DE69609880D1 - Vorrichtung und Verfahren zur Ablagerung von Filmen auf ein Substrat durch ausserachsiale Laserablation - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zur Ablagerung von Filmen auf ein Substrat durch ausserachsiale LaserablationInfo
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- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7074422A JPH08246134A (ja) | 1995-03-07 | 1995-03-07 | レーザー蒸着法による薄膜製造方法及び薄膜製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69609880D1 true DE69609880D1 (de) | 2000-09-28 |
DE69609880T2 DE69609880T2 (de) | 2001-02-01 |
Family
ID=13546758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69609880T Expired - Fee Related DE69609880T2 (de) | 1995-03-07 | 1996-03-07 | Vorrichtung und Verfahren zur Ablagerung von Filmen auf ein Substrat durch ausserachsiale Laserablation |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5820948A (de) |
EP (1) | EP0731188B1 (de) |
JP (1) | JPH08246134A (de) |
CA (1) | CA2171126A1 (de) |
DE (1) | DE69609880T2 (de) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5858478A (en) * | 1997-12-02 | 1999-01-12 | The Aerospace Corporation | Magnetic field pulsed laser deposition of thin films |
US6297138B1 (en) * | 1998-01-12 | 2001-10-02 | Ford Global Technologies, Inc. | Method of depositing a metal film onto MOS sensors |
WO2000031315A1 (en) * | 1998-11-20 | 2000-06-02 | Fernandez Felix E | Apparatus and method for pulsed laser deposition of materials on wires and pipes |
WO2000044822A2 (en) * | 1999-01-27 | 2000-08-03 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Fabrication of conductive/non-conductive nanocomposites by laser evaporation |
DE19914129C2 (de) * | 1999-03-27 | 2001-04-05 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Verfahren zum doppelseitigen Beschichten eines Substrates mit insbesondere einem Hochtemperatursupraleiter-Material durch Materialabscheidung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US6388230B1 (en) * | 1999-10-13 | 2002-05-14 | Morton International, Inc. | Laser imaging of thin layer electronic circuitry material |
JP2002235168A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-08-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 成膜方法および成膜装置 |
AU2003254888A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-25 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | PROCESS FOR PRODUCING ALUMINA COATING COMPOSED MAINLY OF Alpha-TYPE CRYSTAL STRUCTURE, ALUMINA COATING COMPOSED MAINLY OF Alpha-TYPE CRYSTAL STRUCTURE, LAMINATE COATING INCLUDING THE ALUMINA COATING, MEMBER CLAD WITH THE ALUMINA COATING OR LAMINATE COATING, PROCESS FOR PRODUCING THE MEMBER, AND PHYSICAL EVAPORATION APPARATU |
JP2006032485A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Brother Ind Ltd | 圧電膜形成方法 |
CN103540899B (zh) * | 2013-11-05 | 2015-06-17 | 哈尔滨工业大学 | 一种脉冲激光沉积制备纳米银/二氧化硅复合结构涂层的方法 |
CN109830429B (zh) * | 2019-01-23 | 2021-04-30 | 广西大学 | 一种双光路脉冲激光在Si(100)基片上沉积InGaN薄膜的方法 |
WO2021030775A1 (en) * | 2019-08-15 | 2021-02-18 | Abm Consulting, L.L.C. | Reclamation and recycling of semiconductor workpieces |
CN113445007A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-09-28 | 松山湖材料实验室 | 脉冲激光沉积装置及方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4537791A (en) * | 1984-03-27 | 1985-08-27 | Cordis Corporation | Carbon coating of grafts or catheters |
GB2231587B (en) * | 1989-05-11 | 1993-07-28 | Mitsubishi Electric Corp | Thin film vacuum evaporation device |
US5096739A (en) * | 1989-11-27 | 1992-03-17 | The University Of Connecticut | Ultrafine fiber composites and method of making the same |
JP2864148B2 (ja) * | 1990-04-26 | 1999-03-03 | 東和化成工業株式会社 | 水産練製品用品質改良剤 |
DE4019965A1 (de) * | 1990-06-21 | 1992-01-09 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Verfahren und vorrichtung zum beschichten von substratmaterial |
WO1992006798A1 (en) * | 1990-10-16 | 1992-04-30 | Superconductor Technologies, Inc. | In situ growth of superconducting films |
LU87880A1 (fr) * | 1991-01-24 | 1992-10-15 | Europ Communities | Methode permettant de deposer une couche mince par photo-ablation |
WO1994001595A1 (en) * | 1992-07-10 | 1994-01-20 | General Electric Company | Method and apparatus for low temperature deposition of dielectric films on polymers |
US5304281A (en) * | 1992-10-23 | 1994-04-19 | Alfred University | Laser deposition of cubic cadmium sulfide films |
US5405659A (en) * | 1993-03-05 | 1995-04-11 | University Of Puerto Rico | Method and apparatus for removing material from a target by use of a ring-shaped elliptical laser beam and depositing the material onto a substrate |
US5406906A (en) * | 1994-01-18 | 1995-04-18 | Ford Motor Company | Preparation of crystallographically aligned films of silicon carbide by laser deposition of carbon onto silicon |
US5411772A (en) * | 1994-01-25 | 1995-05-02 | Rockwell International Corporation | Method of laser ablation for uniform thin film deposition |
US6037313A (en) * | 1994-09-16 | 2000-03-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method and apparatus for depositing superconducting layer onto the substrate surface via off-axis laser ablation |
US5624722A (en) * | 1995-03-07 | 1997-04-29 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Apparatus and method for depositing films on substrate via on-axis laser ablation |
-
1995
- 1995-03-07 JP JP7074422A patent/JPH08246134A/ja active Pending
-
1996
- 1996-03-01 US US08/609,242 patent/US5820948A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-06 CA CA002171126A patent/CA2171126A1/en not_active Abandoned
- 1996-03-07 EP EP96103558A patent/EP0731188B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-07 DE DE69609880T patent/DE69609880T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0731188A3 (de) | 1997-02-26 |
JPH08246134A (ja) | 1996-09-24 |
EP0731188B1 (de) | 2000-08-23 |
EP0731188A2 (de) | 1996-09-11 |
US5820948A (en) | 1998-10-13 |
DE69609880T2 (de) | 2001-02-01 |
CA2171126A1 (en) | 1996-09-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |