DE69626919T2

DE69626919T2 - Lichtstreuender Schirm

Info

Publication number: DE69626919T2
Application number: DE69626919T
Authority: DE
Inventors: Lee Albert Batchelder; Robin Clabburn; Nicholas John Phillips; Terence Edward Yeo
Original assignee: Nashua Photo Ltd; Nashua Corp
Current assignee: Tomoegawa Co Ltd
Priority date: 1995-10-12
Filing date: 1996-10-09
Publication date: 2003-11-06
Anticipated expiration: 2016-10-10
Also published as: EP0768565A3; DE69626919D1; KR970022488A; JPH09211728A; EP0768565B1; EP0768565A2; JP4014678B2; GB9520912D0; KR100448606B1

Description

Diese Erfindung betrifft ein Material, das geeignet ist zur Verwendung als ein lichtstreuender Schirm oder ein Rückprojektionsschirm, und ein Material, das geeignet ist zur Verwendung als ein Aufprojektionsschirm und für analoge Zwecke, wie in reflektierenden Zeichen, etc..
Es ist gut bekannt, daß die wichtigen Parameter von Projektionsschirmmaterialien Helligkeit einschließen, welches die Menge an Licht ist, von der Bildquelle, welche den Betrachter erreicht, und die Winkel von der Senkrechten zu der Oberfläche des Materials, über welche ein annehmbarer Helligkeitsgrad (gewöhnlich über 50% des Maximums) beibehalten wird.
Im folgenden wird Bezug genommen auf den "Blickwinkel". In dieser Beschreibung bezieht sich der Begriff "Blickwinkel" auf den Bereich von Blickwinkeln von Betrachtern relativ zu einem Streuschirm oder einem Rückprojektionsschirm, über welche die offensichtliche Helligkeit des Schirms innerhalb von 50% oder mehr der offensichtlichen Helligkeit für einen Betrachter ist, der den Schirm in rechtem Winkeln betrachtet, annehmend, daß der Lichteinfall auf den Schirm entlang der Senkrechten des Schirms einfällt. Diese Illustration wird häufig als "Vollweitenhalbmaximum" oder "fwhm" bezeichnet. Beispielhaft kann der Blickwinkel gemessen werden durch Beleuchten eines kleinen Bereichs des Schirmmaterials durch einen Laserstrahl (obwohl einige andere parallel gerichtete Lichtstrahlen verwendet werden können), der senkrecht auf die Ebene des Schirms gerichtet wird, und durch Messen des gestreuten oder reflektierten Lichtes aus diesem kleinen Bereich (danach, ob ein lichtstreuender Schirm - wie ein Rückprojektionsschirm - oder ein reflektierender Schirm - wie ein Aufprojektionsschirm - involviert ist), über einen Bereich von Winkeln. Überdies bedeutet im folgenden der Ausdruck "Blickwinkel für Transmission" einen "Blickwinkel", wie oben definiert, für einen Schirm aus lichtstreuendem Material, der durch einen Projektor oder dergleichen beleuchtet wird, der auf der entgegengesetzten Seite der Ebene des Schirms von dem Betrachter angeordnet ist, das heißt für einen Rückprojektionsschirm, der Ausdruck "Blickwinkel für Reflektion" bedeutet hingegen einen "Blickwinkel", wie oben definiert, für einen Schirm aus lichtreflektierendem Material, der durch einen Projektor oder dergleichen beleuchtet wird, welcher auf der gleichen Seite der Ebene des Schirms wie der Betrachter angeordnet ist, das heißt für einen Aufprojektionsschirm.
Etablierte Verfahren zum Herstellen von Materialien, die für Aufprojektionsschirme und für analoge Zwecke geeignet sind, schließen auf der einen Seite die Laminierung von lichtstreuenden Filmen auf spiegelnde oder "spiegelartige" Oberflächen und auf der anderen Seite einen Einbau von geometrischen Merkmalen in solche Oberflächen, beispielsweise Eckwürfelanordnungen, ein. Wo ein lichtstreuendes Material auf eine spiegelartige Oberfläche laminiert wird, ist der Blickwinkel für Reflektion etwa das Doppelte des Blickwinkels für Transmission für kleine bis mittlere Blickwinkel. Bei einem Aufprojektionsschirm, der durch Einbauen von geometrischen Merkmalen in eine reflektive Oberfläche hergestellt wird, wird der Blickwinkel bestimmt durch die Geometrie solcher Merkmale. Wo ein lichtstreuendes Material auf eine reflektive Oberfläche laminiert wird, können Zunahmen des Blickwinkels, um geeignete reflektive Eigenschaften zu erzielen, unmöglich sein oder können lediglich erhalten werden zum Nachteil eines anderen wichtigen Faktors, wie Helligkeit (reduziert, falls die Filmdicke zunimmt), Flexibilität oder Kosten. Wo eine reflektive Streuung durch Bereitstellung einer Anordnung von geometrischen Merkmalen erhalten wird, kann der Blickwinkel lediglich verändert werden durch Veränderung der geometrischen Merkmale. Die geometrischen Merkmale können lediglich verändert werden durch Veränderung der Gießform, der Preßwerkzeuge oder anderer Werkzeuge, die verwendet werden, um diese Merkmale herzustellen, und dies ist teuer.
Es gehört zu den Aufgaben der Erfindung, ein verbessertes lichtstreuendes Material bereitzustellen, das geeignet ist zur Verwendung als ein Rückprojektionsschirm, ein verbessertes Material bereitzustellen, das geeignet ist zur Verwendung als ein Aufprojektionsschirm oder in reflektierenden Zeichen oder in analogen Anwendungen, und verbesserte Verfahren zum Herstellen solcher Materialien bereitzustellen.
Es ist bekannt, einen Streu- oder Rückprojektionsschirm durch eine Methode bereitzustellen, bei welcher eine Schicht eines photopolymerisierbaren Materials einem Muster von polymerisierendem Licht ausgesetzt wird, umfassend eine Anordnung von Lichtpunkten (oder alternativerweise eine Anordnung von dunklen Punkten in einem Lichtfeld), um eine selektive Polymerisation des Materials mit darauffolgender Brechungsindexabstufung durch das Material zu induzieren, was in einem Licht zerstreuenden oder streuenden Effekt resultiert. Eine solche selektive Photopolymerisation kann verursacht werden, beispielsweise, durch Auftragen auf eine Oberfläche einer Schicht eines photopolymerisierbaren Materials, das auf einem Substrat geträgert ist, einer optischen Maske, welche eine Anordnung von lichtdurchlässigen Bereichen in opaker Umgebung umfaßt (oder alternativerweise einer Maske, welche eine Anordnung von opaken Bereichen in einer transparenten Umgebung umfaßt). Die Methode kann im wesentlichen diejenige sein, die in der WO88/09952 und der EP 0294122 offenbart ist, in welcher die Maskenöffnungen im wesentlichen kreisförmig sind, was in der Erzeugung eine Anordnung von Linsen mit abgestuftem Brechungsindex in der photopolymerisierten Linse resultiert. Alternativerweise können die Linsenöffnungen oval oder ellipsoid in ihrer Form sein, wobei deren Hauptachsen sich parallel zueinander erstrecken, wodurch eine Anordnung von astigmatischen Linsen mit abgestuftem Brechungsindex produziert wird, als dessen Ergebnis die Photopolymerschicht asymmetrische Eigenschaften in Bezug auf den Blickwinkel aufweist. Das heißt, der Blickwinkel (fwhm) ist größer in einer Ebene senkrecht zu der Ebene des lichtstreuenden Schichtmaterials als in einer orthogonalen Ebene senkrecht zu der Ebene des lichtstreuenden Schichtmaterials. Methoden, die in der internationalen Patentanmeldung PCT/GB94/01281, veröffentlicht als WO94/29768 offenbart sind, ermöglichen die Herstellung einer Maske, in welcher die Anordnung der Öffnungen in der Maske mit einem zufälligen "Tupfer"-Muster konform ist, in welcher individuelle Öffnungen unregelmäßig und zufällig geformt sind.
Die WO88/09952 offenbart Verfahren zum Herstellen eines Rückprojektionsschirms, umfassend ein Bereitstellen einer Schicht aus lichtdurchlässigen, UV-polymersierbarem Material einer Art, bei welchem, nach Polymerisation, der Brechungsindex mit dem Polymerisationsgrad variiert. In diesen Verfahren wird das photopolymerisierbare Material einem Licht durch eine optische Maske ausgesetzt, umfassend eine Anordnung von opaken Punkten in einem klaren Hintergrund, oder eine Anordnung von klaren Löchern in einem opaken Hintergrund, um durch selektive Polymerisation eine entsprechende Linse mit abgestuftem Brechungsindex unter jedem besagten opaken Punkt oder klarem Loch zu bilden.
Die WO88/09952 offenbart ebenfalls einen Schirm, der durch ein solches Verfahren gebildet wird, bei welchem an unterschiedlichen Stellen in einem planaren Schirm die Linsen mit abgestuftem Brechungsindex unterschiedliche Neigungen in Bezug auf die Ebene des Schirms aufweisen, und die WO88/09952 gibt an, daß dies erreicht werden kann durch Ausrichten des Auftreffwinkels der Strahlung.
Die WO94/29768 offenbart eine Entwicklung des Verfahrens der WO88/09952, bei welchem die optische Maske, durch welche das photopolymerisierbare Material einer UV-Strahlung ausgesetzt wird, kein Halbtonschirm oder eine Maske, die von einem Halbton erhalten wird, ist, sondern eine optische Zufallsmaske ist, die durch Exposition einer fotografischen Platte einem Licht durch eine zufällige Struktur erzeugt wird, oder durch Exposition einer fotografischen Platte einem holographischen Tupfermuster, hergestellt durch Richten von Laserlicht durch eine geschliffene Glasplatte.
Die WO88/09952 gibt an, daß in dem letzteren Fall ein Diffusor mit asymmetrischen lichtstreuenden Eigenschaften hergestellt werden kann unter Verwendung einer geschliffenen Glasplatte von lieber einer rechtwinkligen, als einer quadratischen Form, oder durch Bilden des Tupfermusters der Maske durch Abtasten einer geschliffenen Glasplatte mit einem Laserstrahl von elliptischem Querschnitt. In der WO94/29768 sind jedoch die asymmetrischen Streueigenschaften des letztendlich hergestellten Streuschirms aufgrund der Öffnungen in der optischen Maske, durch welche das Photopolymer ausgesetzt wird, in einer Richtung in der Ebene des Schirms länger als in einer senkrechten Richtung in der Ebene des Schirms.
In den oben beschriebenen Methoden trifft der polymerisierende Lichteinfall auf der Maske und der darunterliegenden Photopolymerschicht an jedem bestimmten Punkt auf der Photopolymerschicht aus einer einzelnen Richtung auf (obwohl diese Richtung, in einigen Fällen in der WO88/09952, wenigstens, nicht genau die gleiche bei allen Stellen auf der Photopolymerschicht ist). Jedoch haben die Anmelder gefunden, daß geeignete Eigenschaften dem resultierenden Schirm verlieren werden können, wenn, während Exposition, das Licht oder andere polymerisierende Strahlung in das photopolymerisierbare Material geleitet wird mit einem Winkel, welcher anders ist als im wesentlichen senkrecht, oder wenn mehrere Lichtquellen von Licht oder anderer polymerisierender Strahlung verwendet werden, um mehrere Strahlen zu erzeugen, von denen wenigstens einige zu der Ebene der Photopolymerschicht geneigt sind. Die Anmelder haben ebenfalls gefunden, daß durch Übernehmen solcher Hilfsmittel eine Symmetrie der resultierenden Streueigenschaften um eine solche Achse erhalten werden kann, während gleichzeitig gewährleistet wird, daß die Expositionsanordnung symmetrisch um eine bevorzugte Achse ist, zum Beispiel eine Achse senkrecht zu der Schicht des polymerisierbaren Materials. Eine solche Symmetrie kann ebenfalls erhalten werden durch Drehung der Anordnung, welche die Schicht des polymerisierbaren Materials einschließt, relativ zu dem Expositionsmittel um eine solche Achse während der Exposition.
Gemäß einer Erscheinungsform der Erfindung wird ein Verfahren bereitgestellt zum Herstellen eines lichtstreuenden Schirms, welches umfaßt ein Bereitstellen einer Schicht eines lichtdurchlässigen, mit Strahlung polymerisierbaren Materials einer Art, bei welchem, nach Polymerisation, der Brechungsindex mit dem Polymerisationsgrad variiert, und Exponieren des Materials einem vorherbestimmten Muster polymerisierender Strahlung, welches eine Anordnung von Punkten von Strahlung hoher Intensität in einem Hintergrund von Strahlung geringerer oder null Intensität umfaßt, oder eine Anordnung von Punkten von Strahlung von geringerer oder null Intensität in einem Hintergrund von Strahlung hoher Intensität umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß, während der Exposition des Materials, es polymerisierender Strahlung aus wenigstens zwei unterschiedlichen Richtungen ausgesetzt wird, so daß über einen Bereich des exponierten Materials jede exponierte Stelle einer solchen Polymerisation aus beiden der zwei Richtungen ausgesetzt wird.
Gemäß einer weiteren Erscheinungsform der Erfindung wird eine lichtstreuende Schicht bereitgestellt, wie definiert in Anspruch 14.
Die Linsen mit abgestuftem Brechungsindex umfassen einen ersten Satz von Linsen mit abgestuftem Brechungsindex, deren optische Achsen sich entlang einer ersten Richtung erstrecken, welche in Bezug auf die Ebene des Schirms geneigt ist, und einen zweiten Satz von Linsen mit abgestuftem Brechungsindex, deren optische Achsen sich entlang einer zweiten Richtung erstrecken, welche in Bezug auf die Ebene des Schirms geneigt ist.
Während in einigen Ausführungsformen der Erfindung das polymerisierbare Material so ist, daß eine Polymerisation bewirkt werden kann oder initiiert werden kann durch Exposition von Licht, und insbesondere von ultraviolettem Licht, wird es verstanden werden, daß polymerisierbares Material verwendet werden kann, welches so ist, daß eine Polymerisation bewirkt werden kann durch Strahlungsformen, beispielsweise durch Elektronenstrahlen oder Ionenstrahlen. Der Begriff "mit Strahlung polymerisierbar", wie er hierin verwendet wird, ist beabsichtigt, um solche Varianten ebenso wie durch ultraviolettes Licht polymerisierbare Materialien einzuschließen.
Bevorzugt wird das Material während der Exposition wenigstens prinzipiell polymerisierender Strahlung aus zwei Richtungen ausgesetzt, welche gleich und entgegengesetzt geneigt sind in Bezug auf eine Ebene, welche senkrecht ist zu der Ebene der Schicht des Materials.
Streu- oder Rückprojektionsschirme gemäß einigen Ausführungsformen der Erfindung können hergestellt werden, um eine ausgeprägte Asymmetrie aufzuweisen. Ferner ist es durch Variation solcher Faktoren wie des Einfallwinkels des Lichts, welcher für eine Exposition des Photopolymers verwendet wird, möglich, den Grad an Asymmetrie ebenso wie andere Parameter, wie "Ergiebigkeit" der Diffusion (z. B. fwhm) maßzuschneidern.
Ausführungsformen der Erfindung sind unten beschrieben unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen, in denen:
Fig. 1 eine diagrammatische Seitenaufrißzeichnung ist, welche ein erstes Verfahren zum Herstellen eines Streuschirms gemäß der vorliegenden Erfindung veranschaulicht,
Fig. 2 eine diagrammatische Seitenaufrißzeichnung ist, welche ein zweites Verfahren zum Herstellen eines Streuschirms gemäß der vorliegenden Erfindung veranschaulicht, und
Fig. 3 eine diagrammatische Ansicht ist, welche sich mit Fig. 2 deckt, jedoch mit einem größeren Maßstab und veranschaulicht durch eine Strahlungsnachzeichnung,
Fig. 4 eine Strahlungsnachzeichnungsanalyse für einen prismatischen Film zeigt,
Fig. 5 eine Ansicht ist, die ähnlich zu Fig. 1 ist, welche ein Verfahren zum Herstellen eines Streuschirms veranschaulicht,
Fig. 6 eine Ansicht ist, die ähnlich zu Fig. 1 und 5 ist, jedoch ein noch weiteres Verfahren zum Herstellen eines Streuschirms gemäß der Erfindung veranschaulicht,
Fig. 7 eine Ansicht ist, welche ähnlich zu Fig. 2 ist, jedoch ein noch weiteres Verfahren zum Herstellen eines Streuschirms gemäß der Erfindung veranschaulicht,
Fig. 8 eine diagrammatische Perspektivansicht, welche ein noch weiteres Verfahren zum Herstellen eines Streuschirms gemäß der Erfindung veranschaulicht.
Sich beziehend auf Fig. 1 wird bei 10 eine Schicht eines transparenten, photopolymerisierbaren Mediums gezeigt, das von einem flachen, transparenten Substrat 8 getragen wird. Die das Medium bildende Schicht 10 kann ein photopolymerisierbares Monomer der Art sein, welche in der EP 0294122 erwähnt wird, oder kann diejenige sein, die von DuPont unter der registrierten Marke OMNIDEX vertrieben wird und die Typenbezeichnung HRF 150 oder HRF 600 aufweist, was in größerem Detail beispielsweise in der WO95/06887 diskutiert wird. Aufgelegt auf die photopolymerisierbare Schicht 10 ist eine optische Maske 12 von irgendeiner der Arten, die oben erwähnt werden, wobei die opake Schicht mit Öffnungen auf der Maske in Kontakt mit der Schicht 10 ist. Ein Mittel (nicht gezeigt) ist bereitgestellt zum Bewegen der Substrat (8)/Maske (12)/Photopolymer (10)- Kombination (hierin bezeichnet als Kombination 13) in ihrer eigenen Ebene in der Richtung, die durch den Pfeil bezeichnet wird, wobei Überexpositionsmittel eine Quelle 14 von polymerisierender Strahlung, wie eine Ultraviolettleuchtlampe, umfassen, welche mit einigem Abstand oberhalb der Ebene der Kombination 13 und parallel mit derselben angeordnet ist, wobei die Leuchtlampe sich senkrecht zu der Richtung des Pfeils erstreckt.
Unmittelbar oberhalb der Kombination 13 ist eine opaker Schirm 16 angeordnet, der etwas von der Maske 12 und parallel mit derselben beabstandet ist, wobei der Schirm 16 eine Öffnung oder einen Schlitz 18 aufweist, welcher in der gleichen Richtung wie die Leuchtlichtquelle 14 verlängert ist, wobei der Schlitz 18 unmittelbar unterhalb der Quelle 14 angeordnet ist, so daß eine fiktive Ebene, welche die Achse der Leuchtquelle 14 und diejenige des Schlitzes 18 einschließt, senkrecht ist zu der Ebene der Kombination 13. Eine opake Ablenkplatte 20 ist zwischen der Quelle 14 und dem Schlitz 18 angeordnet, um zu verhindern, daß Licht aus der Quelle 14 unmittelbar auf den Schlitz gelangt. Auf beiden Seiten der Ablenkplatte 20 sind sich gegenüberliegende Spiegel 22 angeordnet, parallel zueinander und zu den Achsen der Leuchtquelle 14 und des Schlitzes 18 und senkrecht zu der Ebene der Schicht 10.
Mit dieser Anordnung reflektieren die zwei Spiegel entsprechende Lichtstrahlen aus der Quelle 14 durch den Schlitz 18 und somit durch die Maske 12 und in die Schicht 10, wobei die zwei Strahlen gleich und entgegengesetzt geneigt sind in Bezug auf die Ebene, welche senkrecht ist zu der Ebene der Kombination 13, und durch den Schlitz 10 und die Quelle 14 führt. Während einer solchen Exposition wird die Kombination 13 ständig über den Schlitz 18 gequert, um den gesamten Bereich der Maske auszusetzen (und das polymerisierbare Medium 10 unterhalb der lichtdurchlässigen teile der Maske). Die Verwendung eines Schlitzes 18, über welchen die Kombination 13 gequert wird, ist einfach notwendig, um zu gewährleisten, daß alle Teile der Kombination Licht aus den gleichen Winkeln oder den gleichen begrenzten Winkelbereichen ausgesetzt werden. Es wäre selbstverständlich möglich, mit dem Queren der Kombination 13 relativ zu der Exposition Mittel zu verteilen, wenn parallele Strahlen von ausreichender Breite und Intensität Verfügbar wären, um die Gesamtheit der Schicht 10 auf einmal zu umfassen, jedoch impliziert dies beispielsweise die Verfügbarkeit von verhältnismäßig teuren Optiken. Es ist übrigens gefunden worden, daß es nicht notwendig ist, eine einzelne Quelle 14 zu haben. Entsprechende Ergebnisse sind erhalten worden unter Verwendung von zwei getrennten UV-Lichtquellen (wie zwei parallelen Leuchtquellen), angeordnet mit gleichen und entgegengesetzten Winkeln in Bezug auf den Schlitz 18.
Ein Streuschirm, der durch das Verfahren, das oben in Bezug auf Fig. 1 beschrieben wurde, hergestellt wurde, weist asymmetrische Streueigenschaften auf in dem Sinne, der oben genannt ist, und es sollte erwähnt werden, daß die maximale Ausbreitung des Lichts durch den resultierenden Schirm am größten ist in Ebenen parallel zu den Ebenen der Spiegel 22 in der speziellen gezeigten Anordnung. Das Ausmaß einer solchen maximalen Ausbreitung nimmt zu mit zunehmender Neigung der Strahlen, welche durch den Schlitz 18 gelangen, zu der Senkrechten der Ebene der Photopolymerschicht 10.
Es ist gefunden worden, daß der beobachtete asymmetrische Streueffekt sogar erhalten wird, wenn lediglich ein anfänglicher Teil der Exposition der Schicht 10 durch die Maske 12 durch von beiden Seiten geneigte Lichtstrahlen erfolgt, wobei der Rest der Exposition durch Strahlung erfolgt, welche senkrecht auf die Maske 12/Schicht 10-Kombination einfällt.
Es wird bewußt sein, daß eine Asymmetrie der Streuung nicht abhängig ist von einer strikten Gleichheit der Neigung der Strahlen, die zur Verwendung zur Exposition der Schicht 10 verwendet werden. Tatsächlich, wie oben diskutiert, sind asymmetrische Streueigenschaften ebenfalls erhältlich unter Verwendung eines Expositionssystems, wie es in Fig. 5 gezeigt ist, in welchem lediglich ein einzelner geneigter Strahl verwendet wird.
Sich beziehend auf Fig. 2 und 3 wird in einem anderen Verfahren zur Lichtexposition der photopolymerisierbaren Schicht aus zwei sich gegenüberliegenden geneigten Richtungen Gebrauch gemacht von einem transparenten, prismatischen Film oder einer Schicht 26 mit einer Reihe von identischen, parallelen, dachförmigen Rippen, welche eine Oberfläche des Films oder der Schicht 26 bilden und eine gegenüberliegende flache Oberfläche aufweisen. Ein solcher Film ist bekannt und ist von der 3M Company erhältlich. Ein solcher Film wird unten als ein "Helligkeitsverbesserungsfilm" oder "BEF" bezeichnet.
Im folgenden, sich beziehend auf Fig. 2, in welcher gleiche Teile gleiche Bezugszeichen aufweisen, wird eine Schicht des prismatischen Films oder des BEF, der erwähnt wurde, unmittelbar auf der Maske 12 angeordnet, welche selbstverständlich selbst unmittelbar auf der oberen Oberfläche der Schicht 10 des photopolymerisierbaren Materials angeordnet ist. Der prismatische Film 26 wird angeordnet, so daß seine flache Oberfläche in Fig. 2 zu unterst liegt, eingreifend in die Maske 12. In dieser Anordnung wird das Photopolymer 10 durch den Film 26 und die Maske 12 polymerisierender Strahlung ausgesetzt, welche senkrecht einfällt (das heißt senkrecht zu der Ebene der Schicht 10, etc.), von einer geeigneten UV-Lichtquelle (nicht gezeigt). Sofern ein paralleler Strahl von polymerisierender Strahlung der Breite, die ausreichend ist für eine Exposition der Gesamtheit der Photopolymerschicht 10, verfügbar ist, kann es wiederum notwendig sein, das Photopolymer durch einen Schlitz auszusetzen, der oberhalb der Schicht 10/Maske 12/Film 26-Kombination angeordnet ist, wobei diese Kombination ständig unterhalb des Schlitzes während der Exposition gequert wird, auf im wesentlichen dem gleichen Weg wie beschrieben in Bezug auf Fig. 1.
Die Wirkung des prismatischen Films wird in größerem Detail in Fig. 3 veranschaulicht und ist, wie veranschaulicht, um unterhalb jeder prismatischen Rippe einen Bereich zu erzeugen, in welchem das Photopolymer Licht ausgesetzt wird aus zwei Richtungen, welche gleich und entgegengesetzt geneigt sind in Bezug auf die Senkrechte der Ebene der Schicht 10. Als ein Ergebnis zeigt jeder solche Bereich asymmetrische Diffusionseigenschaften in im wesentlichen der gleichen Weise wie das Produkt, das durch das Verfahren erhalten wird, auf welches sich Fig. 1 bezieht. Da, wie in Fig. 3 veranschaulicht, es Bereiche gibt, die an jedes Tal in dem prismatischen Film angrenzen, welche Licht aus lediglich einer (geneigten) Richtung aufnehmen, können diese Bereiche keine asymmetrischen Streueigenschaften besitzen. Wenn der Platz der prismatischen Rippen (das heißt der Abstand zwischen der Spitze einer dachförmigen Rippe und der Spitze der nächsten) klein ist (siehe Tabelle 1 unten), gibt es keine erkennbare Variation der Streueigenschaften von einem Teil des resultierenden Photopolymerstreuschirms zu einem anderen bei einer normalen Verwendung des Schirms.
Fig. 4 zeigt eine Strahlennachzeichnungsanalyse für einen artgemäßen prismatischen Film. Die genannten Variablen sind, annehmend, daß die einfallende Strahlung senkrecht ist zu der Ebene der flachen Oberfläche des prismatischen Films, der Prismawinkel (P) und der Brechungsindex (n) des Mediums. Eine Analyse der Situation, die in Fig. 4 veranschaulicht ist, zeigt, daß der Austrittswinkel α gegeben ist durch:
Der Brechungsindex des photopolymerisierbaren Materials, das oben erwähnt wurde, ist verhältnismäßig nahe zu demjenigen des gegenwärtig bevorzugten BEF-Film, nämlich Polycarbonat, so daß bei innigem Kontakt des prismatischen Films mit der Schicht 10 des photopolymerisierbaren Materials die Brechung an der Grenzfläche zwischen dem photopolymerisierbaren Material und dem prismatischen Film viel weniger deutlich ist als diejenige, die in Fig. 4 gezeigt ist.
Die Wahl der Austrittswinkel stellt ein Mittel zum Steuern der Asymmetrie des resultierenden Produkts bereit.
Ein Beispiel für die Herstellung eines asymmetrischen Streumaterials durch das Verfahren, das oben umrissen wurde, wird unten beschrieben.

BEISPIEL 1

Das photopolymerisierbare Material, das verwendet wurde, war 90 um HRF 600 Material von DuPont mit schwarzem Rücken, welches ultraviolettem Licht ausgesetzt wurde durch eine Maske, durch Polycarbonat-BEF-Film mit einem Prismenabstand von 31 um, einem Prismenwinkel von 100º und einem Brechungsindex von 1,586. Die Exposition war gegenüber UV2-ultraviolettem Licht mit einer Intensität von 4 mw pro cm² für 15 Minuten. Nach der Exposition wurde das polymerisierbare Material auf 140ºC erhitzt und bei dieser Temperatur für 5 Minuten gehalten. Die folgende Tabelle, Tabelle 1, veranschaulicht die erzielten Ergebnisse. Zum Vergleich wurde ein Streuschirm, der hergestellt wurde unter Verwendung des gleichen photopolymerisierbaren Materials und der Maske, jedoch mit senkrecht einfallender Strahlung (das heißt ohne den BEF-Film), ebenfalls getestet und die Ergebnisse sind ebenfalls in Tabelle 1 unten zum Vergleich dargelegt (Microsharpstandard). Tabelle 1 unten gibt ebenfalls entsprechende Ergebnisse für ein Produkt wieder, das erhalten wurde durch Laminieren zweier Schichten des Photopolymerstreuschirms, hergestellt durch das oben beschriebene Verfahren (wobei die Richtung des breitesten Blickwinkels für beide Schichten in dem Laminat die gleiche war) (Doppelmicrosharp-BEF). TABELLE 1
Wie aus der obigen Tabelle zu entnehmen ist, ist ein deutlicher Grad an Asymmetrie in der Streuung erhältlich.
Wie in Tabelle 1 oben gezeigt, wurde die Schirmausbeute (das heißt das Verhältnis der maximalen Helligkeit des Schirms, wenn er durch einen uniformen, parallelen Strahl rückbeleuchtet wird), wenn er bei dem geeigneten Winkel betrachtet wird, zu der durchschnittlichen Helligkeit des Schirms über alle Betrachtungswinkel ebenfalls gesteigert.
Sich beziehend auf Fig. 5 zeigt diese ein weiteres Verfahren, welches nicht unter den Umfang des vorliegenden Anspruchs 1 fällt, in welchem die Masken/polymerisierbares Material/Substrat-Kombination 30 durch einen einzelnen Strahl beleuchtet wird, der bei einem Winkel θ&sub1; relativ zu der Senkrechten der Ebene der Maske/polymerisierbares Material/Substrat-Kombination ausgerichtet ist. Der Strahl kann einfach ein leicht divergierender Strahl sein, der beispielsweise von einer ultravioletten Quelle stammt, wobei die Maske/polymerisierbares Material/Substrat-Kombination vor direkter Strahlung aus der Quelle durch eine Ablenkplatte abgeschirmt wird, wie in der Ausführungsform von Fig. 1, und wie in der Anordnung von Fig. 1 durch einen Schlitz in einem opaken Schirm ausgesetzt werden kann, während die Kombination 13 über diesen Schlitz gequert wird. Jedoch, wie veranschaulicht in Fig. 2, kann die Maske/polymerisierbares Material/Substrat- Kombination durch einen parallel gerichteten, das heißt im wesentlichen parallelen Strahl, ausgesetzt werden, welcher anfänglich senkrecht zu der Ebene des polymerisierbaren Materials gerichtet ist und reflektiert wird durch einen geneigten Spiegel auf die Maske/polymerisierbares Material/Substrat-Kombination bei dem Winkel 61 relativ zu der Senkrechten, wobei die Ablenkplatte wiederum dazu dient, unmittelbare Strahlung, die nicht von dem Spiegel reflektiert wird, abzufangen.
Es ist selbstverständlich zu verstehen, daß es gleichermaßen möglich ist, eine parallel gerichtete Lichtquelle zu verwenden, die auf die Maske/polymerisierbares Material/Substrat- Kombination gerichtet ist, ohne irgendwelche dazwischen stehende Spiegel oder Ablenkplatten.
Fig. 6 veranschaulicht eine Variante des Verfahrens nach Anspruch 1, nämlich, wo ein im wesentlichen parallel ausgerichteter Strahl ausgerichtet wird, anfänglich senkrecht zu der Ebene der Maske/polymerisierbares Material/Substrat-Kombination 13, um durch zwei geneigte ebene Spiegel auf jeder Seite des Materials reflektiert zu werden, um auf der Kombination 13 bei Winkeln von θ&sub1; beziehungsweise θ&sub2; zu der Senkrechten der Ebene aufzutreffen. Eine Ablenkplatte 20 ist wiederum vorgesehen, um unmittelbares Licht, welches nicht aus den Spiegeln reflektiert wird, abzufangen. Wieder wird es verstanden werden, daß die Lichtstrahlen, welche das Material bei den Winkeln θ&sub1; und θ&sub2; treffen, alternativerweise unmittelbar aus entsprechenden parallel gerichteten Lichtquellen stammen können, welche angeordnet sind an den geeigneten Winkeln, ohne die Notwendigkeit für entsprechende Spiegel oder Ablenkplatten.
Fig. 7 veranschaulicht eine Variante des Verfahrens nach Fig. 2, welche, an Stelle, daß der BEF in Kontakt mit der Maske 12 ist, darüber beabstandet ist durch einen Zwischenraum (von 20 mm in dem veranschaulichten Beispiel).
Tabellen 2 und 3 unten beziehen sich auf einen weiteren Satz von Beispielen, in welchen das Expositionssystem wie in Fig. 5 (für Beispiele Nr. 1 und Nr. 3); Fig. 6 (für Beispiele Nr. 4 und Nr. 5) und Fig. 7 (für Beispiele Nr. 6 und Nr. 7) veranschaulicht war.
In diesen Beispielen wurde das photopolymerisierbare Material (90 um dick, klares, verstärktes DuPont HRF 600-Photopolymer) nacheinander ultraviolettem Licht als der polymerisierenden Strahlung ausgesetzt, wobei das Licht parallel gerichtet war, um einen uniformen, parallelen Strahl zu erreichen. Die entsprechenden Expositionsenergien in den UV1-, UV2- und UV3-Banden des ultravioletten Spektrums wurden ebenfalls in den Spalten bezeichnet, die mit UV 1, UV2 und UV3 in Tabelle 2 unten benannt sind. Nach der Exposition wurde das Material für 20 Minuten bei 100ºC in einem Ofen gehärtet. Die Spalten, die mit θ&sub1; und θ&sub2; in Tabelle 2 benannt sind, bezeichnen die Werte von θ&sub1; (und θ&sub2;, wo anwendbar) in den Expositionsanordnungen, die in Fig. 5 und 6 veranschaulicht sind.
Tabelle 3 unten gibt die lichtstreuenden Eigenschaften der resultierenden Produkte wieder. Die lichtstreuenden Eigenschaften des Materials wurden untersucht unter Verwendung eines parallel gerichteten Lichtstrahls, der auf das entsprechende Material entlang einer Achse gerichtet wurde, und durch Messen der Lichtintensität des Lichts von dem Strahl, das von dem Material bei unterschiedlichen Winkeln relativ zu der Achse abgelenkt wurde. Für einige dieser Messungen wurde der Winkel der Ebene des Materials relativ zu der Achse variiert, und die Winkel, auf die in der Spalte, die mit "Kommentare" in Tabelle 3 benannt ist, Bezug genommen wird, sind die Winkel für diese Messungen der Senkrechten zu der Ebene des Materials zu der Achse. Die Kontrollprobe (Nr. 1) besaß ein Streumuster, welches eine Rotationssymmetrie um eine Achse senkrecht zu der Ebene des Materials zeigte. Die Off- Achsenprobe (Nr. 2) besaß ein ähnliches Streumuster, wenn sie von der Off-Achse bei einem Einfallswinkel, welcher etwa gleich war zu dem aufzeichnenden Einfallswinkel beleuchtet wurde, so daß der Einfallsstrahl von der Lichtquelle entlang der Richtung des Lichtstrahls ausgerichtet wurde, relativ zu dem Material, der während der Exposition verwendet wurde. Die Proben, welche durch den Doppelspiegel (Nr. 4 und Nr. 5) und die BEF-Ansätze (Nr. 6 und Nr. 7) unter Verwendung identischer Verfahrensbedingungen hergestellt wurden, besaßen sehr ähnliche Leistungseigenschaften. Wie für die Off-Achsenprobe (Nr. 2), wenn sie bei einem Einfallswinkel beleuchtet wurde, welcher ungefähr gleich war zu jenem aufzeichnenden Einfallswinkel, so daß der Einfallsstrahl von der Lichtquelle entlang der Richtung ausgerichtet wurde, relativ zu dem Material des Lichtstrahls, welches während der Exposition verwendet wurde, wurde fein rotationssymmetrisches Streumuster beobachtet, das heißt auch wies eine Rotationssymmetrie um die Achse des Strahls auf, einfallend auf das Material in dem Meßaufbau.
In Tabelle 3 beziehen sich die Spalten, die mit "FWHM (0) x, y" benannt sind, auf Messungen, die mit dem Material senkrecht zu der Achse des Einfallmittels durchgeführt wurden, mit der Ebene, in welcher die Goniometermessungen durchgeführt wurden parallel zu (y) und senkrecht zu (x), der Ebene, in welcher die Winkel θ&sub1;, θ&sub2; in den Systemen der Fig. 5, 6 und 7 gemessen werden, und der entsprechenden Ebene in dem System der Fig. 3 und 4).
Wie zu erkennen ist, besaßen die Materialien der Beispiele Nr. 2 bis Nr. 7 merkliche Asymmetrie der Streueigenschaften zwischen den "x"- und "y"-Messungen, welches in der Spalte, die mit "Asy" bezeichnet ist, quantifiziert wird. Somit besaßen die asymmetrischen Proben, die durch die zwei Spiegel (Nr. 3) und BEF-Ansätze (Nr. 6 und Nr. 7) unter Verwendung identischer Verfahrensbedingungen erzeugt wurden, sehr ähnliche Leistungseigenschaften. Wenn sie mit parallelgerichtetem Licht senkrecht zu ihrer Auftragsfläche beleuchtet wurden, besaßen sie ein etwa 2 : 1-elliptisches Profil.
Die letzte Spalte stellt die Schirmausnutzung für jedes dieser Beispiele dar. TABELLE 2 - Zusammenfassung der Verfahrensbedingungen TABELLE 3 - Zusammenfassung der Verarbeitungsbedingungen, FWHM (0) bezieht sich auf den Wert bei senkrechtem Einfall
Beispiel Nr. 7 veranschaulicht, daß es nicht notwendig ist, daß der BEF in innigem Kontakt mit der Kontaktmaske ist, was das System kompatibel macht mit einem kontinuierlichen Verfahren.
Beispiele Nr. 3 und Nr. 5 geben ebenfalls an, wie durch sorgfältiges Maßschneidern der aufzeichnenden Geometrie variierende Grade an Off-Achse oder asymmetrischer Leistung kodiert werden können. Beispielsweise wird eine Verminderung des Neigungswinkels des Spiegels in einer Verringerung des Asymmetriegrades und einer möglichen Off- Achsenleistung resultieren.
Sich beziehend auf Fig. 8 wird ein noch weiteres Expositionsverfahren veranschaulicht, welches ähnlich ist in einigen Aspekten zu der Anordnung von Fig. 1, außer daß die zwei sich gegenüberliegenden ebenen Spiegel ersetzt werden durch einen zylindrischen Spiegel, das heißt durch einen Spiegel in der Form eines offenendigen, hohlen Zylinders, welcher eine innere reflektierende Oberfläche bereitstellt, wobei der Spiegel oberhalb der Maske/poylmerisierbares Material/Substrat-Kombination angeordnet ist mit seiner longitudinalen Achse senkrecht zu der Ebene der Kombination, wobei eine Punktlichtquelle (oder eine Pseudopunktlichtquelle, wie eine runde Glühbirne) oberhalb des oberen Endes des Zylinders auf der Achse angeordnet ist. Eine mittig angeordnete, kreisförmige Ablenkplatte ist mit dem Zylinder montiert. Als ein Ergebnis der kreisförmigen Symmetrie der Anordnung um die Zylinderachse wird die Maske/polymerisierbares Material/Substrat-Kombination einer Strahlung unterworfen einer ausgedehnten ringförmigen Lichtquelle, die um die Achse des Zylinders zentriert ist. Es wird verstanden werden, daß die zylindrische Spiegel- Punktlichtquelle-Anordnung tatsächlich ersetzt werden kann durch eine real erstreckte, ringförmige Lichtquelle. Ein ähnlicher Effekt kann bereitgestellt werden, beispielsweise, durch Bereitstellung eines einzelnen, parallel gerichteten Strahls, welcher auf die Maske/polymerisierbares Material/Substrat-Kombination bei einem gewünschten Winkel zu der Senkrechten auftrifft und durch Drehen der Kombination in ihrer eigenen Ebene mit einer Geschwindigkeit, die ausreichend ist, um zu gewährleisten, daß die Dauer für eine Umdrehung klein ist in Bezug auf die Aushärtungszeit oder die Polymerisationsinitiierungszeit des Materials.
Als eine weitere Variation (nicht veranschaulicht) des Verfahrens nach Fig. 1, und in Analogie mit Fig. 6, kann die Kombination 30 ausgesetzt werden unter Verwendung eines parallel gerichteten Strahles von polymerisierender Strahlung, welcher anfänglich senkrecht entlang der Kombination ausgerichtet ist, jedoch auf die Kombination 13 durch einen hohlen, kegelstumpfförmigen Spiegel reflektiert wird.
Während in den mit Bezug auf Fig. 1 bis 4 und 6 bis 8 beschriebenen Beispielen die Expositionsanordnung symmetrisch um eine Achse oder senkrecht zu der Ebene des polymerisierbaren Materials ist, wird für einige Anwendungen, beispielsweise wo, bei Verwendung, das Streumaterial schräg beleuchtet wird, die Expositionsanordnung an einer Achse und einer Ebene zentriert werden, welche geneigt ist zu der Ebene des polymerisierbaren Materials. Somit können, beispielsweise in einer Anordnung, welche zu der aus Fig. 6 ähnlich ist, die Spiegel nicht gleich geneigt sein, so daß anschließend die Winkel θ&sub1; und θ&sub2; unterschiedlich sein können. Ebenfalls kann in einer Anordnung, welche zu der aus Fig. 8 ähnlich ist, die Achse des zylindrischen Spiegels geneigt sein relativ zu der Ebene des polymerisierbaren Materials, oder die Lichtquelle kann seitlich gegenüber den Achsen des Zylinders versetzt sein.
Auf ähnliche Weise kann in Anordnungen, welche einen prismatische Film verwenden, wie solche, die in Fig. 2 bis 4 und 7 veranschaulicht sind, das Licht schräg auf den prismatischen Film/Maske/polymerisierbares Material-Sandwich einfallen, um so bei unterschiedlichen Winkeln auf die zwei Flächen jedes Prismas einzufallen. Alternativerweise oder zusätzlich können die einzelnen Prismen des prismatischen Films asymmetrisch sein, zum Beispiel in einer Sägezahnform.
Wie oben gezeigt, ist es bevorzugt in den meisten Anwendungen, daß das lichtstreuende Material einheitlich sein sollte in Bezug auf seine lichtstreuenden Eigenschaften über den gesamten Bereich des Materials, und dies kann erreicht werden durch Verwendung von parallel gerichteten Lichtstrahlen oder anderer polymerisierender Strahlung zur Exposition, welche von ausreichender Breite ist und welche ausreichend einheitlich ist über deren Breite, wo das Material durch eine Kontaktmaske ausgesetzt wird. Alternativerweise kann das Material über einen Schlitz gequert werden, wie in Fig. 1, während der Exposition, um Uniformität über eine ausgedehnte Länge des Materials zu sichern. Jedoch kann, wie ebenfalls oben gezeigt ist, für einige Anwendungen ein Mangel an Uniformität über den Bereich des Materials keinen Nachteil darstellen und kann bewußt induziert werden, um einen bestimmten Effekt zu erzielen. Es wird darüber nachgedacht, daß es beispielsweise möglich sein kann unter Verwendung polymerisierender Strahlung, ein Auftreffen auf das Material bei unterschiedlichen Winkeln in unterschiedlichen Zonen zu erzielen, um Streuschirme zu erzeugen, welche ebenfalls in einem gewissen Umfang als Linsen oder Prismen agieren können, vielleicht unter Verwendung einer gestuften Variation des Expositionswinkels, um Strukturen bereitzustellen, welche analog sind zu Fresnellinsen oder Prismen.
Während in den unter Bezugnahme auf die Zeichnungen veranschaulichten Beispielen eine selektive Exposition des polymerisierbaren Materials durch polymerisierende Strahlung erhalten wird durch "Kontaktdrucken", das heißt durch Exposition durch eine Öffnungsmaske in Kontakt mit dem Material, wird es verstanden werden, daß eine solche selektive Exposition ebenfalls erhalten werden kann auch auf anderen Wegen, beispielsweise durch eine Bildprojektionsanordnung, durch einen periodisch mit Energie beaufschlagten, abgetasteten Strahl oder sogar holografisch unter Verwendung von kohärentem Licht.
Es wird verstanden werden, daß, während für die meisten Anwendungen parallel gerichtete (parallele) Strahlen für eine Exposition bevorzugt sind, divergierende oder konvergierende Strahlen verwendet werden können in einigen Fällen. Ebenfalls können Spiegel verwendet werden, welche eher konvex oder konkav als eben sind, abhängig von den gewünschten Effekten.

Claims

1. Verfahren zum Herstellen eines lichtstreuenden Schirms, welches umfaßt ein Bereitstellen einer Schicht (10) eines lichtdurchlässigen, mit Strahlung polymerisierbaren Materials einer Art, bei welchem, nach Polymerisation, der Brechungsindex mit dem Polymerisationsgrad variiert, und Exponieren des Materials einem vorherbestimmten Muster polymerisierender Strahlung, welches eine Anordnung von Punkten von Strahlung hoher Intensität in einem Hintergrund von Strahlung geringerer oder null Intensität umfaßt, oder eine Anordnung von Punkten von Strahlung von geringerer oder null Intensität in einem Hintergrund von Strahlung hoher Intensität umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß, während der Exposition des Materials, es polymerisierender Strahlung aus wenigstens zwei unterschiedlichen Richtungen ausgesetzt wird, so daß über einen Bereich des exponierten Materials jede exponierte Stelle einer solchen Polymerisation aus beiden der zwei Richtungen ausgesetzt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, in welchem die zwei Richtungen entgegengesetzt geneigt sind in bezug auf eine Ebene, welche senkrecht zu der Ebene der Schicht des lichtdurchlässigen, mit Strahlung polymerisierbaren Materials liegt.

3. Verfahren nach Anspruch 2, bei welchem die Beleuchtung aus den zwei Richtungen erhalten wird unter Verwendung von zwei Spiegeln (22), um Licht aus einer gemeinsamen Quelle (14) auf Aden gleichen Bereich des mit Strahlung polymerisierbaren Materials (10) zu reflektieren.

4. Verfahren nach Anspruch 3, bei welchem die Beleuchtung aus den zwei Richtungen erhalten wird durch Auflegen auf das mit Strahlung polymerisierbare Material (10) einer Schicht eines lichtdurchlässigen, prismatischen Materials (26) mit einer Reihe von parallelen, giebelförmigen Rippen und durch Richten eines Strahls von polymerisierendem Licht auf das prismatische Material.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4, bei welchem die zwei Richtungen bei unterschiedlichen Winkeln in Bezug auf die Ebene senkrecht zu der Ebene der Schicht des mit Strahlung polymerisierbaren Materials (10) sind.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4, bei welchem die zwei Richtungen gleich und entgegengesetzt geneigt sind in Bezug auf die Ebene senkrecht zu der Ebene der Schicht des mit Strahlung polymerisierbaren Materials (10).

7. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem während der Exposition des mit Strahlung polymerisierbaren Materials, über einen Bereich des exponierten, mit Strahlung polymerisierbaren Materials, jede exponierte Stelle einer Strahlung aus drei oder mehr Richtungen ausgesetzt wird.

8. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem während der Exposition des mit Strahlung polymerisierbaren Materials es einer Strahlung aus einem realen oder virtuellen, kreisförmigen Bereich ausgesetzt wird, zentriert an einer Achse, welche senkrecht ist zu der Ebene der Schicht des mit Strahlung polymerisierbaren Materials.

9. Verfahren nach Anspruch 8, bei welchem das mit Strahlung polymerisierbare Material einer polymerisierenden Strahlung ausgesetzt wird unter Verwendung eines Spiegels in der Form eines hohlen, offenendigen Drehkörpers mit einer inneren, reflektierenden Oberfläche, wobei das mit Strahlung polymerisierbare Material auf der Achse des Körpers an oder benachbart einem Ende des zylindrischen Spiegels angeordnet wird und eine Quelle der polymerisierenden Strahlung auf der Achse an oder benachbart dem entgegengesetzten Ende des zylindrischen Spiegels angeordnet wird, so daß Strahlung aus der Quelle in den Drehkörper eintreten kann, um von der Wand desselben auf das mit Strahlung polymerisierbare Material reflektiert zu werden.

10. Verfahren nach Anspruch 9, bei welchem der Drehkörper ein Zylinder ist.

11. Verfahren nach Anspruch 9, bei welchem der Drehkörper ein Kegelstumpf ist.

12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, bei welchem eine Stoppvorrichtung bereitgestellt wird, um zu verhindern oder zu begrenzen, daß Licht das mit Strahlung polymerisierbare Material direkt aus der Quelle erreicht.

13. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem während der Exposition des mit Strahlung polymerisierbaren Materials es einer polymerisierenden Strahlung aus einer Richtung ausgesetzt wird, welche zu der Ebene der Schicht des mit Strahlung polymerisierbaren Materials geneigt ist, während das Material in seiner eigenen Ebene gedreht wird, oder während die Quelle der Strahlung um das Material um eine Achse gedreht wird, welche senkrecht zu der Ebene des Materials ist.

14. Lichtstreuendes Schichtmaterial (10) mit einem ersten Satz von Linsen mit abgestuftem Brechungsindex, deren optische Achsen sich entlang einer ersten Richtung erstrecken, welche in Bezug auf die Ebene des Materials geneigt ist, und einem zweiten Satz von Linsen mit abgestuftem Brechungsindex, deren optische Achsen sich entlang einer zweiten Richtung erstrecken, welche in Bezug auf die Ebene des Materials geneigt ist und von der ersten Richtung unterschiedlich ist, dadurch gekennzeichnet, daß bei jeder Stelle, wo eine Linse mit abgestuftem Brechungsindex des ersten Satzes ist, dort ebenfalls eine Linse mit abgestuftem Brechungsindex des zweiten Satzes ist, so daß die jeweiligen Sätze der Linsen mit abgestuftem Brechungsindex die gleichen Bereiche der Schicht des Materials belegen.

15. Lichtstreuendes Schichtmaterial nach Anspruch 14, welches ein Photopolymer umfaßt.

16. Lichtstreuendes Schichtmaterial nach Anspruch 14, bei welchem die mittlere Orientierungsrichtung der Linsen mit abgestuftem Brechungsindex senkrecht zu der Ebene des Schichtmaterials (10) ist.

17. Lichtstreuendes Schichtmaterial nach Anspruch 14, bei welchem die mittlere Orientierungsrichtung der Linsen mit abgestuftem Brechungsindex selbst in Bezug auf die Ebene des Materials (10) geneigt ist.