DE69835310T2 - System zur Versorgung mit Dampf - Google Patents

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Description

  • Hintergrund der Erfindung
  • Gebiet der Erfindung
  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Dampfeinspeisungs-Versorgungssystem zur Lieferung einer Dampfeinspeisung zur Erzeugung von Dünnschichtvorrichtungen aus einem hochdielektrischen oder ferromagnetischen Material, wie beispielsweise Barium- oder Strontiumtitanat, und zwar in einer chemischen Dampfabscheidungsvorrichtung, wobei sich die Erfindung insbesondere auf ein Verfahren zur Reinigung einer Dampfströmungs- oder Dampfflusszone bezieht.
  • Beschreibung verwandter Technik
  • In den letzten Jahren ergab sich in der Halbleiterindustrie bei der Schaltungsdichte integrierter Schaltungsvorrichtungen eine sprunghafte Entwicklung und intensive Entwicklungsaktivitäten sind im Laufen im Hinblick auf die DRAM's der Gigabitgrößenordnung, die die heute vorherrschenden DRAM's der Megabitordnung ersetzen werden. Dielektrische Dünnschichtmaterialien, verwendet bei Vorrichtungen mit hoher Kapazität, werden zur Erzeugung der DRAM's benötigt, wobei in der Vergangenheit Folgendes verwendet wurde: Siliziumdioxid- oder Siliziumnitridschichten mit einer Dielektrizitätskonstanten von weniger als 10 benutzt wurden und Tantalpentaoxid (Ta2O5)-Schichten mit einer Dielektrizitätskonstanten von weniger als 20, wobei jedoch neuere Materialien, wie beispielsweise Bariumtitanat (BaTiO3) oder Strontiumtitanat (SrTiO3) oder Mischungen aus diesen Verbindungen Dielektrizitätskonstanten von ungefähr 300 besitzen, und noch erfolgsversprechender sind. Auch erfolgsversprechend sind noch höher dielektrische Materialien, wie beispielsweise Blei-Zink-Titanat (PZT), Blei-Lithium-Zink-Titanat (PLZT) und YI.
  • Von den verschiedenen Verfahren zur Herstellung solcher dünnen Schichten sind die Aussichten besonders günstig für den chemischen Dampfabscheidungsprozess (CVD-Prozess) und in diesem Fall ist es notwendig, dass die Dampfeinspeisung schließlich in einem stetigen Gasstrom oder einem Gasfluss erfolgen muss, und zwar zum Substrat angeordnet in der Schichtabscheidungskammer. Die Dampfeinspeisung wird dadurch erzeugt, dass man eine flüssige Mischung erhitzt, und zwar erzeugt durch Verflüssigung von Materialien, wie beispielsweise Ba(DPM)2 oder Sr(DPM)2, was bei Normaltemperatur fest ist, und wobei ferner irgendein organisches Lösungsmittel (beispielsweise Tetrahydrofuran (THF)) zur Stabilisierung der Verdampfungscharakteristika hinzugefügt wird.
  • Wenn eine Dampfeinspeisung aus einem flüssigen Speisematerial in solchen Verdampfungsvorrichtungen erzeugt wird, so kann sich ein Teil der Metallverbindung, beispielsweise SrCO3 oder das organische Einspeisematerial innerhalb des Verdampfers zerlegen, um Zwischenprodukte zu bilden, die innerhalb der Verdampfungsvorrichtung (vaporizer device) ausgeschieden werden können, oder aber einige nicht verdampfte Restkomponenten verbleiben in der Verdampfungsvorrichtung in einer festen oder flüssigen Form. Eine derartige Ausscheidung oder Ausfällung und Restmaterialien neigt dazu Blockierungen in den Dampfdurchlässen hervorzurufen und dieses kann zu einer Verschlechterung der Vorrichtungsqualität wegen der zusammensetzungsmäßigen Fluktuationen in dem Speisematerial führen.
  • Um derartige Produktionsprobleme zu vermeiden, ist es üblich, die Innenseite der Verdampfungsvorrichtung je nach Notwendigkeit oder periodisch zu waschen, wobei derartige Reinigungsvorgänge in konventioneller Weise dadurch ausgeführt werden, dass man ein Lösungsmittel (Reinigungslösung) durch die Verdampfungsvorrichtung laufen lässt.
  • Es sind jedoch Schwierigkeiten bei dieser Art von Reinigung aufgetreten, da das Innere der Verdampfungsvorrichtung normalerweise auf einer hohen Temperatur und auf einer niedrigen Temperatur gehalten wird, was bewirkt, dass das flüssige Lösungsmittel innerhalb der Verdampfungsvorrichtung verdampft, was die Fähigkeit zur Auflösung und zur Wegwaschung anhaftender Ausfällungen vermindert, auf welche Weise eine nicht zureichende Reinigung erfolgt. Wenn der Innendruck der Verdampfungsvorrichtung angehoben wird, und zwar in einem Versuch diesem Effekt entgegenzuwirken, so wird das Systemvakuum einschließlich der Schichtabscheidungskammer verschlechtert, und das Verfahren zum erneuten Starten benötigt mehr Zeit.
  • Es gibt noch weitere Probleme, die im Zusammenhang mit dem grundsätzlichen Design oder der Konstruktion bestehender Verdampfungsvorrichtungen auftreten. Beispielsweise ist zusätzlich zum Dampfeinspeisungs- oder Versorgungspfad zur Lieferung eines Einspeisedampfes an die Abscheidungskammer ein Bypass- oder Umgebungspfad notwendig, um den Speisedampf weg von der Abscheidungskammer dann zu führen, wenn diese nicht im Gebrauch ist, oder bis die Dampflieferkonditionen derart stabilisiert sind, dass die Zusammensetzungs- oder Komponentenmaterialien in der Dampfeinspeisung eingefangen werden können und in geeigneter Weise verarbeitet werden können, um wiedergewonnen oder in die Atmosphäre freigesetzt zu werden.
  • Um ein derartiges System zu reinigen, werden die Vorrichtungen normalerweise vom System abgekuppelt und an einer gesonderten Stelle behandelt. Es ist klar, dass ein derartiges Verfahren nicht nur unbequem sondern auch sehr ineffizient ist. Dies liegt daran, dass dann, wenn das Volumen des durch den Bypasspfad fließenden Gases, was eingefangen und verarbeitet werden muss, groß ist, die Einfangvorrichtungen oder -fallen häufig ausgetauscht werden müssen, oder andernfalls muss die Größe der Einfangvorrichtung vergrößert werden, um das große Gasvolumen unterzubringen.
  • Ferner werden im Allgemeinen in der Nähe des Eingangs zu dem Bypassrohr viele Ventile, wie beispielsweise Elektromagnetventile vorgesehen um zu verhindern, dass verdampfte Dampfeinspeisung in den Bypasspfad während des Schichtabscheidungsprozesses eintritt. Da diese Gase jedoch nur schwierig stabil zu verdampfen sind, laufen nicht verdampfte oder degradierte Materia lien oftmals in die Ausgangsseite der Verdampfungsvorrichtung. Wenn derartige von Außen kommende Materialien in die Ausgangsseite der Verdampfungsvorrichtung eintreten können, so kann flüssiges Material, welches in das Innere des Zweiwegeventils 1 eintritt oder dahinein leckt, wie beispielsweise in 13 gezeigt, am Ventilsitz 2 und dem Ventilelement 3 kleben bleiben, was Abdichtprobleme oder eine Schädigung der Oberflächenintegrität der Passoberflächen des Ventils bewirkt.
  • Fernerhin wird auf die U.S. Patentschrift 5,362,328 hingewiesen, die eine Vorrichtung und ein Verfahren offenbart, und zwar zur Lieferung von Reagenzien in Dampfform an einen CVD-Reaktor, wobei ein Reinigungssubsystem vorgesehen ist, und zwar zum periodischen Sauberspülen derartiger Verdampferelemente, die dazu neigen, feste Abscheidungen zu bilden. Es erfolgt eine In-Situ-Reinigung der Verdampfungszone, entweder in der eine hohe Oberfläche besitzenden erhitzten Zone eines Flüssigkeitsliefersystems oder bei anderen konventionellen Dampfquellen, die geheizte Gefäße verwenden, welche ohne Trägergas betrieben werden, wird für die Reinigung auf Lösungszersetzungsprodukte zurückgegriffen, die während der Quellenverdampfung erzeugt werden. Dies kann dadurch erreicht werden, dass man in gesteuerter Weise die Lieferung eines bestimmten Fluids an die Verdampfungszone über ein Mehrfachpositionsventil in der Strömungsmittelleitung vorsieht, die normalerweise für die Lieferung des CVD-Vorgängers vorgesehen ist, und zwar zu der Zone durch die eine Leitung zu dieser Stelle verläuft.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Reinigung einer Dampfströmungs- oder Dampfflusszone vorgesehen, wie dies in Anspruch 1 angegeben ist. Bevorzugte Ausführungsbeispiele ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Ein erstes Ziel der Erfindung besteht darin, ein Verfahren vorzusehen zur Reinigung einer Dampfströmungszone einschließlich einer Verdampfungsvor richtung um eine gründliche Reinigung des Systems zu ermöglichen, und zwar ohne das Gesamtsystemvakuum beim Reinigen der Verdampfungsvorrichtung zu verschlechtern.
  • Das erste Ziel der Erfindung wird in einem Verfahren zur Reinigung einer Dampfströmungs- oder Flusszone für die Strömung einer Dampfeinspeisung erreicht, wobei die Dampfeinspeisung Komponentensubstanzen ausscheiden kann, und wobei ferner das Verfahren Folgendes aufweist: Definition eines Reinigungsströmungsmitteldurchlasses mit einem vorbestimmten Widerstandsdruck, und zwar durch Trennen oder Isolieren einer Reinigungszone der Dampfströmungszone; und durch Strömen eines Reinigungsströmungsmittels in den Reinigungsströmungsmitteldurchlass unter einem Druck um so zu ermöglichen, dass das Reinigungsströmungsmittel in einem flüssigen Zustand bei einer Reinigungstemperatur in der Reinigungszone bleibt.
  • Demgemäß wird das Reinigungsströmungsmittel in die Reinigungszone in einem flüssigen Zustand eingeführt, so dass vom Reinigungsströmungsmittel eine maximale Performance erreicht werden kann, und zwar dadurch, dass man gestattet, dass die Flüssigkeit gründlich anhaftende Materialien schnell auflöst.
  • Die Betriebstemperatur zur Reinigung kann im Wesentlichen gleich der spezifischen Temperatur für die Umwandlung der Flüssigkeitseinspeisung in einen Dampf sein. Demgemäß fällt die Temperatur der Reinigungszone nicht ab nachdem der Reinigungsvorgang vollendet ist und das System kann schnell wieder gestartet werden.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt weist die Verdampfungsvorrichtung Folgendes auf: eine Verdampfungsvorrichtung zum Verdampfen einer Dampfeinspeisung aus einer Flüssigkeitseinspeisung, geliefert durch einen Flüssigkeitsspeisedurchlass unter einem spezifischen Druck und mit einer spezifischen Temperatur und Lieferung der Dampfeinspeisung an einen Dampfeinspeisungsdurchlass;
    eine Reinigungsströmungsmittel-Liefervorrichtung zum Liefern eines Reinigungsströmungsmittels an eine Reinigungszone einschließlich mindestens eines Teils der Verdampfungsvorrichtung; und
    eine Unterdrucksetzungsvorrichtung zur Unterdrucksetzung des Reinigungsströmungsmittels, welches in die Reinigungszone fließt.
  • Die Unterdrucksetzungsvorrichtung kann eine Pumpvorrichtung, eine Druckgasliefervorrichtung und ein Rückschlagventil, vorgesehen an einem Ende der Reinigungszone, aufweisen. Die Reinigungsströmungsmittel-Versorgungsvorrichung kann Folgendes aufweisen: einen Reinigungsströmungsmitteldurchlass, und zwar zur Vereinigung mit einem Dampfeinspeisungsdurchlass, und zwar zum Abzweigen von dem Dampfeinspeisungsdurchlass; und
    eine Unterdrucksetzungsvorrichtung zur Unterdrucksetzung des Reinigungsströmungsmittels auf einen Druck nicht kleiner als ein Verdampfungsdruck. Es ist auch zulässig, dass der Reinigungsströmungsmitteldurchlass mit einer Heizvorrichtung ausgestattet ist, und zwar zum Erhitzen des Reinigungsströmungsmittels und umgekehrt kann die Verdampfungsvorrichtung mit einer Kühleinrichtung ausgestattet sein, um das Reinigungsströmungsmittel abzukühlen.
  • Die Verdampfungsvorrichtung kann einen thermischen Mediumdurchlass aufweisen, und zwar zum Hindurchströmen eines thermischen Mediums zur Ermöglichung einer Umschaltung zwischen Heizen und Kühlen. Durch eine derartige Anordnung kann die Verdampfungsvorrichtung thermisch durch einen einfachen Aufbau gesteuert werden, um einen Dampferzeugungsprozess oder einen Reinigungsprozess auszuführen. Durch Verwendung eines gemeinsamen thermischen Mediums zum Heizen und zum Kühlen ist die Umschaltung zwischen diesen beiden Vorgängen ohne die Notwendigkeit erforderlich, die Verdampfungsvorrichtung zu reinigen.
  • Damit die Einfangvorrichtung, verwendet in dem Dampfeinspeisungs-Versorgungssystem gründlich und sauber und schnell gereinigt wird, ohne dass die Einfang- oder Trappingvorrichtung aus dem System entfernt werden muss, und dass die Ventilvorrichtungen eine hermetische Trennung des Dampfeinspeisungsdurchlasses von der Abscheidungskammer vorsehen, weist das Trapping- oder Einfangsystem Folgendes auf:
    eine Einfang- oder Trappingvorrichtung zum Einfangen von Komponenten in dem gasförmigen Strömungsmittel, welches in einen gasförmigen Strömungsmitteldurchlass läuft;
    einen Reinigungsströmungsmitteldurchlass zur Lieferung und zur Zirkulation eines Reinigungsströmungsmittels zum Inneren der Einfangvorrichtung um so anhaftendes Material, welches an den Innenoberflächen der Einfangvorrichtung klebt, aufzulösen; und
    eine Ventilvorrichtung zum selektiven Umschalten zwischen dem gasförmigen Strömungsmitteldurchlass und dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass.
  • Demgemäß kann die Betriebseffizienz der Einfangvorrichtung verbessert werden durch Liefern des Reinigungsströmungsmittels in das Innere der Verdampfungsvorrichtung um so das Auflösen anhaftender Komponentensubstanzen, abgeschieden aus der Dampfeinspeisung, zu ermöglichen. Durch Auswahl eines Lösungsmittels, welches eine hohe Lösekapazität besitzt, für die entsprechenden Komponentensubstanzen als ein Reinigungsmittel, kann die Aufbewahrung und der Transport des verbrauchten Reinigungsströmungsmittels erleichtert werden dadurch, dass das Handhabungsvolumen und der Speicherraum minimiert werden, auf welche Weise die Verarbeitungs- und Rückführungseffizienzen erhöht werden.
  • Der Reinigungsströmungsmitteldurchlass kann mit einem Reinigungsströmungsmittel-Speichertank ausgestattet sein, um verbrauchtes aufgelöstes, anhaftendes Material enthaltendes Strömungsmittel aufzunehmen. Bei einer solchen Anordnung können die Komponentensubstanzen in der Dampfeinspeisung zusammen mit dem Reinigungsströmungsmittel zum Zwecke der Rückführung wiedergewonnen werden.
  • Der Reinigungsströmungsmitteldurchlass kann mit einer Unterdrucksetzungsvorrichtung ausgestattet sein, und zwar zur Unterdrucksetzung des Reinigungsströmungsmittels auf einen Druck nicht niedriger als ein Dampfdruck bei der Betriebstemperatur zum Reinigen der Fallenvorrichtung. Durch eine solche Anordnung kann das Reinigungsströmungsmittel in die Einfangvorrichtung in einem flüssigen Zustand eingeführt werden, so dass der Reinigungsprozess effektiv durchgeführt werden kann.
  • Der Reinigungsströmungsmitteldurchlass kann mit einer Heizvorrichtung zum Heizen des Reinigungsströmungsmittels ausgestattet sein. Durch eine solche Anordnung wird die Temperatur des Reinigungsströmungsmittels angehoben, um die Sättigungslöslichkeit des Strömungsmittels zu erhöhen, und den Reinigungsprozess zu fördern.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt ist ein Einfangsystem vorgesehen, welches Folgendes aufweist: eine Verdampfungsvorrichtung zum Umwandeln einer Flüssigkeitseinspeisung in eine Dampfeinspeisung;
    eine Abscheidungskammer;
    einen Abscheidungskammerdurchlass zur Verbindung der Verdampfungsvorrichtung und der Abscheidungskammer;
    einen Bypass- oder Umgehungsdurchlass, abgezweigt von dem Abscheidungskammerdurchlass stromabwärts von der Verdampfungsvorrichtung und mit einer Einfangvorrichtung (trap device);
    eine Ventilvorrichtung, vorgesehen in dem Bypassdurchlass an einer stromabwärts gelegenen Stelle der Einfangvorrichtung zum Öffnen und Schließen des Bypassdurchlasses; und
    einen Reinigungsgaseinspritzdurchlass in Verbindung stehend mit dem Bypassdurchlass an einer stromaufwärts gelegenen Stelle der Einfangvorrichtung zur Verhinderung der Einströmung der Dampfeinspeisung in die Einfangvorrichtung dann, wenn die Ventilvorrichtung geschlossen ist.
  • Eine Ventilvorrichtung ist vorgesehen, welche die Reinigung des Inneren des Ventilmechanismus ermöglicht, selbst wenn ein Strömungsmittel, welches nicht verdampfte Materialien und degradierte Materialien in der Dampfeinspeisung enthält, dahin durchgeströmt wird, um einen Verlust der hermetischen Integrität der Ventilvorrichtung zu verhindern. Eine derartige Ventilvorrichtung zur Verwendung in einem Speisegasdurchlass zur Steuerung der Strömung der Dampfeinspeisung mit einer Suszeptibilität gegenüber der Ausscheidung von Komponentensubstanzen weist Folgendes auf:
    einen Spülgasversorgungsanschluss zum Leiten eines Spülgases zu Räumen zwischen einem Ventilelement und einem Ventilsitz; und/oder
    einen Reinigungsströmungsmittel-Versorgungsanschluss zum Leiten eines Reinigungsströmungsmittels aus einer Nähe des Ventilelements, zu mindestens einem Durchlass, entweder dem stromaufwärts gelegenen Durchlass oder dem stromabwärts gelegenen Durchlass des Speisegasdurchlasses.
  • In einer solchen Anordnung der Ventilvorrichtung wird festes Material, welches am Ventilsitz oder an dem Ventilelement klebt, als erstes weggeblasen oder die Verdampfung wird durch Spülgas erleichtert, oder aber es erfolgt ein Wegwaschen durch das Reinigungsströmungsmittel und zwar vor dem Schließen des Ventils um so eine nicht ordnungsgemäße Abdichtung zu vermeiden, oder aber eine Schädigung der Ventilkomponenten durch diese festen Materialien hervorzurufen. Dadurch, dass man das Reinigungsströmungsmittel aus der Nähe des Ventilelements wegleitet, um feste Materialien geschieden nahe dem Ventilelement zu entfernen, so dass eine nicht ordnungsgemäße Dichtung oder Schädigung der Ventilkomponenten vermieden wird, wenn die Ventilvorrichtung das nächste Mal geöffnet wird. Gemäß einem weiteren Aspekt ist ein Verfahren zum Reinigen einer Ventilvorrichtung vorgesehen, und zwar zur Steuerung der Strömung der Dampfeinspeisung, wobei die Dampfeinspeisung eine Neigung zur Ausfällung von Komponentensubstanzen besitzt und wobei das Verfahren Folgendes aufweist:
    Leiten eines Spülgases und/oder eines Reinigungsströmungsmittels zu Räumen oder Abständen zwischen einem Ventilelement und einem Ventilsitz unmittelbar vor dem Schließen der Ventilvorrichtung.
  • Das Verfahren kann auch Folgendes umfassen: Liefern eines Reinigungsströmungsmittels aus einer Nähe des Ventilelements zu mindestens einem Durchlass und zwar entweder zu einem stromaufwärts gelegenen Durchlass oder einem stromabwärts gelegenen Durchlass und zwar relativ zu der Ventilvorrichtung nach dem Schließen der Ventilvorrichtung. Durch diesen Vorgang werden nahe dem Ventilelement abgeschiedene feste Materialien derart entfernt, dass eine nicht ordnungsgemäße Abdichtung oder eine Schädigung der Ventilkomponenten verhindert wird, dann wenn die Ventilvorrichtung das nächste Mal geöffnet wird.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt ist ein Verdampfungsgerät vorgesehen, das Folgendes aufweist: eine Verdampfungsvorrichtung zum Umwandeln einer flüssigen Einspeisung, geliefert durch einen Flüssigkeitseinspeisungsdurchlass in eine Dampfeinspeisung mit einem Verdampfungsdruck und einer Verdampfungstemperatur und Liefern in einen Dampfeinspeisungsdurchlass;
    eine Ventilvorrichtung zum Schließen oder Öffnen des Dampfeinspeisungsdurchlasses;
    einen Reinigungsströmungsmittel-Speichertank;
    einen Reinigungsströmungsmittel-Versorgungsanschluss, verbunden mit dem Reinigungsströmungsmittel-Speichertank zum Leiten eines Reinigungsströmungsmittel aus einer Nähe eines Ventilelements zum Strömen zu einer stromabwärts gelegenen Seite des Dampfeinspeisungsdurchlasses; und
    einen Reinigungsströmungsmittelablassdurchlass, der schaltbar mit dem Reinigungsströmungsmittel-Speichertank und dem Flüssigkeitseinspeisungsdurchlass verbunden ist. Demgemäß wird ein wirkungsvoller Reinigungspfad derart vorgesehen, dass das gesamte System einschließlich des Verdampfers und der Ventilvorrichtung in effizienter Weise gereinigt werden kann, und zwar dadurch, dass man ein Reinigungsströmungsmittel innerhalb des Systems strömen lässt.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 ist eine Zeichnung eines ersten Beispiels unter Verwendung der Erfindung.
  • 2 ist eine schematische Zeichnung eines zweiten Beispiels zur Verwendung der Erfindung.
  • 3 ist eine schematische Zeichnung eines dritten Beispiels zur Verwendung der Erfindung.
  • 4 ist eine schematische Zeichnung eines vierten Beispiels zur Verwendung der Erfindung.
  • 5 ist eine schematische Zeichnung eines fünften Beispiels zur Verwendung der Erfindung.
  • 6 ist eine vergrößerte Querschnittsansicht von Schlüsselteilen in einem Reinigungsschritt.
  • 7 ist ein vergrößerter Querschnitt von Schlüsselteilen in einem Reinigungsschritt.
  • 8 ist ein vergrößerter Querschnitt von Schlüsselteilen in einem Zweiwegeventil.
  • 9 ist eine schematische Zeichnung einer Einfangvorrichtung.
  • 10 ist eine schematische Zeichnung einer weiteren Einfangvorrichtung.
  • 11 ist eine schematische Zeichnung einer noch weiteren Einfangvorrichtung.
  • 12 ist eine schematische Zeichnung von einer weiteren Einfangvorrichtung.
  • 13 ist ein Querschnitt eines konventionellen Zweiwegeventils.
  • Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele
  • Im Folgenden werden bevorzugte Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. 1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel eines Dampfeinspeisungs-Liefersystems in dem ein flüssiges Einspeisungsmaterial durch einen Flüssigkeitseinspeisungsdurchlass 16a geliefert und zugeführt wird, und ferner verdampft eine Verdampfungsvorrichtung 10 mit einer Heizvorrichtung 14 das flüssige Einspeisungsmaterial, und zwar durch Erhitzen desselben auf dessen Verdampfungstemperatur und es erfolgt sodann die Lieferung der sich ergebenden Dampfeinspeisung zur einer Film- oder Schichtabscheidungskammer 12, und zwar durch einen Dampfeinspeisungsdurchlass 16b. In der Schichtabscheidungskammer 12b werden die Dampfeinspeisung und ein Sauerstoff enthaltendes Gas durch (nicht gezeigte) Rohrleitungen geliefert, und zwar erfolgt die Leitung zu einem Substrat, welches auf eine bestimmte Reaktionstemperatur erhitzt ist, um eine dünne Metalloxidschicht bzw. einen Metalloxidfilm darauf zu bilden. Das in dem Abscheidungsprozess erzeugte verbrauchte Gas wird durch eine Einfangvorrichtung (trap device) geleitet und durch eine Ausstoßpumpe 20 ausgestoßen.
  • Das Dampfeinspeisungs-Versorgungs- bzw. -Liefersystem weist einen Reinigungsströmungsmitteldurchlass oder Reinigungsfluiddurchlass 22 auf, der sich mit dem Flüssigkeitseinspeisungsdurchlass 16a vereinigt, und zwar an einer stromaufwärts gelegenen Stelle der Verdampfungsvorrichtung, und es erfolgt eine Abzweigung von dem Verdampfungseinspeisungsdurchlass 16b an einer stromabwärts gelegenen Stelle gegenüber der Verdampfungsvorrichtung 10 und ferner erfolgt eine Zirkulation eines Reinigungsströmungsmittels oder eines Reinigungsfluids von einem Reinigungsströmungsmittel- oder Fluidspeichertank 28 mittels einer Zirkulationspumpe 32 und eines Filters 36. In jedem der Durchlässe in der stromaufwärts gelegenen Seite des Vereinigungspunktes des Flüssigkeitseinspeisungsdurchlasses 16a und des Reinigungsströmungsmitteldurchlasses 22 sind zwei Ventile 24a und 24b vorgesehen, um in einer offenen oder einer geschlossenen Position betrieben zu werden; in jedem der Durchlässe in der stromabwärts gelegenen Seite des Vereinigungspunktes des Flüssigkeitseinspeisungsdurchlasses 16a und des Reinigungsströmungsmitteldurchlasses 22 sind in ähnlicher Weise zwei Ventile 24c, 24d vorgesehen. Die Reinigungszone, die auf diese Weise gebildet ist, und zwar durch die Zweiwegeventile, den Flüssigeinspeisungsdurchlass, einen Teil des Dampfeinspeisungsdurchlasses und das Innere der Verdampfungsvorrichtung ist derart ausgelegt, dass dem Druck widerstanden werden kann, der während des Druckreinigungsvorgangs, der im Folgenden beschrieben wird, ausgeübt wird.
  • Der Reinigungsströmungsmitteldurchlass 22 weist einen Akkumulator 34 auf, um ein unter Druck gesetztes Gas aufzunehmen, und zwar zur Unterdrucksetzung des gesamten Reinigungsströmungsmitteldurchlasses. Der Reinigungsströmungsmittel-Speichertank 28 weist einen Erhitzer 30 auf, und zwar zum Erhitzen des Reinigungsströmungsmittels 26 auf eine Betriebstemperatur der Verdampfervorrichtung 10, beispielsweise auf 250°C. Dadurch dass man das Reinigungsströmungsmittel 26 derart auswählt, dass es die gleiche Zusammensetzung besitzt wie das Lösungsmittel, verwendet bei der Herstellung des flüssigen Einspeisungsmaterials, gibt es keine Störung von restlichem Reinigungsströmungsmittel, welches in der Verdampfungsvorrichtung 10 verbleibt, mit dem Verdampfungsabscheidungsprozess zur Herstellung von dünnen Metalloxidschichten.
  • Als nächstes wird der Betrieb des Dampfeinspeisungs-Versorgungssystems des ersten Ausführungsbeispiels erläutert. Der Schichtabscheidungsprozess wird dadurch ausgeführt, dass man die Zweiwegeventile 24b, 24d in dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass 22 schließt und die Zweiwegeventile 24b, 24c in dem Flüssigkeitseinspeisedurchlass 16a und dem Dampfeinspeisungsdurchlass 16b öffnet.
  • Um die Verdampfungsvorrichtung 10 zu reinigen, werden die Zweiwegeventile 24b, 24d in dem Flüssigkeitseinspeisungsdurchlass 16a und dem Dampfeinspeisungsdurchlass 16b geschlossen, und die Zweiwegeventile 24b, 24d in dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass 22 werden geöffnet, so dass der Reinigungsströmungsmittelpfad hermetisch isoliert ist. Das Reinigungsfluid oder das Reinigungsströmungsmittel wird auf die Betriebstemperatur der Verdampfungsvorrichtung 10 vorerhitzt, beispielsweise auf 250°C und zwar durch die Heizvorrichtung 30, und der Akkumulator 34 wird dazu verwendet, um den Innendruck auf den Dampfdruck des Reinigungsströmungsmittels (THF) anzuheben, und zwar bei der Betriebstemperatur der Verdampfungsvorrichtung 10, beispielsweise auf 41 Kgf/cm2, und es erfolgt die Zirkulation durch den Durchlass mittels der Pumpe 32.
  • Das Reinigungsströmungsmittel 26 fließt nach der Entfernung von festem Material mit einem Filter 36 in das Innere der Verdampfungsvorrichtung 10, und zwar unter Beibehaltung des flüssigen Zustands, selbst bei einer Temperatur von 250°C, und zwar wegen des angelegten Drucks von mehr als 41 Kgf/cm2, so dass die am Inneren der Verdampfungsvorrichtung 10 anhaftenden Feststoffe oder feste Materialien aufgelöst oder in anderer Weise entfernt werden, und zwar in der zur Reinigung der Verdampfungsvorrichtung 10 vorgesehenen Flüssigkeit. Das verwendete Reinigungsströmungsmittel 26 wird von dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass 22 zum Speichertank 28 zurückgeführt, nachdem es durch den Verdampferreinigungsschritt gelaufen ist. Die effektive Reinigung des Inneren der Verdampfungsvorrichtung wird auf diese Weise erreicht und zwar durch Liefern des Reinigungsströmungsmittels, während der flüssige Zustand während der Reinigungsaufgabe aufrecht erhalten bleibt.
  • Wenn der Reinigungsschritt vollendet ist, so werden die zwei Ventile 24b, 24d in dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass 22 geschlossen, und die zwei Ventile 24a, 24c in dem Flüssigkeitseinspeisedurchlass 16a und im Dampfeinspeisedurchlass 16b werden geöffnet, um so den Schichtabscheidungsprozess wieder aufzunehmen. Da die Temperatur des Reinigungsströmungsmittels auf die Betriebstemperatur der Verdampfungsvorrichtung 10 angehoben wird, kühlt sich im ersten Ausführungsbeispiel die Verdampfungsvorrichtung nicht während des Reinigungsprozesses ab, so dass die erforderliche Wartezeit zum Wiederstarten des Betriebs des Schichtabscheidungsverfahrens minimiert werden kann.
  • Es sei bemerkt, dass das Reinigungsströmungsmittel bei Raumtemperatur in die Verdampfungsvorrichtung eingeführt werden kann. Die Vorrichtungstemperatur fällt leicht ab, aber der Temperaturabfall ist klein und die Aufheizzeit ist ebenfalls kurz und in der Praxis wird wenig Zeit verloren.
  • 2 zeigt ein zweites Beispiel, welches sich vom ersten Beispiel insofern unterscheidet, als anstelle der elektrischen Heizvorrichtung eine Mantelheizvorrichtung 40 verwendet wird, um Wärme von der Außenseite des Verdamp fers 10 zu liefern. Die Mantelheizvorrichtung 40 weist ein Schaltventil 46 auf, ferner eine Pumpe 48 und Rohrleitungen 50 für das thermische Medium, um die Temperatursteuerung zu ermöglichen, und zwar durch Schalten zwischen einer Hochtemperaturquelle 42 zum Erhitzen und einer Niedertemperaturquelle 44 zum Kühlen.
  • Nunmehr sei ein nicht der Bedingung des Anspruchs 1 entsprechendes Beispiel, welches sich auf eine Reinigungstemperatur im Wesentlichen gleich der Verdampfungstemperatur bezieht, des Reinigungsprozesses beschrieben. Während des Schichtabscheidungsprozesses wird die Mantelheizvorrichtung 40 mit einem Heizmedium beliefert, welches auf eine Temperatur oberhalb der Verdampfungstemperatur des flüssigen Speisematerials erhitzt ist. Wenn es erforderlich ist, den Reinigungsprozess auszuführen (nachdem der Dampfformungsprozess beendet ist), werden die Zweiwegeventile 42 geschaltet, so dass das Niedertemperaturmedium an den Mantelheizer 40 geliefert wird, um die Verdampfertemperatur auf eine geeignete Zwischentemperatur abzusehen, zwischen der Verdampfungstemperatur und der Raumtemperatur, um so den zum Reinigen erforderlichen Innendruck abzusenken.
  • Die Zwischentemperatur sollte sorgfältig gewählt werden. Wenn sie zu niedrig ist, wird das erneute Starten der Verdampfungsvorrichtung verzögert. Es sei beispielsweise angenommen, dass der Dampfdruck des Reinigungsströmungsmittel 41 Kgf/cm2 ist, wenn die Verdampfungstemperatur 250°C ist, wobei dann wenn die Verdampfungstemperatur auf 200°C abgesenkt wird, der Dampfdruck des Reinigungsströmungsmittels 20 Kgf/cm2 ist, und wobei dann wenn die Verdampfungstemperatur auf 150°C abgesenkt wird, der Dampfdruck des Reinigungsströmungsmittels 8 Kgf/cm2 ist, was einen niedereren Innendruck zur Folge hat. Der Vorteil eines niedrigeren Innendrucks besteht darin, dass die Konstruktion des Verdampfers 10 und des Akkumulators vereinfacht wird.
  • 3 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel des Dampfeinspeisungsliefersystems. Das System ist derart ausgelegt, dass es eine Verdampfervorrichtung 120 umfasst, welche einen Dampf aus einer Flüssigkeitseinspeisung erzeugt, und zwar erzeugt durch Auflösen von flüssigem Ba(DPM)2, Sr(DPM)2 in einem organischen Lösungsmittel (beispielsweise THF), so dass die Dampfeinspeisung und ein Sauerstoff enthaltendes Gas gemischt werden können und an die Schichtabscheidungskammer 122 geliefert werden können, und zwar gerichtet zu einem erhitzten Substrat zur Erzeugung einer Metalloxidschicht darauf.
  • Die Verdampfungsvorrichtung 120 weist einen Flüssigeinspeisungsdurchlass 126 auf, der mit einer stromabwärts gelegenen Speisequelle und einer Heizvorrichtung 124 verbunden ist, um die Flüssigkeitseinspeisung auf eine Temperatur zu erhitzen, die höher liegt als die Verdampfungstemperatur. Auf der stromabwärts gelegenen Seite befindet sich ein Dampfeinspeisungsdurchlass 128 zur Abgabe der Dampfeinspeisung und zwar aufgespalten in einen Abscheidungskammerdurchlass 129 an einer stromabwärts gelegenen Stelle der Verdampfungsvorrichtung 120 zur Verbindung mit der Reaktionskammer 122 und einer Einfangvorrichtung 136 durch ein Zweiwegeventil 132, und einen abgezweigten Bypassdurchlass 130 zur Verbindung mit einer einfachen Vorrichtung 136b durch ein Zweiwegeventil 132b. Diese zwei Durchlässe 128 und 130 vereinigen sich wiederum an einer stromabwärts gelegenen Stelle der Zweiwegeventile 132c, 132d, vorgesehen in entsprechenden Durchlässen zur Verbindung mit einer Pumpe 138.
  • Die Einfang- oder Ausscheidungsvorrichtungen 136a, 136b sind Niedertemperatureinfang- oder Abscheidungsvorrichtungen und zwar in diesem Falle gekühlt, wie beispielsweise durch ein Kühlmedium wie flüssigen Stickstoff oder gekühlte Luft, und zwar zum Einfangen der gasförmigen Komponenten oder des Dampfeinspeisungsmaterials in einem Einfang- oder Abscheidungsabschnitt. Es ist jedoch nicht eine Beschränkung auf diese Art von Einfangvorrichtungen vorgesehen. Jede der Einfangvorrichtungen ist mit einem Versorgungsdurchlass 140 für thermisches Medium und mit einem (nicht gezeigten) Mediumabgabedurchlass 142 verbunden.
  • Die Einfangvorrichtung 136b im Bypassdurchlass 130 besitzt eine Reinigungsanordnung zur Entfernung von anhaftendem Material, welches an der Innenseite der Einfangvorrichtung klebt. Um eine derartige Reinigung auszuführen, ist die Einfangvorrichtung 136b mit einem Reinigungsfluid oder Reinigungsströmungsmitteldurchlass 144 ausgestattet, und zwar an der Eintrittsseite und an der Austrittsseite der Einfangvorrichtung 136b durch die entsprechenden Zweiwegeventile 132e, 132f. Der Reinigungsströmungsmitteldurchlass 144 ist als ein Zirkulationspfad ausgebildet, und zwar einschließlich eines Speichertanks 148 zum Speichern eines Reinigungsströmungsmittels 146, welches in erster Linie ein Lösungsmittel enthält, wie beispielsweise THF, wobei ferner eine Zirkulationspumpe 152 vorgesehen ist, um Reinigungsströmungsmittel 146 unter Druck zu liefern, und wobei schließlich ein Filter 156 festes Material aus dem Reinigungsströmungsmittel 146 entfernt. An einer stromabwärts gelegenen Stelle des Filters ist ein Spülgaseinspritzdurchlass 158 durch ein Zweiwegeventil 132g vorgesehen, um ein Spülgas, wie beispielsweise He in den Innenraum der Einfangvorrichtung 136b einzuspritzen.
  • Der Reinigungsströmungsmittel-Speichertank 148 weist eine Heizvorrichtung 150 auf, um das Reinigungsströmungsmittel 146 zu erhitzen, wobei ferner eine Unterdrucksetzungsvorrichtung 154 einen Druck an die Flüssigkeitsoberfläche des Reinigungsströmungsmittels 146 mit einem Gas, wie beispielsweise He anlegt. Die Unterdrucksetzungsvorrichtung 154 setzt das Reinigungsströmungsmittel 146 unter einen Druck, der höher ist als der Dampfdruck innerhalb der Einfangvorrichtung 136b, so dass das Reinigungsströmungsmittel 146 in die Einfangvorrichtung 136b in einem flüssigen Zustand fließen kann. Wenn ein adäquater Druck höher als der Dampfdruck des Reinigungsströmungsmittels 146 nur durch die Verwendung der Zirkulationspumpe 152 erzeugt werden kann, dann ist es nicht notwendig bzw. nicht wesentlich, die Unterdrucksetzungsvorrichtung vorzusehen. Dadurch, dass man eine Unterdrucksetzungsvorrichtung 154 vorsieht, ist es jedoch möglich, eine partielle Verdampfung des Reinigungsströmungsmittels 146 an der Einlassseite der Zirkulationspumpe 152 zu vermeiden, was durch einen niedrigen Druck, entwickelt an der Einlassseite der Pumpe, bewirkt wird. Es ist auch möglich, ein "high cracking" Druckrückschlagventil vorzusehen, so dass eine hochdruckresistente Reinigungszone kompakt gemacht zwischen der Ausgangsseite der Zirkulationspumpe bis zum Druckrückschlagventil vorgesehen werden kann.
  • Der Betrieb des dritten Beispiels wird unter Bezugnahme auf die 3 erläutert. Während des Schichtabscheidungsprozesses sind die Ventile 132b, 132d in dem Bypassdurchlass 130 geschlossen, und die Ventile 132a, 132c sind in dem Abscheidungskammerdurchlass 129 geöffnet, so dass verdampfte Dampfeinspeisung in die Abscheidungskammer 122 erfolgt. Wenn der Abscheidungsprozess beendet ist, wird ein anderes Substrat in die Abscheidungskammer 122 eingeführt, und zwar durch Schließen der Ventile 132a, 132c in dem Abscheidungskammerdurchlass 129 und durch Öffnen der Ventile 132b, 132d in dem Bypassdurchlass 130, um so die Dampfabscheidung durch den Bypassdurchlass 128 zu liefern, und nach dem Einfangen der Speisegaskomponenten in der Einfangvorrichtung 136b wird das verbrauchte Gas durch die Pumpe 138 abgegeben.
  • Nach dem Betrieb der Einfangvorrichtung für eine gewisse Zeitdauer zur Ansammlung einer bestimmten Menge von anhaftenden Materialien in der Einfangvorrichtung 136 werden die folgenden Reinigungsschritte durchgeführt. Als erstes werden die Ventile 132b, 132d in dem Bypassdurchlass 130 geschlossen, und der Reinigungsströmungsmittel-Speichertank 148 wird durch die Oberfläche des Reinigungsströmungsmittels 146 unter Druck gesetzt, und zwar auf einen Druck, der höher ist als der Dampfdruck des Reinigungsströmungsmittels bei der Betriebstemperatur der Einfangvorrichtung 136 während des Erhitzens des Reinigungsströmungsmittels 146 auf eine geeignete Temperatur mit einer Heizvorrichtung 150, vorgesehen im Speichertank 148. Sodann wird die Zirkulationspumpe 152 betrieben und das Zweiwegeventil 132e wird geöffnet, um die Einfangvorrichtung 136b mit Reinigungsströmungsmittel 146 zu beliefern und zu befüllen. Auf dieser Stufe ist die Einfangvorrichtung 136b unter Vakuum, so dass das Reinigungsströmungsmittel sehr schnell in die Einfangvorrichtung fließt und die Einfangvorrichtung anfüllt, um so ihre innere Gesamtoberfläche zu benetzen, was den Reinigungseffekt für den folgenden Schritt verbessert.
  • Wegen des Dampfunterdrückungseffekts der Unterdrucksetzungsvorrichtung 154 ist das Reinigungsströmungsmittel 146 in der Lage, in die Einfangvorrichtung 136b zu fließen, ohne sich in einen Dampf bei der Betriebstemperatur der Einfangvorrichtung 136b zu verwandeln, um so die anhaftenden Materialien aufzulösen, und eine effektive Reinigung der Einfangvorrichtung 136b vorzusehen. Auch gilt Folgendes: da das Reinigungsströmungsmittel oder Fluid 146 durch die Heizvorrichtung 150 erhitzt wird, werden sowohl die Auflösungsrate der anhaftenden Materialien als auch die Sättigungstemperatur des Reinigungsströmungsmittels angehoben, wodurch der Reinigungseffekt verbessert wird.
  • Als nächstes wird das Ventil 135f in dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass 144 geöffnet, um so das Reinigungsströmungsmittel 146 zu zirkulieren. Die Komponentensubstanzen in der Dampfeinspeisung, eingefangen in der Einfangvorrichtung 136b, werden in dem zirkulierenden Reinigungsströmungsmittel 146 aufgelöst, und allmählich erhöht sich deren Konzentration im Speichertank 148. Durch Wahl eines Lösungsmittels, wie beispielsweise THF, welches eine hohe Löslichkeit für die Speisegaskomponenten besitzt, wird es möglich, die Notwendigkeit zur Vergrößerung der Kapazität des Speichertanks 148 zu eliminieren oder auch das häufige Erneuern des Reinigungsströmungsmittels 146.
  • Wenn eine bestimmte Dampfmenge in dem Reinigungsströmungsmittel 146 aufgelöst ist, steigt das Strömungsmittelvolumen an, und seine Reinigungsfähigkeit wird verschlechtert, so dass das Reinigungsströmungsmittel 146 ausgetauscht werden muss. Die Zeitsteuerung für den Austausch des Strömungsmittels kann bestimmt werden durch Änderungen der Strömungsmittelparameter einschließlich des Strömungsmittelvolumens, der Maße, des spezifischen Gewichts, der Lichtdurchlässigkeit, der elektrischen Konstanten, der Viskosität usw.
  • In diesem Beispiel ist das Reinigungsströmungsmittel 146 das gleiche wie das Lösungsmittel der Speiseflüssigkeit, so dass es nach geeigneter Behandlung zur Wiederherstellung der Reinheit wieder verwendet werden kann. Eine derartige Verarbeitung wird auch erleichtert durch die Fähigkeit des Reinigungsströmungsmittels 146 sich in einer großen Menge Dampfeinspeisung aufzulösen, so dass Materialspeicherung und Übertragung erleichtert werden kann und die Verarbeitungsfläche nicht sehr groß sein muss. Es ist auch möglich, kontinuierlich ein frisches Reinigungsströmungsmittel 146 in den Speichertank 148 zu liefern, um das verbrauchte Reinigungsströmungsmittel zu ersetzen, um so die Reinigungskapazität des Reinigungsströmungsmittel aufrecht zu erhalten.
  • Wenn der Reinigungsprozess beendet werden soll, so werden als ersten die Zirkulationspumpe 152 gestoppt, und sodann wird das Ventil 132g geöffnet, und zwar in dem Spülgaseinspritzdurchlass 158, um Spülgas in die Einfangvorrichtung 136b einzulassen, und um das gesamte Reinigungsströmungsmittel 146 in der Einfangvorrichtung 136b im Speichertank 148 wiederzugewinnen, und sodann werden die Ventile 132e, 132f in dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass 144 geschlossen. Da Ventil 132d welches mit der Ausstoßpumpe 138 im Bypassdurchlass 130 verbunden ist, wird geschlossen und die Ausstoßpumpe 138 wird eingeschaltet um das restliche Reinigungsströmungsmittel in der Einfangvorrichtung b36e zu verdampfen um den Reinigungsprozess zu vervollständigen.
  • Das obige Ausführungsbeispiel behandelt den Fall des Reinigens des Inneren der Einfangvorrichtung 136b in dem Bypassdurchlass 136; es ist jedoch offensichtlich, dass ein ähnlicher Reinigungsströmungsmitteldurchlass vorgesehen sein kann, um die Einfangvorrichtung 136a in dem Abscheidungskammerdurchlass 129 zu reinigen.
  • Die 4 zeigt ein viertes Beispiel des Reinigungssystems. Die Unterschiede zwischen diesem System und dem vorhergehenden System sind die Folgen den: als erstes ist anstelle des Zweiwegeventils in dem Bypassdurchlass 130, welches die Verdampfungsvorrichtung 120 und die Einfangvorrichtung 136b verbindet, ein Zweiwegeventil 132h vorgesehen, um einen Spülgaseinspritzdurchlass 159 vorzusehen, und zum zweiten wird ein Belüftungsdurchlass 160 von dem Flüssigeinspeisdurchlass 126 abgezweigt, und zwar an einer Stelle stromaufwärts gegenüber der Verdampfungsvorrichtung 120, um mit dem Speichertank 148 in Verbindung zu stehen, und zwar über die Zweiwegventile 132j, 132k. Bei dieser Anordnung bildet der Reinigungsströmungsmitteldurchlass 144 eine Schleifenschaltung: beginnend mit dem Speichertank 148, und sich fortsetzend über: Pumpe 152, Filter 156, Ventil 132e, Ausgang der Einfangvorrichtung 136b, Eingang der Einfangvorrichtung, über Bypassdurchlässe 130, Dampfeinspeisungsdurchlass 128, Verdampfungsvorrichtung 120, Flüssigeinspeisungsdurchlass 126, Ventil 132k und endend in dem Belüftungsdurchlass 160 zur Rückkehr zum Speichertank 148.
  • Während des Schichtabscheidungsprozesses ist die Strömung von Speisedampf in der Bypassschaltung 130 abgeschaltet, und zwar durch Schließen des Ventils 132d und durch Öffnen der Ventile 132a, 132c in dem Abscheidungskammerdurchlass 129. Das Ventil 132h wird geöffnet, um eine winzige Menge an Trägergas, wie beispielsweise Ar, in den Durchlass einzuspritzen, und zwar den Durchlass zwischen dem Verdampfer und der Einfangvorrichtung 136b, und zwar durch den Gaseinspritzdurchlass 159. Bei dieser Anordnung fließt der größte Teil der Dampfeinspeisung zum Abscheidungskammerdurchlass 129 während des Schichtabscheidungsprozesses, so dass das Trägergas verhindert, dass ein Teil der Dampfeinspeisung in die Einfangvorrichtung 136b fließt.
  • Ein derartiges System gestattet das Schalten des Gasströmungspfades durch Entfernung eines Zweiwegeventils, welches der Ausscheidung von nicht verdampftem oder degradiertem Material ausgesetzt ist, und zwar in dem Durchlass der solche Materialien enthaltende Gase führt. Daher werden die Probleme eliminiert, die mit schädlichen Effekten solcher Ausscheidungsteilchen am Ventilelement und an Ventilsitzen in Beziehung stehen, wobei durch diese Weglassung der zuverlässige Betrieb des Bypassdurchlasses gewährt ist.
  • Während der Stabilisationsperiode der Verdampfungsvorrichtung 120, oder dann wenn der Abscheidungsprozess vollständig ist, kann das System in der gleichen Weise abgeschaltet werden, und zwar durch Schließen der Ventile 132a, 132c in dem Abscheidungskammerdurchlass 129 und ebenfalls durch Schließen des Ventils 132h in dem Gaseinspritzdurchlass 159 und durch Öffnen des Ventils 132d in dem Bypassdurchlass 130, um eine Einfangoperation in der Einfangvorrichtung 136b durchzuführen. Zum Reinigen der Einfangvorrichtung 136b wird das Ventil 132d in dem Bypassdurchlass 130 geschlossen, und das Ventil 132e in dem Reinigungsströmungsmitteldurchlass 144 wird geöffnet, um dem Reinigungsströmungsmittel 146 den sukzessiven Fluss zu gestatten durch: Speichertank 148, Pumpe 152, Filter 156, Ventil 132e, Auslass der Einfangvorrichtung 136b, Einlass der Einfangvorrichtung, Bypassdurchlass 130, Dampfeinspeisedurchlass 128, Verdampfervorrichtung 120, Flüssigeinspeisedurchlass 126, Ventil 132k und Belüftungsdurchlass 160. Demgemäß ist es möglich, sowohl die Einfangvorrichtung 136b als auch die Verdampfungsvorrichtung 120 rechtzeitig zu reinigen.
  • Die 5 zeigt ein fünftes Beispiel des Dampfeinspeisungs-Versorgungssystems. Die Systeme gemäß den 5 bis 7 sind grundsätzlich die gleichen wie die zuvor genannten Systeme, aber der Unterscheid besteht darin, dass das Zweiwegeventil 32a, 32b zum Schalten des Speisegasdurchlasses 128 zwischen Abscheidungskammer 129 und Bypassdurchlass 130 derart vorgesehen ist, dass der Reinigungsprozess erleichtert wird. Auch ist eine Heizvorrichtung H vorgesehen, um die Dampfeinspeisung auf einer konstanten Temperatur im Speisegasdurchlass 128, dem Abscheidungskammerdurchlass 129, dem Bypassdurchlass 130 und der Nähe der zugehörigen Ventile zu halten.
  • Speziell sind die Ventile 132a in dem Abscheidungskammerdurchlass 128 und das Ventil 132b im Bypassdurchlass 130 mit dem Reinigungsströmungsmittel versorgungsdurchlass 170, der sich vom Speichertank 148 durch die Pumpe 152 erstreckt, verbunden. Der Reinigungsströmungsmittelversorgungsdurchlass 170 spaltet sich in zwei abgezweigte Durchlässe 170a, 170b auf, und zwar an einer stromabwärts gelegenen Stelle gegenüber der Pumpe 152, und jeder der abgezweigten Durchlässe 170a, 170b ist durch Ventile 172a, 172b mit entsprechenden Reinigungsströmungsmittelanschlüssen 174a, 174b versehen, und zwar vorgesehen an der Eingangsseite der Ventile 132a, 132b. Die Ventile 132a, 132b besitzen ihre entsprechenden Gaseinspritzanschlüsse 176a, 176b in der Nähe der Reinigungsströmungsmittelanschlüsse 174a, 174b, die mit den Spülgasdurchlässen 178a, 178b verbunden sind, und zwar verbunden mit einer Spülgasquelle, die ein Spülgas, wie beispielsweise Ar, enthält.
  • Ferner ist ein Belüftungsdurchlass 160 nahe einer stromaufwärts gelegenen Stelle der Verdampfungsvorrichtung 120 vorgesehen, um die Verbindung des Speisgasdurchlasses 126 mit dem Reinigungsströmungsmittel-Speichertank 148 vorzusehen. Der Belüftungsdurchlass 160 besitzt ein Zweiwegeventil 172a und eine stromaufwärts gelegene Seite des Abzweigpunktes in dem Speiseversorgungsdurchlass 126 besitzt ein Zweiwegeventil 172b.
  • Der Betrieb des Reinigungssystems wird nunmehr unter Bezugnahme auf 5 erläutert. Um einen Schichtabscheidungsprozess auszuführen, wird das Ventil 132a in dem Abscheidungskammerdurchlass 129 geöffnet, und das Ventil 132b in dem Bypassdurchlass 130 wird geschlossen, um die Dampfeinspeisung in die Abscheidungskammer 122 zu liefern. Wenn der Abscheidungsprozess nicht ausgeführt wird, oder während der Dampfstabilisierungsperiode, wird das Ventil 132a in dem Abscheidungskammerdurchlass 129 geschlossen und das Ventil 132b in dem Bypassdurchlass 130 wird geöffnet, um die Dampfeinspeisung in den Bypassdurchlass 130 zu leiten. Verbrauchtes Gas, abgegeben von der Abscheidungskammer 122 durch den Abgas- oder Ausstoßgasdurchlass 134 und Einfangvorrichtung 136a werden mit der Dampfeinspeisung, die durch die Einfangvorrichtung 136b in den Bypassdurchlass 130 läuft, vereinigt, und von der Ausstoßpumpe 138 abgegeben.
  • Beim Reinigungsprozess fließt Dampfeinspeisung durch die Ventile 132a, 132b und nicht verdampfte Materialien in der Dampfeinspeisung und Reaktionsprodukte werden auf dem Ventilsitz 132 und dem Ventilelement 164 abgeschieden. Daher werden die folgenden Schritte vorgesehen, um die Adhäsion oder das Anhaften derartiger Materialien zu verhindern und die Reinigung von anhaftenden Materialien vorzusehen.
  • Als erstes werden unmittelbar vor dem Schließen der Ventile 132a, 132b die Ventile 172a, 172b in den Abzweigdurchlässen 170a, 170b geschlossen, und wie in 6 gezeigt, werden die Anschlüsse 176a, 176b geöffnet um zu gestatten, dass erhitztes Spülgas beispielsweise Ar oder Reinigungsströmungsmittel eingespritzt werden, um anhaftende Materialien vom Ventilsitz 162 und vom Ventilelement 164 in den Ventilen 132a, 132b zu entfernen. Nach diesen Schritten werden die anhaftenden Materialien von Ventilsitz 162 und vom Ventilelement 164 entfernt, so dass die hermetische Abdichtung der Ventile nicht geschädigt würde, wenn die Ventile nicht geschlossen sind.
  • Als nächstes werden die Anschlüsse 176a, 176b geschlossen und die Pumpe 152 wird betrieben und gleichzeitig werden die Ventile 172a, 172b in den Abzweigdurchlässen 170a, 170b und die Reinigungsströmungsmittelanschlüsse 174a, 174b geöffnet. Wie in 7 gezeigt, veranlasst dies, dass das unter Druck gesetzte Reinigungsströmungsmittel 146 in die Eingangsseite der Ventile 132a, 132b fließt, und zwar durch die Pumpe 152 und die Unterdrucksetzungsvorrichtung 154. Das Reinigungsströmungsmittel 146 wird von der Verdampfungsvorrichtung 120 in den Reinigungsströmungsmittelbelüftungsdurchlass 160 zirkuliert, und zwar durch Öffnen des Ventils 132f in dem Reinigungsströmungsmittelbelüftungs- oder -ablassdurchlass 160. Da das Reinigungsströmungsmittel 160 unter Druck gesetzt ist um die Verdampfung zu verhindern, fließt es von den Ventilen 132a, 132b in die Verdampfungsvorrichtung 120 in einem flüssigen Zustand und löst in effizienter Weise die darin anhaftenden Materialien auf und reinigt auf diese Weise. Da das Reinigungsströmungsmittel 160 durch die Heizvorrichtung 150 im Speichertank 148 er hitzt wird, wird sowohl die Auflösungsrate der anhaftenden Materialien und die Löslichkeit des Reinigungsströmungsmittels angehoben, wodurch der Reinigungsprozess verbessert wird.
  • Nach dem Stoppen der Pumpe 152 werden die Ventile 172a, 172b in den abgezweigten Durchlässen 170a, 170b geschlossen, sodann werden die Gaseinspritzanschlüsse 176a, 176b geöffnet, um ein Spülgas in die Gaseinspritzdurchlässe 178a, 178b einzuführen, wodurch das gesamte Reinigungsströmungsmittel von der Verdampfervorrichtung 120 durch die Ventile 132a, 132b in den Speichertank 148 zurückgewonnen wird, um den Reinigungsprozess zu beenden. Der Reinigungsprozess wird auf die Verdampfervorrichtung 120 angewandt und sämtliche Durchlässe einschließlich des Speisegasversorgungsdurchlasses 126 und des Bypassdurchlasses 130 und auch die Ventilsitze 162 und die Ventilscheiben (Ventilelemente) 164 in den Ventilen 132a, 132b werden ebenfalls gereinigt.
  • Wenn eine bestimmte Dampfeinspeisungsmenge in dem Reinigungsströmungsmittel nach dem Wiederholen von mehreren Reinigungsprozessen aufgelöst wird, so steigt das Strömungsmittelvolumen an und die Reinigungsfähigkeit verringert sich. Somit ist es notwendig, das Reinigungsströmungsmittel zu ersetzen. Die Zeitsteuerung für das Ersetzen des verbrauchten Reinigungsströmungsmittels wird aus Änderungen der Parameter bestimmt, und zwar einschließlich Strömungsmittelvolumen, Maße, spezifisches Gewicht, Lichtdurchlässigkeit, dielektrische Konstante und Viskosität usw.
  • In dem obigen Beispiel wird das Reinigungsströmungsmittel in die Einlassseite des Zweiwegeventils eingeführt, aber wie in 8 gezeigt, ist es zulässig, das Reinigungsströmungsmittel wenn notwendig an der Auslassseite des Zweiwegeventils einzuführen.
  • Anwendungen der Einfangvorrichtung 136a, 136b sind in den 3 bis 5 gezeigt, und zwar zur Verwendung mit dem Dampfeinspeisungsversorgungssystem der vorliegenden Erfindung, wobei die Erläuterung unter Bezugnahme auf die 9 bis 12 erfolgt. In der folgenden Darstellung wurden die Strukturen der Reinigungsströmungsmitteldurchlässe weggelassen.
  • Die in 9 gezeigte Einfangvorrichtung 236 weist ein im Ganzen zylindrisches Einfanggefäß 248 auf und ferner ein Einlassrohr 250, verbunden mit dessen oberen Ende und mit einem Auslassrohr 252, angeordnet in der oberen Zone des Einfanggefäßes 248. Das Innenende des Einlassrohres 250 erstreckt sich in das Innere des Einfanggefäßes 248 und bildet ein Innenrohr 266 mit seiner Öffnung unterhalb eines Längsmittelpunktes des Gefäßes 248. Auf diese Weise wird ein Einspeisegasdurchlass gebildet, der vom Einlassrohr 250 startet und durch das Innenrohr 266 hinab verläuft, seine Richtung am Boden des Einfanggefäßes 248 umkehrt und das Auslassrohr 252 erreicht.
  • Das Einfanggefäß 248 weist ein oberes Gefäß 262 und ein unteres Gefäß 264 auf, und zwar miteinander verbunden durch eine Schnellkupplung 260. Das obere Gefäß 264 ist mit einem Leckrohr 280 verbunden, und zwar mit einem Leckventil 278. Das Einlassrohr 250 und das Auslassrohr 252 sind mit dem Bypassdurchlass 130 verbunden, und weiterhin über Schnellkupplungen 254a, 254b. Diese Schnellkupplungen 260, 254a, 254b sind leicht durch eine einfache Bewegung lösbar, und halten ein gewisses Maß an hermetischer Abdichtung aufrecht.
  • Eine Mantelheizvorrichtung 268 ist um das Innenrohr 266 des Einlassrohrs 250 gewickelt, und ein Temperatursensor 270 ist an einer geeigneten Stelle angeordnet. Die Leitungsdrähte 272 sind mit einer Temperatursteuerung 274 verbunden, die die Stromversorgung zum Mantelheizer 268 steuert, und zwar gemäß den Ausgangssignalen des Temperatursensors 270. Auf diese Weise ist eine Temperatursteuervorrichtung 276 gebildet, um das Innenrohr 266 des Einlassrohres 250 auf einer ausgewählten Temperatur zu halten, um die Kondensation und/oder die Zersetzung der Dampfeinspeisung am Innenrohr 266 zu verhindern.
  • Andererseits besitzt das Untergefäß 264 ein Kühlrohr 282 zum Strömen eines Kühlmediums, und zwar gewickelt auf die Außenoberfläche zur Bildung eines Kühlabschnitts 284 zur Kühlung der Innenwände auf eine Temperatur niedriger als die Verdampfungstemperatur. Durch das Einlassrohr 250 in das Einfanggefäß 248 eintretende Gase kondensieren und sammeln sich an der Innenwand der Oberfläche des unteren Gefäßes 264 an, welches durch das Kühlrohr 282 gekühlt ist.
  • Wie in 9 gezeigt, ist die Einfangvorrichtung in der Weise konstruiert, dass die gasförmigen Komponenten zum Inneren des Einfanggefäßes 280 geliefert werden, und zwar ohne irgendwo gekühlt zu werden. Dies geschieht durch Vorsehen der Rohrleitungen zur Verbindung der Verdampfungsvorrichtung 212 und der Einfangvorrichtung 248 mit einer Temperatursteuervorrichtung 244, wie beispielsweise einer Mantelheizvorrichtung und Aufheizen des inneren Rohrs 266 des Einlassrohrs 250, welches sich im Inneren des Einfanggefäßes 248 erstreckt, und zwar mit einer Temperatursteuervorrichtung 276.
  • Die gasförmigen Komponenten, die in das Einfanggefäß 248 geleitet werden, kondensieren nicht an dem Innenrohr 266 und sie steigen hinab weiter in das untere Gefäß 264 und kontaktieren den Kühlabschnitt 284 des unteren Gefäßes 264 zur Kondensation daran. Der Rest der gasförmigen Komponenten, wie beispielsweise ein Trägergas, wird nachdem sie den kondensierbaren Teil verloren haben, durch das Auslassrohr 252 ausgestoßen und zwar angeordnet im oberen Abschnitt des Einfanggefäßes 248. Obwohl das Einfanggefäß 248 des Ausführungsbeispiels wieder verwendet werden kann, und zwar durch Anwenden des Reinigungsverfahrens, beschrieben in den vorstehenden Ausführungsbeispielen, ist es auch möglich das untere Gefäß 264 mit dem kondensierten Speisematerial zu ersetzen, mit einem neuen frischen und sauberen durch Entkuppeln der Schnellkupplung 260.
  • In dieser Anordnung des Ausführungsbeispiels ist der Gasdurchlass derart aufgebaut, dass nach dem Eintritt durch das Einlassrohr 250 und das Hinabsteigen im Innenohr der Gasstrom seine Richtung am Boden des Einfangge fäßes 248, der einen Kühlabschnitt 284 bildet, sich umkehrt. Dieses Einfangdesign sieht einen Kühlabschnitt 284 vor, und zwar mit relativ hoher Volumenkapazität um es zu ermöglichen, dass ein hinreichendes Volumen an Kondensaten akkumuliert wird, was eine wirtschaftliche Verarbeitung ermöglicht. Das Innenrohr 266, welches die gasförmigen Komponenten liefert, wird oberhalb der Kondensationstemperatur derart gesteuert, dass keine Blockage durch die kondensierten Materialien erzeugt wird. Ein leichter Austausch des Einfanggefäßes 248 infolge der Schnellkupplung 260 sieht eine minimale Unterbrechung des Betriebs vor und es ergibt sich ein einfaches Verfahren zur Reinigung des unteren Gefäßes 264. Die in dem unteren Gefäß 264 gesammelten Kondensate können wieder gewonnen werden, und zwar durch ein geeignetes Verfahren und können wieder verwendet werden.
  • 10 zeigt eine weitere Bauart einer einfachen Vorrichtung. Der Unterschied zwischen dieser Anwendung und der Anwendung gemäß 9 besteht darin, dass ein zweites Rohr 258 vorgesehen ist, um das Innenrohr 266 zu umgeben, um so einen zylindrischen Rahmen R zu bilden, der sich zu einer externen Umgebung öffnet. Der zylindrische Rahmen R besitzt eine Temperatursteuervorrichtung 276a, und zwar bestehend aus einem Mantel- oder Flächenheizer 286 zur Umgebung des Innenrohrs 266 und ferner ist ein Temperaturfühler oder Temperatursensor 270 vorgesehen. Diese Konstruktion vermeidet, das irgendwelche Kondensate sich an der Heizvorrichtung 286 bilden, und auch am Temperatursensor 270, so dass eine zeitabhängige Verschlechterung der Temperatursteuerfähigkeit vermieden wird, und auch die Wartung der Einfangvorrichtung erleichtert wird.
  • 11 zeigt eine weitere Bauart einer Einfangvorrichtung. Die Differenz zwischen dieser Anwendung und der zweiten Anwendung zeigt 10 insofern als ein Kühlabschnitt 284a aufgebaut ist durch Vorsehen eines Kühlmantels 290, gebildet durch eine Unterteilungswand 288 auf der Innenseite des unteren Gefäßes 264. Dadurch, dass man geeignetes Kühlmedium durch den Kühlmantel 290 fließen lässt, wird die Kühleffizienz des Kühlabschnitts 284 erhöht, und die Einfangeffizienz wird auch erhöht.
  • 12 zeigt eine weiter e Bauart einer Einfangvorrichtung. Der Unterschied dieser Anwendung der dritten Anwendung ist in 11 gezeigt insofern, als die Mantelheizvorrichtung 292 das Innenrohr 266 des Einlassrohres umgebend vorgesehen ist. Diese Konstruktion fördert die Temperaturgleichförmigkeit des Innenrohrs 266 des Einlassrohrs 250.

Claims (3)

  1. Verfahren zum Reinigen einer Dampfflusszone (10, 16; 120, 126, 128) zum Strömen einer Dampfeinspeisung mit einer Empfindlichkeit bzw. Neigung gegenüber der Abscheidung von Komponentensubstanzen, wobei die Dampfströmungszone (10, 16; 120, 126, 128) einen Verdampfungsdurchlass (10; 120) aufweist zur Verdampfung einer Flüssigkeitseinspeisung in eine Dampfeinspeisung unter einem Verdampfungsdruck und einer Verdampfungstemperatur, wobei das Verfahren Folgendes vorsieht: Definieren eines Reinigungsströmungsmitteldurchlasses (22; 144) mit einem vorbestimmten Widerstandsdruck durch Isolieren einer Reinigungszone der Dampfströmungszone; und Strömen eines Reinigungsströmungsmittels (26; 146) in den Reinigungsströmungsmitteldurchlass (22; 144) unter einem Druck derart, dass das Reinigungsströmungsmittel (26; 146) in die Lage versetzt wird, in einem flüssigen Zustand bei einer Reinigungstemperatur der Reinigungszone zu verbleiben, wobei diese im Wesentlichen gleich der erwähnten Verdampfungstemperatur der erwähnten Flüssigkeitseinspeisung ist.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Reinigungsströmungsmittel vor der Lieferung in die Reinigungszone vorerhitzt wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Reinigungszone (10, 16b; 120, 128) auf einem negativen Druck gehalten wird, um die Lieferung des Reinigungsströmungsmittels zu verbessern.
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW415970B (en) * 1997-01-08 2000-12-21 Ebara Corp Vapor-phase film growth apparatus and gas ejection head
TW582050B (en) 1999-03-03 2004-04-01 Ebara Corp Apparatus and method for processing substrate
JP3448613B2 (ja) * 1999-06-29 2003-09-22 オメガセミコン電子株式会社 乾燥装置
GB2358791A (en) * 2000-02-04 2001-08-08 Versar Inc Method composition and apparatus for cleaning internal surfaces of oxygen converters and cylinders
AU2002306436A1 (en) * 2001-02-12 2002-10-15 Asm America, Inc. Improved process for deposition of semiconductor films
CN1247323C (zh) * 2001-11-15 2006-03-29 液体空气乔治洛德方法利用和研究的具有监督和管理委员会的有限公司 具有清洁功能的原料液供应装置及拆卸其原料容器的方法
JP3828821B2 (ja) * 2002-03-13 2006-10-04 株式会社堀場エステック 液体材料気化供給装置
JP4187599B2 (ja) * 2003-07-03 2008-11-26 東京エレクトロン株式会社 減圧処理装置及び減圧処理方法並びに圧力調整バルブ
JP4842771B2 (ja) * 2006-11-15 2011-12-21 東京エレクトロン株式会社 処理システムと処理方法および記録媒体
JP4954728B2 (ja) * 2007-01-26 2012-06-20 東京エレクトロン株式会社 ゲートバルブの洗浄方法及び基板処理システム
US20130220221A1 (en) * 2012-02-23 2013-08-29 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for precursor delivery
US9448155B2 (en) * 2014-06-25 2016-09-20 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army System for sampling and/or analysis of particles in a gaseous environment
KR102506307B1 (ko) * 2016-06-29 2023-03-07 (주)지오엘리먼트 케미컬 회수 시스템
JP6943911B2 (ja) * 2019-03-07 2021-10-06 古河電気工業株式会社 気化器の洗浄方法および気化装置
CN112266161B (zh) * 2020-10-30 2023-04-14 烽火通信科技股份有限公司 一种用于d4液体原材料的汽化装置及方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4380308A (en) * 1980-12-23 1983-04-19 Greenwood David L Self-cleaning adhesive dispensing apparatus
US4573586A (en) * 1983-05-02 1986-03-04 Helmer Michael T Easter egg dyeing and drying device
US4541249A (en) * 1984-11-28 1985-09-17 Clint Graves Cryogenic trap and pump system
IT1222018B (it) * 1987-07-13 1990-08-31 Tetra Dev Co Un dispositivo per macchine di confezionamento
FR2620954A1 (fr) * 1987-09-29 1989-03-31 Bernard Peyrot Des Gachons Procede pour nettoyer des surfaces d'un objet, de depots souillants, notamment de pipes et systeme pour la mise en oeuvre du procede
US4911411A (en) * 1989-04-10 1990-03-27 Cryolab, Inc. Clean gas valve using a metal-to-metal seal
US4909271A (en) * 1989-04-14 1990-03-20 Cryolab, Inc. Ultrahigh purity gas valve with encapsulated bellows
US5362328A (en) * 1990-07-06 1994-11-08 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and method for delivering reagents in vapor form to a CVD reactor, incorporating a cleaning subsystem
DE4108539A1 (de) * 1991-03-15 1992-09-17 Hoesch Metall & Kunststoffwerk Verfahren zur desinfektion von rohrleitungssystemen sanitaerer anlagen und whirlpool-anlagen zur durchfuehrung des verfahrens
JP3080753B2 (ja) * 1992-02-03 2000-08-28 三菱重工業株式会社 スケールの洗浄装置
SE9301135L (sv) * 1993-04-06 1994-10-07 Arjo Hospital Equipment Ab Duschanordning
US5558841A (en) * 1993-04-26 1996-09-24 Olympus Optical Co., Ltd. Washing/sterilizing apparatus for an endoscope and method for washing/sterilizing its water supplying system
JP3158264B2 (ja) * 1993-08-11 2001-04-23 東京エレクトロン株式会社 ガス処理装置
JP3390517B2 (ja) * 1994-03-28 2003-03-24 三菱電機株式会社 液体原料用cvd装置

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