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GEBIET DER
ERFINDUNG
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Diese
Erfindung bezieht sich auf ein optisches Modul und insbesondere
auf die Struktur eines optischen Moduls mit einem optischen Element
und einem optischen Wellenleiter, die auf einem Substrat von selbst
aufeinander ausgerichtet sind, und auf ein Verfahren zum Montieren
des optischen Moduls.
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BESCHREIBUNG
DES VERWANDTEN GEBIETS
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Ein
optisches Modul ist in einem optischen Kommunikationssystem und
in einem optischen Übertragungssystem
enthalten und enthält
ein optisches Element wie etwa eine Laserdiode und einen Lichtwellenleiter,
die auf einem Siliciumsubstrat hergestellt sind. Der Lichtwellenleiter
besitzt einen Kern, längs
dessen sich Licht ausbreitet. Andererseits besitzt die Laserdiode
eine aktive Schicht, von der ein Laserstrahl ausgestrahlt wird.
Um den Laserstrahl längs
des Kerns zu führen,
ist es notwendig, dass der Kern auf die aktive Schicht ausgerichtet
wird und dass der Lichtwellenleiter und die Laserdiode in der Weise
auf dem Siliciumsubstrat montiert werden, dass die aktive Schicht
auf den Kern ausgerichtet wird.
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Die
Laserdiode wurde von Hand auf die aktive Schicht ausgerichtet, wobei
in der Montagearbeit viel Zeit und Arbeit verbraucht wurden. Die
Montagearbeit von Hand erhöhte
die Kosten, wobei das optische Modul einen hohen Preis hatte.
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Es
ist eine Selbstausrichtungstechnologie entwickelt worden, wobei
ein typisches Beispiel der Selbstausrichtungstechnologie von Sasaki
u. a. in "Self-aligned
Assembly for Optical Devices Using AuSn Solder Bump Bonding", Technical Report
of the Institute of Electronics Information and Communication Engineers,
S. 61 bis 66, offenbart ist.
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Die 1A, 1B und 2A und 2B veranschaulichen
die von Sasaki u. a. vorgeschlagene von selbst ausgerichtete Montage.
Die Bezugszeichen 1, 2 und 3 bezeichnen
ein Siliciumsubstrat, einen Lichtwellenleiter und eine Laserdiode. Das
Dreiachsen-Bezugssystem ist durch die Pfeile "x", "y" und "z" repräsentiert.
Der Lichtwellenleiter 2 besitzt einen Kern 2a,
dessen optische Achse mit dem Bezugszeichen 2b bezeichnet
ist. Andererseits ist in der Laserdiode 3 eine aktive Schicht 3a enthalten,
deren optische Achse mit 3b bezeichnet ist.
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Der
Lichtwellenleiter 2 und die Laserdiode 3 werden
auf der Hauptoberfläche
des Siliciumsubstrats 1 wie folgt ausgerichtet. Auf dem
Siliciumsubstrat 1 wird der Lichtwellenleiter 2 hergestellt,
und auf der Hauptoberfläche
des Siliciumsubstrats 1 werden unter Verwendung eines Lithographie-Prozesses gleichzeitig
der Kern 2a und die kreisförmigen Anschlussflächen 1a, 1b, 1c und 1d strukturiert.
Im Ergebnis werden die kreisförmigen
Anschlussflächen 1a bis 1d in
Bezug auf den Kern 2a genau positioniert, wobei der Fehler
der relativen Position zwischen dem Kern 2a und den kreisförmigen Anschlussflächen 1a bis 1d annähernd gleich
der Maskenfehlausrichtung in dem Lithographie-Verfahren ist.
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Nachfolgend
werden auf den kreisförmigen Anschlussflächen 1a bis 1d jeweils
Löthöcker 4 vorgesehen.
Auf der hinteren Oberfläche
der Laserdiode 3 sind bereits kreisförmige Anschlussflächen 3c, 3d, 3e und 3f ausgebildet
worden, wobei die relative Position zwischen den kreisförmigen Anschlussflächen 3c bis 3f und
der aktiven Schicht 3a gleich der relativen Position zwischen
den kreisförmigen
Anschlussflächen 1a bis 1d und
dem Kern 2a ist.
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Die
Laserdiode wird in der Weise auf die Löthöcker 4 gesetzt, dass
die kreisförmigen
Anschlussflächen 1a bis 1d annähernd auf
die kreisförmigen Anschlussflächen 3c bis 3f ausgerichtet
werden. Allerdings sind die kreisförmigen Anschlussflächen 3c bis 3f,
wie in den 1A und 2A gezeigt
ist, üblicherweise
gegenüber
den kreisförmigen
Anschlussflächen 1a bis 1d versetzt,
wobei dementsprechend die optische Achse 2b des Kerns 2a nicht
auf die optische Achse 3b der aktiven Schicht 3a ausgerichtet ist.
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Den
Löthöckern 4 wird
Wärme zugeführt, wobei
die Löthöcker 4 aufgeschmolzen
werden. Die Oberflächenspannung
in den aufgeschmolzenen Löthöckern zwingt
die kreisförmigen
Anschlussflächen 3c bis 3f,
sich in einer Richtung ST zu bewegen, wobei die kreisförmigen Anschlussflächen 1a bis 1d registerhaltig
mit den kreisförmigen
Anschlussflächen 3c bis 3f sind.
Wie oben beschrieben wurde, ist die relative Position zwischen den
kreisförmigen
Anschlussflächen 1a bis 1b und
dem Kern 2a gleich der relativen Position zwischen den
kreisförmigen
Anschlussflächen 3c bis 3f und
der aktiven Schicht 3a, wobei die kreisförmigen Anschlussflächen 3c bis 3f, die
registerhaltig mit den kreisförmigen
Anschlussflächen 1a bis 1d sind,
die optische Achse 3b der aktiven Schicht 3a,
wie in 2B gezeigt ist, automatisch
auf die optische Achse 2b des Kerns 2a ausrichten.
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Somit
ermöglicht
die von selbst ausgerichtete Montagetechnologie des Standes der
Technik, dass der Hersteller die optischen Module mit hoher Geschwindigkeit
montiert und dass die Produktionskosten drastisch gesenkt werden.
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Allerdings
erzeugen lediglich richtig konstruierte Löthöcker eine ausreichen große Oberflächenspannung,
um die optische Achse 3b der aktiven Schicht 3a von
selbst auf die optische Achse 2b des Kerns 2a auszurichten.
Die große
Oberflächenspannung
erfordert ein großes
Verhältnis
der Löthöckerhöhe zum Anschlussflächendurchmesser.
Mit anderen Worten, die große
Oberflächenspannung
wird nur dann erzeugt, wenn die Löthöcker in einem großen Seitenverhältnis ausgebildet
werden. Falls die Lötung
ohne Flussmittel ausgeführt
wird, erfordert die große
Oberflächenspannung
ein größeres Seitenverhältnis.
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Die
Erfinder bewerteten verschiedene auf den kreisförmigen Anschlussflächen ausgebildete Löthöcker und
schlossen, dass das von selbst ausgerichtete flussmittellose Lötmittelbonden
in Stickstoffatmosphäre
des Standes der Technik erforderte, dass das Verhältnis der
Löthöckerhöhe zu dem
Anschlussflächendurchmesser
gleich oder größer 0,75 ist.
Je kleiner der Anschlussflächendurchmesser
war, desto höher
war die Ausrichtungsgenauigkeit.
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Wenn
eine optische Vorrichtung, die zu einem 300-Mikrometer-Würfel geformt
ist, auf einen Lichtwellenleiter auf einem Siliciumsubstrat ausgerichtet
wird, ist es somit wegen der ausreichenden Verbindungskraft und
der großen
Wärmestrahlungsfähigkeit
ausreichend, wenn die kreisförmigen
Anschlussflächen
wenigstens einen Durchmesser von 50 Mikrometern haben und wenn die
minimale Löthöckerhöhe für das flussmittellose
Lötmittelbonden gleich
oder größer 38 Mikrometer
ist.
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Allerdings
ist der Kern 2a eines neuesten Lichtwellenleiters von der
Hauptoberfläche
des Siliciumsubstrats 1 nur durch 20 Mikrometer oder weniger beabstandet,
wobei die Löthöcker mit
einer Höhe
von 38 Mikrometern für
ein optisches Modul mit dem neuesten Lichtwellenleiter, das von
der Hauptoberfläche nur
20 Mikrometer oder weniger beabstandet ist, nicht verfügbar sind.
Der neueste Lichtwellenleiter erfordert, dass der Hersteller die
Löthöcker miniaturisiert,
ohne das Verhältnis
der Löthöckerhöhe zum Anschlussflächendurchmesser
zu ändern.
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Falls
der neueste Lichtwellenleiter 2 angehoben wird, können die
richtigen Löt höcker 4 ohne
die Miniaturisierung verfügbar
sein. Wenn die Löthöcker 4 dagegen
aus Lötteilen
ausgebildet werden, die durch Stanzen auf den kreisförmigen Anschlüssen bereitgestellt
werden, was im Folgenden ausführlich beschrieben
wird, liegt die Löthöckerhöhe im Bereich von
50 Mikrometern plus/minus 1,5 Mikrometern, wobei die Schwankung
der Löthöckerhöhe zu groß ist, um
die Laserdiode 3 in einer einzigen Mode mit dem Lichtwellenleiter 2 zu
koppeln. Somit ist die Miniaturisierung erwünscht.
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Bei
der Miniaturisierung der Löthöcker werden
folgende Probleme festgestellt.
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Zunächst führt die
Verringerung des Anschlussflächendurchmessers
zu unzureichender Verbindungskraft und schlechter Wärmestrahlungsfähigkeit.
Dies ist das erste Problem.
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Das
zweite Problem ist, dass die Miniaturlöthöcker schwer unter Verwendung
eines wirtschaftlichen Stanzprozesses ausgebildet werden. Üblicherweise
wird für
die Löthöcker 4 eutektisches Au-Sn-Lötmittel
verwendet, wobei die eutektischen Au-Sn Löthöcker wirtschaftlich durch einen
Stanzprozess, der in der japanischen Patentveröffentlichung der ungeprüften Anmeldung
Nr. 4-152682 offenbart ist, aus einer eutektischen Au-Sn-Folie ausgebildet werden.
Die 3A bis 3C veranschaulichen den
Prozess des Ausbildens von Löthöckern aus
einer Au-Sn-Lötfolie.
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Zunächst wird
die Au-Sn-Lötfolie 5 periodisch
zwischen einem Stanzstempel 6a und einem Prägestempel 6b bewegt,
wobei eine auf der Hauptoberfläche
eines Siliciumsubstrats 7b ausgebildete Anschlussfläche 7a,
wie in 3A gezeigt ist, unter dem Prägestempel 6b in
eine geeignete Position bewegt wird. Der Stanzstempel 6a wird
nach unten bewegt, um aus der Au-Sn-Lötfolie 5 ein Au-Sn-Lötteil 5a auszuschneiden,
wobei das Au-Sn-Lötteil 5a,
wie in 3B gezeigt ist, auf die Anschlussfläche 7a gesetzt
wird. Dem Au-Sn-Lötteil
wird Wärme
zugeführt, die
die Au-Sn-Lötteile
aufschmilzt. Die Oberflächenspannung
formt das aufgeschmolzene Au-Sn-Lötmittel zu einer wie in 3C gezeigten
halbkugelförmigen
Konfiguration.
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Der
in den 3A bis 3C gezeigte
Prozess des Standes der Technik ist wirtschaftlich und für die optischen
Module erwünscht.
Allerdings wird das Volumen des Stücks 5a schwer auf
einen kritischen Wert verringert. Die derzeit verfügbare Stanztechnologie
stellt Grenzen an die Größe des Stanzstempels 6a,
an die Dicke der Au-Sn-Lötfolie 5 und an
das Volumen des Au-Sn-Lötteils 5a,
wobei der mini male Stanzdurchmesser, die minimale Foliendicke und
die minimalen Volumina in der Größenordnung von
40 Mikrometern, 20 Mikrometern und 2500 Kubikmikrometern liegen.
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Wenn
dem minimalen Au-Sn-Lötteil 5a Wärme zugeführt wurde,
wurde das minimale Au-Sn-Lötteil 5a zu
dem halbkugelförmigen
Löthöcker 5b aufgeschmolzen.
Der halbkugelförmige
Löthöcker 5b hatte
eine Höhe
von 30 Mikrometern, wobei die untere Oberfläche und dementsprechend die
Anschlussfläche 7a einen
Durchmesser von 30 Mikrometern hatte. Nach dem Lötmittelbonden wurde die Löthöckerhöhe auf 25
Mikrometern verringert. Allerdings war die Höhe zu hoch für die Ausrichtung
auf den Kern 2a.
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Natürlich werden
die Au-Sn-Löthöcker durch andere
Prozesse wie etwa Plattieren oder Vakuumaufdampfen ausgebildet.
Allerdings kann das Plattieren die Dicke einer Au-Sn-Lötmittelschicht
auf der Anschlussfläche
nicht genau steuern, während
das Vakuumaufdampfen komplex und teuer ist.
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Ein ähnliches
optisches Modul des Standes der Technik ist aus dem Dokument
US 5 .283.446 bekannt. Wie in dem
oben diskutierten Fall sind auf dem Substrat und auf einem Laserdiodenchip
kreisförmige
Anschlussflächen
vorgesehen, wobei Seitenwände
vorgesehen sind, die die Löthöcker umgeben,
um die gewünschte
Selbstausrichtung der Laserdiode auf einen Lichtwellenleiter während des
Bondens zu verbessern. Die Höhe
dieser Seitenwände
wird in der Weise gewählt,
dass dann, wenn der Löthöcker während des
Abkühlens
schrumpft, der Laserdiodenchip an einer entsprechenden Seitenwand
liegt und somit mit einer vorgegebenen Höhe positioniert ist, die die vertikale
Ausrichtung auf den Lichtwellenleiter sicherstellt.
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Der
Artikel von Deshmukh u. a., "Active
atmosphere solder self-alignment and bonding of optical components", International Journal
of Microcircuits and Electronic Packaging, Bd. 16, Nr. 2, 1. Januar
1993, Reston, USA, offenbart die Möglichkeit, eine einzelne optoelektronische
Komponente wie etwa eine LED oder einen Laser mittels eines ähnlichen
Selbstausrichtungsverfahrens unter Verwendung rechtwinkliger Anschlussflächen anstelle
kreisförmiger
Anschlussflächen
auf einen einzelnen Kern auszurichten. Obgleich die Ersetzung kreisförmiger Anschlussflächen durch
rechtwinklige Anschlussflächen
zu der Frage führt,
wie jede Anschlussfläche anzuordnen
ist, offenbart dieses Dokument jedoch keine beson dere Orientierung
der rechtwinkligen Anschlussflächen.
Insbesondere sind keine Informationen darüber zu finden, wo entsprechende
rechtwinklige Anschlussflächen
im Fall einer Lichtwellen-Ausbreitungseinrichtung, die mehrere Kerne
umfasst, und eines optischen Elements, das mehrere Ports umfasst,
vorzusehen sind, so dass jeder Port auf einen zugeordneten Kern
ausgerichtet werden muss.
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Eine ähnliche
Beobachtung trifft auf das Dokument WO 93/15424 des Standes der
Technik zu, das ebenfalls ein Selbstausrichtungsverfahren offenbart,
das auf der Verwendung nicht kreisförmiger Anschlussflächen beruht,
um einen einzelnen Halbleiterlaser auf einen einzelnen Wellenleiter
auszurichten.
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Als
weiteren Stand der Technik wird Bezug genommen auf die Dokumente
US 5.275.970 ,
EP 0 304 118 A2 , auf den
Artikel von Satoh u. a., "Development
of a new micro-solder bonding method for VLSI's",
Conference Proceedings for the Third Annual International Electronic
Packaging Conference, Hasca, Illinois, (1983), S. 455 bis 460, und
auf die weitere Veröffentlichung
von Satoh u. a., "Optimum bonding
shape control of micro-solder joint of IC and LSI", J. Japan Inst.
Metals, Bd. 51 (1987), S. 553 bis 560.
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Zusammengefasst
offenbaren selbst jene Dokumente des Standes der Technik, die die
Verwendung nicht kreisförmiger
Anschlussflächen
für die
Selbstausrichtung vorschlagen, keine zuverlässige Möglichkeit für die Selbstausrichtung einer
Lichtwellen-Ausbreitungseinrichtung mit mehreren parallelen Kernen
für die
Ausbreitung von Licht auf ein optisches Element mit mehreren Ports.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Somit
ist es eine wichtige Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches
Modul, das einen Lichtwellenleiter mit mehreren parallelen Kernen
und ein optisches Element mit mehreren Ports, die ohne Verringerung
der Verbindungskraft und Wärmestrahlungsfähigkeit
und Erhöhung
der Produktionskosten mit einer Höhe um 20 Mikrometer aufeinander
ausgerichtet sind, besitzt sowie ein Verfahren zum Montieren eines
solchen Moduls zu schaffen.
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Diese
Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch
ein optisches Modul, wie es in Anspruch 1 definiert ist, und durch
ein Verfahren, wie es in Anspruch 10 definiert ist. Vorteilhafte
Ausführungsformen
sind in den abhängigen
Ansprüchen
definiert.
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KURZBESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNG
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Die
Merkmale und Vorteile des optischen Moduls und des Verfahrens zum
Montieren gemäß der vorliegenden
Erfindung werden klarer verständlich
aus der folgenden Beschreibung in Verbindung mit der beigefügten Zeichnung,
in der:
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1A und 1B Draufsichten
sind, die das Verfahren des Standes der Technik zum Montieren des
optischen Moduls zeigen;
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2A und 2B Querschnittsansichten sind,
die das Verfahren des Standes der Technik zeigen;
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3A bis 3C Seitenansichten
sind, die den Prozess des Standes der Technik zum Ausbilden der
Löthöcker auf
den Anschlussstellen zeigen;
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4A und 4B Draufsichten
sind, die ein Verfahren zum Montieren einer optischen Vorrichtung
gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigen;
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5A und 5B Querschnittsansichten sind,
die das Verfahren gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigen;
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6A und 6B Querschnittsansichten sind,
die das Verfahren gemäß der vorliegenden
Erfindung aus einem anderen Winkel zeigen;
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7A und 7B Draufsichten
sind, die ein weiteres Verfahren zum Montieren eines optischen Moduls
gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigen;
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8A und 8B Querschnittsansichten sind,
die das Verfahren gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigen;
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9 eine
Draufsicht ist, die die Anordnung eines nochmals weiteren optischen
Moduls gemäß der vorliegenden
Erfindung zeigt;
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10 eine
Querschnittsansicht ist, die die Struktur des optischen Moduls zeigt;
und
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11 eine
Querschnittsansicht ist, die die Struktur des optischen Moduls aus
einem anderen Winkel gesehen zeigt.
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BESCHREIBUNG
DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
Erste Ausführungsform
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Im
Folgenden wird anhand der 4A und 4B,
der 5A und 5B und
der 6A und 6B ein
Verfahren zum Montieren eines optischen Moduls beschrieben, das
die vorliegende Erfindung verkörpert.
Das Dreiachsen-Bezugssystem ist mit den Pfeilen "x", "y" und "z" bezeichnet
und die 6A und 6B sind
von der rechten Seite der in den 4A und 4B gezeigten
Struktur gesehen.
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Das
Verfahren beginnt mit der Vorbereitung eines Siliciumsubstrats 11.
Auf der Hauptoberfläche des
Siliciumsubstrats 11 werden unter Verwendung von Lithographie-Techniken
erste Anschlussflächen 11a, 11b, 11c, 11d, 11e, 11f, 11g, 11h, 11i und 11j ausgebildet.
Das heißt,
auf der Hauptoberfläche
des Siliciumsubstrats 11 werden Titan/Platin/Gold-Schichten
geschichtet, und von einer (nicht gezeigten) Zwischenmaske wird
ein Muster auf eine (nicht gezeigte) Photoresistschicht übertragen,
die die Titan/Platin/Gold-Schichten bedeckt. Die Photoresistschicht
wird entwickelt und strukturiert. Die Titan/Platin/Gold-Schichten
werden unter Verwendung der strukturierten Photoresistschicht teilweise
weggeätzt
und zu den ersten Anschlussflächen 11a bis 11j strukturiert.
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Jede
der ersten Anschlussflächen 11a bis 11j wird
zu einer im Allgemeinen rechtwinkligen Parallelepiped-Konfiguration
geformt und besitzt eine Länge von
140 Mikrometern und eine Breite von 25 Mikrometern. Dagegen sind
die Ecken jeder ersten Anschlussfläche 11a bis 11j abgerundet,
wobei die abgerundeten Ecken zulassen, dass sich Lötmittel über die
gesamte obere Oberfläche
der ersten Anschlussflächen 11a bis 11j ausbreitet.
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Die
ersten Anschlussflächen 11a, 11c, 11f und 11i haben
jeweilige Längsachsen
parallel zu der y-Richtung, während
die anderen ersten Anschlussflächen 11b, 11d, 11e, 11g, 11h und 11j jeweilige Längsachsen
parallel zu der x-Richtung haben. Somit unterscheiden sich die ersten
Anschlussflächen 11a, 11c, 11f und 11i um
einen rechten Winkel von den anderen ersten Anschlussflächen 11b, 11d, 11e, 11g, 11h und 11j.
Obgleich die Ecken abgerundet sind, ist die obere Oberfläche der
ersten Anschlussfläche
im Allgemeinen rechtwinklig, da die Seitenlinien und die Stirnlinien
fast linear sind.
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Nachfolgend
wird auf der Hauptoberfläche des
Siliciumsubstrats 11 unter Verwendung der Lithographie-Techniken
eine Lichtwellenleiterstruktur 12 ausgebildet. Die Lichtwellenleiterstruktur 12 besitzt mehrere
Kerne 12a, 12b, 12c und 12d,
um längs
ihnen Laserlicht auszubreiten. Die Kerne 12a bis 12d werden
unter Verwendung einer (nicht gezeigten) Photoresistmaske strukturiert
und das Muster von einer weiteren Zwischenmaske wird auf eine Photoresistschicht übertragen.
Wenn die Photoresistschicht entwickelt worden ist, wird die Photoresistschicht
zu der Photoresistmaske ausgebildet. Somit werden unter Verwendung
der Lithographie-Techniken
die ersten Anschlussflächen 11a bis 11j und
die Kerne 12a bis 12d ausgebildet, wobei sie sich
an relativen Positionen auf der Hauptoberfläche des Siliciumsubstrats 11 befinden,
die durch die zwei Zwischenmasken definiert sind. Die Lithographie-Techniken
bestimmen genau die relativen Positionen zwischen den ersten Anschlussflächen 11a bis 11j und
den Kernen 12a bis 12d, wobei die Genauigkeit
der relativen Positionen äquivalent
zur Genauigkeit der Maskenausrichtung in der Lithographie-Vorrichtung
ist.
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Eine
Laserdiodenmatrix 13 besitzt aktive Schichten 13a bis 13d,
von denen Laserlichtstrahlen ausgestrahlt werden. Aus diesem Grund
dient jede der aktiven Schichten 13a bis 13d als
ein Port.
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Auf
der hinteren Oberfläche
der Laserdiodenmatrix 13 werden mehrere zweite Anschlussflächen 13e, 13f, 13g, 13h, 13i, 13j, 13k, 13m, 13n und 13o ausgebildet,
die durch die Lithographie-Techniken strukturiert werden. Die Lithographie-Techniken lokalisieren
genau die mehreren zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o an
den relativen Positionen in Bezug auf die aktiven Schichten 13a bis 13d,
wobei die relativen Positionen zwischen den zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o und
den aktiven Schichten 13a bis 13d äquivalent
den relativen Positionen zwischen den ersten Anschlussflächen 11a bis 11j und
den Kernen 12a bis 12d sind.
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Die
zweiten Anschlussflächen 13e, 13g, 13j und 13n haben
jeweilige Längsachsen,
die in der y-Richtung verlaufen, und sind parallel zu den aktiven Schichten 13a bis 13d.
Die anderen zweiten Anschlussflächen 13f, 13h, 13i, 13k, 13m und 13o haben
jeweilige Längsachsen,
die in der x-Richtung verlaufen, und sind senkrecht zu den Längsachsen
der zweiten Anschlussflächen 13e, 13g, 13j und 13n.
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Die
mehreren zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o entsprechen
den mehreren ersten Anschlussflächen 11a bis 11j,
wobei jede der zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o zu
der gleichen rechtwinkligen Parallelepiped-Konfiguration wie die
entsprechende erste Anschlussfläche 11a bis 11j geformt
ist. Das heißt,
die Ecken jeder zweiten Anschlussfläche sind ebenfalls abgerundet
und die untere Oberfläche
ist im Allgemeinen rechtwinklig.
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Es
ist nicht notwendig, die Lichtwellenleiterstruktur 12 und
die ersten Anschlussflächen 11a bis 11j vor
der Vorbereitung der Laserdiodenmatrix 13 vorzubereiten.
Es gibt kein Problem, falls das Siliciumsubstrat 11 und
die Laserdiodenmatrix 13 vor den Löthöckern fertig gestellt werden.
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Nachfolgend
werden jeweils an den mehreren ersten Anschlussflächen 11a bis 11j Löthöcker 14 vorgesehen.
Die Löthöcker 14 werden
unter Verwendung von Stanzen aus einer (nicht gezeigten) Au-Sn-Legierungs-Folie
ausgebildet, wobei die Au-Sn-Legierungsstücke in einer
Hochtemperatur-Schutzgasatmosphäre,
wie in Verbindung mit den 3A bis 3C beschrieben
ist, aufgeschmolzen werden. Die Au-Sn-Legierungsstücke besitzen ein gleichförmiges Volumen
und die Lötteile
halten die Höhe
der Laserdiodenmatrix 13 von dem Siliciumsubstrat 11 konstant.
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Falls
keine genau gesteuerte Zusammensetzung erforderlich ist oder die
Kosten vernachlässigbar
sind, kann auf den ersten Anschlussflächen 11a bis 11j eine
eutektische Au-Sn-Legierung plattiert oder durch Vakuumaufdampfen
abgelagert werden. Die eutektische Au-Sn-Legierung wird aufgeschmolzen,
um die Löthöcker 14 auszubilden.
Die eutektische Au-Sn-Legierung kann 80 Gewichtsprozent Gold und
20 Gewichtsprozent Zinn enthalten. Wenn das Vakuumaufdampfen verwendet
wird, wird die eutektische Au-Sn-Legierung auf 16 Mikrometer abgelagert,
was die Kosten erhöht.
Wenn dagegen das Plattieren verwendet wird, streut die Dicke innerhalb 20
Prozent und ist für
die Einmoden-Lichtkopplung unerwünscht.
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Die
Menge der Au-Sn-Legierung auf der ersten Anschlussfläche 11a bis 11j beträgt etwa
56550 Kubikmikrometer.
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Nachfolgend
wird die Laserdiodenmatrix 13 auf die Löthöcker 14 gesetzt, wobei
die zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o,
wie in den 4A, 5A und 6A gezeigt
ist, gegenüber
den entsprechenden ersten Anschlussflächen 11a bis 11j versetzt sein
können.
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Die
Löthöcker 14 werden
in einer Stickstoffatmosphäre
aufgeschmolzen, wobei kein Flussmittel verwendet wird. Die Oberflächenspannung
veranlasst, dass sich die zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o automatisch
auf die ersten Anschlussflächen 11a bis 11j registrieren.
Im Einzelnen bewegt die Oberflächenspannung
der aufgeschmolzenen Löthöcker 14 auf
den ersten Anschlussflächen 11b, 11d, 11e, 11g, 11h und 11j die
Laserdiodenmatrix 13 in einer mit ST1 bezeichneten Richtung,
während
die Oberflächenspannung
der aufgeschmolzenen Löthöcker 14 auf
den anderen ersten Anschlussflächen 11a, 11c, 11f und 11i die
Laserdiodenmatrix 13 in einer mit ST2 bezeichneten Richtung
bewegt. Diese Oberflächenspannungen
regulieren die Laserdiodenmatrix 13 zweidimensional zu
der Position, wo sich die ersten Anschlussflächen 11a bis 11j,
wie in den 4B, 5B und 6B gezeigt
ist, genau mit den zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o überlappen.
Im Ergebnis sind die optischen Achsen der aktiven Schichten 13a bis 13d,
wie durch die Strichlinien in 4B bezeichnet
ist, auf die optischen Achsen der Kerne 12a bis 12d ausgerichtet.
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Das
Lötmittel
wird erstarrt und die Laserdiodenmatrix 13 wird mit dem
Siliciumsubstrat 11 gebondet. Die durch das Stanzen bereitgestellten Au-Sn-Legierungsstücke 14 besitzen
ein genau konstantes Volumen, wobei die Verbindungshöhe 18 Mikrometer
plus/minus 1 Mikrometer ist.
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Wie
zuvor beschrieben wurde, hängt
die Genauigkeit der Ausrichtung von dem Seitenverhältnis der
Löthöcker 14 ab.
Die Erfinder untersuchten die im Allgemeinen rechtwinkligen Anschlussflächen und schlossen,
dass die Genauigkeit der Ausrichtung von dem Verhältnis der
Löthöckerhöhe zur Anschlussflächenbreite
abhing. Ferner untersuchten die Erfinder unter Verwendung von Löthöckern mit
verschiedenen Verhältnissen
das kritische Verhältnis
der Löthöckerhöhe zur Anschlussflächenbreite,
das ermöglicht,
dass sich die erste Anschlussfläche
und die zweite Anschlussfläche
mittels der Oberflächenspannung
miteinander registrieren, wobei sie schlossen, dass das kritische
Verhältnis
für den
flussmittellosen Löthöcker 0,7
ist. Mit anderen Worten, falls die flussmittellosen Löthöcker ein
gleiches oder größeres Verhältnis der
Löthöckerhöhe zur Anschlussflächenbreite
als 0,7 hatten, war die Oberflächenspannung groß genug,
um die optischen Achsen automatisch aufeinander auszurichten. Wenn
Flussmittel verwendet würde,
war das kritische Verhältnis
der Löthöckerhöhe zur Anschlussflächenbreite
verschieden vom kritischen Verhältnis
für die
flussmittellosen Löthöcker.
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Das
oben beschriebene optische Modul hatte ein Verhältnis der Löthöckerhöhe zur Anschlussflächenbreite
gleich 0,72, wobei die Fehlausrichtung innerhalb von plus/minus
1 Mikrometer lag. Wenn die Löthöcker auf
den kreisförmigen
Anschlussflächen vorgesehen
waren, war die Fehlausrichtung plus/minus 1,5 Mikrometer. Selbstverständlich erzeugten
die im Allgemeinen rechtwinkligen Parallelepiped-Löthöcker 14 eine
große
Oberflächenspannung,
wobei sie die genaue Selbstausrichtung erreichten. Die Verbindungshöhe war 18
Mikrometer und die optischen Achsen der aktiven Schichten 13a bis 13d waren
in der Einmoden-Lichtkopplung auf die optischen Achsen der Kerne 12a bis 12d ausgerichtet.
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Wie
aus der vorstehenden Beschreibung verständlich ist, hält die große Länge der
rechtwinkligen Parallelepiped-Anschlussfläche das Volumen des Lötmittels
selbst dann aufrecht, wenn die Anschlussfläche schmal ist. Die niedrige
Breite erhöht das
Verhältnis
der Löthöckerhöhe zur Anschlussflächenbreite,
während
die breite untere Fläche
die Verbindungskraft und die Wärmestrahlungsfähigkeit nicht
verschlechtert. Somit erreichen die rechtwinkligen Parallelepiped-Anschlussflächen die
Miniaturisierung der Löthöcker, ohne
die Oberflächenspannung
zu opfern.
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Das
große
Volumen verhindert, dass die Löthöckerhöhe schwankt,
und ermöglicht,
dass ein Konstrukteur einen Spielraum der Löthöckerhöhe verringert. Die aktiven
Schichten 13a bis 13d werden genau auf eine Zielhöhe von der
Hauptoberfläche
des Siliciumsubstrats 11 ausgerichtet und werden auf die Kerne
der neuesten Lichtwellenleiterstruktur 12 in der Einmoden-Lichtkopplung
ausgerichtet.
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Falls
die Breite einer Anschlussfläche
klein gegen ihre Länge
ist, empfiehlt es sich, mehrere Lötteile auf die Anschlussfläche zu setzen,
da sich das Lötmittel
leicht über
die gesamte Oberfläche
ausbreitet.
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Zweite Ausführungsform
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Anhand
der 7A und 7B und
der 8A und 8B wird
im Folgenden ein weiteres Verfahren zum Montieren eines optischen
Moduls beschrieben. Abgesehen von den Konfigurationen der ersten
und der zweiten Anschlussflächen
ist die Montagefolge ähnlich
der ersten Ausführungsform. Aus
diesem Grund sind die anderen Komponenten des optischen Moduls mit
den gleichen Bezugszeichen bezeich net, die entsprechende Komponenten der
ersten Ausführungsform
ohne ausführliche
Beschreibung bezeichnen.
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Die
ersten Anschlussflächen 21a, 21b, 21c und 21d sind
T-förmig,
wobei die Tförmigen
Anschlussflächen 21a bis 21d,
wie in 7A gezeigt ist, abwechselnd
umgedreht sind. Die T-förmige
Anschlussfläche 21a/21b/21c/21d ist
in zwei im Allgemeinen rechtwinklige Parallelepiped-Abschnitte 21e und 21f aufgegliedert,
wobei die Dimensionen der T-förmigen
Anschlussfläche 21d in 7A notiert sind.
Die anderen T-förmigen
Anschlussflächen 21a bis 21c sind
gleich der T-förmigen
Anschlussfläche 21d.
Die Ecken jeder T-förmigen
Anschlussfläche 21a/21b/21c/21d sind
abgerundet, um das Lötmittel ideal über ihre
gesamte obere Oberfläche
auszubreiten.
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Einer
der im Allgemeinen rechtwinkligen Parallelepiped-Abschnitte 21e besitzt
eine Längsachse, die
parallel zu der x-Richtung ist, während der andere im Allgemeinen
rechtwinklige Parallelepiped-Abschnitt 21f in der y-Richtung
lang gestreckt ist. Die y-Richtung ist parallel zu den optischen
Achsen der Kerne 12a bis 12d.
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Die
zweiten Anschlussflächen 22a, 22b, 22c und 22d sind
ebenfalls T-förmig.
Die T-förmigen
Anschlussflächen 22a bis 22d sind
gleich den T-förmigen
Anschlussflächen 21a bis 21d und
dementsprechend in zwei im Allgemeinen rechtwinklige Parallelepiped-Abschnitte 22e und 22f aufgegliedert.
Die Ecken jeder T-förmigen
Anschlussfläche 22a/22b/22c/22d sind
ebenfalls abgerundet. Einer der im Allgemeinen rechtwinkligen Parallelepiped-Abschnitte 22e besitzt
eine Längsachse,
die in der x-Richtung verläuft,
während
der andere im Allgemeinen rechtwinklige Parallelepiped-Abschnitt 22f in der
y-Richtung parallel zu den aktiven Schichten 13a bis 13d verläuft.
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Die
ersten T-förmigen
Anschlussflächen 21a bis 21d werden
unter Verwendung der Lithographie-Techniken an den relativen Positionen
in Bezug auf die Kerne 12a bis 12d angeordnet,
während
die zweiten T-förmigen
Anschlussflächen 22a bis 22d ebenfalls
durch den Lithographie-Prozess an den relativen Positionen in Bezug
auf die aktiven Schichten 13a bis 13d angeordnet
werden. Die relative Beziehung zwischen den ersten T-förmigen Anschlussflächen 21a bis 21d und
den Kernen 12a bis 12d ist äquivalent der relativen Beziehung
zwischen den zweiten T-förmigen
Anschlussflächen 22a bis 22d und
den aktiven Schichten 13a bis 13d.
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Wenn
das Siliciumsubstrat 11 und die Laserdiodenmatrix 13 vorbereitet
werden, werden auf den ersten T-förmigen Anschlussflächen 21a bis 21d die Löthöcker 23 vorgesehen,
wobei die Menge jedes Löthöckers 23 etwa
25000 Kubikmikrometer beträgt.
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Wenn
die Löthöcker 23 aufgeschmolzen werden,
werden in jedem Löthöcker in
zwei Richtungen ST3 und ST4 parallel zu der x-Richtung bzw. zu der
y-Richtung Oberflächenspannungen
ausgeübt. Somit
richtet jeder der aufgeschmolzenen Löthöcker 23 die relative
Position zwischen den ersten T-förmigen
Anschlussflächen 21a bis 21d und
den zweiten T-förmigen
Anschlussflächen 22a bis 22d wie
in den 7B und 8B gezeigt
zweidimensional aus.
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Die
T-förmigen
Anschlussflächen 21a bis 21d und 22a bis 22d sind
weniger als die ersten und die zweiten Anschlussflächen 11a bis 11j und 13e bis 13o,
wobei der Schritt des Ausbildens der Löthöcker einfacher als in der ersten
Ausführungsform
ist.
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Die
zweite Ausführungsform
erreicht alle Vorteile der ersten Ausführungsform.
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Dritte Ausführungsform
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Übergehend
zu den 9, 10 und 11 der
Zeichnung werden die aktiven Schichten 31a bis 31d der
Laserdiodenmatrix 31 durch das Selbstausrichtungs-Lötmittelbonden
gemäß der vorliegenden
Erfindung auf die Kerne 32a bis 32d der Glasfasern 32 ausgerichtet.
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Die
ersten Anschlussflächen 11a bis 11j werden ähnlich jenen
der ersten Ausführungsform
unter Verwendung der Lithographie-Techniken auf einem Siliciumsubstrat 33 ausgebildet,
wobei unter Verwendung des Lithographie-Prozesses, gefolgt von einem anisotropen Ätzen, in
dem Siliciumsubstrat 33 ferner v-förmige Nuten 33a bis 33d ausgebildet
werden. Die relative Beziehung zwischen den ersten Anschlussflächen 11a bis 11j und
den unteren Kantenlinien 33e der v-förmigen Nuten 32a bis 32d wird
durch den Lithographie-Prozess genau definiert.
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Die
zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o werden ähnlich wie
in der ersten Ausführungsform auf
der hinteren Oberfläche
der Laserdiodenmatrix 31 strukturiert.
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Die
relative Beziehung zwischen den zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o und
den aktiven Schichten 31a bis 31d wird durch den
Lithographie-Prozess genau definiert.
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Auf
den ersten Anschlussflächen 11a bis 11j werden
jeweils die Löthöcker 14 vorgesehen,
und die Laserdiodenmatrix 31 wird auf die Löthöcker 14 gesetzt.
Die Löthöcker 14 werden
aufgeschmolzen, wobei die Oberflächenspannung
veranlasst, dass sich die zweiten Anschlussflächen 13e bis 13o mit
den ersten Anschlussflächen 11a bis 11j registrieren. Dies
führt zur
Selbstausrichtung zwischen den optischen Achsen der aktiven Schichten 31a bis 31d und den
optischen Achsen der Glasfasern 32.
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Das
Lötmittel
wird erstarrt und die Laserdiodenmatrix 31 mit dem Siliciumsubstrat 33 gebondet. Das
Verhältnis
der Löthöckerhöhe zur Anschlussflächenbreite
ist gleich demjenigen der ersten Ausführungsform, wobei die gleiche
Genauigkeit erreicht wird.
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Obgleich
besondere Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung gezeigt und beschrieben worden sind,
ist für
den Fachmann auf dem Gebiet offensichtlich, dass verschiedene Änderungen
und Abwandlungen vorgenommen werden können, ohne vom Erfindungsgedanken
und Umfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen.
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In
der zweiten Ausführungsform
sind die ersten und zweiten Anschlussflächen 21a bis 21d und 22a bis 22d zu
der T-Konfiguration geformt. Allerdings ist irgendeine Konfiguration
verfügbar,
sofern die Konfiguration in die im Allgemeinen rechtwinkligen Parallelepiped-Abschnitte
aufgegliedert wird. Solche verfügbaren
Konfigurationen sind eine L-Form und eine H-Form.
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Das
Lötmittel
kann eine PbSn-Legierung oder eine AuSi-Legierung sein.