DE69507739T2 - Verfahren und Vorrichtung zum Siebdrucken - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Siebdrucken

Info

Publication number
DE69507739T2
DE69507739T2 DE69507739T DE69507739T DE69507739T2 DE 69507739 T2 DE69507739 T2 DE 69507739T2 DE 69507739 T DE69507739 T DE 69507739T DE 69507739 T DE69507739 T DE 69507739T DE 69507739 T2 DE69507739 T2 DE 69507739T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
screen
external force
squeegee
screen printing
applying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69507739T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69507739D1 (de
Inventor
Tetsuya C/O Canon K.K. Ohta-Ku Tokyo Kaneko
Yoshihiro C/O Canon K.K. Ohta-Ku Tokyo Yanagisawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of DE69507739D1 publication Critical patent/DE69507739D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69507739T2 publication Critical patent/DE69507739T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41FPRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F15/00Screen printers
    • B41F15/08Machines
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41FPRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F15/00Screen printers
    • B41F15/08Machines
    • B41F15/0804Machines for printing sheets
    • B41F15/0813Machines for printing sheets with flat screens
    • B41F15/0818Machines for printing sheets with flat screens with a stationary screen and a moving squeegee
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41PINDEXING SCHEME RELATING TO PRINTING, LINING MACHINES, TYPEWRITERS, AND TO STAMPS
    • B41P2215/00Screen printing machines
    • B41P2215/10Screen printing machines characterised by their constructional features
    • B41P2215/14Devices or methods for reducing snap effect
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1216Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by screen printing or stencil printing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Screen Printers (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Siebdruckvorrichtung, ein Siebdruckverfahren, ein Verfahren zur Herstellung einer Bilderzeugungsvorrichtung und eine Bilderzeugungsvorrichtung, die unter Einsatz eines derartigen Verfahrens zur Herstellung der Vorrichtung erhältlich ist.
  • Siebdrucktechnologien und Siebdrucktechniken werden gegenwärtig im Grafikdruck, in der Elektronik u. ä. in großem Umfang eingesetzt.
  • In Verbindung mit den Fig. 14 und 15 wird nunmehr das Siebdruckverfahren erläutert.
  • In den Fig. 14 und 15 sind mit 2 ein Siebrahmen, mit 3 ein Sieb, mit 7 ein Rakel, mit 16 ein zu bedruckender Gegenstand, mit 7 ein unter Pressung stehender Abschnitt auf dem Sieb, mit 18 ein Muster, mit 19 ein Siebmuster, mit 20 Tinte, mit 24 Zugbeanspruchung und mit 23 ein Spalt bezeichnet. Das Sieb 3 wird ausgebildet, indem die Siebmuster 18 entfernt werden, um Tinte 20 auf den Harzfilm abzugeben, der auf den aus rostfreiem Stahl oder anderen Materialien bestehenden Maschen ausgebildet wird. Das Sieb wird durch Aufbringung einer vorgegebenen Zugkraft am Siebrahmen 2 verspannt.
  • Der Druckvorgang wird über die nachfolgenden Verfahren durchgeführt. Nachdem ein vorgegebener Spalt 22 zwischen dem Siebrahmen 2 (d. h. der Oberfläche des Siebes 3) und dem zu bedruckenden Gegenstand 16 eingestellt worden ist, wird die pastenförmige Tinte 20 auf dem Sieb 3 angeordnet. Wenn das aus Harz o. ä. bestehende Rakel 7 unter Druck gesetzt wird, wird die Tinte entfernt (d. h. das Rakel wird in der durch einen Pfeil in den Fig. 14 und 15 angedeuteten Richtung bewegt). In Abhängigkeit vom ausgeübten Druck wird die Tinte 20 über die Muster 18 auf den zu druckenden Gegenstand 16 abgegeben. Ferner wird durch die Rückstellkraft, die von der Vertikalkomponente der vom auf Pressung beanspruchten Abschnitt 17 auf das Sieb wirkenden Spannkraft 24 herrührt, das Sieb 3 vom zu bedruckenden Gegenstand abgetrennt. Somit hinterläßt die Tinte 20 gewünschte Tintenmuster 19 auf dem zu bedruckenden Gegenstand 16.
  • Bei diesem herkömmlichen Siebdruckverfahren entstehen jedoch die nachfolgenden Probleme.
  • Fig. 16 ist eine Schnittansicht, die schematisch einen Siebabschnitt zeigt, der sich in dem Zustand befindet, in dem ein Rakel eine Pressung für einen Siebdruck ausübt. In Fig. 16 ist mit 3 ein Sieb, mit 7 ein Rakel, mit 16 ein zu bedruckender Gegenstand, mit 17 ein unter Pressung stehender Abschnitt auf dem Sieb, mit 24 die Zugbeanspruchung und mit 22 die Haftfestigkeit bezeichnet. In Fig. 16 wird das Rakel 7 von rechts nach links bewegt.
  • Die Zugbeanspruchung 21 des Siebes 3 und die Haftfestigkeit 22 der Tinte (nicht gezeigt) zwischen dem Sieb 3 und dem zu bedruckenden Gegenstand 16 greifen an einem Abschnitt 17 am Sieb an, der unmittelbar nach dem Überstreichen des Rakels auf Pressung beansprucht wird. Wenn diese Haftfestigkeit 22 größer ist als die Vertikalkomponente der Zugkraft 21, kann sich der auf Pressung beanspruchte Abschnitt 17 auf dem Sieb nicht sofort vom zu bedruckenden Gegenstand trennen, nachdem das Sieb 3 überstrichen worden ist, und wird über eine bestimmte Zeitdauer gezwungen, so zu verbleiben, wie er ist. Diese fehlerhafte Siebabtrennung führt dazu, daß Tintenspritzer um die Muster herum gebildet werden, und führt zum Ablösen der Muster. Wenn eine elektrische Schaltung, beispielsweise eine Verdrahtung, auf eine Platine gedruckt wird, können derartige Musterablösungen zu einem Bruch der Verdrahtung, zu Kurzschlüssen oder manchmal zu anderen Defekten führen.
  • Als eine Art des Siebdruckverfahrens wird ferner in der Praxis ein Kontaktdruckverfahren (ohne Ausschnappen) durchgeführt. Bei diesem Kontaktdruck (ohne Ausschnappen) steht die Oberfläche eines Siebes vollständig in Kontakt mit einem zu bedruckenden Gegenstand. Hierauf sollten Druckmuster ausgebildet werden (d. h. mit einem Spalt von 0), wobei sich das Rakel in einem derartigen Zustand zum Drucken bewegen muß.
  • Beim herkömmlichen Kontaktdruck besteht ebenfalls das Problem einer fehlerhaften Siebabtrennung bei dem allgemeinen Siebdruckverfahren. Fig. 17 ist eine Ansicht, die einen Zustand zeigt, in dem das Sieb abgetrennt worden ist, nachdem das Rakel sich beim Kontaktdruck bewegen konnte. In Fig. 17 sind mit 3 ein Sieb, mit 19 ein Abschnitt, in dem eine Trennung durchgeführt wird, mit 17 ein zu bedruckender Gegenstand, mit 24 die Zugkraft und mit 22 die Haftfestigkeit bezeichnet.
  • Wenn beim Kontaktdruck das Sieb 3 und der zu bedruckende Gegenstand 17 voneinander getrennt werden, sind die auf den Trennabschnitt einwirkenden Kräfte die vom Sieb 3 vorgesehene Zugkraft 24 und die von der Tinte (nicht gezeigt) bewirkte Haftfestigkeit. Im Trennabschnitt 90 wird die Vertikalkomponente der Haftfestigkeit 22 größer als die Vertikalkomponente der Zugkraft 24 des Siebes 3, wenn ein spezieller Winkel für das Sieb 3 und den zu druckenden Gegenstand 17 eingestellt wird. Auf diese Weise ist es möglich. eine Trennung des Siebtrennabschnittes 90 vom Umfang des zu druckenden Gegenstandes in Richtung auf den mittleren Teil desselben durchzuführen, wenn die Trennung von dem zu druckenden Gegenstand 17 fortschreitet. Daher findet die Siebtrennung beginnend in der Ebene des zu druckenden Gegenstandes statt, und die Trennung im mittleren Teil tritt zuletzt auf. Aufgrund dieser ungleichen Siebabtrennung innerhalb der Ebene des zu druckenden Gegenstandes gibt es einige Fälle, in denen Tintenspritzer im Umfangsbereich der Muster verursacht werden, was zu Verdrahtungsbrüchen und Kurzschlüssen, die durch eine Trennung des Musters verursacht werden, oder zu anderen Defekten führt.
  • In der offengelegten japanischen Patentanmeldung 4-347636 ist eine Siebdruckvorrichtung beschrieben, bei der das Sieb von einem zu bedruckenden Gegenstand getrennt wird, während feine hochfrequente Vibrationen auf das Sieb ausgeübt werden, wenn dieses vom zu bedruckenden Gegenstand getrennt wird. In dieser Veröffentlichung wird davon ausgegangen, daß die Paste in einfacher Weise vom Druck entfernt werden kann.
  • Es besteht jedoch die Tendenz, daß sich die Vibrationen aufgrund des Harzfilmes nicht ausreichend auf das Sieb fortpflanzen, selbst wenn Vibrationen in einem solchen Zustand, wie vorstehend beschrieben, auf den Rahmen ausgeübt werden, da der Umfang des Siebes normalerweise durch die vom flexiblen Harzfilm ausgeübte Zugbeanspruchung am Siebrahmen fixiert ist. Insbesondere wird die Fortpflanzung der Vibrationen in dem Bereich unzureichend, in dem die Muster vorhanden sind. Es ist daher immer noch schwierig, die erforderliche Trennung in zufriedenstellender Weise zu bewerkstelligen. Um die Trennung zu fördern, sollte die Intensität der Vibrationen erhöht werden. Diese Erhöhung führt jedoch zu einer Herabsetzung der Genauigkeit, mit der die Kontur der Muster übertragen wird. Folglich entsteht erneut das Problem, daß die gewünschte Kontur der Muster nicht erhalten werden kann, obwohl die Trennung gefördert wird. Wie vorstehend beschrieben, ist daher dieses Verfahren, bei dem Vibrationen auf den Siebrahmen aufgebracht werden, im Hinblick auf die Tatsache, daß die gewünschte Trennung erreicht werden soll, während die zur Übertragung der Druckmuster erforderliche Präzision in einem guten Zustand gehalten wird, nicht zufriedenstellend. Es ist ferner denkbar, daß Vibrationen nicht nur auf den Siebrahmen, sondern auch direkt auf das Sieb aufgebracht werden. Auch hier bleibt jedoch das Problem in bezug auf die Förderung der Trennung und die Aufrechterhaltung einer genauen Musterübertragung ungelöst.
  • Die EP-A-0 325 401 beschreibt eine Schablonensiebdruckmaschine, bei der ein Rakel über ein Schablonensieb bewegt wird, von dem ein Ende fixiert ist und das andere Ende zur Durchführung einer Bewegung relativ zu der Ebene der zu bedruckenden Fläche gelagert ist.
  • Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Siebdruckvorrichtung und ein Siebdruckverfahren zu schaffen, mit denen die vorstehend beschriebenen technischen Probleme gelöst werden.
  • Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine Siebdruckvorrichtung und ein Siebdruckverfahren zu schaffen, mit denen im Vergleich zu einer herkömmlichen Siebdruckvorrichtung und einem herkömmlichen Siebdruckverfahren ein beständiger und gleichmäßiger Druck durchgeführt werden kann.
  • Noch ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur Herstellung einer Bilderzeugungsvorrichtung unter Einsatz des Siebdruckverfahrens der vorliegenden Erfindung und eine Bilderzeugungsvorrichtung, die durch Einsatz eines derartigen Herstellverfahrens erhältlich ist, zur Verfügung zu stellen.
  • Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Siebdruckvorrichtung gemäß Anspruch 1 geschaffen.
  • Gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Siebdruckverfahren gemäß Anspruch 15 zur Verfügung gestellt.
  • Zum besseren Verständnis der vorliegenden Erfindung werden beispielhafte Ausführungsformen derselben in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen erläutert. Hiervon zeigen:
  • Fig. 1 eine Ansicht, die schematisch eine Siebdruckvorrichtung zeigt, die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft (Trenneinrichtungen) durch Saugwirkung gemäß der vorliegenden Erfindung besitzt;
  • Fig. 2 eine Seitenansicht, die die Saugöffnung zeigt, die an die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft (Trenneinrichtungen) durch Saugwirkung angeschlossen ist, welche bei einer Siebdruckvorrichtung vorgesehen ist, die mit derartigen Saugeinrichtungen ausgestattet ist;
  • Fig. 3 eine Ansicht, die schematisch eine Siebdruckvorrichtung zeigt, die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft (Trenneinrichtungen) gemäß der vorliegenden Erfindung besitzt, die von einem starren Element gebildet werden;
  • Fig. 4 eine Schnittansicht, die die Umgebung des Rakelbewegungsbereiches einer Siebdruckvorrichtung zeigt, die mit Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft (Trenneinrichtungen) unter Verwendung eines starren Elementes versehen ist;
  • Fig. 5 eine Schnittansicht, die eine Siebdruckvorrichtung zeigt, die mit Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft (Trenneinrichtungen) unter Verwendung eines hinter dem Rakel angeordneten Magneten versehen ist;
  • die Fig. 6A und 6B Draufsichten, die in schematischer Weise eine Position zur Erzeugung einer äußeren Kraft bei einem Druckverfahren zeigen, bei dem eine Druckvorrichtung der vorliegenden Erfindung Verwendung findet;
  • Fig. 7 eine Schnittansicht von Fig. 6A entlang Linie 7-7;
  • Fig. 8 eine Ansicht, die schematisch eine Siebdruckvorrichtung zeigt, mit der ein Kontaktsiebdruck durchgeführt werden kann und die mit Schienen versehen ist, welche parallel innerhalb der Ebene des Siebes als bewegliche Magneteinrichtungen bewegbar sind;
  • Fig. 9 eine Ansicht, die schematisch eine Siebdruckvorrichtung zeigt, mit der ein Kontaktsiebdruck durchgeführt werden kann und die mit einem Schaft versehen ist, der vertikal in der Ebene des Siebes als bewegliche magnetische Einrichtung bewegbar ist;
  • Fig. 10 eine Ansicht, die schematisch eine Siebdruckvorrichtung zeigt, die mit Einrichtungen zur drehbaren Aufbringung einer äußeren Kraft unter Verwendung von Scharnieren versehen ist;
  • Fig. 11 eine Ansicht, die schematisch eine Siebdruckvorrichtung zeigt, mit der ein Kontaktsiebdruck durchgeführt werden kann und die mit Einrichtungen zum Drehen einer Magnetplatte um den vertikalen Schaft innerhalb der Ebene des Siebes als bewegliche magnetische Einrichtungen versehen ist;
  • die Fig. 12A und 12B eine Draufsicht und eine Schnittansicht eines elektronenemittierenden Elementes vom Oberflächenleitungstyp, bei dem eine Elektronenquelle Verwendung findet;
  • die Fig. 13A bis 13E Draufsichten, die das elektronenemittierende Element vom Oberflächenleitungstyp, bei dem eine Elektronenquelle Verwendung findet, und dessen in einer Matrix ausgebildete Verdrahtung zeigen, sowie Ansichten, die schematisch die Herstellschritte einer Elektronenquelle zeigen;
  • Fig. 14 eine perspektivische Ansicht, die schematisch das Überstreichen des Rakels bei einer herkömmlichen Siebdruckvorrichtung zeigt;
  • Fig. 15 eine Schnittansicht, die schematisch eine herkömmlich ausgebildete Siebdruckvorrichtung zeigt;
  • Fig. 16 eine Schnittansicht, die schematisch den von einem Rakel auf Pressung beanspruchten Abschnitt zeigt, wenn mit dem Rakel bei einer herkömmlichen Siebdruckvorrichtung überstrichen wird; und
  • Fig. 17 eine Ansicht, die schematisch das Prinzip des Siebdruckes zeigt.
  • Bei einer Siebdruckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung umfaßt die Einrichtung zur Aufbringung einer äußeren Kraft, die in bezug auf das Sieb beweglich ist. Einrichtungen, die beweglich sind, weil sie mit dem Rakel fest verbunden sind, Einrichtungen, die im wesentlichen parallel zur Ebene des Siebes bewegbar sind. Einrichtungen, die in einer Richtung im wesentlichen senkrecht zur Ebene des Siebes bewegbar sind, Einrichtungen, die im wesentlichen um einen Schaft drehbar sind, der sich senkrecht zur Ebene des Siebes erstreckt, Einrichtungen, die um einen Schaft bewegbar sind, der im wesentlichen parallel zur Ebene des Siebes verläuft, und Einrichtungen, die unter Verwendung von Scharnieren drehbar sind.
  • Bei einem Siebdruckverfahren der vorliegenden Erfindung umfaßt die in bezug auf das Sieb verschiebbare Position die Position, die durch feste Verbindung mit dem sich bewegenden Rakel verschiebbar ist, die Position, die im wesentlichen parallel zur Ebene des Siebes verschiebbar ist, die Position, die in einer Richtung im wesentlichen senkrecht zur Ebene des Siebes verschiebbar ist, die Position, die um den Schaft im wesentlichen senkrecht zur Ebene des Siebes drehbar ist, die Position, die um den Schaft im wesent lichen parallel zur Ebene des Siebes drehbar ist, und die Position, die unter Verwendung von Scharnieren drehbar ist.
  • Gemäß den zu beschreibenden Ausführungsformen ist es möglich, die zwischen dem Sieb und dem zu bedruckenden Gegenstand erzeugte Haftfestigkeit zu einem optimalen Zustand auszugleichen, indem eine Einrichtung zur Aufbringung einer äußeren Kraft Verwendung findet, die in bezug auf das Sieb beweglich ist. Auf diese Weise wird eine extrem feine Trennung und eine gute Genauigkeit in bezug auf die Übertragung der Druckmuster erzielt.
  • Es wird nunmehr die vorliegende Erfindung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen erläutert.
  • Die Fig. 1 bis 11 sind Ansichten, die schematisch ein Ausführungsbeispiel einer Siebdruckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zeigen.
  • Die Fig. 1, 2 und 6 zeigen eine Siebdruckvorrichtung, deren Einrichtung zur Aufbringung einer äußeren Kraft dadurch realisiert ist, daß Saugkraft zur Verfügung gestellt wird.
  • In den Fig. 1, 2 und 6 sind mit 1 ein Druckerrahmen, mit 2 ein Siebrahmen und mit 3 ein Sieb (oder eine Maske) bezeichnet. Der Siebrahmen 2 ist an der Siebrahmenbefestigung (nicht gezeigt) des Druckerrahmens 1 fixiert. Mit 4 ist eine Saugöffnung, mit 5 eine Einrichtung zur Einstellung der Position der Saugöffnung, mit 6 ein Abführrohr, das an eine Einrichtung zur Erzeugung einer Saugwirkung, beispielsweise eine Vakuumpumpe (nicht gezeigt), angeschlossen ist, mit 7 ein Rakel, mit 8 eine Einrichtung zur Einstellung der Rakelhöhe, mit 9 ein Kopf und mit 10 eine Kopf schiene bezeichnet. Der Kopf 9 kann sich auf der Kopfschiene 10 mit Hilfe eines Antriebsmechanismus, beispielsweise eines Motors (nicht gezeigt), bewegen. Mit 11 ist eine Kopfschienenbefestigung und mit 12 ein Tisch zur Fixierung eines zu bedruckenden Gegenstandes (nicht gezeigt) bezeichnet. Der Spalt zwischen dem Tisch 12 und dem Sieb 3 wird mit Hilfe einer Einrichtung zur Einstellung der Tischposition, die nicht gezeigt ist, eingestellt. Sowohl die Einrichtung zur Einstellung der Saugöffnungsposition als auch die Einrichtung zur Einstellung der Rakelposition (nicht gezeigt) sind am Kopf 9 installiert, wobei die Saugöffnung 4 mit dem Rakel fest verbunden ist, so daß sie zusammen mit dem Überstreichen des Rakels 7 bewegt werden kann. Durch die feste Verbindung der Saugöffnung mit dem Rakel wird die äußere Kraft auf stabile Weise dem Sieb zugeführt, so daß die Druckmuster mit guter Genauigkeit über den gesamten Bereich der Siebmuster überführt werden. Durch die Einrichtung 5 zur Einstellung der Saugöffnungsposition können der Winkel und die Distanz der Saugöffnung 4 willkürlich in bezug auf das Sieb 3 eingestellt werden. Daher ist es möglich, die gewünschte Trennung ohne Saugbeanspruchung des Siebes durchzuführen, wenn das Rakel 7 seine Bewegung durchführt, wenn nur eine geeignete Sauggeschwindigkeit eingestellt ist. Durch Anordnung von Nuten o. ä. am vorderen Ende der Saugöffnung oder eines Elementes (Spalteinstellelement) mit Luftkanälen, das in der Lage ist, einen speziellen Spalt am vorderen Ende der Saugöffnung aufrechtzuerhalten, ist es möglich, das Sieb auf konstante Weise mit einer derartigen speziellen äußeren Kraft zu beaufschlagen, so daß eine weitere Verbesserung der gewünschten Genauigkeit, mit der die Muster übertragen werden können, erreicht wird.
  • Die Fig. 3 und 4 sind eine perspektivische Ansicht, die einen Drucker zeigt, bei dem ein starres Element als Einrichtung zur Aufbringung einer äußeren Kraft Verwendung findet und bei dem die Siebtrennung durch Aufbringung von dessen mechanischer Kraft (Widerstand) verwirklicht wird, sowie eine Schnittansicht, die die Umgebung des Überstreichbereiches des Rakels zeigt. In den Fig. 3 und 4 ist mit 13 ein durch ein starres Teil ausgebildetes Element bezeichnet, das zur Durchführung der Trennung verwendet wird. Mit 14 ist ein Lagerelement, das bei der Trennung eingesetzt wird, mit 15 ein Verbindungselement und mit 16 ein zu bedruckender Gegenstand bezeichnet. Das Element 13 zur Durchführung der Trennung ist zwischen den zu bedruckenden Gegenstand 16 und das Sieb 3 eingesetzt. Wenn hierbei das Element 13 zur Durchführung der Trennung verwendet wird, sollten die Muster unter keinen Umständen beschädigt werden, nachdem mit dem Rakel überstrichen worden ist. Die Oberfläche des Siebes sollte gleichmäßig abgetrennt werden. Es wird bevorzugt, das Element 13 zur Durchführung der Trennung an zwei Stellen anzuordnen, wobei der Überstreichbereich dazwischen liegt. Ein Element 13 zur Durchführung der Trennung dieser Art ist mit dem Kopf zusammen mit dem Rakel einstückig ausgebildet, wobei es mit Hilfe eines Verbindungselementes 15 mit dem Rakel 7 fest verbunden ist. Wenn es nicht integriert ist, sollte eine Einrichtung zum Antreiben des starren Elementes vorgesehen sein, so daß das Element zur Durchführung der Trennung sich mit der gleichen Geschwindigkeit wie das Rakel bewegen kann und es somit möglich wird, das Element mit dem Rakel zu verriegeln. Um jegliche Beschädigung des Siebes zu vermeiden, ist das vordere Ende des starren Elementes mit einer Krümmung versehen und mit einem Polymer, das Fluor enthält, wie Teflon, beschichtet. Es ist wünschenswert, das Element in einem Zustand anzuordnen, in dem es im wesentlichen parallel zu dem zu bedruckenden Gegenstand angeordnet ist.
  • Fig. 5 ist eine Schnittansicht, die den Hauptteil eines Druckers zeigt, wenn ein Magnet zur Bereitstellung einer äußeren Kraft verwendet wird.
  • In Fig. 5 ist mit 27 ein Magnet zum Anziehen des Siebes, mit 28 ein Lagerelement für den Magneten 27, mit 29 eine Einrichtung zur Einstellung der Höhe des Magneten, mit 7 ein Rakel, mit 30 ein Lagerelement für das Rakel, mit 8 eine Einrichtung zur Einstellung der Höhe des Rakels, mit 9 ein Kopf, mit 2 ein Siebrahmen, mit 3 ein Sieb, mit 16 ein zu bedruckender Gegenstand, mit 12 ein Tisch und mit 20 eine Tinte bezeichnet. Das Element 28 zur Lagerung des Magneten ist zusammen mit dem Element 30 zur Lagerung des Rakels am Kopf 9 fixiert. Daher kann sich der Magnet zum Anziehen des Siebes zusammen mit der Überstreichbewegung des Rakels 7 bewegen. Auf diese Weise ist es möglich, die Genauigkeit zu erhöhen, mit der die Muster übertragen werden, da auf konstante Weise eine äußere Kraft auf das Sieb ausgeübt wird.
  • Der Magnet 27 zum Anziehen des Siebes ist so am Magnetlagerelement 28 fixiert, daß er unter einem willkürlich ausgewählten Winkel an der Oberfläche des Tisches 12 installiert werden kann. Des weiteren weist der Magnet 27 die Einrichtung 29 zur Einstellung einer willkürlichen Höhe des Magneten in bezug auf den Tisch 12 auf. Mit der vorstehend beschriebenen Konstruktion kann der Magnet 27 auf willkürliche Weise unter einem Winkel in einem Abstand zum Rakel angeordnet werden. Es ist somit möglich, die Trennung ohne jegliche Berührung ohne jeglichen Kontakt mit dem Sieb durchzuführen, wenn das Rakel die Überstreichbewegung durchführt, wenn nur ein Magnet mit einer geeigneten Magnetkraft ausgewählt ist. Wenn in diesem Fall ein Elektromagnet als Magnet verwendet wird, kann das Druckvermögen verbessert werden, da dessen Magnetkraft willkürlich ausgewählt oder auf Null eingestellt werden kann. Wenn der Magnet 27 größer ist als die Breite des Rakels (Länge in einer Richtung senkrecht zur Ebene der Fig. 5), ist es möglich, den gesamten vom Rakel überstrichenen Bereich über die Magnetkraft anzuziehen. Die Größe der Pressung des Rakels 7 kann über das Rakellagerelement 30 mit Hilfe der Einrichtung 8 zur Einstellung der Höhe des Rakels willkürlich eingestellt werden. Die Muster werden ausgebildet, wenn das Rakel sich in Fig. 5 von rechts nach links bewegt.
  • Wie vorstehend erläutert, kann der Trennungszustand durch die Bereitstellung der äußeren Kraft verbessert werden. Es ist ferner möglich, dies weiter zu verbessern, indem die Maschen des Siebes aus rostfreiem Stahl gewählt werden. Wenn die Maschengröße gering ist, obwohl der Drahtdurchmesser groß ist, kann Tinte das Sieb nicht in einem guten Zustand passieren. Wenn daher die Verdrahtung ausgebildet wird, treten neben anderen Defekten Brüche auf. Insbesondere tritt ein Problem auf, wenn eine sehr präzise feine Verdrahtung in einer Matrix für ein Flachdisplay mit einer Fläche von 40" oder mehr ausgebildet wird. Es wird dabei bevorzugt, die Maschengröße und den Durchmesser eines für ein zu diesem Zweck dienenden Siebes geeigneten Drahtes mit 300 mesh oder mehr und 20 um oder weniger festzulegen. Für die Ausbildung eines besonders genauen Musters wird bevorzugt, ein Sieb aus rostfreiem Stahl einer Maschengröße von 350 mesh oder mehr mit einem Drahtdurchmesser von 16 um oder weniger zu verwenden.
  • In Verbindung mit den Fig. 5 und 6 wird nunmehr ein Druckverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung beschrieben.
  • Die Fig. 6A und 6B sind Draufsichten, die die Umgebung eines Rakels beim Überstreichen des Siebes zeigen. Fig. 6A zeigt den Fall, bei dem die äußere Kraft eine Saugkraft oder mechanische Kraft ist, die die Druckmuster beeinflussen kann. Fig. 6B zeigt den Fall, bei dem die äußere Kraft eine Magnetkraft o. ä. ist, deren auf die Tinte ausgeübter Einfluß extrem gering oder gleich Null ist. Fig. 7 ist eine Schnittansicht entlang Linie 7-7 in Fig. 6A.
  • Gemäß den Fig. 6A und 6B führt das Rakel seine Überstreichbewegung in der durch die Pfeile angedeuteten Richtung durch. Mit 3 ist ein Sieb, mit 7 ein Rakel, mit 16 ein zu bedruckender Gegenstand, mit 24 die Zugkraft, mit 25 die Haftfestigkeit bezeichnet. Mit 104-1 und 104-2 sind Abschnitte bezeichnet, in denen die äußere Kraft aufgebracht wird, wobei diese äußere Kraft in der Richtung eines Ausgleichs der Haftfestigkeit zwischen dem Sieb und dem zu bedruckenden Gegenstand beim Überstreichen des Rakels aufgebracht wird. Mit 105 ist ein Abschnitt bezeichnet, der schematisch eine fehlerhafte Siebtrennung kennzeichnet, die einer herkömmlichen fehlerhaften Siebtrennung entspricht. Mit 26 ist eine äußere Kraft bezeichnet. Der fehlerhafte Abschnitt 105 der herkömmlichen Siebtrennung befindet sich auf einem gedruckten Abschnitt auf dem Sieb unmittelbar nach dem Überstreichen des Rakels. Dies ist auf die Tatsache zurückzuführen, daß die auf das Sieb ausgeübte Adhäsionskraft 25 der Tinte größer ist als die Vertikalkomponente der Zugkraft, mit der das Sieb relativ zur Siebebene beaufschlagt wird. Die Abschnitte 104-1 und 104-2, in denen die äußere Kraft aufgebracht wird, befinden sich hinter dem sich bewegenden Rakel, ferner eng benachbart zum Rakel. Wenn jedoch die aufgebrachte äußere Kraft eine mechanische Kraft ist, wie sie beispielsweise durch eine Saugkraft oder durch ein starres Element erzeugt wird, sollte der Abschnitt 104-1 unter keinen Umständen einen Bereich umfassen, in dem das Rakel seine Überstreichbewegung durchführt oder in dem die Siebmuster gebildet werden. Wenn im Gegensatz dazu die äußere Kraft eine Magnetkraft o. ä. ist, sollte der Abschnitt 104-2 vorzugsweise den Bereich abdecken, in dem das Rakel die Überstreichbewegung durchführt. Der Unterschied zwischen den in den Fig. 6A und 6B dargestellten Fällen besteht darin, daß gemäß Fig. 6A die äußere Kraft eine Saugkraft o. ä. ist und es unmöglich ist, die Muster in einem guten Zustand zu übertragen, wenn die äußere Kraft in dem Bereich des Siebes für die Druckmusterausbiidung aufgebracht wird, da die Tinte abgesaugt oder abgestreift wird, wenn das Rakel einen derartigen Bereich zum Drucken überstreicht, während bei dem Fall der Fig. 6B die äußere Kraft eine Magnetkraft o. ä. ist, die die Übertragung der Tinte kaum beeinflußt, so daß es möglich ist, einen großen Bereich für eine ausreichende Aufbringung der äußeren Kraft in einem gewünschten Zustand zur Verfügung zu stellen.
  • Der Abschnitt, in dem die äußere Kraft aufgebracht wird, kann sich auf dem Sieb zusammen mit dem sich bewegenden Rakel verschieben. Wie in Fig. 7 gezeigt, wird eine solche Anordnung zum Verschieben durch eine feste Verbindung mit dem überstreichenden Rakel erreicht, wobei ein konstanter Abstand zwischen dem Rakel und dem Anteil der aufgebrachten äußeren Kraft aufrechterhalten wird. Auf diese Weise ist es in den Abschnitten 104-1 oder 104-2, in denen die äußere Kraft aufgebracht wird, möglich, die äußere Kraft 26 so aufzubringen, daß sie in einer Richtung zum Ausgleich der Haftfestigkeit 25 wirkt. Somit kann die Vertikalkomponente der auf das Sieb aufgebrachten Zugkraft in bezug auf die Ebene des Siebes gleichmäßig kompensiert werden, so daß die Siebtrennung besser und gleichzeitig die Musterausbildung beständiger und gleichmäßiger durchgeführt werden kann.
  • Für das Siebdruckverfahren der vorliegenden Erfindung ist es möglich, jede beliebige Einrichtung als Einrichtung zur Aufbringung der äußeren Kraft einzusetzen, die die Siebtrennung fördern kann, wenn eine derartige Einrichtung nur keinerlei Einflüsse ausübt, die die Tintenmuster oder das Sieb beschädigen können. Es ist ferner möglich, die Einrichtung zur Aufbringung der äußeren Kraft entweder auf der Ebene des Siebes auf der Seite eines zu bedruckenden Gegenstandes oder auf der Seite des Rakels anzuordnen.
  • In Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen wird nunmehr ein Kontaktdruckverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung beschrieben.
  • Die Fig. 8 bis 11 sind Ansichten, die Kontaktsiebdruckvorrichtungen der vorliegenden Erfindung zeigen.
  • In Fig. 8 ist mit 1 ein Druckerrahmen, mit 2 ein Siebrahmen und mit 3 ein durch magnetisches Material gebildetes Sieb bezeichnet.
  • Der Siebrahmen 2 ist an der Siebrahmenbefestigung (nicht gezeigt) des Druckerrahmens 1 fixiert. Mit 7 ist ein Rakel, mit 74 ein Lagerkopf für das Rakel, mit 8 eine Einrichtung zur Einstellung der Höhe des Rakels und mit 71 eine Magnetplatte bezeichnet, die das Rakel anzieht und deren Größe größer ist als der Bereich, in dem das Rakel seine Überstreichbewegung durchführt. Als Magnetplatte für einen Drucker, der als Drucker der vorliegenden Erfindung Verwendung finden kann, ist jede Platte gut genug, wenn sie nur eine Magnetkraft zur Verfügung stellt, mit der die Sieboberfläche gehalten werden kann, wenn sie vom zu bedruckenden Gegenstand getrennt wird, und wenn sie eine Größe besitzt, die groß genug ist, um den Bereich abzudecken, in dem das Rakel seine Überstreichbewegung durchführt. Es kann ein Permanentmagnet oder ein Elektromagnet Verwendung finden. Wie vorstehend beschrieben, wird ein Elektromagnet in bezug auf seine Einstellmöglichkeit der Magnetkraft und von anderen Faktoren bevorzugt. Mit 72 ist der Magnetkopf und mit 73 sind Einrichtungen zur Einstellung der Höhen und Winkel der Magnetplatte 71 und des Siebes 3 bezeichnet. Mit 10 ist eine Kopfschiene bezeichnet, die als Einrichtung zur Bewegung des Magneten bis zu einer vorgegebenen Position im oberen Teil des Siebes dient. 11 ist eine Befestigung für die Kopfschiene, die es für den Rakellagerkopf 74 und den Magnetlagerkopf 72 möglich macht, sich auf der Kopfschiene 10 zu bewegen. Daher bilden in Fig. 8 das Rakel 7, der Rakellagerkopf 74, die Einrichtung 9 zur Einstellung der Rakelhöhe, die Kopfschiene 10 und die Einrichtung 11 zur Fixierung der Kopfschiene eine Rakelüberstreicheinrichtung. Es ist gut genug, wenn die Einrichtungen zur Bewegung der Magnetplatte und die Einrichtungen 73, die für die Siebdruckvorrichtung der vorliegenden Erfindung verwendet werden, in einem manuellen mechanischen Manöver eingestellt werden.
  • Beispielsweise sind die Einrichtung zur Einstellung der Position des Rakelabkratzers für eine übliche Siebdruckvorrichtung auch in ausreichender Weise zum Anziehen des Siebes verwendbar.
  • Mit der in Fig. 8 dargestellten Konstruktion sind der Magnetlagerkopf 72 und der Rakellagerkopf 74 in der Lage, eine Überstreichbewegung auf der Kopfschiene 10 in der durch die Pfeile angegebenen Richtung durchzuführen. Somit führt der Magnetlagerkopf 72 eine Überstreichbewegung durch, nachdem das Rakel 7 das Sieb 3 überstrichen hat, indem ein Überstreichen des Rakellagerkopfes 74 möglich gemacht wurde, um zu ermöglichen, daß die Magnetplatte 71 auf die Höhe absinkt, auf der das Sieb 3 adsorbiert werden kann. Mit einer derartigen Konstruktion ist es möglich, die Magnetplatte 71 auf dem Bereich des Siebes 3, auf dem das Rakel 7 seine Überstreichbewegung durchführt, anzuziehen. Mit 12 ist ein Tisch (Druckständer) bezeichnet, der einen zu bedruckenden Gegenstand (nicht gezeigt) lagert. Durch Einrichtungen zur Einstellung der Tischposition (nicht gezeigt) ist es möglich, den Spalt zwischen dem Tisch 12 und dem Sieb 3 einzustellen. Bei dieser Konstruktion kann das Sieb 3, das einstückig mit der Magnetplatte ausgebildet ist, von dem zu bedruckenden Gegenstand getrennt werden, so daß eine gute Siebtrennung möglich wird.
  • Obwohl vorstehend Einrichtungen zur Bewegung der Magnetplatte für die Siebdruckvorrichtung der vorliegenden Erfindung beschrieben wurden, die sich in der gleichen Richtung wie die Bewegungsrichtung des in Fig. 8 gezeigten Rakels bewegen können, ist die Erfindung hierauf nicht beschränkt. Es ist möglich eine Magnetplatte zu verwenden, die parallel zur Ebene des Siebes bewegbar ist, oder eine Magnetplatte, die um den Schaft 85 drehbar ist, der sich senkrecht zur Sieboberfläche erstreckt und beispielsweise als Einrichtung zur Bewegung der Magnetplatte dient, wie in Fig. 11 gezeigt. Des weiteren ist die vorliegende Erfindung nicht darauf beschränkt, daß die Magnetplatte parallel zur Ebene des Siebes bewegbar ist, wie vorstehend beschrieben. Bei spielsweise ist ein Lagerelement 85 für den Magnetplattenlagerkopf als Einrichtung zur Lagerung der Magnetplatte vorgesehen, wie in Fig. 9 gezeigt. Hierbei bewegt sich die Magnetplatte in einer Richtung senkrecht zur Ebene des Siebes über ein derartiges Lagerelement, oder die Magnetplatte kann sich um den Schaft parallel zur Ebene des Siebes drehen, während ein scharnierförmiges Lagerelement 85 für den Magnetplattenlagerkopf als Einrichtung zur Bewegung der Magnetplatte vorgesehen ist, wie in Fig. 10 gezeigt.
  • Es wird nunmehr ein Druckverfahren unter Verwendung einer Kontaktsiebdruckvorrichtung der vorliegenden Erfindung beschrieben.
  • Während ein Sieb in engem Kontakt mit einem zu bedruckenden Gegenstand steht, wird Tinte auf das Sieb aufgebracht. Dann läßt man ein Rakel mit Hilfe einer Rakelüberstreicheinrichtung das Sieb überstreichen, um Druckmuster des zu bedruckenden Gegenstandes zu erzeugen. Hiernach führt man eine Bewegung das Rakels über das Sieb mit Hilfe einer Einrichtung zur Bewegung der Magnetplatte durch. Nachdem das Sieb auf diese Weise von der Siebabzieheinrichtung an die Magnetplatte angezogen worden ist, werden der zu bedruckende Gegenstand und das an der Magnetplatte gehaltene Sieb getrennt. Auf diese Weise wird nach dem Überstreichen des Rakels das Sieb vom zu bedruckenden Gegenstand getrennt, nachdem das Sieb von der Magnetplatte angezogen werden konnte, so daß es auf diese Weise möglich wird, die Siebtrennung in gleichmäßiger Weise zumindest in dem Bereich durchzuführen, der die zu druckenden Muster enthält, und eine ungleichmäßige Siebtrennung zu verhindern, die beim herkömmlichen Siebdruck ein Problem darstellte. Auf diese Weise können Tintenspritzer um die erzeugten Muster herum und ein Ablösen der Muster verhindert werden. Insbe sondere wenn eine Verdrahtung auf eine Basisplatine (oder ein Substrat) für die Erzeugung einer bedruckten Schaltung gedruckt wird, ist es möglich, Musterdefekte zu vermeiden, die zu einem Bruch der Verdrahtung, Kurzschlüssen oder anderen Defekten führen können.
  • Als Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung unter Verwendung einer Druckvorrichtung der vorliegenden Erfindung werden nunmehr Verfahren zur Herstellung einer Elektronikquellenplatine unter Verwendung eines elektronenemittierenden Elementes vom Oberflächenleitungstyp und zur Herstellung einer Bilderzeugungsvorrichtung beschrieben.
  • Die Fig. 12A und 12B sind Ansichten, die ein typisches Beispiel eines elektronenemittierenden Elementes vom Oberflächenleitungstyp zeigen. In den Fig. 12A und 12B sind mit 201 ein Substrat, mit 202 und 203 Elementenelektroden zum Erhalten von elektrischen Anschlüssen, mit 204 ein leitender Dünnfilm und mit 205 ein elektronenemittierender Abschnitt bezeichnet. Bei dem elektronenemittierenden Element vom Oberflächenleitungstyp beträgt der Spalt zwischen dem vorstehend erwähnten Paar von Elektroden 202 und 203 einige Hundert Angström bis einige Hundert um. Es wird ferner bevorzugt, die Filmdicke der Elementelektroden 202 und 203 zwischen einigen Hundert Angström und einigen Hundert um zu halten. Für den leitenden Dünnfilm 204 wird bevorzugt, einen feinkörnigen Film zu verwenden, der aus feinen Körnern besteht, um gute elektronenemittierende Eigenschaften zu erhalten. Die Filmdicke des Elementes kann über die Stufenabdeckung für die Elementelektroden 202 und 203, den Widerstandswert der Elementelektroden 202 und 203 und andere Faktoren festgelegt werden. Vorzugsweise sollte die Filmdicke einige bis einige Tausend Angström betragen.
  • Die Materialien, aus denen der leitende Dünnfilm erzeugt wird, sind Metalle, wie Pd, Pt, Au, Ag, Ru, Ti, In, Cu, Cr, Fe, Zn, Sn, Ta, W, Pb o. ä., Oxide, wie PdO, SnO&sub2;, In2O&sub3;, PbO, Sb&sub2;O&sub3; o. ä., Boride, wie HfB&sub2;, CrB&sub2;, LaB&sub6;, CeB&sub6;, YB&sub4;, GdB&sub4; o. ä., Carbide, wie TiC, ZrC, HfC, TaC, SiC, WC o. ä., Nitride, wie TiN, CrN, HfN o. ä., Si, Ge und andere Halbleiter sowie Kohlenstoff. Diesbezüglich sollen die vorstehend beschriebenen feinen Körner einem Film entsprechen, für den eine Vielzahl von feinen Körnern zusammengestellt ist, und einem Film, der eine solche Struktur hat, daß nicht nur die feinen Körner individuell dispergiert sind, sondern daß auch diese Körner benachbart zueinander oder in einem überlagerten Zustand (einschließlich Inseln) angeordnet sind. Der Korndurchmesser der feinen Körner beträgt einige bis zu einigen Tausend Angström, vorzugsweise 10 bis 200 Angström.
  • Der elektronenemittierende Abschnitt 205 ist ein Riß mit hohem Widerstand, der teilweise im leitenden Dünnfilm 204 ausgebildet ist. Er wird durch Erregungsformen o. ä. ausgebildet. Auch im Riß sind leitende feine Körner mit einem Durchmesser von einigen bis zu einigen Tausend Angström enthalten. Ferner können der elektronenemittierende Abschnitt 205 und der leitende Dünnfilm in dessen Nachbarschaft in einigen Fällen Kohlenstoff oder Kohlenstoffverbindungen enthalten.
  • Um die tatsächliche Elektronenemission unter Verwendung dieses elektronenemittierenden Elementes vom Oberflächenleitungstyp zu erreichen, ist es erforderlich, das elektronenemittierende Element in einem Vakuumbehälter anzuordnen. Eine Stirnplatte aus fluoreszierendem Material, Metall o. ä. wird so angeordnet, daß sie der Elektronenquelle mit dem elektronenemittierenden Element, das auf dem auf diese Weise erhaltenen Substrat ausgebildet ist, gegenüberliegt, Danach wird ein Displaypaneel mit evakuiertem Inneren hergestellt. Durch Anlegen einer Spannung über die Elementelektroden wird es möglich, ein Display zu erhalten. Durch Anordnung einer Vielzahl von elektronenemittierenden Elementen ist es möglich, ein Bilddisplay zu erhalten.
  • [Ausführungsformen] Ausführungsform 1
  • Eine Musterausbildung wird mit Hilfe eines in Fig. 1 gezeigten Druckers gemäß der vorliegenden Erfindung durchgeführt. Ein Satz von linearen Mustern wird so angeordnet, daß er ein Siebmuster bildet. Die Ausbildung eines derartigen linearen Musters ist derart, daß sich ein Satz von 100 um, 300 um und 500 um Breite und 30 cm Länge in Abständen von 2000 um wiederholt. Die Gesamtfläche des Siebmusters beträgt 20 cm · 30 cm.
  • Silberpaste mit einer Viskosität von 400.000 cps wird zum Drucken verwendet. Das verwendete Rakel ist ein Polyurethan-Flachrakel mit einer Härte von 80º. Was die Maschengröße und den Drahtdurchmesser für die Siebplatte anbetrifft, so werden drei Arten von Sieben aus rostfreiem Stahl verwendet, deren Maschengröße und Drahtdurchmesser 230 mesh, 25 um, 300 mesh, 20 um und 350 mesh, 16 um betragen. Das zu bedruckende Gegenstandselement ist Natronkalkglas. Folgende Druckbedingungen kommen zur Anwendung: Spalt 2 mm, Einpreßgröße 2 mm und Rakelgeschwindigkeit 100 mm/s. Nach dem Drucken wird bei 600ºC 10 Minuten lang gebrannt. Das Absaugen wird mit einem Durchsatz von 50 l/min an jeder der Absaugöffnungen durchgeführt, wobei die Absaugöffnungen in einem Abstand von etwa 5 mm vom Sieb angeordnet werden. Die Siebabtrennung bei diesem Druck ist gut. Wenn die über tragenen Muster unter Verwendung eines Fotomikroskops beobachtet werden, kann festgestellt werden, daß die Muster mit guter Genauigkeit über den gesamten Bemusterungsbereich übertragen worden sind, was ein gutes Ergebnis darstellt. Als Vergleichsbeispiel wurde unter den gleichen Bedingungen gedruckt, jedoch ohne Saugeffekt. Hierbei wurde eine schlechte Siebabtrennung im mittleren Teil des Siebmusters beobachtet. Die Vergleichsergebnisse sind in Tabelle 1 aufgeführt.
  • Ausführungsform 2
  • Ein Drucker, der mit einer Absaugöffnung versehen ist, die einen Lufteinlaß an ihrem vorderen Ende aufweist, wie in Fig. 1 und Fig. 2 gezeigt, wird erfindungsgemäß verwendet. Die Ausbildung eines Musters wird wie bei der Ausführungsform 1 durchgeführt. Zum Absaugen wird die Absaugöffnung in engen Kontakt mit dem Bereich des Siebes gebracht, in dem kein Muster ausgebildet wird. Dann wird der Druckvorgang durchgeführt, wobei die Absaugöffnung in engem Kontakt mit diesem Bereich gehalten wird. Dieser Druck zeigt eine bessere Gleichmäßigkeit der Siebabtrennung als bei der Ausführungsform 1. Wenn die übertragenen Muster mit Hilfe eines Fotomikroskopes beobachtet werden, kann festgestellt werden, daß die Übertragung mit guter Genauigkeit im gesamten Bemusterungsbereich erfolgt ist. Es wird ein gutes Ergebnis erhalten, wie in Tabelle 1 gezeigt.
  • Ausführungsform 3
  • Ein mit einem starren Element versehener Drucker gemäß Fig. 3 wird erfindungsgemäß verwendet. Die Musterausbildung wird wie bei Ausführungsform 1 durchgeführt. Das starre Element wird unter Verwendung von zwei mit Teflon (DuPont) beschichteten Aluminiumplatten, die jeweils 0,2 mm dick sind und einen Krümmungsradius von 0,1 mm besitzen, der für ihr vorderes Ende vorgesehen ist, hergestellt. Der Druck wird derart durchgeführt, daß das Trennelement (starres Element) so fixiert wird, daß dessen vorderes Ende in Kontakt mit einer Stelle steht, die 10 mm hinter dem Abschnitt liegt, an dem es gegen das Sieb stößt, wenn das Rakel seine Überstreichbewegung durchführt, wobei die Bewegungsgeschwindigkeit des Rakels und die Bewegungsgeschwindigkeit des Trennelementes (starren Elementes) auf den gleichen Wert eingestellt werden. Wie bei Ausführungsform 1 zeigt dieser Druck eine gute Trennung. Wenn die übertragenen Muster mit Hilfe eines Fotomikroskopes beobachtet werden, kann festgestellt werden, daß die Übertragung mit guter Genauigkeit im gesamten Bemusterungsbereich erfolgt ist. Es wird somit ein gutes Ergebnis erhalten, wie in Tabelle 1 gezeigt.
  • Ausführungsform 4
  • Erfindungsgemäß wird ein Drucker verwendet, der einen Magneten aufweist, der fest hinter dem Rakel angeordnet ist, wie in Fig. 5 gezeigt. Wie bei der Ausführungsform 1 wird eine Mustererzeugung durchgeführt. Ein Permanentmagnet von 800 Gauss findet Verwendung. Auch bei diesem Druck ist die Siebabtrennung gut, wie bei Ausführungsform 1. Wenn die übertragenen Muster mit Hilfe eines Fotomikroskopes beobachtet werden, kann festgestellt werden, daß die Übertragung mit guter Genauigkeit im gesamten Bemusterungsbereich erfolgt ist. Es wird somit ein gutes Ergebnis erhalten, wie in Tabelle 1 gezeigt. Anstelle des Permanentmagneten wird ferner ein Elektromagnet verwendet. Ein Druck wird in der gleichen Weise wie vorstehend beschrieben durchgeführt, während die Magnetkraft über Einrichtungen zum Anlegen ei ner Spannung eingestellt wird. Wie bei der Verwendung des Permanentmagneten wird ein gutes Ergebnis erhalten. Da die Magnetkraft fein einstellbar ist, wenn der Elektromagnet verwendet wird, ist es möglich, die Spalteinstellung mit Leichtigkeit durchzuführen.
  • Ausführungsform 5
  • Ein Druckvorgang wird in der gleichen Weise wie bei den Ausführungsformen 1 bis 3 durchgeführt, mit der Ausnahme, daß anstelle der Maschen aus rostfreiem Stahl Nylonmaschen verwendet werden. Es ist dabei möglich, das gleiche Ergebnis wie bei den Ausführungsformen 1 bis 3 zu erhalten.
  • Ausführungsform 6
  • Die für die Ausführungsformen 1 bis 5 verwendeten Drucker werden zur Herstellung einer Elektronenquelle und einer Bilderzeugungsvorrichtung unter Verwendung eines jeden Druckers eingesetzt. In Verbindung mit Fig. 13 wird diese Ausführungsform beschrieben.
  • Mit 201 ist eine Platte aus Natron-Kalk-Glas bezeichnet. Nach Ausbildung eines dünnen Metallfilmes durch Sputtern werden Elementelektroden 205 und 206 durch Fotoätzen ausgebildet. Bei dem Material handelt es sich um einen Ni-Dünnfilm einer Dicke von 100 nm mit einer unteren Überzugsschicht aus Ti einer Dicke von 5 nm. Der Spalt zwischen den Elementelektroden beträgt 2 um, die Länge der Elementelektrode 205 200 um und die der Elementelektrode 206 300 um (siehe Fig. 13A).
  • Dann wird unter Verwendung einer Silberpaste eine untere Verdrahtung (Verdrahtung in Linienrichtung) 236 über ein Druckverfahren ausgebildet, um die Elementelektroden 205 und 206 anschließbar zu machen. Diese werden durch Brennen (bei einer Brenntemperatur von 550ºC über etwa 15 Minuten als Spitzenhaltezeit) behandelt. Die hier verwendete Silberpaste entspricht der, die bei den Ausführungsformen 1 bis 5 verwendet wurde. Die Breite der Verdrahtung beträgt 100 um. Die Dicke hiervon beträgt etwa 10 um (siehe Fig. 13B).
  • Dann wird ein Isolationsfilm 250, dessen Hauptkomponente Glas ist, durch Brennen nach dem Drucken ausgebildet. Hierbei handelt es sich um eine streifenförmige Isolationsschicht, die die untere Verdrahtung (Verdrahtung in Zeilenrichtung) 36 schneidet. Diese Schicht ist mit einem Schnitt versehen, durch den sie elektrisch mit einer oberen Verdrahtung (Verdrahtung in Spaltenrichtung) und der Elementelektrode 206 in Verbindung steht. Das Pastenmaterial für den Isolationsfilm ist hauptsächlich eine PbO-Paste, die mit einem Glasbindemittel vermischt ist. Die Brenntemperatur beträgt 550ºC. Die Spitzenhaltezeit beträgt 15 Minuten. Dieser Schritt zur Ausbildung des Isolationsfilmes wird zweimal wiederholt (siehe Fig. 13C).
  • Dann wird eine obere Verdrahtung (Verdrahtung in Spaltenrichtung) 235 auf der Isolationsschicht 250 ausgebildet. Bei der oberen Verdrahtung handelt es sich um ein streifenförmiges Muster, das elektrisch an die Elementelektrode 206 angeschlossen ist. Die obere Verdrahtung wird in der gleichen Weise wie die untere Verdrahtung ausgebildet. Ihre Breite beträgt 300 um, während ihre Dicke 10 um beträgt (siehe Fig. 13D).
  • Danach wird ein leitender Dünnfilm (Dünnfilm einschließlich des elektronenemittierenden Abschnittes) 204 derart ausge bildet, daß er durch feine Pd-Körner mit einer Dicke von 20 mm gebildet wird. Dieser Dünnfilm wird gebrannt, nachdem er mit einer organischen metallischen Lösung (ccp 4230, hergestellt von der Firma Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) beschichtet und danach durch Fotolithographie bemustert wurde. Während dieser Behandlungsschritte werden die obere Verdrahtung, die Zwischenisolationsschicht und die untere Verdrahtung unter Verwendung des Druckers der Ausführungsformen 1 bis 5 ausgebildet. Auf der auf diese Weise hergestellten Elektronenquelle werden 100 obere und 100 untere Verdrahtungen als Matrix durch die Zwischenisolationsschicht angeordnet. Diese Platine ist mit 10.000 elektronenemittierenden Elementen vom Oberflächenleitungstyp versehen.
  • Eine Bilderzeugungsvorrichtung wird durch Anwendung eines Verfahrens hergestellt, das dem in der offengelegten japanischen Patentanmeldung 6-342636 beschriebenen Verfahren entspricht, wobei eine Stirnplatte mit einem äußeren Rahmen, ein fluoreszierendes Element und darauf ausgebildete andere Teile sowie die hergestellte Elektronenquelle zum Zusammenbau derselben verwendet und eine Antriebsschaltung hierfür vorgesehen wurde. Mit dieser Vorrichtung ist es möglich, gute Bilder zu erhalten.
  • Ausführungsform 7
  • In Verbindung mit Fig. 8 wird nunmehr ein Kontaktdruck (kein Wegschnappen) unter Verwendung eines Druckers der vorliegenden Erfindung beschrieben.
  • Es findet ein Sieb aus rostfreiem Stahl von 230 mesh Verwendung. Dieses Sieb entspricht dem Sieb, das für die Mustererzeugung der Ausführungsform 1 verwendet wurde. Das verwendete Rakel ist von einem flachen Typ und besteht aus Polyurethan mit einer Härte von 80º. Ferner wird eine Silberpaste mit einer Viskosität von 400.000 cps verwendet.
  • Die Druckbedingungen sind wie folgt: Der Spalt beträgt 0 mm, und die Druckabschnitte sind in engem Kontakt. Der Einpreßwert beträgt 1 mm, und die Überstreichgeschwindigkeit des Rakels beträgt 100 mm/s. Der verwendete Magnet ist flach und ein Permanentmagnet, dessen Magnetkraft 500 Gauss beträgt. Unter diesen Bedingungen wird der überstrichene Bereich des Siebes mit Hilfe einer Magnetplatte zur Siebadsorption adsorbiert, nachdem das Rakel seine Überstreichbewegung durchgeführt hat. Dann wird der Tisch langsam mit 0,1 mm/s abgesenkt. Die Siebabtrennung wird gleichmäßig auf der gesamten Oberfläche eines zu bedruckenden Gegenstandes durchgeführt. Wenn die auf diese Weise übertragenen Muster mit Hilfe eines Fotomikroskopes beobachtet werden, wird festgestellt, daß die Übertragung mit guter Genauigkeit im gesamten Musterbereich durchgeführt wurde. Es wird ein gutes Ergebnis erhalten. In dem Fall, in dem kein Magnet verwendet wird, ist die Siebabtrennung im mittleren Teil des Siebes ziemlich schlecht. Anstelle des Permanentmagneten wurde ein Elektromagnet in der gleichen Weise beim Drucken verwendet. Während der Elektromagnet eng benachbart zum Sieb angeordnet wird, kann die Stromquelle für den Elektromagneten abgeschaltet werden, um das Erreichen des engen Kontaktes zu vereinfachen.
  • Ausführungsform 8
  • Unter Verwendung eines in Fig. 9 gezeigten Druckers wurde ein Druckvorgang wie bei Ausführungsform 7 durchgeführt.
  • In Fig. 9 ist mit 13 ein Lagerelement für einen Magnetplattenlagerkopf bezeichnet, bei dem es sich um eine Schiene für die Magnetplatte handelt, um eine Vertikalbewegung relativ zur Ebene des Siebes durchführen zu können. Wie bei Ausführungsform 6 läßt man den Magnetlagerkopf 5 sich entlang dem Lagerelement 13 mit Hilfe eines Antriebsmechanismus (nicht gezeigt) herabbewegen, nachdem das Rakel seine Überstreichbewegung durchgeführt hat, wonach man eine Annäherung zwischen der Magnetplatte 4 und dem Sieb 3 durchführt und das Sieb hiermit in engen Kontakt bringt. Wenn sich die Magnetplatte in engem Kontakt hiermit befindet, wird die Siebabtrennung wie bei Ausführungsform 7 durchgeführt. Die Musterübertragung wird so gut wie bei der Ausführungsform 7 durchgeführt.
  • Ausführungsform 9
  • Ein Druckvorgang wird in der gleichen Weise wie bei der Ausführungsform 7 durchgeführt, mit der Ausnahme, daß ein Drucker verwendet wird, der in Fig. 10 gezeigt ist.
  • In Fig. 10 ist mit 14 ein Scharnier-Lagerelement für einen Magnetplattenlagerkopf bezeichnet, das ermöglicht, daß die Magnetplatte 4 parallel zur Ebene des Siebes angeordnet ist, wenn sich die Magnetplatte um den Schaft parallel zur Siebebene drehen kann. Wenn die Magnetplatte 4 in engen Kontakt mit dem Sieb 3 gebracht worden ist, findet die Siebabtrennung in der gleichen Weise wie bei Ausführungsform 7 statt. Die Muster werden so gut wie bei Ausführungsform 7 übertragen.
  • Ausführungsform 10
  • Ein Druckvorgang wird wie bei Ausführungsform 7 durchgeführt, mit der Ausnahme, daß ein Drucker verwendet wird, der in Fig. 11 gezeigt ist.
  • In Fig. 11 ist mit 15 ein Lagerelement für einen Magnetplattenlagerkopf bezeichnet, bei dem es sich um einen Schaft handelt, der vertikal relativ zur Siebebene angeordnet ist. Die Magnetplatte 4 kann sich um diesen Schaft in einer Ebene, die parallel zur Ebene des Siebes verläuft, drehen. Auf diese Weise kann die Platte über das Sieb bewegt werden, und zwar in einen Zustand parallel zur Sieboberfläche. Wenn die Magnetplatte 4 in engem Kontakt mit dem Sieb 3 steht, wird die Siebabtrennung wie bei Ausführungsform 7 durchgeführt. Die Muster werden so gut wie bei Ausführungsform 7 übertragen.
  • Ausführungsform 11
  • Unter Verwendung von Druckern der Ausführungsformen 7 bis 10 werden eine Elektronenquelle und eine Bilderzeugungsvorrichtung wie bei Ausführungsform 6 hergestellt. Es ist hierbei möglich, sowohl die Elektronenquelle als auch die Bilderzeugungsvorrichtung so gut wie bei Ausführungsform 6 herzustellen. Tabelle 1
  • : ausgezeichnet
  • : gut
  • Δ: zufriedenstellend

Claims (23)

1. Siebdruckvorrichtung mit einem Drucktisch (1, 2), auf dem ein zu bedruckender Gegenstand angeordnet werden kann;
einem Sieb (3), das ein Muster trägt, das auf dem Gegenstand gedruckt werden soll; und
ein über das Sieb bewegbares Rakel, um hierdurch zu bewirken, daß Tinte durch das Sieb auf den Gegenstand dringt;
dadurch gekennzeichnet, daß die Siebdruckvorrichtung Einrichtungen (4, 6, 13, 27) aufweist, die in bezug auf das Sieb beweglich gelagert und in der Lage sind, eine äußere Kraft auf das Sieb in einer Richtung aufzubringen, in der der Haftungseffekt der Tinte zwischen dem Sieb und dem Gegenstand ausgeglichen wird, um das Sieb vom Gegenstand zu trennen.
2. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 1, bei der die Einrichtungen zum Aufbringen einer äußeren Kraft dadurch bewegbar sind, daß sie mit dem Rakel fest verbunden sind.
3. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft im wesentlichen parallel zur Ebene des Siebes bewegbar sind.
4. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft in einer Richtung im wesentlichen senkrecht zur Ebene des Siebes bewegbar sind.
5. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft um einen Schaft im wesentlichen senkrecht zur Ebene des Siebes drehbar sind.
6. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 5, bei der die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft durch Einsatz von Scharnieren drehbar sind.
7. Siebdruckvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei der die Maschengröße des Siebes 300 mesh oder mehr und der Durchmesser des Drahtes für die Siebmaschen 20 um oder weniger beträgt.
8. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 7, bei der die Maschengröße des Siebes 350 mesh oder mehr und der Durchmesser des Drahtes für die Siebmaschen 16 um oder weniger beträgt.
9. Siebdruckvorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei der die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft mit Einrichtungen zur Beaufschlagung des Siebes mit Saugkräften versehen sind und die an die Einrichtungen zur Beaufschlagung des Siebes mit Saugkräften angeschlossene Saugöffnung in einem anderen Bereich als dem Siebmusterbereich angeordnet ist.
10. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 9, bei der am vorderen Ende der Saugöffnung Nuten vorgesehen sind.
11. Siebdruckvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei der die Einrichtungen (13) zur Aufbringung einer äußeren Kraft mit einer Vielzahl von starren Elementen versehen sind, die zwischen das Sieb und einen zu bedruckenden Gegenstand in einem anderen Bereich als dem Siebmusterbereich eingesetzt sind.
12. Siebdruckvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei der die Einrichtungen zur Aufbringung einer äußeren Kraft durch einen Magneten (27) gebildet sind und das Sieb aus magnetischem Material besteht.
13. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 12, bei der die Fläche des Magneten größer ist als der Überstreichbereich des Rakels.
14. Siebdruckvorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, bei der der Magnet ein Elektromagnet ist.
15. Siebdruckverfahren, bei dem Tinte über ein Rakel auf einen zu bedruckenden Gegenstand durch ein bemustertes Sieb gepreßt und in Abhängigkeit des auf dem Sieb angeordneten Musters ein Tintenmuster auf dem Gegenstand ausgebildet wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine äußere Kraft aufgebracht wird, um das Sieb von dem zu bedruckenden Gegenstand zu trennen, wobei Einrichtungen Verwendung finden, die sich relativ zum Sieb bewegen.
16. Verfahren nach Anspruch 15, bei dem die äußere Kraft über Einrichtungen aufgebracht, wird, die mit dem Rakel fest verbunden sind.
17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, bei dem die äußere Kraft eine Saugkraft ist.
18. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, bei dem die äußere Kraft eine magnetische Kraft ist.
19. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, bei dem die äußere Kraft über mindestens ein starres Element erzeugt wird, das im Gebrauch unter das Sieb dringt, um dieses anzuheben.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 19, bei dem die Tintenmuster mindestens einen Teil eines Schaltungsmusters bilden.
21. Verfahren nach Anspruch 20, bei dem das Schaltungsmuster ein eine Verdrahtung umfassendes Schaltungsmuster ist.
22. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle, das die Verfahrensschritte des Druckverfahrens nach einem der Ansprüche 19 bis 21 aufweist.
23. Verfahren zur Herstellung einer Bilderzeugungsvorrichtung, das die Verfahrensschritte des Druckverfahrens nach einem der Ansprüche 19 bis 21 aufweist.
DE69507739T 1994-05-16 1995-05-15 Verfahren und Vorrichtung zum Siebdrucken Expired - Fee Related DE69507739T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10100294 1994-05-16
JP10359494 1994-05-18
JP11171395A JP3295274B2 (ja) 1994-05-16 1995-05-10 スクリーン印刷機、スクリーン印刷方法、該方法を用いた画像形成装置の製造方法および該製造方法を用いて得られた画像形成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69507739D1 DE69507739D1 (de) 1999-03-25
DE69507739T2 true DE69507739T2 (de) 1999-07-22

Family

ID=27309364

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69507739T Expired - Fee Related DE69507739T2 (de) 1994-05-16 1995-05-15 Verfahren und Vorrichtung zum Siebdrucken

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5839363A (de)
EP (1) EP0683045B1 (de)
JP (1) JP3295274B2 (de)
KR (1) KR0180538B1 (de)
CN (1) CN1082441C (de)
AT (1) ATE176625T1 (de)
DE (1) DE69507739T2 (de)

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100526698B1 (ko) * 1997-11-30 2005-12-21 오리온전기 주식회사 기판 인쇄용 스크린
KR100472686B1 (ko) 1998-10-14 2005-03-08 캐논 가부시끼가이샤 화상 형성 장치의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해제조된 화상 형성 장치
JP3619085B2 (ja) 1999-02-18 2005-02-09 キヤノン株式会社 画像形成装置、その製造方法及び記憶媒体
JP2000311600A (ja) 1999-02-23 2000-11-07 Canon Inc 電子源、画像形成装置並びに配線基板の製造方法および該製造方法を用いた電子源、画像形成装置並びに配線基板
JP3397738B2 (ja) 1999-02-25 2003-04-21 キヤノン株式会社 電子源および画像形成装置
JP3634702B2 (ja) 1999-02-25 2005-03-30 キヤノン株式会社 電子源基板及び画像形成装置
US6962770B2 (en) 2000-09-14 2005-11-08 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing an electroconductive film, and an apparatus including it
JP2002245947A (ja) * 2000-12-15 2002-08-30 Canon Inc 細線を有する基板及びその製造方法及び電子源基板及び画像表示装置
JP3826022B2 (ja) 2000-12-15 2006-09-27 キヤノン株式会社 配線を有する基板及び電子源及び画像表示装置
US6653232B2 (en) 2001-08-03 2003-11-25 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing member pattern and method of manufacturing wiring, circuit substrate, electron source, and image-forming apparatus
CA2388078A1 (en) * 2002-05-29 2003-11-29 Harfang Microtechniques Inc. System and method for acquiring data in a processing unit
US7067236B2 (en) 2002-07-19 2006-06-27 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing member pattern, method of manufacturing wiring structure, method of manufacturing electron source, and method of manufacturing image display device
JP2004351624A (ja) * 2003-05-27 2004-12-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd クリーム半田のスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法
TW200412603A (en) * 2003-10-02 2004-07-16 wei-hao Zhang Electrode layer manufacturing method to inhibit the corona effect of ceramic capacitor body
KR100613450B1 (ko) * 2004-12-02 2006-08-21 주식회사 하이닉스반도체 반도체 장치의 비트라인 배리어 금속층 및 그 제조방법
JP2006198791A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Dainippon Printing Co Ltd スクリーン印刷機およびスクリーン印刷機用のスキージ
US7427826B2 (en) * 2005-01-25 2008-09-23 Canon Kabushiki Kaisha Electron beam apparatus
TW200704518A (en) * 2005-07-20 2007-02-01 Hitachi Metals Ltd Screen printing apparatus and screen priting method
UA22574U (en) * 2006-11-30 2007-04-25 Yurii Mykolaiovych Krasiuk Method of application of a figure on the articles made of cellular polystyrene
US8437664B2 (en) 2011-01-28 2013-05-07 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Development apparatus and printer
CN102176234B (zh) * 2011-02-22 2013-01-23 厦门振泰成科技有限公司 金属薄片转移定位工艺及定位装置
CN103818101B (zh) * 2013-07-08 2016-01-20 安吉上墅奥科印花设备制造厂 数控链式自动印花机印刷装置
CN103481642A (zh) * 2013-10-14 2014-01-01 湖南省新化县鑫星电子陶瓷有限责任公司 一种电子陶瓷用精密自动印刷机
CN106494072A (zh) * 2016-10-21 2017-03-15 温州中科包装机械有限公司 丝网上胶防粘网机构
CN106345350A (zh) * 2016-11-04 2017-01-25 安阳新达高新技术开发有限公司 一种自清扫混匀机
CA3220208A1 (en) * 2021-05-27 2022-12-01 Steven L. Masia System and device for printing upon textured surfaces of building panels, and methods thereof
CN117906936B (zh) * 2024-03-18 2024-05-10 常州普雷特印刷科技有限公司 一种网版网孔通量检测设备

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3731623A (en) * 1970-10-26 1973-05-08 American Screen Process Equip Glider press
SE416910B (sv) * 1978-01-30 1981-02-16 Svecia Silkscreen Maskiner Ab Stenciltryckmaskin med stort tryckbord
US4275655A (en) * 1979-01-23 1981-06-30 The Arnold Engineering Company Method and apparatus for screen printing registered images on opposite sides of a web
US4254707A (en) * 1979-05-02 1981-03-10 Itron, Inc. Screen printing apparatus with screen peel-off from work
US4537126A (en) * 1982-10-26 1985-08-27 American Screen Printing Equipment Co. Automatic peel control mechanism
JPS61188146A (ja) * 1985-02-18 1986-08-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd スクリ−ン印刷装置
JPS63139744A (ja) * 1986-12-03 1988-06-11 R I Denshi Kogyo:Kk スクリ−ン印刷方法及びその装置
GB2239427B (en) * 1987-02-23 1991-11-06 Tdk Corp A screen printing method
US4854229A (en) * 1987-06-10 1989-08-08 E. I. Dupont De Nemours And Company Screen printer apparatus
SU1509285A1 (ru) * 1987-07-02 1989-09-23 Киевский Филиал По Специальным Видам Печати Всесоюзного Научно-Исследовательского Института Комплексных Проблем Полиграфии Устройство дл трафаретной печати
EP0325401A3 (de) * 1988-01-18 1990-05-16 Masanao Oozeki Siebdruckmaschine
SE8900609L (sv) * 1988-04-28 1989-10-29 Mansanao Ozeki Foerbaettrad stencilskaermtryckmaskin
US4902371A (en) * 1988-12-12 1990-02-20 International Business Machines Corporation Mask shock absorbing system and method of using the same
JP3059496B2 (ja) * 1991-01-18 2000-07-04 古河電気工業株式会社 クリーム半田の印刷装置
DE4109707C1 (de) * 1991-03-23 1992-10-22 Vegla Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen, De
JPH04347636A (ja) 1991-05-27 1992-12-02 Canon Inc スクリーン印刷機
US5174201A (en) * 1991-06-07 1992-12-29 International Business Machines Corporation Thick film mask separation detection system
JPH06126929A (ja) * 1992-10-16 1994-05-10 Sony Corp スクリーン印刷方法及びその方法を用いたスクリーン印刷機
JP3167072B2 (ja) 1992-12-29 2001-05-14 キヤノン株式会社 画像形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0683045A3 (de) 1996-03-27
JPH0834110A (ja) 1996-02-06
CN1126660A (zh) 1996-07-17
CN1082441C (zh) 2002-04-10
DE69507739D1 (de) 1999-03-25
JP3295274B2 (ja) 2002-06-24
KR950031518A (ko) 1995-12-18
EP0683045B1 (de) 1999-02-10
US5839363A (en) 1998-11-24
EP0683045A2 (de) 1995-11-22
ATE176625T1 (de) 1999-02-15
KR0180538B1 (ko) 1999-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69507739T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Siebdrucken
DE3805363C2 (de)
DE69317559T2 (de) Verbesserte schablone oder maske zum aufbringen von lot auf leiterplatten und stützrahmen dafür
DE3853744T2 (de) Elektronenemittierende Vorrichtung.
WO2008148479A2 (de) Verfahren und vorrichtung zum bedrucken von solarzellen mittels siebdruck
DE69220151T2 (de) Verfahren und gerät zur erzeugung von kontakten
DE69517824T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum abgeben eines viskosen materials
DE112005001663T5 (de) Lötpastenspender für Schablonendrucker
DE2219946C2 (de) Verfahren zur Herstellung V-förmig gebogener Glasscheiben
DE69525310T2 (de) Verfahren zum Herstellen eines Substrates für eine Elektronenquelle und eines damit versehenen Bilderzeugungsgerätes
DE19718113A1 (de) Druck-Walzenrakelvorrichtung
DE1949966A1 (de) UEber Nocken betaetigbarer Schalter mit beweglichen und festen Kontakten,insbesondere fuer gedruckte Leiterplatten
DE69717319T2 (de) Verfahren zur galvanischen herstellung eines rakels
DE69529112T2 (de) Tintenstrahlkopf
DE3435019A1 (de) Maskenringanordnung fuer roentgenstrahlenlithographie
DE68914618T2 (de) Stossdämpfungssystem für Schablonen und Verfahren zum Benutzen desselben.
WO2014154592A1 (de) Siebdruckanlage zum bedrucken von flächigen substraten, insbesondere solarzellen und verfahren zum bedrucken von substraten
DE29601855U1 (de) Rakel für den Siebdruck von elektrischen Elementen und Strukturen
DE202012104631U1 (de) Rakelsystem für einen Siebdrucker
DE2422660C2 (de) Elektrostatischer drucker
DE19610273A1 (de) Umschlossene Mehrklingen-Rakelbaueinheit für Siebdruck
DE4209385C2 (de) Preßmaschine für elektronische Komponenten des Chip-Types
DE2817673A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer auf einem metallischen traeger aufgeschweissten kontaktschicht
DE102019135208B4 (de) Druckeinheit, Druckvorrichtung und Verfahren zum Parallelextrudieren von Druckmedium auf ein Substrat
DE112012001568T5 (de) Musterdruckvorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee