DE69500934T2 - Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern

Info

Publication number
DE69500934T2
DE69500934T2 DE69500934T DE69500934T DE69500934T2 DE 69500934 T2 DE69500934 T2 DE 69500934T2 DE 69500934 T DE69500934 T DE 69500934T DE 69500934 T DE69500934 T DE 69500934T DE 69500934 T2 DE69500934 T2 DE 69500934T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
deposition
layers
layer
speed
rotational speed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69500934T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69500934D1 (de
Inventor
Cheryl Jane Garnham
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Prysmian Cables and Systems Ltd
Original Assignee
Prysmian Cables and Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Prysmian Cables and Systems Ltd filed Critical Prysmian Cables and Systems Ltd
Publication of DE69500934D1 publication Critical patent/DE69500934D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69500934T2 publication Critical patent/DE69500934T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01486Means for supporting, rotating or translating the preforms being formed, e.g. lathes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • C03B37/0142Reactant deposition burners
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815Reactant deposition burners or deposition heating means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01884Means for supporting, rotating and translating tubes or rods being formed, e.g. lathes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00Glass deposition burners
    • C03B2207/60Relationship between burner and deposit, e.g. position
    • C03B2207/66Relative motion

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ausbildung eines Halbzeugs für einen Lichtwellenleiter.
  • Halbzeuge für Lichtwellenleiter können durch Ablage von Materialschichten auf einem Substrat durch Dampfabscheidung hergestellt werden. Das Abscheideverfahren kann das Führen von Dampf über eine Oberfläche, zunächst über die Oberfläche des Substrats und dann aufeinanderfolgend über die Oberfläche der abgeschiedenen Schichten, und das Erhitzen des Dampfs umfassen, um eine chemische Reaktion herbeizuführen, wodurch eine Materialschicht auf der Oberfläche abgeschieden ist. Gewöhnlich hat das Substrat die Form eines zylindrischen Körpers, der in einer Drehbank gedreht wird, und es wird dem Dampf Wärme dadurch zugeführt, daß eine Wärmequelle über die Länge des Körpers traversieren gelassen wird, wobei jede Traversierung oder jeder Durchgang der Wärmequelle dem Abscheiden einer Schicht entspricht. Die Abscheidung kann bekanntlich auf der Außenfläche des zylindrischen Körpers erfolgen, wobei das Verfahren als außenseitige Dampfabscheidung (OVD) bekannt ist, oder, wenn der Körper rohrförmig ist, auf seiner Innenfläche, wobei der Prozess als innenseitige Dampfabscheidung (IVD) bekannt ist.
  • Eine Information bezüglich der Verteilung der Dämpfung längs eines Lichtwellenleiters kann man dadurch erhalten, daß man Lichtimpulse in ein Ende des Leiters einführt und das zu diesem Ende zurückreflektierte Licht analysiert. Dieses Verfahren, das als optische zeit-Bezirk-Reflexmessung (OTDR) bekannt ist, wird in zunehmenden Maße zur Analyse des Verlustes längs der gesamten Länge eines Leiters und zum Ermitteln von schlechten Verbindungen oder Rissen zwischen den Leitern, einschließlich Brüchen, verwendet. Die Verwendung von OTDR in der Lichtwellenleitertechnik ist an sich bekannt und diesbezügliche Einzelheiten findet man in der Literatur, beispielsweise auf den Seiten 236 bis 244 von "Principles of Optical Fiber Measurements" (Prinzipien der Lichtwellenleitermessungen), veröffentlicht von Academic Press (1981).
  • Ein die Verwendung von OTDR bei der Prüfung von Lichtwellenleitern oder ihrer Halbzeuge störendes Problem besteht darin, daß in der OTDR-Bahn eine deutliche Welligkeit auftritt, auch wenn kein Fehler oder eine Verbindungsstelle vorhanden ist. Dies ist unbefriedigend und demtentsprechend verlangen viele Käufer von Lichtwellenleitern, daß die Wellung in der OTDR- Bahn innerhalb einer vorher festgelegten Grenze oder eines vorgegebenen Bereichs eingeschränkt ist. Wenn die Leiterhersteller den Materialausschuß und die Produktionszeit minimieren wollen, ist es deshalb von Bedeutung, daß sie konsistent in der Lage sind, Lichtwellenleiter herzustellen, die diesen Anforderungen genügen.
  • Wir haben herausgefunden, daß Wellungen in der OTDR-Bahn Änderungen in dem Längsschnittprofil der Schichten des Halbzeugs während des Abscheidungsprozesses entsprechen. Das heißt, die Schichten haben jeweils einen insgesamt wendelförmigen Wulst, der sich über die Länge des Halbzeugs erstreckt. Jede Schicht hat deshalb ein Wellenprofil, das von diesem Wulst gebildet wird, der insgesamt mit einer Wendelform in Erscheinung tritt und der Wulst der OTDR-Bahn in Beziehung zur Ganghöhe dieses Profils steht.
  • Wir haben festgestellt, daß bei der Herstellung von Halbzeugen, obwohl die Wärmequelle nicht notwendigerweise jeden Durchgang von genau der gleichen Position aus beginnt, das vor jedem Durchgang abgeschiedene Material zur Annahme eines Profils neigt, das dem Profil des vorherigen Durchgangs entspricht und dadurch die Neigung besteht, daß ein schraubenoder wendelförmiger Wulst, der während eines vorhergehenden Durchgangs ausgebildet wurde, in einem späteren Durchgang verstärkt wird. Wir haben auch festgestellt, daß der gebildete Wulst dazu neigt, um so ausgeprägter zu sein, je größer die Materialmenge ist, die bei einem Durchgang abgeschieden wird, so daß das Problem in einem bestimmten Ausmaß dadurch reduziert werden kann, daß das Halbzeug in einer größeren Anzahl von relativ dünneren Schichten gebildet wird. Dies erhöht jedoch die Produktionszeit und deshalb auch die Kosten für die Herstellung der Halbzeuge. Daraus ergibt sich, daß ein Konflikt zwischen den Zielen der Verbesserung des Herstellungswirkungsgrads durch Reduzieren der Anzahl von Durchgängen, die bei der Ausbildung des Halbzeugs zum Einsatz gelangen, und der Verringerung der Wellung in der OTDR-Bahn vorhanden ist. Das Wellungsprofil der Schichten des Halbzeugs ist, wenn es während des Ziehprozesses verkleinert wird, trotzdem in einem Lichtwellenleiter vorhanden, der daraus gezogen wird, wenn auch nur in einer modifizierten Form.
  • Ein Ziel der vorliegenden Erfindung besteht darin, wenigstens teilweise einige der vorstehend beschriebenen Probleme zu überwinden.
  • Dementsprechend stellt die Erfindung ein Verfahren zur Ausbildung eines Halbzeugs bereit, aus dem ein Lichtwellenleiter gezogen werden kann, wobei bei dem Verfahren aufeinanderfolgende Schichten aus Material durch Dampfaufscheidung auf einem rotierenden zylindrischen Körper abgeschieden werden, der von einer Wärmequelle traversiert wird, wobei für die Abscheidung von zwei aufeinanderfolgenden Schichten eine unterschiedliche Drehgeschwindigkeit des Körpers gewählt wird, um in einer der Schichten ein Oberflächenprofil zu erzeugen, das sich von einem Oberflächenprofil unterscheidet, das in der anderen Schicht erzeugt wird.
  • Die Erfindung umfaßt auch ein Verfahren zur Herstellung eines Lichtwellenleiters, bei welchem ein Halbzeug nach einem Verfahren entsprechend dem vorhergehenden Absatz hergestellt und der Lichtwellenleiter aus dem Halbzeug gezogen wird.
  • Vorzugsweise ist eine der beiden Schichten die innerste Schicht des Halbzeugs. Die innerste Schicht kann die erste oder die letzte nach der Dampfabscheidungstechnik abgeschiedene sein, die bei der Erfindung angewendet wird.
  • Vorzugsweise unterscheidet sich die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung von jeder der wenigstens zwei Schichten von der Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung der anderen der beiden Schichten um einen vorgegebenen Betrag. In der Praxis ist diese Differenz ein vorher festgelegter Betrag, wodurch die Wellung in der OTDR-Bahn, die sich aus einem Leiter ergibt, der aus dem Halbzeug gezogen wird, innerhalb einer festgelegten Grenze oder eines vorgegebenen Bereichs eingeschränkt ist.
  • Vorteilhafterweise unterscheidet sich die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung jeder von wenigstens drei aufeinanderfolgenden Schichten von der Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung einer vorhergehenden oder darauffolgenden Schicht der wenigstens drei aufeinanderfolgenden Schichten.
  • Die Drehgeschwindigkeiten können eine größere Geschwindigkeit oder eine kleinere Geschwindigkeit aufweisen. Die größere Geschwindigkeit kann im wesentlichen x/2 + nx sein, wenn x die langsamere Geschwindigkeit und n eine ganze Zahl sind.
  • Vorteilhafterweise und insbesondere in Verbindung mit der Methode der innenseitigen Dampfabscheidung ist die Drehgeschwindigkeit des Körpers während des Abscheidens einer abschließenden Schicht größer als die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung der vorhergehenden Schicht.
  • In Verbindung mit den Methoden der außenseitigen Dampfabscheidung wird bevorzugt, daß die Drehgeschwindigkeit während der Abscheidung einer ersten größer ist als die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung der zweiten Schicht.
  • Jede darauffolgende Schicht kann ein im wesentlichen wendelförmiges Oberflächenprofil haben.
  • Das Verfahren kann, obwohl dies nicht bevorzugt wird, das Auswählen einer anderen Traversierungsgeschwindigkeit der Wärmequelle zusätzlich zu der unterschiedlichen Drehgeschwindigkeit des Körpers zum Abscheiden der zwei aufeinanderfolgenden Schichten aufweisen. Das Ändern der Traversierungsgeschwindigkeit der Wärmequelle bei einem Dampfabscheidungsverfahren zur Ausbildung eines Halbzeugs für einen Lichtwellenleiter ist bekannt.
  • Die japanischen Patentzusammenfassungen Band 5, No. 144 (c- 071), die bei der Prüfung dieser Anmeldung entgegengehalten wurden, weist ein Abstract der JHP-A-56 078 440 auf, das für die Herstellung eines Lichtleiters in focusierender Bauweise ein verfahren offenbart, bei welchem aufeinanderfolgende Glasschichten auf der Innenseite eines sich drehenden Quarzrohrs durch Dampfabscheidung abgelegt werden, wobei die Traversierungsgeschwindigkeit der Wärmequelle für jede aufeinanderfolgende Schicht um ein vorgeschriebenes Verhältnis erhöht wird, so daß die Dicken der Glasschichten im wesentlichen die gleichen sind.
  • Die japanischen Patentzusammenfassungen, Band 7, No. 151 (c-171), die ebenfalls bei der Prüfung dieser Anmeldung genannt wurden, enthalten ein Abstract der JP-A-58 064 236, welches ebenfalls eine Änderung der Traversierungsgeschwindigkeit der Wärmequelle für jede aufeinanderfolgende Schicht mit einem Dampfabscheidungsverfahren bei der Herstellung eines Halbzeugs für einen Lichtwellenleiter offenbart.
  • Zum besseren Verständnis der Erfindung wird nun eine beispielsweise Ausführungsform unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben, in denen:
  • Figur 1 eine schematische Darstellung ist, die eine Vorrichtung zur Ausbildung eines Halbzeugs durch innenseitige Dampfabscheidung zeigt,
  • Figur 2 eine vergrößerte Ansicht eines Abschnitts eines Halbzeugs ist, die zwei Schichten von Material zeigt, die auf einem Substratkörper abgeschieden sind, wobei die Schichten unterschiedliche Oberflächenprofile haben,
  • Figur 3 eine OTDR-Bahn für einen Leiter ist, der aus einem Halbzeug gezogen wurde, das durch ein IVD-Verfahren gemäß der Erfindung ausgebildet wurde, und
  • Figur 4 eine OTDR-Bahn für einen Leiter ist, der aus einem Halbzeug gezogen wurde, das durch ein bekanntes IVD-Verfahren gebildet wurde.
  • Im Folgenden wird ein Verfahren zur Ausbildung eines Halbzeugs unter Bezugnahme auf innenseitige Dampfabscheidungsmethoden beschrieben, wobei jedoch klar ist, daß die Erfindung in gleicher Weise im Zusammenhang mit Dampfabscheidungsverfahren von außen zur Anwendung gelangen kann, beispielsweise der sogenannten modifizierten chemischen Dampfabscheidung (MCVD), wie sie in der GB-A-1500530 oder in der US-A-4233045 beschrieben ist, oder nach dem in der US-A-3823995 beschriebenen OVD- Technik.
  • Diesbezüglich ist zu bemerken, daß bei der US-A-4233045 die Reaktionsteilnehmerdämpfe in einen wendelförmigen Strom versetzt werden, um die Abscheidungsgeschwindigkeiten zu verbessern, wobei jedoch kein Hinweis auf irgendein zugehöriges Problem gemacht wird, das durch die Ausbildung von insgesamt wendelförmigen Wulsten in den abgeschiedenen Schichten hervorgerufen wird.
  • Gemäß Figur 1 wird ein Halbzeugsubstrat in Form eines zylindrischen Körpers 10 von einer Drehbank 11 so gehalten, daß es durch sie drehbar ist. Der Halbzeugsubstratkörper ist rohrförmig und hat eine zentrale Bohrung 12, die auf beiden Enden 13, 14 offen ist. Eine Wärmequelle in Form eines Gasbrenners 15 ist so angeordnet, daß sie durch nicht gezeigte Einrichtungen so bewegbar ist, daß sie die Länge des Körpers 10 traversiert, was durch einen Pfeil 16 veranschaulicht ist. Mit einem Ende 13 des Körpers ist eine Gasquelle 17 für das Einführen von Dampf 18 in ihn verbunden. Während der Herstellung eines Halbzeugs bewegt sich Dampf längs der Bohrung 12 und tritt an einem anderen Ende 14 des Körpers 10 aus. Die Gasquelle 17 ist so angeordnet, daß der von ihr gelieferte Dampf zu einer gewünschten Zusammensetzung reguliert werden kann.
  • Zur Erzeugung eines Lichtwellenleiterhalbzeugs wird der Substratkörper 10 durch die Drehbank 11 gedreht und es wird Dampf mit der gewünschten Zusammensetzung durch die zentrale Bohrung 12 des Substrats hindurchgeführt Der Brenner 15 wird längs der Längserstreckung des Körpers 101 in der Figur von links nach rechts, mit einer vorgegebenen Traversierungsgeschwindigkeit bewegt. Wenn sich Brenner längs des Körpers bewegt, wird eine erhitzte Zone 22 in dem Körper in der Nähe des Brenners gebildet. In dem Dampf in der erhitzten Zone stellt sich eine chemische Reaktion ein, wordurch Materie auf der Oberfläche 23 des Körpers abgeschieden wird.
  • Wenn der Brenner 15 einmal über der Länge des Körpers 10 von dem einen Ende 13 zum anderen Ende 14 traversiert ist, wird eine erste Abscheidungsschicht 24 auf der Oberfläche des Substrats ausgebildet. Wie in Figur 2 gezeigt ist, hat die Schicht 24 auf der Fläche 23 ein Wellenprofil, das von einem insgesamt wendelförmigen Wulst 26 gebildet wird. Der Wulst 26 hat eine Steigung, die entsprechend dem Abstand erzeugt wird, den der Brenner während jeder Drehung des Körpers zurücklegt. Am Ende des Durchgangs wird der Brenner zurück zu dem einen Ende 13 des Körpers zur Vorbereitung eines zweiten Durchgangs bewegt.
  • Da die Zusammensetzung des Dampfs (durch nicht gezeigte Einrichtungen) zwischen den Durchgängen variiert werdern kann, kann jede abgeschiedene Schicht einen erforderlichen Brechungsindex oder eine andere Eigenschaft haben. Gewöhnlich werden mehrere Schichten unter Verwendung von Dampf mit einer Zusammensetzung zur Bildung eines Bereichs abgelegt, der schließlich als ein Platierungsbereich in dem Lichtwellenleiter dient, und die Gasquelle wird dann so einreguliert, daß mehrere Schichten unter Verwendung eines Dampfs mit einer anderen Zusammensetzung abgelegt werden, um einen Bereich zu bilden, der schließlich als Kern des Lichtwellenleiters dient.
  • Während des zweiten Durchgangs wird der Brenner wieder so bewegt, daß er die Länge des Körpers traversiert und auf ähnliche Weise wie beim ersten Durchgang wird eine Schicht aus Material 28 auf der ersten Schicht 24 abgeschieden. Während des zweiten Durchgangs wird die Drehgeschwindigkeit des Körpers und möglicherweise auch die Geschwindigkeit, mit der die Wärmequelle den Körper traversiert, so gewählt, daß sie unterschiedlich ist. Auf diese Weise wird das Oberflächenprofil der in dem zweiten Durchgang abgeschiedenen Schicht verschieden vom Oberflächenprofil der Schicht gemacht, die im ersten Durchgang abgeschieden wurde.
  • Der Unterschied zwischen den Profilen der beiden Schichten sollte beträchtlich sein. Wir haben gefunden, daß in der Praxis gute Resultate erreicht werden können, wenn eine konstante Traversierungsgeschwindigkeit beibehalten und die Drehgeschwindigkeit zwischen den Durchgängen geändert wird. Die Beziehung zwischen den Drehgeschwindigkeiten sollte so gewählt werden, daß die Wulstverringerung optimiert wird. Man nimmt an, daß optimale Ergebnisse erreicht werden, wenn die Differenz in der Drehgeschwindigkeit zwischen aufeinanderfolgenden Durchgängen so variiert wird, daß die größere der beiden Geschwindigkeiten im wesentlichen gleich der Hälfte der niedrigeren Geschwindigkeit plus einem Produkt aus der niedrigeren Geschwindigkeit und einer ganzen Zahl ist. Das bedeutet, daß, wenn x die geringere Geschwindigkeit ist, die größere Geschwindigkeit etwa x/2 + nx beträgt, wenn n eine ganze Zahl ist.
  • Es wurde ebenfalls gefunden, daß gute Ergebnisse erreicht werden, wenn die Änderung der Drehgeschwindigkeit des Körpers beträchtlich ist. Wenn also beispielsweise die Drehgeschwindigkeit zwischen zwanzig und fünfzig Upm geändert wird, ergeben sich bessere Resultate als bei einer Änderung zwischen zwanzig und dreißig Upm. Wenn die Traversierungsgeschwindigkeit konstant gehalten wird, während die Drehgeschwindigkeit des Körpers gesteigert wird, durchläuft der Brenner eine geringere Distanz längs des Körpers bei jeder Umdrehung während des zweiten Durchgangs, wodurch, wie in Figur 2 gezeigt ist, das Profil eines zweiten wendelförmigen Wulst 30 der zweiten Schicht nicht mit dem wendelförmigen Wulstprofil 26 der ersten Schicht zusammenfällt und dieses dadurch verstärkt. Unterdessen wird der zweite Wulst 30 mit verringerter Steigung erzeugt und bildet ein Wellenoberflächenprofil, das sich von dem Oberflächenprofil der ersten Schicht unterscheidet.
  • In der Praxis hat natürlich das fertige Halbzeug normalerweise mehr als zwei Schichten. Deshalb werden weitere Schichten in ähnlicher Weise zur Bildung des Halbzeugs hinzugefügt, das die gewünschte Anzahl von Schichten und Eigenschaften hat.
  • Es ist zu bemerken, daß es nicht erforderlich ist, daß die Drehgeschwindigkeit des Körpers zwischen dem Abscheiden von aufeinanderfolgenden Schichten geändert wird. Bezüglich der Schichten, welche den Mantelbereich des Lichtwellenleiters bilden, ist es tatsächlich nicht erforderlich, daß irgendein Unterschied zwischen dem Abscheiden der Schichten besteht. Die Schichten des Mantelbereichs können stattdessen herkömmlich mit einer konstanten Körperdrehung und einer konstanten Brennertraversierungsgeschwindigkeit ausgebildet werden. Dabei kann es vorteilhaft sein, ein unterschiedliches Oberflächenprofil bei der ersten abgeschiedenen Schicht des Kernbereichs zu erzeugen, um die Wulstbildung aufzubrechen, die sich während des Abscheidens der Mantelbereichschichten entwickelt.
  • Die Erzeugung unterschiedlicher Oberflächenprofile in den Schichten ist bei der Abscheidung der Schichten des Halbzeugs, die schließlich den Kernbereich des Lichtwellenleiters bilden, besonders vorteilhaft. Versuche haben gezeigt, daß ein Halbzeug mit einem Kernbereich mit fünf Schichten, die mit einer konstanten Brennertraversierungsgeschwindigkeit, jedoch mit einer Körperrotationsgeschwindigkeit ausgebildet sind, die sich für die Abscheidung einer jeden Schicht zwischen fünfzig und zwanzig Upm ändert, die Herstellung eines Lichtwellenleiters ermöglich, der eine ausreichend reduzierte OTDR-Wellung hat.
  • Dies wird deutlich durch einen Vergleich der OTDR-Bahnen in Figur 3 und 4 veranschaulicht. Die beiden Bahnen wurden unter Verwendung einer Wellenlänge von 1310 nm und einer Impulsbreite von 100 ms erhalten. In jeder Figur ist der Maßstab für die y-Achse eine 0,2dB Unterteilung und der x-Achse eine 511m Unterteilung. Die Bahn in Figur 3 ergibt sich aus einem Leiter, der aus einem Halbzeug gezogen wurde, das einen Kernbereich mit fünf Schichten aufweist, die wie oben im einzelnen ausgeführt wurde, ausgebildet sind, d.h. mit einer konstanten Brennertraversierungsgeschwindigkeit, jedoch mit abwechselnden Körperdrehgeschwindigkeiten, nämlich fünfzig, zwanzig, fünfzig, zwanzig und fünfzig Upm. Die Bahn in Figur 4 wurde zum Vergleich aus einem Leiter erhalten, der aus einem Halbzeug gezogen wurde, das einen Kernbereich mit fünf Schichten hat, die mit konstanter Brennertraversierungsgeschwindigkeit, jedoch mit der gleichen Körperdrehgeschwindigkeit von zwanzig Upm gebildet wurden. Wie man sieht, hat die Wellung in der Bahn in Figur 4 eine merklich größere Erstreckung als die der Bahn in Figur 3.
  • OTDR-Bahnen erhält man aus Leitern, die aus Halbzeugen gezogen wurden, welche Kernbereiche mit
  • (a) drei Schichten, die mit gleicher Brennertraversierungsgeschwindigkeit und der gleichen Körperdrehgeschwindigkeit, (insbesondere 20 Upm) gebildet wurden,
  • (b) fünf Schichten, die mit der gleichen Brennertraversierungsgeschwindigkeit und mit der gleichen Körperdrehgeschwindigkeit von (ebenfalls 20 Upm) gebildet wurden, und
  • (c) fünf Schichten aufweisen, die mit der gleichen Brennertraversierungsgeschwindigkeit und mit abwechselnden Körperdrehgeschwindigkeiten, (nämlich 50, 20, 50, 20 und 50 Upm) gebildet wurden. Von den Leitern, die aus Halbzeugen gezogen wurden, die Kernbereiche (a) haben, entsprachen nur etwa 30% einer Versuchsspezifizierung, die erfordert, daß die Bahn innerhalb ± 0.02 dB einer kleinsten mittleren quadratischen Übereinstimmung liegt. Etwa 70% der Leiter, die aus Halbzeugen gezogen wurden, die Kernbereiche (b) haben, entsprachen dieser Versuchsspezifizierung, also eine Verbesserung, die im Hinblick auf die größere Anzahl der relativ dünneren Schichten des Kerns zu erwarten war. Von den Leitern, die aus Halbzeugen gezogen wurden, welche Kernbereiche (c) haben, entprachen 99,6% der Versuchsspezifizierung, wodurch eine signifikante Verbesserung demonstriert wird, die sich durch Verwendung von alternierenden Körperdrehgeschwindigkeiten bei der Bildung der Schichten des Kernbereichs ergibt. Gute Ergebnisse hat man auch mit einem Kernbereich aus drei Schichten erhalten, die mit einer konstanten Brennertraversierungsgeschwindigkeit und einer Körperdrehgeschwindigkeit von fünfzig, zwanzig und dann fünfzig Upm für die jeweiligen Schichten gebildet wurden.
  • Obwohl es vorteilhaft ist, daß die Körperdrehgeschwindigkeit während des Abscheidens jeder aufeinanderfolgenden Kernbereichsschicht sich von der Geschwindigkeit während der Abscheidung der vorhergehenden Schicht unterscheidet, ist dies nicht eine strenge Anforderung. Es hat sich gezeigt, daß, wenn die Körperdrehgeschwindigkeit für die Abscheidung von wenigstens zwei Schichten des Kernbereichs geändert wird, d.h. die abschließende und dazwischen vorhergehende Schicht, zufriedenstellende OTDR-Bahnen konsistent in den Halbzeugen und den daraus hergestellten Lichtwellenleitern erhalten werden können. Man nimmt an, daß die Abscheidung der innersten Schicht die kritischste hinsichtlich der Reduzierung der OTDR-Wellung ist. Das heißt mit anderen Worten, daß es von Bedeutung ist, daß das Oberflächenprofil, das bei der abschließenden/innersten Schicht erzeugt wird, sich von dem der vorhergehenden Schicht unterscheidet, so daß ein Aufbau eines verstärkten Wulst in dem kritischten Bereich des Lichtwellenleiters verhindert oder wenigstens verringert wird, d.h. in dem Bereich maximaler Leistungsausbreitung. In der Praxis wurden gute Resultate erreicht, wo das erzeugte Oberflächenprofil in den abschließenden beiden Schichten sich unterscheidet und die schnellere Drehgeschwindigkeit für den abschließenden Durchgang verwendet wird.
  • Es ist leicht einzusehen, daß, während die innerste Schicht eines nach dem IVD- oder MCVD-Verfahren gebildeten Halbzeugs die abschließende abgeschiedene Schicht ist, im Falle des OVD- Prozesses es die erste abgeschiedene Schicht ist. Die das Abscheiden der abschließenden und der unmittelbar vorausgehenden Schicht in dem letzten vorhergehenden Absatz betreffenden Ausführungen gelten für die erste und zweite Schicht, die nach dem OVD-Prozess abgeschieden werden. Zusätzlich zur Änderung der Körperdrehgeschwindigkeit während des Abscheidens der Schichten, kann auch die Geschwindigkeit geändert werden, mit der die Wärmequelle den Körper traversiert. Wie oben erwähnt steht die Ganghöhe der während des Abscheidungsprozess erzeugten Wulste in Beziehung zu der Distanz, die der Brenner während jeder Umdrehung des Körpers zurücklegt. Deshalb ist es möglich, die Distanz durch Reduzieren oder Erhöhen der Brennertraversierungsgeschwindigkeit zu verändern. Zu erwähnen ist jedoch, daß beträchtliche Änderungen der Brennertraversierungsgeschwindigkeit die chemische Reaktion nachträglich beeinflussen können, die in der erhitzten Zone auftreten, wobei in diesem Fall das abgeschiedene Material nicht den erforderlichen Brechungsindex oder eine andere Eigenschaft haben kann.
  • Wir haben gefunden, daß das einfache Ändern der Geschwindigkeit der Körperdrehung zwischen allen oder einigen der Abscheidungsdurchgänge eine geforderte Verringerung der OTDR- Wellung erzeugt. Man nimmt jedoch an, daß abhängig von den Fähigkeiten der verfügbaren Vorrichtung durch selektive Änderung der Geschwindigkeiten der Körperdrehung und der Brennertraversierungsgeschwindigkeiten zwischen den Abscheidungsdurchgängen eine optimale OTDR-Wellungsreduzierung erreicht werden kann, wobei die optimale Kombination für die Herstellung eines gegebenen Halbzeugs empirisch bestimmt wird.
  • Man nimmt an, daß sich ein günstiger Effekt ergibt, wenn auch die Drehrichtung des Körpers für die Abscheidung der aufeinanderfolgenden Schichten geändert wird. In diesem Zusammenhang wird auf die GB-A-2043623A, die GB-A-2043624A und die Zusammenfassung der JP-A-59054636 in den japanischen Patentzusammenfassungen, Band 8, Nr. 150 (C-233) (1587) 12. Juli 1994 hingewiesen. Jedes dieser Dokumente offenbart einen IVD-Prozess, bei welchem die Drehrichtung des Körpers für die Abscheidung der aufeinanderfolgenden Durchgänge umgekehrt wird. Dort ist jedoch nichts über die Verwendung unterschiedlicher Drehgeschwindigkeiten und/oder unterschiedlicher Wärmequellen traversierungsgeschwindigkeiten zur Erzeugung unterschiedlicher Oberflächenprofile gesagt, dies stände tatsächlich auch im Gegensatz zu den in diesen Dokumenten aufgeführten Zielen. In den GB-Beschreibungen wird die Drehrichtung des Körpers für aufeinanderfolgende Durchgänge umgekehrt, um die Anisotropie zu verringern, während die Umkehr der Drehrichtung in dem JP- Abstract erfolgt, um für ein gleichförmiges Aufbringen des abgeschiedenen Materials zu sorgen. In jedem Fall und für jede Schicht werden die gleichen Drehgeschwindigkeiten und Traversierungsgeschwindigkeiten verlangt.

Claims (13)

1. Verfahren zur Ausbildung eines Glashalbzeugs, aus dem ein Lichtwellenleiter gezogen werden kann, wobei bei dem Verfahren aufeinanderfolgende Schichten (24, 28) aus Material durch Dampfabscheidung auf einem rotierenden zylindrischen Körper (10) abgeschieden werden, der von einer Wärmequelle (15) durchquert wird, dadurch gekennzeichnet, daß für die Abscheidung von zwei aufeinanderfolgenden Schichten eine unterschiedliche Drehgeschwindigkeit des Körpers gewählt wird, um in einer der Schichten ein Oberflächenprofil (26, 30 ) zu erzeugen, das sich von einem Oberflächenprofil (30, 26) unterscheidet, das in der anderen Schicht erzeugt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem eine der beiden Schichten die innerste Schicht des Glashalbzeugs ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, bei welchem die innerste Schicht die letzte Schicht ist, die abgeschieden wurde.
4. Verfahren nach Anspruch 3, bei welchem die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung einer letzten Schicht größer ist als die Drehbeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung der vorhergehenden Schicht.
5. Verfahren nach Anspruch 2, bei welchem die innerste Schicht die erste Schicht ist, die abgeschieden wurde.
6. Verfahren nach Anspruch 5, bei welchem die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung einer ersten Schicht größer ist als die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung der zweiten Schicht.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei welchem die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung jeder der beiden Schichten sich von der Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung der anderen der beiden Schichten um einen vorgegebenen Betrag unterscheidet.
8. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem die Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung jeder von wenigstens drei aufeinanderfolgenden Schichten sich von der Drehgeschwindigkeit des Körpers während der Abscheidung einer vorhergehenden oder darauffolgenden Schicht der wenigstens drei aufeinanderfolgenden Schichten unterscheidet.
9. Verfahren nach Anspruch 8, bei welchem die Drehgeschwindigkeiten eine größere Geschwindigkeit und eine kleinere Geschwindigkeit aufweisen.
10. Verfahren nach Anspruch 7 oder 9, bei welchem die größere Geschwindigkeit im wesentlichen gleich x/2 + nx ist, wobei x die kleinere Geschwindigkeit und n eine ganze Zahl sind.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welchem jede der aufeinanderfolgenden Schichten (24, 28) ein Oberflächenprofil hat, das von einem insgesamt wendelförmigen Wulst (26, 30) gebildet wird, der sich längs des Körpers erstreckt.
12. Verfahren nach Anspruch 1, welches das Auswählen einer unterschiedlichen Durchquerungsgeschwindigkeit der Wärmequelle zusätzlich zu der unterschiedlichen Drehgeschwindigkeit des Körpers für die Abscheidung der beiden aufeinanderfolgenden Schichten aufweist.
13. Verfahren zum Herstellen eines Lichtwellenleiters, welches das Ausbilden eines Glashalbzeugs nach einem Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche und das Ziehen des Lichtwellenleiters aus dem Glashalbzeug aufweist.
DE69500934T 1994-01-27 1995-01-19 Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern Expired - Lifetime DE69500934T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9401600A GB2286199B (en) 1994-01-27 1994-01-27 A method of forming an optical fibre preform

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69500934D1 DE69500934D1 (de) 1997-12-04
DE69500934T2 true DE69500934T2 (de) 1998-04-16

Family

ID=10749441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69500934T Expired - Lifetime DE69500934T2 (de) 1994-01-27 1995-01-19 Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5518516A (de)
EP (1) EP0665191B1 (de)
BR (1) BR9500512A (de)
CA (1) CA2141170C (de)
DE (1) DE69500934T2 (de)
GB (1) GB2286199B (de)
ZA (1) ZA95544B (de)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0153835B1 (ko) * 1995-11-07 1998-11-16 김광호 매끄러운 환상고리 굴절율 프로파일을 갖는 분산이동광섬유의 제조방법
US5966207A (en) * 1997-08-18 1999-10-12 Corning Incorporated Methods for identifying optical fibers which exhibit elevated levels of polarization mode dispersion
AU1477200A (en) * 1998-11-24 2000-06-13 Corning Incorporated Method of applying protective coating to silica-containing article
US6767579B1 (en) 1998-11-24 2004-07-27 Corning Incorporated Methods for protecting silica-containing article in optical fiber manufacturing
US6016669A (en) * 1998-11-30 2000-01-25 General Electric Company Pulsed fuel-oxygen burner and method for rotatable workpieces
US20020073740A1 (en) * 2000-12-20 2002-06-20 Dawes Steven B. Fluorine doping a soot preform
CA2443129A1 (en) * 2001-04-12 2002-10-24 Emilia Anderson High index-contrast fiber waveguides and applications
WO2002090276A1 (en) * 2001-04-27 2002-11-14 Pirelli & C. S.P.A. Method for producing an optical fiber preform
US8516855B2 (en) 2001-04-27 2013-08-27 Prysmian Cavi E Sistemi Energia S.R.L. Method for producing an optical fiber preform
US20040141702A1 (en) * 2002-11-22 2004-07-22 Vladimir Fuflyigin Dielectric waveguide and method of making the same
US20040107734A1 (en) * 2002-12-04 2004-06-10 Paresh Kenkare Systems and methods for fabricating optical fiber preforms
JP5148367B2 (ja) * 2007-05-29 2013-02-20 信越化学工業株式会社 高周波誘導熱プラズマトーチを用いた光ファイバプリフォームの製造方法
JP5023016B2 (ja) * 2007-08-10 2012-09-12 信越化学工業株式会社 光ファイバ製造装置および線引き炉のシール方法
US8613807B2 (en) * 2009-02-06 2013-12-24 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Conductive film, corrosion-resistant conduction film, corrosion-resistant conduction material and process for producing the same
NL2007447C2 (nl) * 2011-09-20 2013-03-21 Draka Comteq Bv Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel.

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3823995A (en) * 1972-03-30 1974-07-16 Corning Glass Works Method of forming light focusing fiber waveguide
JPS52141235A (en) * 1976-05-19 1977-11-25 Sumitomo Electric Ind Ltd Production for light transmitting fiber
US4233045A (en) * 1978-11-27 1980-11-11 Corning Glass Works Apparatus and method for making optical filament preform
DE2907833A1 (de) * 1979-02-28 1980-09-11 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von beschichteten glaskoerpern
DE2907731A1 (de) * 1979-02-28 1980-09-04 Siemens Ag Verfahren zur herstellung eines glasfaser-lichtwellenleiters
JPS5678440A (en) * 1979-11-30 1981-06-27 Fujitsu Ltd Production of focussing type optical fiber
US4395270A (en) * 1981-04-13 1983-07-26 Corning Glass Works Method of fabricating a polarization retaining single-mode optical waveguide
JPS5864236A (ja) * 1981-10-12 1983-04-16 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光フアイバ母材の製造方法
JPS5954636A (ja) * 1982-09-21 1984-03-29 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバプリフォ−ムの製造装置
JPS59141436A (ja) * 1983-02-03 1984-08-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光フアイバ母材の製造方法
NL8302127A (nl) * 1983-06-15 1985-01-02 Philips Nv Werkwijze en inrichting voor de vervaardiging van optische vezels.
CA1242889A (en) * 1983-07-16 1988-10-11 Peter E.E. Geittner Method of manufacturing optical fibres
JPS6078440A (ja) * 1983-10-04 1985-05-04 Fuji Photo Film Co Ltd リ−ダプリンタにおける自動露光調整方法
DE3635034A1 (de) * 1986-10-15 1988-04-21 Philips Patentverwaltung Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern
JP2832155B2 (ja) * 1994-08-23 1998-12-02 東京電力株式会社 ナトリウム−硫黄電池用カーボンフェルト及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
ZA95544B (en) 1995-11-17
GB2286199B (en) 1997-06-11
GB9401600D0 (en) 1994-03-23
DE69500934D1 (de) 1997-12-04
EP0665191B1 (de) 1997-10-29
GB2286199A (en) 1995-08-09
US5518516A (en) 1996-05-21
CA2141170C (en) 1999-08-17
EP0665191A1 (de) 1995-08-02
CA2141170A1 (en) 1995-07-28
BR9500512A (pt) 1995-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69500934T2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern
DE2366295C2 (de) Glasfaser-Lichtleiter
DE2906071C2 (de) Verfahren zum Ziehen einer Faser aus thermoplastischem Material zur Herstellung optischer Wellenleiter
DE69033488T2 (de) In optischen wellenleiter integriertes filter zur diskrimination des räumlich-transversalen modes
DE2342791C2 (de) Optische Multimoden-Faser
DE69007648T2 (de) Pultrudierte thermoplastische Verbundstoffgegenstände mit variablem Querschnitt sowie Verfahren und Vorrichtung zu deren Herstellung.
DE69606056T2 (de) Prismatischer lichtwellenleiter mit konfokal-parabelförmigem querschnitt und hohem wirkungsgrad
DE2825412C3 (de) Optische Gradientenfaser
DE69622778T2 (de) Herstellung von optischen Kerbfiltern
DE1965487B2 (de) Katheter
DE2349906A1 (de) Optische uebertragungsleitung
DE2528991A1 (de) Element unbestimmter laenge mit optischer faser
DE2408300A1 (de) Stossverbundenes optisches faserpaar
DE2909390C2 (de)
DE3035089C2 (de)
DE3126356A1 (de) Verfahren zum pruefen von objekten
DE2923132A1 (de) Verfahren zur herstellung eines langgestreckten fadens fuer ein optisches kabel, ein optisches kabel sowie ein langgestreckter faden fuer ein optisches kabel
DE2818550C2 (de) Vorrichtung zum Ziehen von optischen Fasern
DE3136071A1 (en) Methods of controlling the index profile of optical fiber preforms
DE1949028A1 (de) Lichtleiterglaskoerper und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2625010B2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Vorformlings für optische Fasern
DE2907650C3 (de) Multimode-Lichtleiter
DE69407378T2 (de) Verfahren zur Aushärtung von zweifach beschichteten optischen Fasern
DE2834927A1 (de) Multimoden-wellenleiter und verfahren zu dessen herstellung
DE2621508C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von ummantelten optischen Fasern

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: PRYSMIAN CABLES & SYSTEMS LTD., EASTLEIGH, HAM, GB