JP2924953B2 - 光素子の実装構造 - Google Patents

光素子の実装構造

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は基板上に光素子と光
導波路とを実装し光学的な結合を行う光モジュールにお
いて、光素子の実装位置を基準面に対し高精度かつ無調
整で実装する構造に属するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の光素子の実装構造における従来技
術としては、特開昭63−143890号公報に、光導
波路と凹部に設けた電極とを有する光素子実装装置が開
示されている。
【0003】光素子実装装置には、図7に示すように、
端面発光形の半導体レーザ素子101の活性層102で
発光した光を、光素子実装基板106上に形成した光導
波路107へ導くため、光導波路107を有する光素子
実装基板106に半導体レーザ素子101よりわずかに
大きな凹部115を設けている。凹部115上には半導
体レーザ素子101上の電極(図示せず)とハンダ部材
からなる接続子103とを接続するための電極104a
が設けられている。
【0004】また、半導体レーザ素子101の中心近傍
部分には半導体レーザ素子101の発光面と光導波路1
07との光位置が合うような高さを有する凸部105が
設けられている。
【0005】この光素子実装装置においては、半導体レ
ーザ素子101が凸部105を跨ぎ、かつ半導体レーザ
素子101と凸部105とが付き合った状態で接続子1
03によって光素子実装基板106に接続される。この
ためY−Z平面の位置合わせは接続子103の自己整合
機能によって行われる。そして、X−Z平面の位置合わ
せは光半導体レーザ素子101と表面の高さ精度を正確
に出した凸部105との付き合わせによって行われるの
で、X−Y−Zの3軸の位置合わせを無調整で行うこと
ができるというものである。
【0006】なお、凸部105の頂面の高さ精度は、R
IE(Reactive IonEtching)等を
用いることによってサブミクロン以下に抑えることがで
きるというものである。
【0007】図8及び図9は上述した光素子実装装置の
他の従来技術を示しており、109は光素子実装基板1
06の凹部115に設けた微小な溝を有する凸部を示
す。また、104bは半導体レーザ素子101に設けら
れている電極である。110は熱伝導性に優れた部材で
ある。即ち、凸部109の頂面が大きく、かつ端面発光
形の半導体レーザ素子101の表面と凸部109の頂面
との間を熱伝導性に優れた部材で固着する場合、凸部1
09の頂面上の部材の厚さにバラツキを生じ、X軸方向
の高さにバラツキを生じることがある。
【0008】しかし、凸部109の頂点部に微小な溝を
設けているので、部材110の厚さにバラツキがあって
も端面発光形の半導体レーザ素子自体の重さで熱伝導性
に優れた部材110は微小な溝に吸収されるため、X軸
方向の高さ精度を維持した状態で接続できるというもの
である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従来の光素子実装装置
の構造によると、半導体レーザ素子101と光導波路1
07の光軸と垂直方向の位置決め精度は凸部115の加
工精度と凸部105への実装精度によるものであり、凸
部115と半導体レーザ素子101を所定高さ精度で密
着させなければならないため、数μm程度の実装精度し
か得られないことである。
【0010】また、従来の光素子実装装置の構造では、
半導体レーザ素子101の実装をハンダ材料である接続
子103に依存している。すなわち、半導体レーザ素子
101の中程に位置する凹部115に対してバランス良
く配置して、電極104a,104b間を接続子103
によって溶融、実装しなければ、半導体レーザ素子10
1の光軸に対して水平方向の傾き、光軸方向の角度ずれ
などが生じてしまい、光導波路107との結合が劣化し
てしまう。
【0011】そして、接続子103の体積、溶融度、凝
固時の応力を正確に管理することは非常に困難であり、
接続子103によって高精度に凸部102と半導体レー
ザ素子101とを密着させることは非常に困難である。
【0012】また、他の従来技術によれば、放熱性を上
げるために微少な溝を設けた突部109と半導体レーザ
素子101との間に部材110を挿入しているが、部材
110の挿入によるこれによる実装精度の劣化は回避で
きない。たとえ図8及び図9に示すように突部109に
溝を設けたところで、半導体レーザ素子101の自重と
接続子103の応力によって部材110の厚さを管理し
実装精度を確保することは困難である。
【0013】以上のように、この技術による実装精度と
しては数μm程度が限界であり、多モード光導波路との
結合に有効であるが、サブμmの実装精度が必要な単一
モード光導波路との結合に適応できない。
【0014】さらに、従来構造による問題点は信頼性の
問題である。その理由は、従来構造による実装では、半
導体レーザ素子101の活性層102の直下に実装面が
存在するので、活性層102には絶えずストレスが加わ
った状態で実装されていることになる。高速変調駆動用
半導体レーザ、導波路型受光素子、半導体変調器などは
僅かなストレスでも容易に破壊されてしまうため、信頼
度を要求する光モジュールでは従来構造の適用は不可能
である。
【0015】それ故に本発明の課題はは、基板上に光素
子と光導波路とを実装し光学的な結合を行う光モジュー
ルにおいて、光素子の実装位置を基準面に対し高精度か
つ無調整で実装しうる光素子の実装構造を提供すること
にある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、光軸線
に対して平行な仮想線を含む実装面を有している基板
と、該基板に実装されるとともに前記実装面に対向する
設置面を有している光素子とを具備し、前記光素子に接
続するよう所定間隔をもって前記実装面上に配した複数
の第1の電極と、該第1の電極に一対一に対向するよう
前記設置面に配した複数の第2の電極と、前記第1の電
極及び前記第2の電極間を相互に接続した複数の第1の
接続子とを有している光素子の実装構造において、前記
光素子は前記第2の電極に所定間隔をもって前記設置面
上に形成した導波路を有し、該導波路の前記設置面の一
部には第3の電極が設けられており、前記前記実装面に
は前記第3の電極に対向する第4の電極が設けられてお
り、前記第3及び第4の電極間を相互に接続した第2の
接続子を有し、さらに前記光素子の第2及び第3の電
極、前記導波路を除く前記実装面の所定位置には前記設
置面を当接して前記光素子を実装するよう突出している
突起部を有していることを特徴とする光素子の実装構造
が得られる。
【0017】また、本発明によれば、光軸線に対して平
行な仮想線を含む実装面を有している基板と、該基板に
実装されるとともに前記実装面に対向する設置面を有し
ている光素子とを具備し、前記光素子に接続するよう所
定間隔をもって前記実装面に配した第1の電極と、該第
1の電極に対向するよう前記設置面に配した第2の電極
と、前記第1の電極及び前記第2の電極間を相互に接続
した接続子とを有している光素子の実装構造において、
前記光素子は前記設置面に平行に対向してる対向面に第
3の電極を有し、前記実装面には前記設置面を当接して
前記光素子を実装するよう突出している突起部を有し、
前記第2の電極を除く前記設置面に前記突起部が対向し
て配されていることを特徴とする光素子の実装構造が得
られる。
【0018】
【作用】本発明の光素子の実装構造は、基板上の光素子
が、基板上に形成した突起部による突起構造を有してお
り、前記突起部に光素子を接触させて実装することによ
って実装精度を確保している。
【0019】基板への光素子の実装は、赤外線透過光を
用いマークにより平面の位置あわせをした後、接続子を
溶融させ突起部を光素子の設置面に接触させて行う。
【0020】
【発明の実施の形態】図1乃至3は、本発明の光素子の
実装構造の第1の実施の形態例を示している。図1は導
波路型の受光モジュールを示している。図2は導波路型
の受光素子の実装面側を示している。図3は基板の実装
面を示している。
【0021】図1乃至図3を参照して、光素子の実装構
造は、基板1と、この基板1に実装されている光素子3
とを備えている。基板1は光素子3を実装するよう光軸
線Iに対して平行な仮想線を含む実装面1aを有してい
る。光素子3は実装面1aに対向している設置面3aを
有している。
【0022】図2にもっともよく図示されているよう
に、実装面1aには光素子3に接続するよう光軸線I方
向に長い帯状にかつ互いに所定間隔をもって配した一対
の第1の電極5が設けられている。また、図2にもっと
もよく図示されているように、設置面3aには第1の電
極5に一対一に対向するよう配した一対の第2の電極7
が設けられている。第1の電極5及び第2の電極7間に
は、これらを相互に接続した複数の第1の接続子9を有
している。
【0023】光素子3は第2の電極7に所定間隔をもっ
て設置面3aに形成した光導波路(発光部)11を有し
ている。光導波路11の設置面3aの一部には第3の電
極13が設けられている。さらに、基板1の実装面1a
には第3の電極13に対向する第4の電極15が設けら
れている。第3及び第4の電極13、15間にはこれら
を相互に接続した第2の接続子18が設けられている。
また、第2及び第3の電極13,15間には溝部21が
形成されている。
【0024】第1及び第4の電極5、15、光素子3の
光導波路11に対向する部分を除く実装面1aの所定位
置には、設置面3aを当接して光素子3を実装するよう
突出している一対の突起部19が設けられている。第1
の実施の形態例における突起部19はSiO2 膜であっ
て、基板1はSi基板を用いている。
【0025】突起部19のそれぞれは第2の電極7、第
3の電極13を除く設置面3aに対向しており、第1の
電極5の両外側に配されて設置面3aに接触している。
【0026】光素子3は設置面3a及び光軸線Iに直角
な対向面3bを有している。実装面1aには対向面3b
の近傍で対向面3bに平行なストッパ溝部23と、スト
ッパ溝部23から光軸線I方向にのびて光ファイバのよ
うな光伝送部材25を位置決めするための断面V形状の
位置決め溝部29とが形成されている。ストッパ溝部2
3は光伝送部材25の端面の一部を突き当て光軸線I方
向への移動を阻止する溝壁23aを有している。
【0027】第1の実施の形態例における光素子3は導
波路型受光素子であり、半絶縁性InP基板を用いてM
BEにより導波路11、設置面3aを形成したものであ
る。第1乃至第4の電極5,7,13及び15はアロイ
電極上にTiPtAu膜を形成しAuメッキを施してい
る。第1及び第2の接続子9、18はAuSnハンダを
用いている。
【0028】実装面1a及び設置面3aのそれぞれに
は、光素子3を実装面1aの所定位置に位置決めするた
めの複数のマーク31a,31bが施されている。マー
ク31a,31bは第1の電極5及び第2の電極7の一
部に設けられている。
【0029】基板1へ光素子3を実装するには、赤外線
透過光を用いマーク31a,31bにより平面の位置あ
わせをした後、AuSnハンダである第1及び第2の接
続子9、18deを溶融させ第1乃至第4の電極5、
7、13及び15のそれぞれの間を相互に接続するとと
もに一対の突起部19と設置面3aとを接触させる。
【0030】光素子1では、この光素子3の中心に位置
する光導波路11に機械的な応力がかかることを避ける
ため、光導波路11近辺には物理的な接触がないように
突起部19と光導波路11との間に溝部21を形成して
所定距離に設定している。
【0031】図1に示したように、光軸線Iの垂直方向
位置は基板1の表面が実装面1aとなる。従って、基板
1上での光素子3の光軸垂直方向の実装精度は、突起部
19の成膜精度と光素子3を形成する結晶成長の制御精
度とで決定される。
【0032】突起部19は一般的なCVDもしくはスパ
ッタで形成するが、膜厚の設計を的確に行うことによっ
て数百オングストロームオーダでの制御が可能である。
また、光素子3の光導波路11及び実装面1aの精度は
数十オングストロームオーダで制御可能である。すなわ
ち、基板1の実装面1aから光導波路11までの位置精
度は、サブμmオーダまで容易に実現可能である。
【0033】図1に示した構造で受光モジュールを製造
して光伝送部材25から光を入力し受光特性を評価した
結果、光伝送部材25を最適位置に調整した場合と比べ
て量子効率にして2%程度低いだけであった。このこと
から、光伝送部材25と光導波路11との位置ずれの総
和は十分1μm以下であり、光軸垂直方向の精度は十分
サブμmであった。
【0034】図4乃至図6は、半導体レーザなど放熱を
十分に取る必要がある光素子を実装する場合の光素子の
実装構造の第2の実施の形態例を示している。なお、基
板と光伝送部材とは、第1の実施の形態例と同じもので
あるため同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
【0035】図4乃至図6を参照して、光素子の実装構
造は光素子53に接続するよう所定間隔をもって実装面
1aに配した第1の電極45と、第1の電極45に対向
するよう光素子53の設置面53aに配した第2の電極
55と、第1の電極45及び第2の電極55間を相互に
接続した接続子71とを有している。
【0036】光素子53は設置面53a及び光軸線Iに
直角な対向面53bと、設置面53aに平行に対向して
る電極形成面53cとを有している。電極形成面53c
には第3の電極57が形成されている。第3の電極57
は電極形成面53cの中央部で光軸線I方向へのびてい
る部分と光軸線Iに対して直角な方向へのびている部分
とによって構成されている。
【0037】実装面1aには設置面53aを当接して光
素子53を実装するよう突出している複数の突起部65
を有している。第2の電極55を除く設置面53aには
突起部65が対向して配されている。突起部65は複数
の突起から形成されており、第2の電極55を除く設置
面53aに対向している。第1の電極45の一部45a
は光素子53の外側へのびている。
【0038】第2の実施の形態例における光素子3は半
導体レーザ素子を用いている。その他、第1及び第2の
電極45、55、接続子71は第1の実施の形態例に示
したものと同じ材料のものを用いている。
【0039】実装面1a及び設置面53aのそれぞれに
は、光素子53を実装面1aの所定位置に位置決めする
ための複数のマーク67a,67bが施されている。マ
ーク67a,67bは第1の電極45及び第2の電極5
5の一部に設けられている。
【0040】光素子53の実装面53a側では、実装面
53aを除いて放熱を取るためにほぼ全面に第2の電極
55が形成されている。これを基板1の実装面1aに実
装することで、広面積でAuSnハンダである接続子7
1を介して基板1との接続が可能となり十分な放熱が行
える。光軸線Iに対して垂直方向の位置は、突起部65
と設置面53aを接触させて実装することでサブμmオ
ーダの精度が確保できる。
【0041】しかも、それぞれの角を接触点としている
ため、基板1の平面や光軸に対する角度ずれも生じな
い。また、本構造において接続子71は突起部65で保
持されている光素子53の第2の電極55と基板1の実
装面1aに設けられている第1の電極45との隙間に入
り込む充填剤として作用するため、光素子53の光導波
路(発光部)59に直接機械的な応力が作用することは
ない。
【0042】図4に示す構造を用いて半導体レーザモジ
ュールを製造し光伝送部材25からの光出力を評価した
結果、光伝送部材25を最適位置に調整した場合と比べ
て光出力は0.5dB程度低いだけであった。このこと
から、光伝送部材25と光導波路59の位置ずれの総和
は十分1μm以下であり、光軸垂直方向の精度は十分サ
ブμmであった。
【0043】
【発明の効果】以上、実施の形態例によって説明したよ
うに、基板への光素子の実装は、マークにより平面の位
置あわせをした後、接続子を溶融させ突起部と光素子の
設置面面とを接触させて行う構成としたことから、各実
装の基準を高精度に制御可能な結晶面を有効に利用して
いるため、実装面に対する光軸垂直方向の実装精度がサ
ブμmオーダで実現できる。
【0044】また、機械的応力に弱い光導波路層や発光
部分の近辺を避け実装面を外縁部に設定できるので生産
性が良く、かつ高性能、高信頼な光素子の実装構造を得
ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態例である光素子の実
装構造を備えた導波路型受光モジュールを示す斜視図で
ある。
【図2】図1に示した受光モジュールの基板部分を示し
た斜視図である。
【図3】図1に示した受光モジュールの光素子を示した
斜視図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態例である光素子の実
装構造を備えた導波路型受光モジュールを示す斜視図で
ある。
【図5】図4に示した受光モジュールの基板部分を示し
た斜視図である。
【図6】図4に示した受光モジュールの光素子を示した
斜視図である。
【図7】従来の光素子の実装構造における従来技術を示
した斜視図である。
【図8】図7に示した光素子の実装構造における他の従
来技術を示した斜視図である。
【図9】図8に示した光素子の実装構造の断面図であ
る。
【符号の説明】
1 基板 1a 実装面 3,53 光素子 3a,53a 設置面 5,45 第1の電極 7 第2の電極 9 第1の接続子 11 光導波路 13,55 第2の電極 15 第4の電極 18 第2の接続子 19,65 突起部 23 ストッパー溝部 25 光伝送部材 29 位置決め溝部 31a,31b、67a,67b マーク 101 半導体レーザ素子 103 接続子 104a,104b 電極 105,109 凸部 106 光素子実装基板 107 光導波路
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−181388(JP,A) 特開 平7−225329(JP,A) 特開 平6−160676(JP,A) 特開 平6−201930(JP,A) 特開 平6−132550(JP,A) 特開 平9−51108(JP,A) 1996年電子情報通信学会エレクトロニ クスソサイエティ大会C−205 p.205 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01S 3/18 H01L 31/00 - 31/119 G02B 6/42

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光軸線に対して平行な仮想線を含む実装
    面を有している基板と、該基板に実装されるとともに前
    記実装面に対向する設置面を有している光素子とを具備
    し、前記光素子に接続するよう所定間隔をもって前記実
    装面上に配した複数の第1の電極と、該第1の電極に一
    対一に対向するよう前記設置面に配した複数の第2の電
    極と、前記第1の電極及び前記第2の電極間を相互に接
    続した複数の第1の接続子とを有している光素子の実装
    構造において、 前記光素子は前記第2の電極に所定間隔をもって前記設
    置面上に形成した導波路を有し、該導波路の前記設置面
    の一部には第3の電極が設けられており、前記前記実装
    面には前記第3の電極に対向する第4の電極が設けられ
    ており、前記第3及び第4の電極間を相互に接続した第
    2の接続子を有し、さらに前記光素子の第2及び第3の
    電極、前記導波路を除く前記実装面の所定位置には前記
    設置面を当接して前記光素子を実装するよう突出してい
    る突起部を有していることを特徴とする光素子の実装構
    造。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の光素子の実装構造におい
    て、前記突起部は前記第1の電極の両外側に配されて前
    記設置面に接触していることを特徴とする光素子の実装
    構造。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の光素子の実装構造におい
    て、前記設置面には前記第2及び第3の電極間に溝が形
    成されていることを特徴とする光素子の実装構造。
  4. 【請求項4】 光軸線に対して平行な仮想線を含む実装
    面を有している基板と、該基板に実装されるとともに前
    記実装面に対向する設置面を有している光素子とを具備
    し、前記光素子に接続するよう所定間隔をもって前記実
    装面に配した第1の電極と、該第1の電極に対向するよ
    う前記設置面に配した第2の電極と、前記第1の電極及
    び前記第2の電極間を相互に接続した接続子とを有して
    いる光素子の実装構造において、 前記光素子は前記設置面に平行に対向してる対向面に第
    3の電極を有し、前記実装面には前記設置面を当接して
    前記光素子を実装するよう突出している突起部を有し、
    前記第2の電極を除く前記設置面に前記突起部が対向し
    て配されていることを特徴とする光素子の実装構造。
  5. 【請求項5】 請求項1又は4記載の光素子の実装構造
    において、前記突起部は複数の突起によって形成されて
    いることを特徴とする光素子の実装構造。
  6. 【請求項6】 請求項1又は4記載の光素子の実装構造
    において、前記突起部は前記実装面に形成した膜である
    ことを特徴とする光素子の実装構造。
  7. 【請求項7】 請求項1又は4記載記載の光素子の実装
    構造において、前記基板はSi基板であり、前記突起部
    はSiO 2 膜であることを特徴とする光素子の実装構
    造。
  8. 【請求項8】 請求項1又は4記載の光素子の実装構造
    において、前記実装面及び前記設置面のそれぞれには、
    前記光素子を前記実装面の所定位置に位置決めするため
    の複数のマークが施されていることを特徴とする光素子
    の実装構造。
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