JPS5864236A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- C03B2207/70—Control measures
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光通信分野に用いられる広帯域なグレーデッ
ド形光ファイバの製造方法に関する。
ド形光ファイバの製造方法に関する。
石英ガラス光フアイバ母材の製造方法として、内付は又
は外付けＣＶＤ法が知られている。内付けＣＶＤ法によ
る光フアイバ母材製造のための一般的な作製システムを
、以下添付図面に基づいて説明する。第１ｇは、従来の
内付けＣＶＤ法による光ファイバ母材製造装置の系統図
である。第１−に示すよ５に、該システムは、１の原料
ｊス倶艙系（１１及び１２はガス流量制御装置）、２０
石英ガラス管を保持し、１転させるための貞ラス旋盤、
鋏ガラス旋盤に取付けられた１のバーナ、叉に賦バーナ
の移動速度などを制御する４のプ冑ダッム制御系の各部
からなゐ０石萬ガラス管紘バーナによって１３００〜１
４０・ＣＫＪＩ熱され、管内部では、主原料ガスである
８ｉＣ４、及びドーパント用ガスであるＧ＠６４等が、
それぞれ８１０雪、Ｇｏｏ！などの酸化物として管壁に
付着して、盲ちに逓＠ｆラスになる。加熱バーナは石英
ガラス管の憂さ方向に移動し、ｌ１ｊｌのバーナの移動
に伴って通常、厚さ数＾ｓ１１度のガラス属が堆積され
る。そうして得られる光ファイバのコアがグレーデッド
形である場合、その屈折率分布を第２図に示す。しかし
て、光ファイバのコアが＊２ＷＪＫ示すようなグレーゲ
ット形の屈折率分布を持っ光ファイバ母材動作展する場
合には、上記バーナの移動ごとＫＭ科ガスの組成を自動
的に変化させ、逐次ガラス層の堆積を行５゜ガラス膜堆
積が終了した段階では、石英ガラス管内は中空であるが
、これを加熱して中実化することによって光フアイバ母
材を得ることができる。
は外付けＣＶＤ法が知られている。内付けＣＶＤ法によ
る光フアイバ母材製造のための一般的な作製システムを
、以下添付図面に基づいて説明する。第１ｇは、従来の
内付けＣＶＤ法による光ファイバ母材製造装置の系統図
である。第１−に示すよ５に、該システムは、１の原料
ｊス倶艙系（１１及び１２はガス流量制御装置）、２０
石英ガラス管を保持し、１転させるための貞ラス旋盤、
鋏ガラス旋盤に取付けられた１のバーナ、叉に賦バーナ
の移動速度などを制御する４のプ冑ダッム制御系の各部
からなゐ０石萬ガラス管紘バーナによって１３００〜１
４０・ＣＫＪＩ熱され、管内部では、主原料ガスである
８ｉＣ４、及びドーパント用ガスであるＧ＠６４等が、
それぞれ８１０雪、Ｇｏｏ！などの酸化物として管壁に
付着して、盲ちに逓＠ｆラスになる。加熱バーナは石英
ガラス管の憂さ方向に移動し、ｌ１ｊｌのバーナの移動
に伴って通常、厚さ数＾ｓ１１度のガラス属が堆積され
る。そうして得られる光ファイバのコアがグレーデッド
形である場合、その屈折率分布を第２図に示す。しかし
て、光ファイバのコアが＊２ＷＪＫ示すようなグレーゲ
ット形の屈折率分布を持っ光ファイバ母材動作展する場
合には、上記バーナの移動ごとＫＭ科ガスの組成を自動
的に変化させ、逐次ガラス層の堆積を行５゜ガラス膜堆
積が終了した段階では、石英ガラス管内は中空であるが
、これを加熱して中実化することによって光フアイバ母
材を得ることができる。
一般に、第２図に示すようなグレーデッド戦ファイバの
屈折率分布ｎ （ｒ）は下記式（１）で表される： 上式において、ｎｌはコア中心の屈折率、−はクラッド
の屈折率、Δはコアークラッド間の比屈折率、ａはコア
半径、αは任意の数を意味する。
屈折率分布ｎ （ｒ）は下記式（１）で表される： 上式において、ｎｌはコア中心の屈折率、−はクラッド
の屈折率、Δはコアークラッド間の比屈折率、ａはコア
半径、αは任意の数を意味する。
多モードファイバでは、モード分散な最小とするための
最適ｊｉＩｉｒ率分布パラメータα。、ｔが存在する。
最適ｊｉＩｉｒ率分布パラメータα。、ｔが存在する。
このようなグレーデッド＊ｍ折率分布を形成するために
は、例えばまず５ｉｃ４のみを流入させ、ＭＩＲ率が−
なるクラッド部分を堆積させた後、５ｔｃ４にドーパン
ト用ガスとして屈折率を増加させるＧｅＣ４等のガスを
混入し、掴折率を−からｎｌへ徐徐に増加させ、所望の
関数形（α＝α。ｐｉ ）を持つ屈折率分布となるよう
に、ガラス層を多層に堆積させる必要がある。滑かな最
適屈折率分布に近い分布を得るためには、層数な増加さ
せればよいが、他方、＆Ｉ済的な観点からは、この暦数
はできるだけ少ない方が望ましい。
は、例えばまず５ｉｃ４のみを流入させ、ＭＩＲ率が−
なるクラッド部分を堆積させた後、５ｔｃ４にドーパン
ト用ガスとして屈折率を増加させるＧｅＣ４等のガスを
混入し、掴折率を−からｎｌへ徐徐に増加させ、所望の
関数形（α＝α。ｐｉ ）を持つ屈折率分布となるよう
に、ガラス層を多層に堆積させる必要がある。滑かな最
適屈折率分布に近い分布を得るためには、層数な増加さ
せればよいが、他方、＆Ｉ済的な観点からは、この暦数
はできるだけ少ない方が望ましい。
従来の製造方法では、主原料ガスである８１ｃ４の流量
とバーナの移動適度を常に一定に保っていたため、反応
してガッヌ化される体積は各磨具等しくなり、その結果
、これを中実化した母材段階の各層の厚みは、第ｎ層の
半径ｒｎが、下記式体）： ｒｆｉ ｏｃ、／ｉｌ （ｎ ＝ ｔ ２．” ＋’
） ”−１２）で表されるものとなり、中心から遠ざか
るＫＮつて徐４１１に薄くなる。その状ｗ、＊＃Ｉｓ図
に示す。
とバーナの移動適度を常に一定に保っていたため、反応
してガッヌ化される体積は各磨具等しくなり、その結果
、これを中実化した母材段階の各層の厚みは、第ｎ層の
半径ｒｎが、下記式体）： ｒｆｉ ｏｃ、／ｉｌ （ｎ ＝ ｔ ２．” ＋’
） ”−１２）で表されるものとなり、中心から遠ざか
るＫＮつて徐４１１に薄くなる。その状ｗ、＊＃Ｉｓ図
に示す。
すなわち第５図は、従来の光フアイバ母材の断面概略図
である。これを線引きして得られる光ファイバの屈折率
分布な８４図に示す。すなわち第４図は、従来のグレー
デッド形光ファイバの実際の屈折率分布を示す図である
。従来法によれば、前記腑５図に示すような断面形状を
もつ母材を纏引きすると、得られる光ファイバの屈折率
分布は、第４図において実線で示したよ５な階＊伏とな
り、破線で示した最適屈折率分布からの偏差が、多モー
ドファイバのモード分散の増加、すなわち伝送帯域の低
下なもたらすという欠点を有していた。第４ｇｌの集線
で示す屈折率分布を持つ光ファイバのパルス拡がりは、
公知の電磁＃理論によって計算することができる。しか
して、コア部分の屈折率分布は、ドーパントの熱拡散の
ため、実際には階段形がややなまった形状となるので、
ｌＫ際のコア部分の屈折率分布ｎ （ｒ）、及び最適屈
折率分布からの偏差δｎ （ｒ）は、下記式で近値する
のが適当である二ｎ （ｒ）＝ Ｉｌｌ （１−Ａ （
ｒ／ａ ） ）十δｎ（ｒ）−・・（３）Ｊｎ（ｒ）
＝Ａａ１ｎ （２ｇ Ｍ （ｒ／ａ ）”ｉ・＝＝”
（４）（Ｎ：整１ｋ） ｇｓ図には、層数Ｍ（横軸）とｒＩＩＩ１１パルス幅＃
（ｎｎｍ１ｋ ） （縦軸）との関係をグラフで示す
。
である。これを線引きして得られる光ファイバの屈折率
分布な８４図に示す。すなわち第４図は、従来のグレー
デッド形光ファイバの実際の屈折率分布を示す図である
。従来法によれば、前記腑５図に示すような断面形状を
もつ母材を纏引きすると、得られる光ファイバの屈折率
分布は、第４図において実線で示したよ５な階＊伏とな
り、破線で示した最適屈折率分布からの偏差が、多モー
ドファイバのモード分散の増加、すなわち伝送帯域の低
下なもたらすという欠点を有していた。第４ｇｌの集線
で示す屈折率分布を持つ光ファイバのパルス拡がりは、
公知の電磁＃理論によって計算することができる。しか
して、コア部分の屈折率分布は、ドーパントの熱拡散の
ため、実際には階段形がややなまった形状となるので、
ｌＫ際のコア部分の屈折率分布ｎ （ｒ）、及び最適屈
折率分布からの偏差δｎ （ｒ）は、下記式で近値する
のが適当である二ｎ （ｒ）＝ Ｉｌｌ （１−Ａ （
ｒ／ａ ） ）十δｎ（ｒ）−・・（３）Ｊｎ（ｒ）
＝Ａａ１ｎ （２ｇ Ｍ （ｒ／ａ ）”ｉ・＝＝”
（４）（Ｎ：整１ｋ） ｇｓ図には、層数Ｍ（横軸）とｒＩＩＩ１１パルス幅＃
（ｎｎｍ１ｋ ） （縦軸）との関係をグラフで示す
。
第５！ｌ中の破縮轄、従来法のパルス拡がりを表すｒＩ
ｌ＃パルス幅ｌと層数ｎとの関係を示す。なお、上式中
の人は（ｍｌ−ｘ）／１ ｏ ｏｚｔ ４ＸＩ Ｑ’
、 Ａ ：Ｉａ（ｌ Ｑ １、ａＩＩＩＩＩ２５ｊＩ慣
、光源波兼１−１１声露とし、ドーパントはＧａｏｌ
を仮定しており、αは最適屈折率分布となるようにα
ｏｐｔｍｔ？４とし【いる。しかして、この条件では、
導波モードの線数は１５６である。第５図から鴨らかな
よ５に、Ｎ＝Ｏすなわち、滑かな真の最適屈折率分布の
場合には、σ＝０１１（ｎ廖／ｋｍ ）であるのに対し
【、Ｎ＝８としたときには＃ ２ （Ｌ １８ （ｎｓ
／ｃｍ ）であり、第４図に示す階段状の屈折率偏差に
よる影響を完全に蝦除＜Ｋａ、Ｎ：＝−１６、すなわち
１４層以上の屈折率制御が必要であることがわかる。
ｌ＃パルス幅ｌと層数ｎとの関係を示す。なお、上式中
の人は（ｍｌ−ｘ）／１ ｏ ｏｚｔ ４ＸＩ Ｑ’
、 Ａ ：Ｉａ（ｌ Ｑ １、ａＩＩＩＩＩ２５ｊＩ慣
、光源波兼１−１１声露とし、ドーパントはＧａｏｌ
を仮定しており、αは最適屈折率分布となるようにα
ｏｐｔｍｔ？４とし【いる。しかして、この条件では、
導波モードの線数は１５６である。第５図から鴨らかな
よ５に、Ｎ＝Ｏすなわち、滑かな真の最適屈折率分布の
場合には、σ＝０１１（ｎ廖／ｋｍ ）であるのに対し
【、Ｎ＝８としたときには＃ ２ （Ｌ １８ （ｎｓ
／ｃｍ ）であり、第４図に示す階段状の屈折率偏差に
よる影響を完全に蝦除＜Ｋａ、Ｎ：＝−１６、すなわち
１４層以上の屈折率制御が必要であることがわかる。
以上１１ｆ１４したように１各層のＳｉｎ、の堆積量が
等しくなるような従来の光フアイバ母材の製造方法にお
いて杜、パルス拡がりの少ない良好な特性を持つグレー
デッド形光ファイバを得るためには、暦数を１６以上と
多くする必要があり、それに従って製造時間が長（なる
ため、蔽済的に４不利であるという欠点があった。
等しくなるような従来の光フアイバ母材の製造方法にお
いて杜、パルス拡がりの少ない良好な特性を持つグレー
デッド形光ファイバを得るためには、暦数を１６以上と
多くする必要があり、それに従って製造時間が長（なる
ため、蔽済的に４不利であるという欠点があった。
本ｌＡｌ１ｊＩの目的は、これらの欠点を除去するため
に、光ファイバ母材外ｊｌＫおけるガラス堆積の暦数を
減少させ、なお且つ広帯域なグレーデッド形光ファイバ
の製造を可能とするにある。
に、光ファイバ母材外ｊｌＫおけるガラス堆積の暦数を
減少させ、なお且つ広帯域なグレーデッド形光ファイバ
の製造を可能とするにある。
すなわち本発明を概説すれば、本’ｉｋｍは、光フアイ
バ母材を内付は又紘外付けＣＶＤ法により製造する場合
に、母材作成段階のｍ折率分布形成工１！ＫｊＪいて、
石英ガラス管を中実化して得られる光フアイバ母材の段
階におけるｊｌｎ番目のガラス堆積層の半価ｒｎがｒｎ
ｏｃｎ１／ｐ（ただし、（Ｌ４≦ｐ≦１６）となるよ５
に、主原料ガスである８１ＣＡ４の流量及び／又はバー
ナの移動速度を各層ととに制御し変化させて堆積させる
８１０．の量を６層ごとに変化させ、更Ｋ、堆積するド
ーパント用ガスからの酸化物の量を、所定のｌＩＫ祈率
分率分布られるように各層ととに制御し変化させること
を特徴とする光フアイバ母材の製造方法に関する。
バ母材を内付は又紘外付けＣＶＤ法により製造する場合
に、母材作成段階のｍ折率分布形成工１！ＫｊＪいて、
石英ガラス管を中実化して得られる光フアイバ母材の段
階におけるｊｌｎ番目のガラス堆積層の半価ｒｎがｒｎ
ｏｃｎ１／ｐ（ただし、（Ｌ４≦ｐ≦１６）となるよ５
に、主原料ガスである８１ＣＡ４の流量及び／又はバー
ナの移動速度を各層ととに制御し変化させて堆積させる
８１０．の量を６層ごとに変化させ、更Ｋ、堆積するド
ーパント用ガスからの酸化物の量を、所定のｌＩＫ祈率
分率分布られるように各層ととに制御し変化させること
を特徴とする光フアイバ母材の製造方法に関する。
本発明を、以下添付図面に基づいて詳細に説明する。
第６図は１本発明の一勇遣方法によって作製した、上記
及び後記式（＠においてｐ＝ｉとした場合の光ファイバ
母材の断面概略図である。第７ｇは屈折率分布を示す図
であり、第７図の実線は、前記第６図に示した母材を線
引きして得られた光ファイバの屈折率分布を示す。第６
図に示した母材においては、光ファイバの屈折率分布の
最適屈折率分布からの偏差−ｎ （ｒ）は、前記式（４
）で表される従来の影状のものとは異なるから、実際の
コア部分の屈折率分布ｎ（ｒ）は下記式で近似される： ｎ（ｒ）−ｎｔ （１−Δ（ｒ／ａ ）“） ＋ Ｊ
ｎ（ｒ） −−−−（＆）ａ ｎ（ｒ）＝ Ａｓ１ｎ
（２ｘＨ（ｒ／ａ）ｐ） −・（６）（Ｎ：］１１数
、α４≦ｐ≦ｔ６） 式（ａ）において、ｐ ＝ｘ ｌの場合について以下説
明する。光フアイバ母材における各層の厚みを等しくす
るためには、堆積するガラスの体積を層ごとに変化させ
、第ｎ層の堆積ガラスの体積８ｎを、下記式（７）に示
されるようにする必要がある： ８ｎｏｃ（２ｎ−１） ・・・・・・ （７）そのた
めＫａ、主原料ガスである８１Ｃｔ４の流量及び／又は
バーナの移動速度を層ごとに制御し変化させて、反応し
て生成するｓｉｏ、の体積を各層ととに変化させ、更に
、屈折率に高低をつけるため、主原料ガスに混入するＧ
ａＯ２、ＰＯＣ４等のドーパント用ガスが酸化反応して
堆積するＧ５５０１ 、 Ｐｔ Ｏｓ等の酸化物の量を
、所定の屈折率分布が得られるよ５に各層ごとに制御し
変化させる。縞１図に示した現在実用されている内付け
Ｃ’／Ｄ法の作製システムにおけるプ四グフム制御系を
用いれば、上記操作で必要なガスの流量制御、及びバー
ナの移動適度の制御は、容易−行うことができる。
及び後記式（＠においてｐ＝ｉとした場合の光ファイバ
母材の断面概略図である。第７ｇは屈折率分布を示す図
であり、第７図の実線は、前記第６図に示した母材を線
引きして得られた光ファイバの屈折率分布を示す。第６
図に示した母材においては、光ファイバの屈折率分布の
最適屈折率分布からの偏差−ｎ （ｒ）は、前記式（４
）で表される従来の影状のものとは異なるから、実際の
コア部分の屈折率分布ｎ（ｒ）は下記式で近似される： ｎ（ｒ）−ｎｔ （１−Δ（ｒ／ａ ）“） ＋ Ｊ
ｎ（ｒ） −−−−（＆）ａ ｎ（ｒ）＝ Ａｓ１ｎ
（２ｘＨ（ｒ／ａ）ｐ） −・（６）（Ｎ：］１１数
、α４≦ｐ≦ｔ６） 式（ａ）において、ｐ ＝ｘ ｌの場合について以下説
明する。光フアイバ母材における各層の厚みを等しくす
るためには、堆積するガラスの体積を層ごとに変化させ
、第ｎ層の堆積ガラスの体積８ｎを、下記式（７）に示
されるようにする必要がある： ８ｎｏｃ（２ｎ−１） ・・・・・・ （７）そのた
めＫａ、主原料ガスである８１Ｃｔ４の流量及び／又は
バーナの移動速度を層ごとに制御し変化させて、反応し
て生成するｓｉｏ、の体積を各層ととに変化させ、更に
、屈折率に高低をつけるため、主原料ガスに混入するＧ
ａＯ２、ＰＯＣ４等のドーパント用ガスが酸化反応して
堆積するＧ５５０１ 、 Ｐｔ Ｏｓ等の酸化物の量を
、所定の屈折率分布が得られるよ５に各層ごとに制御し
変化させる。縞１図に示した現在実用されている内付け
Ｃ’／Ｄ法の作製システムにおけるプ四グフム制御系を
用いれば、上記操作で必要なガスの流量制御、及びバー
ナの移動適度の制御は、容易−行うことができる。
また、α４≦ｐ≦ｔ４（ｐ−１以外）の場合、及び外付
けＣＶＤ法の場合にも、同様にして屈折率分布の制御が
可能である。
けＣＶＤ法の場合にも、同様にして屈折率分布の制御が
可能である。
本実廁Ｎ（すなわちｐ＝１）において得られるグレーデ
ツ）＃形光ファイバのｒｗｒｍパルス幅−と層数舅との
関係を、第５図のグラフＫｍｌ！線で示す、計算に使用
したパラメータは、すべて第５ＷＡＫおける破線で示し
た場合と同様であり、式（旬、（・）中のム３ｔ４Ｘ１
Ｇ’、Δ＝１０１、龜；２５ Ａｌｌ 、光源波長Ｊ＝
ｚｔ３．、 α＝１９４である。第５図より、Ｎが８の
実線の場合におけるｌは、Ｎ−ロすなわち滑かな最適屈
折率分布の場合と、はぼ等しくなっており、第５図中で
破線で示した従来法における屈折率分布の−と比較して
、その改善度は着しいことがわかる。
ツ）＃形光ファイバのｒｗｒｍパルス幅−と層数舅との
関係を、第５図のグラフＫｍｌ！線で示す、計算に使用
したパラメータは、すべて第５ＷＡＫおける破線で示し
た場合と同様であり、式（旬、（・）中のム３ｔ４Ｘ１
Ｇ’、Δ＝１０１、龜；２５ Ａｌｌ 、光源波長Ｊ＝
ｚｔ３．、 α＝１９４である。第５図より、Ｎが８の
実線の場合におけるｌは、Ｎ−ロすなわち滑かな最適屈
折率分布の場合と、はぼ等しくなっており、第５図中で
破線で示した従来法における屈折率分布の−と比較して
、その改善度は着しいことがわかる。
また、第８図は、式（・）においてｐ＝１５（破線）、
ｔＯ（実Ｉ）、ｔｓ（−４−＊）とｔ、たときのグレー
デッド形光ファイバのｒｍｓパルス幅ｇ （ｎｓ／ｉｎ
） ＣＩＩ軸）と層数Ｎ（横軸）との関係な示すグラ
フである。なお計算で使用したパラメータ抹、すべてＪ
ＩＩＳ−の場合と同様である。第８ｇから明らかなよう
に、ｐ−α５（ｆＩＬ４１）、ｔｓ（一点鎖ＩＩ＞では
、いずれも層数Ｎを高高１０とすれば、Ｎ＝Ｏの場合の
パルス拡がりと比較し【、そのｒｍａパルス幅σの増加
を１０９６以下に制御することが可能であり、従来の屈
折率分布制御技術な用いた場合〔式（４）の場合〕と比
較して改善効果は著しい。
ｔＯ（実Ｉ）、ｔｓ（−４−＊）とｔ、たときのグレー
デッド形光ファイバのｒｍｓパルス幅ｇ （ｎｓ／ｉｎ
） ＣＩＩ軸）と層数Ｎ（横軸）との関係な示すグラ
フである。なお計算で使用したパラメータ抹、すべてＪ
ＩＩＳ−の場合と同様である。第８ｇから明らかなよう
に、ｐ−α５（ｆＩＬ４１）、ｔｓ（一点鎖ＩＩ＞では
、いずれも層数Ｎを高高１０とすれば、Ｎ＝Ｏの場合の
パルス拡がりと比較し【、そのｒｍａパルス幅σの増加
を１０９６以下に制御することが可能であり、従来の屈
折率分布制御技術な用いた場合〔式（４）の場合〕と比
較して改善効果は著しい。
以上説明したように、本発明によれば、層数を高高１０
とすれば、滑かな屈折率分布と＃ｔば等しい広帯域な特
性を持つグレーデッド形光ファイバを作製することが可
能である。ｒｍｇパルス幅Ｃと層数Ｎとの関係線、式（
＠）の屈折率偏差Ｊ ｎ （ｒ）の振幅人に依存し、人
が大きくなれば、滑かなｌ１１１？率分布の場合と岡等
のＣを得るために必要な層数は、轟然増やす必要がある
が、いずれにしても、Ｊ ｎ （ｒ） ｋ式（４）の型
から式（６）の型にすることによって、層数ＩＪｉ減少
させることができる点は変らない。
とすれば、滑かな屈折率分布と＃ｔば等しい広帯域な特
性を持つグレーデッド形光ファイバを作製することが可
能である。ｒｍｇパルス幅Ｃと層数Ｎとの関係線、式（
＠）の屈折率偏差Ｊ ｎ （ｒ）の振幅人に依存し、人
が大きくなれば、滑かなｌ１１１？率分布の場合と岡等
のＣを得るために必要な層数は、轟然増やす必要がある
が、いずれにしても、Ｊ ｎ （ｒ） ｋ式（４）の型
から式（６）の型にすることによって、層数ＩＪｉ減少
させることができる点は変らない。
以上の詳細な説明から明らかなように、本発明による光
フアイバ母材の製造方法は、グレーデッド形光ファイバ
の屈折率分布形式において、少ない暦数で最適盾折率分
布の場合と同等の広帯域な光ファイバな得ることができ
るため、製造コストの低減がはかられ、鮭済上の利点が
大きい、また、本発明は、従来の内付けＣＶＤ法又は外
付けｃｖｏｔＩｔｙｃよる光フアイバ母材の製造鋏雪を
変更することなく適用が可能であるから、実用上有効で
ある。
フアイバ母材の製造方法は、グレーデッド形光ファイバ
の屈折率分布形式において、少ない暦数で最適盾折率分
布の場合と同等の広帯域な光ファイバな得ることができ
るため、製造コストの低減がはかられ、鮭済上の利点が
大きい、また、本発明は、従来の内付けＣＶＤ法又は外
付けｃｖｏｔＩｔｙｃよる光フアイバ母材の製造鋏雪を
変更することなく適用が可能であるから、実用上有効で
ある。
第１図は、従来の内付けＣ’ＶＤ法による光ファイバ母
材製造装置の系統図である。第２図は、グレーデッド形
光ファイバの屈折率分布を示す図である。第３図は、従
来の光フアイバ母材の断面概略図である。第４図は、従
来のグレーデッド形光ファイバの実際の屈折率分布を示
す図である。第５図線、従来法の場合（破線）と本発明
の一獲施の態様の場合（実線）における。 グレーデッド形光ファイバのｒｍｓパルス幅σと層数Ｎ
との関係を示すグラフである。＠６図は、本発明の一夾
施のｍｍによる光フアイバ母材の断面概略図である。第
７図は、第６図に示した母材を線引きして得られた光フ
ァイバの屈折率分布を示す図である。第８９祉、本発明
の実施の態様におけるグレーデッド形光ファイバのｒａ
ｇパルス幅σと層数Ｎとの関係を示すグラフである。 １：原料ガス供給系 １１及び１２：ガス流量制御装
置 ２ニガラス旋盤 ３：パーナ４：プログラ人制
御系 特許出願人 日本電信電話公社 代堰人 中 本 宏 第２図 ’７１（ｊ） 第３ 図 ％４図 第 ５ 図 １数Ｎ 第６図 第７図 −Ｕ □ α
材製造装置の系統図である。第２図は、グレーデッド形
光ファイバの屈折率分布を示す図である。第３図は、従
来の光フアイバ母材の断面概略図である。第４図は、従
来のグレーデッド形光ファイバの実際の屈折率分布を示
す図である。第５図線、従来法の場合（破線）と本発明
の一獲施の態様の場合（実線）における。 グレーデッド形光ファイバのｒｍｓパルス幅σと層数Ｎ
との関係を示すグラフである。＠６図は、本発明の一夾
施のｍｍによる光フアイバ母材の断面概略図である。第
７図は、第６図に示した母材を線引きして得られた光フ
ァイバの屈折率分布を示す図である。第８９祉、本発明
の実施の態様におけるグレーデッド形光ファイバのｒａ
ｇパルス幅σと層数Ｎとの関係を示すグラフである。 １：原料ガス供給系 １１及び１２：ガス流量制御装
置 ２ニガラス旋盤 ３：パーナ４：プログラ人制
御系 特許出願人 日本電信電話公社 代堰人 中 本 宏 第２図 ’７１（ｊ） 第３ 図 ％４図 第 ５ 図 １数Ｎ 第６図 第７図 −Ｕ □ α
Claims (1)
- ｔ 光フアイバ母材を内付は又は外付けＣＶＤ法により
製造する場合に、母材作成段階の屈折率分布形成工＠に
おいて、石英ガラス管を中実化して得られる光フアイバ
母材の段階における第ｎ番目のガラス堆積層の半ｔ ｒ
、がｒ ｏｃｎ％ （ただし、α４≦ｐくｔ６）とな
るように１主原料ガスである５１ｃｔ、の流量及び／Ｘ
線バーナの移動速度を各層ととに制御し変化させて堆積
させる８１０．の量を各層ととに変化させ、更に、堆積
するドーパント用ガスからの酸化物の量を、所定の屈折
率分布が得られるように各層ごとに制御し変化させるこ
とを特徴とする光ファイ〜パ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16102181A JPS5864236A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16102181A JPS5864236A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5864236A true JPS5864236A (ja) | 1983-04-16 |
Family
ID=15727073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16102181A Pending JPS5864236A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5864236A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0665191A1 (en) * | 1994-01-27 | 1995-08-02 | PIRELLI GENERAL plc | A method of forming an optical fibre preform |
| KR100666254B1 (ko) | 2004-04-30 | 2007-01-09 | 엘에스전선 주식회사 | 기가비트급 전송시스템용 다중모드 광섬유의 제조방법 |
| WO2017016539A1 (de) * | 2015-07-29 | 2017-02-02 | J-Fiber Gmbh | Verfahren zum definierten abscheiden einer glasschicht an einer innenwand einer vorform sowie vorform und kommunikationssystem |
| WO2018025857A1 (ja) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材製造方法および光ファイバ製造方法 |
-
1981
- 1981-10-12 JP JP16102181A patent/JPS5864236A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0665191A1 (en) * | 1994-01-27 | 1995-08-02 | PIRELLI GENERAL plc | A method of forming an optical fibre preform |
| KR100666254B1 (ko) | 2004-04-30 | 2007-01-09 | 엘에스전선 주식회사 | 기가비트급 전송시스템용 다중모드 광섬유의 제조방법 |
| WO2017016539A1 (de) * | 2015-07-29 | 2017-02-02 | J-Fiber Gmbh | Verfahren zum definierten abscheiden einer glasschicht an einer innenwand einer vorform sowie vorform und kommunikationssystem |
| US10604440B2 (en) | 2015-07-29 | 2020-03-31 | J-Fiber Gmbh | Method for the defined separation of a glass layer on an inner wall of a preform and preform and communication system |
| WO2018025857A1 (ja) * | 2016-08-02 | 2018-02-08 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材製造方法および光ファイバ製造方法 |
| EP3495329A4 (en) * | 2016-08-02 | 2020-03-25 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | OPTICAL FIBER MATRIX PRODUCTION METHOD AND OPTICAL FIBER PRODUCTION METHOD |
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