optimale Phasenwinkel für ein oder beide lineare Merkmale und die Kerben zu ermitteln. Alternativ kann der Phasenwinkel von vorne herein bekannt sein für eine gegebene System/Sensor-Kombination und direkt verwendet werden. Die Reihenfolge der Normierungs- und Kalibirierungsschritte kann ausgetauscht werden, wenn die Testprobe eine einfache, ebene Oberfläche ist. Wenn die Oberfläche jedoch komplex ist, muss das Sensorfeld 50 nicht identisch über der Oberfläche der Testprobe übereinstimmen, und der Normierungsschritt sollte vorzugsweise zuerst gemacht werden, um beste Resultate zu erzeugen.
Die vorstehende Beschreibung wurde für Wirbelstrom-Feldsensoren gemacht, aber ein ähnliches Normierungs/Kalibrierungs-Verfahren kann auch auf andere Feldsensoren (z. B. Thermoelement-, Ultraschall- oder digitale Röntgenfelder) angewendet werden. Ferner können unterschiedliche Algorithmen zum Analysieren und/oder Kombinieren der Daten innerhalb des Schutzumfanges der Erfindung entwickelt werden. Variationen in dem Testprobendesign für eine Doppelanwendung liegen ebenfalls innerhalb des Schutzumfanges der Erfindung.

Claims

Verfahren zum gleichzeitigen Normieren und Kalibrieren eines Sensorfeldes, wobei das Sensorfeld beim Scannen eines Werkstückes verwendet wird, um Diskontinuitäten in dem Werkstück zu erfassen, wobei das Verfahren die Schritte enthält: Bereitstellen eines Sensorfeldes, das viele Sensoren aufweist, die ein elektrisches Signal erzeugen können, das eine Diskontinuität in einem Werkstück anzeigt, Bereitstellen einer Testprobe, die wenigstens ein lineares Merkmal und wenigstens zwei Vertiefungen aufweist, wobei das Sensorfeld mit der Testprobe so ausgerichtet wird, daß das lineare Merkmal die Scanfläche von allen Sensoren überdeckt, Scannen der Testprobe unter Verwendung des Sensorfeldes, um viele elektrische Signalspuren zu erzeugen, die das lineare Merkmal und die wenigstens zwei Vertiefungen bzw. Kerben anzeigen, und Verwenden der vielen elektrische Signalspuren, um jeden Sensor des Sensorfeldes einzustellen, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor zu erhalten.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei ferner der Schritt vorgesehen ist, daß das Sensorfeld mit der Testprobe ausgerichtet wird.
Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Sensorfeld zwei versetzte Reihen von Sensoren aufweist, wobei der Schritt des Ausrichtens des Sensorfeldes mit der Testprobe enthält: Ausrichten eines ersten Sensors aus der ersten Reihe des Sensorfeldes derart, daß der erste Sensor während des Scannens über die Vertiefungen streicht, und Ausrichten eines zweiten Sensors aus der zweiten Reihe des Sensorfeldes derart, daß der zweite Sensor während des Scannens über die Vertiefungen streicht.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Sensorfeld Wirbelstromsensoren aufweist.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Sensorfeld absolute Elemente enthaltende Sensoren aufweist.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Testprobe im wesentlichen das gleiche Material wie das Werkstück aufweist.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das lineare Merkmal relativ zu der Scanrichtung des Sensorfeldes schräg verläuft.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das lineare Merkmal relativ zu der Scanrichtung des Sensorfeldes senkrecht verläuft.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Verwendens der vielen elektrischen Signalspuren, um jeden Sensor des Sensorfeldes einzustellen, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor zu erhalten, ferner den Schritt enthält: Normieren des Sensorfeldes unter Verwendung der elektrischen Signale, die durch die Sensoren als eine Folge des Erfassens des linearen Merkmals erzeugt werden.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Verwendens der vielen elektrischen Signalspuren, um jeden Sensor des Sensorfeldes einzustellen, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor zu erhalten, ferner den Schritt enthält: Kalibrieren des Sensorfeldes unter Verwendung der elektrischen Signale, die durch die Sensoren als eine Folge des Erfassens von wenigstens zwei Vertiefungen erzeugt werden.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Verwendens der vielen elektrischen Signalspuren, um jeden Sensor des Sensorfeldes einzustellen, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor zu erhalten, ferner den Schritt enthält: Ermitteln des dynamischen Bereiches für jeden Sensor in dem Sensorfeld von den maximalen und minimalen elektrischen Signalen, die von jedem Sensor als eine Folge des Erfassens des linearen Merkmals erzeugt werden.
Verfahren nach Anspruch 11, ferner den Schritt enthaltend: Verwenden des ermittelten dynamischen Bereiches zum Normieren der elektrischen Signale, die von jedem Sensor erzeugt werden.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Verwendens der vielen elektrischen Signalspuren, um jeden Sensor des Sensorfeldes einzustellen, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor zu erhalten, ferner den Schritt enthält: Ermitteln der DC Vorspannung für jeden Sensor aus der Versetzung (Offset) der elektrischen Signale, die von jedem Sensor als eine Folge des Erfassens des linearen Merkmals erzeugt werden.
Verfahren nach Anspruch 13, wobei ferner der Schritt vorgesehen ist, daß die DC Vorspannung aus jedem elektrischen Signal entfernt wird, das von jedem Sensor als eine Folge des Erfassens des linearen Merkmals erzeugt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Verwendens der vielen elektrischen Signalspuren, um jeden Sensor des Sensorfeldes einzustellen, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor zu erhalten, ferner den Schritt enthält: Ermitteln der maximalen Vertiefungs-Antwort von den maximalen elektrischen Signalen, die von jedem Sensor als eine Folge des Erfassens der wenigstens zwei Vertiefungen erzeugt werden.
Verfahren nach Anspruch 15, wobei ferner der Schritt vorgesehen ist, daß die gewünschte Systemverstärkung aus der maximalen Vertiefungs-Antwort festgelegt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt des Verwendens der vielen elektrischen Signalspuren, um jeden Sensor des Sensorfeldes einzustellen, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor zu erhalten, ferner den Schritt enthält: Ermitteln der maximalen Vertiefungs-Antwort aus einer Schätzung unter Verwendung von Signalen, die durch die Sensoren neben den Sensoren erzeugt werden, die die wenigstens zwei Vertiefungen erfassen.
System zum gleichzeitigen Normieren und Kalibrieren eines Sensorfeldes (50, 60), wobei das Sensorfeld (50, 60) beim Scannen eines Werkstückes verwendet ist, um Diskontinuitäten in dem Werkstück zu erfassen, wobei das System enthält: ein Sensorfeld (50, 60) mit vielen Sensoren (60), die ein elektrisches Signal erzeugen können, das eine Diskontinuität in einem Werkstück anzeigt, eine Testprobe (10), die wenigstens ein lineares Merkmal (12; 20, 21, 22) und wenigstens zwei Vertiefungen bzw. Kerben (14) aufweist, wobei das Sensorfeld (50, 60) mit der Testprobe (10) so ausgerichtet ist, daß das lineare Merkmal (12; 20, 21, 22) die Scanfläche von allen Sensoren (60) überdeckt, wobei das Sensorfeld (50, 60) die Testprobe (10) scannen kann, um viele elektrische Signalspuren zu erzeugen, die das lineare Merkmal (12; 20, 21, 22) und die wenigstens zwei Vertiefungen (14) anzeigen, und Mittel zum Einstellen jedes Sensors (60) des Sensorfeldes (50, 60) als Antwort auf die vielen elektrischen Signalspuren, um ein gleichförmiges elektrisches Signal von jedem Sensor (60) zu erhalten, indem das Sensorfeld (50, 60) normiert wird unter Verwendung der elektrischen Signale, die von dem Sensorfeld (50, 60) als eine Folge des Erfassens des linearen Merkmals (12; 20, 21, 22) erzeugt sind, und das Sensorfeld (50, 60) kalibriert wird unter Verwendung der elektrischen Signale, die durch das Sensorfeld (50, 60) als eine Folge des Erfassens der wenigstens zwei Vertiefungen (14) erzeugt werden.