DE69423460T2 - Polymere Filmbasis mit polymer Überzugsschicht auf organischer Lösungsmittelbasis mit einem fluorierten Antistatikmittel - Google Patents

Polymere Filmbasis mit polymer Überzugsschicht auf organischer Lösungsmittelbasis mit einem fluorierten Antistatikmittel

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Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Reduktion der Aufladbarkeit von polymeren Filmen, insbesondere polymeren Filmträgern, die für photographische Schichten und photographische Elemente verwendet werden, sowie auf photographische Schichten und photographische Elemente, die mit einem solchen Verfahren erhalten werden.
  • Ein photographisches Material besteht im allgemeinen aus einem Träger, wenigstens einer Schicht einer Silberhalogenidemulsion, die in einem hydrophilen kolloidalen Bindemittel dispergiert ist, und möglicherweise wenigstens einer Schutzschicht für eine solche Emulsion, die im wesentlichen aus einem hydrophilen kolloidalen Bindemittel besteht. Eine solche Schutzschicht befindet sich entweder außerhalb oder innerhalb eines solchen photographischen Materials (in letzterem Falle, zum Beispiel in Farbphotomaterialien, wird sie "Zwischenschicht" genannt). Es ist außerdem bekannt, dass ein photographisches Material Haftschichten, Lichthofschutzschichten und andere Hilfsschichten umfassen kann, die an die Emulsionsschichten angrenzen oder nicht. Ein photographisches Material; das für Röntgenaufnahmen geeignet ist, besteht insbesondere aus einem Träger, wenigstens zwei Emulsionsschichten, die jeweils auf eine Seite des Trägers aufgetragen sind, sowie wenigstens zwei Schutzschichten für die Emulsionsschichten. Ein solches Material kann auch zwei Haftschichten enthalten, die sich zwischen den Emulsionsschichten und dem Träger befinden.
  • Es ist weiterhin bekannt, dass es wünschenswert ist, photographische Schichten, d. h. Emulsionsschichten und Hilfsschichten (wie zum Beispiel Schutzschichten, Zwischenschichten, Haftschichten und Lichthofschutzschichten) herzustellen, die eine reduzierte statische Aufladbarkeit aufweisen. Während der Herstellung, Verpackung oder Verwendung unterliegen solche schichten Spannungen, die zur Bildung elektrostatischer Aufladungen führen können, die beim Entladen unerwünschte Sensibilisierungen in lichtempfindlichen Emulsionen erzeugen. Insbesondere sollte ein Röntgenmaterial in angiographischen Tischen (AOT) venrwendbar sein sowie in schnellen Maschinen, in denen der Film mit Hilfe von Rollen, die eine starken Druck und eine starke Reibungswirkung darauf ausüben, mit einer hohen Geschwindigkeit transportiert wird.
  • Bei einer solchen Verwendung entstehen auf der Kontaktfläche zwischen der Schutzschicht und den Rollen starke elektrostatische Ladungen, was somit zu unerwünschten Sensibilisierungen führt. Solche Sensibilisierungen sind unerwünschten Belichtungen äquivalent, und nach der Entwicklungssequenz hat das photographische Element verschieden geformt Flecken, die sich vor allem entlang der Seiten des Filmes befinden, wo der Kontakt zwischen Rollen und Schutzschichten erfolgt.
  • Neben einer reduzierten Aufladbarkeit müssen für AOT geeignete radiographische Materialien auch einen ziemlich hohen Schlüpfrigkeitsindex aufweisen, der die Gefahr eines Verklemmens der Vorrichtung reduziert. In manchen Fällen kann der Schlüpfrigkeitsindex tatsächalich zu der statischen Aufladbarkeit selbst in Beziehung gesetzt werden.
  • Die Aufladbarkeit der Schichten ist im allgemeinen auf die Tatsache zurückzuführen, dass die Schichten im wesentlichen aus Gelatine oder einem anderen hydrophilen kolloidalen Bindemittel bestehen, der Gelatine äquivalent ist und der eine niedrige Arbeitsfunktion, d. h. eine Aufladbar keit des positiven Typs, aufweist. Eine solche Aufladbarkeit wird im allgemeinen durch die Anwesenheit von Tensiden modifiziert, die in den Schichten je nach ihrer Natur eine Aufladbarkeit des positiven oder negativen Typs induzieren. "Nichtfluorierte" anionische Tenside des dem Fachmann bekannten Typs induzieren in den Schichten im allgemeinen eine Aufladbarkeit des positiven Typs. Fluorierte anionische, nichtionische N-Oxid- oder Betain-Tenside induzieren in denselben Schichten eine Aufladbarkeit des negativen Typs. Betain- und/oder nichtfluorierte N-Oxid- Tenside in Kombination mit nichtfluorierten anionischen Tensiden verbessern die statischen Eigenschaften der photographischen Schichten nicht wesentlich, während sie die Schlüpfrigkeitseigenschaften hingegen verbessern. Fluorierte Tenside in Kombination mit anionischen nichtfluorierten Tensiden verbessern die statischen Eigenschaften der photographischen Schichten nur in einem bestimmten Bereich der relativen Feuchtigkeit und lassen die Schlüpfrigkeitseigenschaften unverändert.
  • Fluorierte Verbindungen, fluorierte Polymere und Gemische dieser Materialien werden seit vielen Jahren zum antistatischen Schutz in Polymerfolien und insbesondere in photographischen Medien verwendet. Das US-Patent Nr. 3,884,699 zeigt die Verwendung von Kombinationen von fluorierten anionischen Tensiden und nichtfluorierten Betainen und/oder N-Oxid- Tensiden in beschichteten Schichten zur Reduktion der statischen Aufladung in photographischem Film. Das US-Patent Nr. 4,570,197 zeigt eine Oberflächenbeschichtung eines fluorierten Tensids und ein antistatisches Mittel auf polymeren Materialien zur Reduktion der statischen Aufladung. Das US-Patent Nr. 4,266,015 zeigt die Verwendung fluorierter Polymere als Beschichtungsmaterialien oder Additive zu Beschichtungen zum Reduzieren der statischen Aufladung. Im Laufe der Jahre wurden viele verschiedene fluorierte Materialien entworfen, um spezielle Typen von Eigenschaften einschließlich antistatischer Eigenschaften zu erhalten.
  • Bestimmte Polyoxyalkylenverbindungen mit quartärem Stickstoffatom und perfluorierten Sulfonylanionen werden kommerziell in Polymersystemen auf Wasserbasis (z. B. Polyvinylalkohol) als antistatische Beschichtungsmaterialien verwendet. Diese Beschichtungen ergeben einen brauchbaren antistatischen Schutz, wenn sie aufgetragen werden, aber die Technik der Beschichtung auf Wasserbasis hat nur äußerst beschränkte Anwendungsbereiche. Die Tatsache, dass sich diese fluorierten antistatischen Mittel leicht aus Zusammensetzungen auf Wasserbasis heraus auftragen lassen, sowie ihre hochgradig polare und hydrophile Natur lassen keinerlei Verwendbarkeit für Beschichtungssysteme mit oleophilen Polymeren auf der Basis organischer Lösungsmittel vermuten.
  • Das US-Patent Nr. 4,975,363 offenbart die Verwendung von antistatischen Mitteln einschließlich einiger der Verbindungen, die bei der praktischen Durchführung der vorliegenden Erfindung verwendet werden, als antistatische Mittel in photographischen Elementen. Die Verwendung von Wasser, Aceton, Alkohol oder Gemischen davon als Lösungsmittel ist in Spalte 13, Zeile 28-35, gezeigt.
  • Kurzbeschreibung der Erfindung
  • Die antistatischen Eigenschaften von polymeren Folien, insbesondere polymeren Filmträgern, die für Abbildungssysteme verwendet werden, und insbesondere polymeren Trägern für photographische Filme können durch die Verwendung einer Beschichtung verbessert werden, die einen polymeren Bindemittel, das einen Film auf der Basis eines organischen Lösungsmittels bindet, sowie wenigstens 0,005 Gew.-% einer Polyoxyalkylenverbindung mit zwei quartären Stickstoffatomen und hochgradig fluorierten Alkyfsulfonylanionen umfasst. Diese Beschichtungsschicht kann auch als Hilfsschicht in einem photographischen Element, wie einer Lichthofschutzschicht, verwendet werden, so dass eine einzige Schicht zwei Funktionen in dem photographischen Element erfüllt.
  • Ausführliche Beschreibung der Erfindung
  • Hochgradig fluorierte Verbindungen sind als antistatische Mittel für spezielle Verwendungsbereiche sowie in bestimmten Typen chemischer Zusammensetzungen wohlbekannt. In der Praxis der vorliegenden Erfindung wurde gefunden, dass eine bestimmte Klasse fluorierter Verbindungen, von denen bisher nur bekannt war, dass sie als antistatisches Mittel für hydrophile Polymere auf Wasserbasis geeignet sind, eine gute Eignung als antistatisches Mittel in oleophilen Polymerbeschichtungen auf der Basis organischer Lösungsmittel besitzen. Diese antistatischen Beschichtungen eignen sich besonders gut auf polymeren Filmträgern für Abbildungstechniken und sind am besten geeignet auf Trägern für photographische Filme. Die Beschichtungen funktionieren besonders gut auf Filmträgern oder Medien, die erhitzt (z. B. thermisch entwickelt) und von Rollen transportiert werden, wie bei photothermographischen Medien.
  • Die zur praktischen Durchführung der vorliegenden Erfindung geeigneten Verbindungen können allgemein durch die folgenden Formeln beschrieben werden:
  • (I)
  • (Rf SO&sub3;&supmin;)&spplus; NR&sub3; (R¹O)m (R²O)n(R³)p &spplus;NR (&supmin;SO&sub3;Rf)
  • (II)
  • (RfSO&sub3;)&supmin;&spplus; NR&sub3;(CH&sub2;CH&sub2;O)m(CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;O)n(CH&sub2;)pN&spplus;R³ &supmin;(SO&sub3; Rf)
  • wobei jedes Rf unabhängig eine hochgradig fluorierte Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen und vorzugsweise eine perfluorierte Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist, R¹ eine Ethoxy-, Propoxy- oder (weniger bevorzugt) Butoxygruppe einschließlich verzweigter Varianten davon (z. B. Isopropoxy, Isobutoxy usw.) ist, R² eine Ethoxy-, Propoxy- oder (weniger bevorzugt) Butoxygruppe einschließlich verzweigter Varianten davon ist, R³ eine Alkylengruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen (einschließlich verzweigter oder substituierter Varianten davon, wie alkoxy- oder halogensubstituiertes Alkylen) ist, R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, vorzugsweise H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, ist, m 0 bis 20 beträgt, n 0 bis 20 beträgt, m plus n wenigstens 2 beträgt und p 1 bis 8 beträgt.
  • Der Ausdruck "hochgradig fluorierte Alkylgruppe" wird in der Technik wohl verstanden und bedeutet in der Praxis der vorliegenden Erfindung eine Gruppe, bei der wenigstens zwei von drei Gruppen, die Wasserstoff in der Alkylgruppe ersetzen, Fluor sind und alle Substituenten an dem Kohlenstoffatom unmittelbar neben der Sulfonylgruppe Fluor sind. Solche Substituentengruppen, die von Fluor verschieden sind, wären vorzugsweise andere stark elektronenschiebende Gruppen, wie Chlor. Wenn die Rf- Gruppe nicht perfluoriert ist, sollte sie hinsichtlich elektronerschiebender Effekte zwischen perfluorierten Gruppen und Wasserstoff stehen, und je näher diese Eigenschaft an die der perfluorierten Gruppe herankommt, um so besser.
  • Die bevorzugte Verbindung der Klasse ist
  • C&sub8;F&sub1;&sub7;SO&sub3;&supmin;NH&sub3;&spplus;(CH&sub2;CH&sub2;O)&sub1;&sub2;CH&sub2;CH&sub2;NH&sub3;&spplus;&supmin;SO&sub3;C&sub8;F&sub1;&sub7;
  • Wie bereits angemerkt, sind diese Verbindungen in der Technik als Additive zu hydrophilen Polymeren auf Wasserbasis bekannt. Die oleophilen (hydrophoben) Polymerbeschichtungen der vorliegenden Erfindung basieren auf organischen Lösungsmitteln und können in Form von irgendeiner der Hilfsbeschichtungen auf photographische Medien aufgetragen werden. Zum Beispiel kann es sich bei der Polymerschicht, die die antistatischen Additive der vorliegenden Erfindung enthält, um Lichthofschutzschichten, Filterschichten, Sperrschichten, Deckschichten, abriebfeste Schichten oder dergleichen handeln. Jedes oleophile filmbildende Polymer kann als Bindemittel für dieses antistatische System verwendet werden, aber wenn das Bild durch die antistatische Schicht hindurch betrachtet werden muss, werden natürlich optisch klare Polymere bevorzugt. Zu den am besten geeigneten polymeren Bindemitteln gehören Polyester, Polyvinylacetale, Celluloseacetate (und ihre Esterderivate, wie Celluloseacetatbutyrat und Celluloseacetatpropionat), Polyvinylidenchlorid, Gemische dieser Bindemittel und dergleichen.
  • Die am meisten bevorzugten Lösungsmittel zur Verwendung bei der praktischen Durchführung der vorliegenden Erfindung sind Ketone (z. B. Methylethylketon, Methylisobutylketon) und Dimethylformamid. Die Lösungsmittel werden natürlich so gewählt, dass sie das den oleophilen (hydrophoben) Film bildende Bindemittel auflösen, und die Auswahl des Lösungsmittels sollte sich nach der Wirksamkeit des Lösungsmittels zusammen mit dem bestimmten Bindemittel richten. Wenn jedoch ein photographisches oder photothermographisches Element aufgebaut wird, muss das Lösungsmittel auch so gewählt werden, dass die photographische oder photothermographische Emulsion nicht beschädigt wird. Bei der praktischen Durchführung der vorliegenden Erfindung sollten die Lösungsmittel semipolar sein, um die Auflösung des antistatischen Mittels zu erleichtern, und sie sollten mit dem oleophilen Bindemittel verträglich sein. Die im US-Patent Nr. 4,975,363 vorgeschlagene Verwendung von Wasser, Aceton, Alkohol und Kombinationen davon entspricht nicht der Lehre der vorliegenden Erfindung. Diese Materialien enthalten Wasser, oder der Fachmann würde davon ausgehen, dass sie bei normalen kommerziellen Verfahren mit hohen Wasserkonzentrationen verwendet werden. Bei Aceton würde man zum Beispiel Wasser verwenden müssen, um die schnelle Verdampfung dieses Lösungsmittels zu verhindern. Hohe Konzentrationen an Alkohol könnten ebenfalls dazu neigen; die Emulsionen in photographischen oder photothermographischen Systemen zu destabilisieren. Daher würde man die Offenbarung von US-Patent Nr. 4,975,363 in Spalte 13, Zeile 28-35, als wässriges oder wässrig/organisches System verstehen. Bei der vorliegenden Erfindung würde man vorzugsweise Lösungsmittelsysteme mit einem minimalen Wassergehalt verwenden, wie etwa. weniger als 5 Gew.-% Wasser, bezogen auf das Gewicht des organischen Lösungsmittels, vorzugsweise weniger als 3 Gew.-%, besonders bevorzugt weniger als 2 Gew.-% und am meisten bevorzugt weniger als 1 Gew.-% Wasser, bezogen auf das Gewicht des organischen Lösungsmittels.
  • Der antistatische Filmträger der vorliegenden Erfindung kann in beliebigen Abbildungsmedien verwendet werden, wie etwa solche für thermischen Umdruck, thermische Diffusion, Photothermographie, Photographie und dergleichen. Im photographischen Bereich kann der Träger in jedem photographischen Format verwendet werden, wie etwa in Amateurfilmen oder -abzügen, Schwarzweißfilmen oder -abzügen, medizinischen Röntgenaufnahmen, Röntgenaufnahmen beim zerstörungsfreien Testen, Kontaktfilmen, Negativen, Positiven und allen anderen verschiedenen Formen photographischer Materialien.
  • Die photothermographischen Emulsionen dieser Erfindung können auf einer oder mehreren Schichten auf einem Substrat aufgebaut sein. Einschichtige Konstruktionen müssen das Silberquellenmaterial, das Silberhalogenid, den Entwickler und das Bindemittel sowie die optischen Zusatzstoffe, wie Toner, Beschichtungshilfsmittel und andere Hilfsmittel, enthalten. Zweischichtige Konstruktionen müssen die Silberquelle und das Silberhalogenid in einer Emulsionsschicht (gewöhnlich der dem Substrat benachbarten Schicht) und einige der anderen Bestandteile in der zweiten Schicht oder beiden Schichten enthalten, obwohl zweischichtige Konstruktionen ins Auge gefasst werden, die eine einzige Emulsionsschicht, die alle Bestandteile enthält, sowie eine schützende Deckschicht umfassen. Mehrfarbige photothermographische Konstruktionen können Gruppen dieser Doppelschichten für jede Farbe enthalten, oder sie können alle Bestandteile innerhalb einer einzigen Schicht enthalten, wie es im US- Patent Nr. 4,708,928 beschrieben ist. Im Falle von mehrschichtigen mehrfarbigen photothermographischen Artikeln werden die verschiedenen Emulsionsschichten im allgemeinen durch Verwendung funktioneller oder nichtfunktioneller Sperrschichten zwischen den verschiedenen lichtempfindlichen Schichten getrennt voneinander gehalten, wie es im US-Patent Nr. 4,460,681 beschrieben ist.
  • Für die praktische Durchführung der vorliegenden Erfindung ist es zwar nicht notwendig, kann jedoch vorteilhaft sein, Quecksilber(II)-Salze als Antischleiermittel zu den Emulsionsschichten zu geben. Bevorzugte Quecksilber(II)-Salze für diesen Zweck sind Quecksilber(II)acetat und Quecksilber(II)bromid.
  • Das in der vorliegenden Erfindung verwendete lichtempfindliche Silberhalogenid kann typischerweise in einem Bereich von 0,75 bis 25 Mol-% und vorzugsweise 2 bis 20 Mol-% des organischen Silbersalzes verwendet werden.
  • Bei dem Silberhalogenid kann es sich um jedes lichtempfindliche Silberhalogenid handeln, wie Silberbromid, Silberiodid, Silberchlorid, Silberbromoiodid, Silberchlorobromoiodid, Silberchlorobromid usw. Das Silberhalo genid kann in jeder lichtempfindlichen Form vorliegen; dazu gehören unter anderem die Würfel-, orthorhombische, Tafel-, Tetraederform usw., und es können Kristalle epitaktisch darauf aufgewachsen sein.
  • Das in der vorliegenden Erfindung verwendete Silberhalogenid kann ohne Modifikation eingesetzt werden. Es kann jedoch auch mit einem chemischen Sensibilisierungsmittel, wie einer Verbindung, die Schwefel, Selen oder Tellur usw. enthält, oder einer Verbindung, die Gold, Platin, Palladium, Rhodium oder Iridium usw. enthält, einem Reduktionsmittel, wie einem Zinnhalogenid usw., oder einer Kombination davon, chemisch sensibilisiert werden. Die Einzelheiten dieser Verfahren sind beschrieben in T. H. James, "The Theory of the Photographic Process", 4. Auflage; Kapitel 5, Seite 149-169.
  • Das Silberhalogenid kann auf jede Weise, bei der es in katalytische Nähe zu der Silberquelle gelangt, zu der Emulsionsschicht gegeben werden. Das Silberhalogenid und das organische Silbersalz, die in einem Bindemittel getrennt bereitet oder "vorbereitet" werden, können vor der Verwendung unter Bildung einer Beschichtungslösung miteinander gemischt werden, aber es ist auch effektiv, beide in einer Kugelmühle lange miteinander zu mischen. Weiterhin ist es effektiv, ein Verfahren zu verwenden, das die Zugabe einer halogenhaltigen Verbindung zu dem organischen Silbersalz umfasst, das so zubereitet wird, dass das Silber des organischen Silbersalzes teilweise in Silberhalogenid umgewandelt wird.
  • Verfahren zur Herstellung dieses Silberhalogenids und der organischen Silbersalze und Methoden, um sie zu mischen, sind in der Technik bekannt und in Research Disclosure, Juni 1978, Punkt 17029, sowie im US- Patent Nr. 3,700,458 beschrieben.
  • Die Verwendung von vorbereiteten Silberhalogenidemulsionen dieser Erfindung kann im ungespülten Zustand erfolgen, oder sie können gespült werden, um lösliche Salze zu entfernen. Im letzteren Fall können die löslichen Salze durch Absetzen bei tiefer Temperatur und Auswaschen entfernt werden, oder die Emulsion kann koagulationsgewaschen werden, z. B. durch die Verfahren, die in den US-Patenten Nr. 2,618,556, 2,614,928, 2,565,418, 3,241,969 und 2,489,341 beschrieben sind. Die Silberhalogenidkörnchen können einen beliebigen Kristallhabitus haben; dazu gehören unter anderem der Würfel-, Tetraeder-, orthorhombische, Tafel-, Lamellen-, Plättchenhabitus usw.
  • Bei dem organischen Silbersalz kann es sich um jedes organische Material handeln, das eine reduzierbare Silberionenquelle enthält. Silbersalze organischer Säuren, insbesondere langkettiger (10 bis 30, vorzugsweise 15 bis 28, Kohlenstoffatome) Fettsäuren sind bevorzugt. Komplexe organischer oder anorganischer Silbersalze, bei denen der Ligand eine Bruttostabilitätskonstante zwischen 4,0 und 10,0 hat, sind ebenfalls wünschenswert. Das Silberquellenmaterial sollte vorzugsweise etwa 5 bis 30 Gew.-% der Abbildungsschicht ausmachen.
  • Das organische Silbersalz, das in der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, ist ein Silbersalz, das vergleichsweise lichtstabil ist, aber ein Silberbild bildet, wenn es in Gegenwart eines belichteten Photokatalysators (wie eines photographischen Silberhalogenids) und eines Reduktionsmittels auf 80ºC oder darüber erhitzt wird.
  • Zu den bevorzugten organischen Silbersalzen gehören Silbersalze organischer Verbindungen, die eine Carboxygruppe aufweisen. Nichteinschränkende Beispiele dafür sind Silbersalze einer aliphatischen Carbonsäure und ein Silbersalz einer aromatischen Carbonsäure. Bevorzugte Beispiele für die Silbersalze aliphatischer Carbonsäuren sind Silberbehenat, Sil berstearat, Silberoleat, Silberlaurat, Silbercaproat, Silbermyristat, Silberpalmitat, Silbermaleat, Silberfumarat, Silbertartrat, Silberlinoleat, Silberbutyrat und Silbercampherat, Gemische davon usw. Silbersalze mit einem Halogenatom oder einer Hydroxygruppe an der aliphatischen Carbonsäure können ebenfalls effektiv verwendet werden. Bevorzugte Beispiele für die Silbersalze aromatischer Carbonsäuren und anderer carbonsäuregruppenhaltiger Verbindungen sind Silberbenzoat, ein substituiertes Silberbenzoat, wie Silber-3, 5-dihydroxybenzoat, Silber-o-methylbenzoat, Silber-mmethylbenzoat, Silber-p-methylbenzoat, Silber-2,4-dichlorbenzoat, Silberacetamidobenzoat, Silber-p-phenylbenzoat usw., Silbergallat, Silbertannat, Silberphthalat, Silberterephthalat, Silbersalicylat, Silberphenylacetat, Silberpyromellitat, ein Silbersalz von 3-Carboxymethyl-4-methyl-4- thiazolin-2-thion oder dergleichen, wie es im US-Patent Nr. 3,785,830 beschrieben ist, und ein Silbersalz einer aliphatischen Carbonsäure, die eine Thioestergruppe enthält, wie es im US-Patent Nr. 3,330,663 beschrieben ist, usw.
  • Silbersalze von Verbindungen, die Mercapto- oder Thiongruppen enthalten, oder Derivaten davon können ebenfalls verwendet werden. Bevorzugte Beispiele für diese Verbindungen sind ein Silbersalz von 3-Mercapto- 4-phenyl-1,2,4-triazol, ein Silbersalz von 2-Mercaptobenzimidazol, ein Silbersalz von 2-Mercapto-5-aminothiadiazol, ein Silbersalz von 2-(Ethylglycolamido)benzothiazol, ein Silbersalz von Thioglycolsäure, wie ein Silbersalz einer S-Alkylthioglycolsäure (wobei die Alkylgruppe 12 bis 22 Kohlenstoffatome aufweist), ein Silbersalz einer Dithiocarbonsäure, wie ein Silbersalz von Dithioessigsäure, ein Silbersalz eines Thioamids, ein Silbersalz von 5-Carboxy-1-methyl-2-phenyl-4-thiopyridin, ein Silbersalz von Mercaptotriazin, ein Silbersalz von 2-Mercaptobenzoxazol, ein Silbersalz, wie es im US-Patent Nr. 4,123,274 beschrieben ist, zum Beispiel ein Silbersalz eines 1,2,4-Mercaptotriazol-Derivats, wie ein Silbersalz von 3- Amino-5-benzylthio-1,2,4-triazol, ein Silbersalz einer Thionverbindung, wie ein Silbersalz von 3-(2-carboxyethyl)-4-methyl-4-thiazolin-2-thion, wie es im US-Patent Nr. 3,301,678 beschrieben ist.
  • Weiterhin kann auch ein Silbersalz einer Verbindung, die eine Iminogruppe enthält, verwendet werden. Bevorzugte Beispiele für diese Verbindungen sind Silbersalze von Benzotriazol und Derivaten davon, zum Beispiel Silbersalze von Benzotriazolen, wie Silbermethylbenzotriazolat usw., Silbersalze von halogensubstituierten Benzotriazolen, wie Silber-5-chlorbenzotriazolat usw., Silbersalze von Carboimidobenzotriazol usw., Silbersalze von 1,2,4-Triazolen oder 1H-Tetrazolen, wie sie im US-Patent Nr. 4,220,709 beschrieben sind, Silbersalze von Imidazolen und Imidazolderivaten und dergleichen. Verschiedene Silberacetylidverbindungen können ebenfalls verwendet werden, wie es zum Beispiel in den US-Patenten Nr. 4,761,361 und 4,775,613 beschrieben ist.
  • Es erweist sich auch als zweckmäßig, Silberhalbseifen zu verwenden; ein bevorzugtes Beispiel dafür ist ein äquimolares Gemisch von Silberbehenat und Behensäure, das durch Fällung aus einer wässrigen Lösung des Natriumsalzes von kommerzieller Behensäure hergestellt wird und gemäß Analyse etwa 14,5% Silber enthält. Transparente Folienmaterialien, die zu transparenten Filmträgern verarbeitet werden, erfordern eine transparente Beschichtung, und für diesen Zweck kann die Silberbehenat-Vollseife verwendet werden, die nicht mehr als etwa 4 oder 5% freie Behensäure und gemäß Analyse etwa 25,2% Silber enthält.
  • Das zur Herstellung von Silberseifendispersionen verwendete Verfahren ist in der Technik wohlbekannt und ist offenbart in Research Disclosure; April 1983, Punkt 22812, Research Disclosure, Oktober 1983, Punkt 23419, und im US-Patent Nr. 3,985,565.
  • Die lichtempfindlichen Silberhalogenide können vorteilhafterweise mit verschiedenen bekannten Farbstoffen einschließlich Cyanin-, Merocyanin-, Styryl-, Hemicyanin-, Oxonol-, Hemioxonol- und Xanthenfarbstoffen spektral sensibilisiert werden. Zu den geeigneten Cyaninfarbstoffen gehören solche mit einem basischen Kern, wie einem Thiazolinkern, einem Oxazolinkern, einem Pyrrolinkern, einem Pyridinkern, einem Oxazolkern, einem Thiazolkern, einem Selenazolkern und einem Imidazolkern. Zu den geeigneten Merocyaninfarbstoffen, welche bevorzugt sind, gehören solche, die nicht nur die oben beschriebenen basischen Kerne, sondern auch saure Kerne aufweisen, wie einen Thiohydantoinkern, einen Rhodaninkern, einen Oxazolidindionkern, einen Thiazolidindionkern, einen Barbitursäurekern, einen Thiazolinonkern, einen Malononitrilkern und einen Pyrazolonkern. In den oben beschriebenen Cyanin- und Merocyaninfarbstoffen sind solche, die Iminogruppen oder Carboxygruppen aufweisen, besonders effektiv. Praktischerweise können die in der vorliegenden Erfindung zu verwendenden sensibilisierenden Farbstoffe in geeigneter Weise aus bekannten Farbstoffen, wie solchen, die in den US-Patenten Nr. 3,761,279, 3,719,495 und 3,877,943 und in den Britischen Patenten Nr. 1,466,201, 1,469,117 und 1,422,057 beschrieben sind, ausgewählt werden und können mit bekannten Verfahren in die Nähe des Photokatalysators gebracht werden. Spektral sensibilisierende Farbstoffe können typischerweise in Mengen von etwa 10&supmin;&sup4; mol bis etwa 1 mol pro Mol Silberhalogenid verwendet werden.
  • Bei dem Reduktionsmittel für das organische Silbersalz kann es sich um jeden Stoff, vorzugsweise organischen Stoff, handeln, der Silberionen zu metallischem Silber zu reduzieren vermag. Herkömmliche photographische Entwickler, wie Phenidon, Hydrochinone und Brenzkaitechin, sind geeignet, aber gehinderte Phenole sind als Reduktionsmittel bevorzugt. Das Reduktionsmittel sollte in einer Menge von 1 bis 10 Gew.-% der Abbildungsschicht vorhanden sein. Wenn das Reduktionsmittel bei mehrschichtigen Konstruktionen zu einer anderen Schicht als einer Emulsionsschicht gegeben wird, sind meist etwas höhere Anteile von etwa 2 bis 2' 15% wünschenswerter.
  • Ein weiter Bereich von Reduktionsmitteln in trockenen Silbersystemen ist offenbart; dazu gehören Amidoxime, wie Phenylamidoxim, 2-Thienylamidoxim und p-Phenoxyphenylamidoxim, Azine (z. B. 4-Hydroxy-3,5- dimethoxybenzaldehydazin), eine Kombination von Arylhydraziden aliphatischer Carbonsäuren mit Ascorbinsäure, wie 2,2'-Bis(hydroxymethyl)- propionyl-β-phenylhydrazid in Kombination mit Ascorbinsäure, eine Kombination von Polyhydroxybenzol und Hydroxylamin, einem Redukton und/oder einem Hydrazin (z. B. eine Kombination von Hydrochinon und Bis(ethoxyethyl)hydroxylamin, Piperidinohexoseredukton oder Formyl-4- methylphenylhydrazin), Hydroxamsäuren, wie Phenylhydroxamsäure, p- Hydroxyphenylhydroxamsäure und β-Alaninhydroxamsäure, eine Kombination von Azinen und Sulfonamidophenolen (z. B. Phenothiazin und 2,6- Dichlor-4-benzolsulfonamidophenol), α-Cyanphenylessigsäure-Derivate, wie Ethyl-a-cyan-2-methylphenylacetat, Ethyl-α-cyanphenylacetat, Bis-βnaphthole, wie zum Beispiel 2,2'-Dihydroxy-1-binaphthyl, 6,6'-Dibrom- 2,2'-dihydroxy-1, 1'-binaphthyl und Bis(2-hydroxy-1-naphthyl)methan, eine Kombination von Bis-β-naphthol und einerb 1,3-Dihydroxybenzol-Derivat (z. B. 2,4-Ddihydroxybenzophenon oder 2,4-Dihydroxyacetophenon), 5-Pyrazolone, wie 3-Methyl-1-phenyl-5-pyrazolon, Reduktone, wie zum Beispiel Dimethylaminohexoseredukton, Anhydrodihydroaminohexöseredukton und Anhydrodihydropiperidonhexoseredukton, Sulfonamidophenol- Reduktionsmittel, wie 2,6-Dichlor-4-benzolsulfonamidophenol und p- Benzolsulfonamidophenol, 2-Phenylindan-1,3-dion und dergleichen, Chromane, wie 2,2-Dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman, 1,4-Dihydropyridine, wie 2,6-Dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydropyridin, Bisphe nole (z. B. Bis(2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl)methan, 2,2-Bis(4- hydroxy-3-methylphenyl)propan, 4; 4-Ethylidenbis(2-t-butyl-6-methylphenol) und 2,2-Bis(3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl)propan), Ascorbinsäurederivate (z. B. 1-Ascorbylpalmitat, Ascorbylstearat), sowie ungesättigte Aldehyde und Ketone, wie Benzil und Biacetyl, 3-Pyrazolidone und bestimmte Indan-1,3-dione.
  • Es kann vorteilhaft sein, neben den oben genannten Bestandteilen Additive mitzuverwenden, die als "Toner" bekannt sind und die das Bild verbessern. Tonermaterialien können zum Beispiel in Mengen von 0,1 bis 10 Gew.-% aller silbertragenden Komponenten vorhanden sein. Toner sind in der photothermographischen Technik wohlbekannte Materialien, wie anhand der US-Patente Nr. 3,080,254, 3,847,612 und 4,123,282 gezeigt werden kann.
  • Beispiele für Toner sind Phthalimid und N-Hydroxyphthalimid, cyclische Imide, wie Succinimid, Pyrazolin-5-one und ein Chinazolinon, 3-Phenyl-2- pyrazolin-5-on, 1-Phenylurazol, Chinazolin und 2,4-Thiazolidindion, Naphthalimide (z. B. N-Hydroxy-1,8-naphthalimid), Cobaltkornpiexe (z. B. Hexammincobalt(III)trifluoracetat), Mercaptane, wie zum Beispiel 3-Mercapto-1,2,4-triazol, 2,4-Dimercaptopyrimidin, 3-Mercapto-4·,5-diphenyl- 1,2,4-triazol und 2,5-Dimercapto-1,3,4-thiadiazol, N-(Aminomethyl)aryldicarboximide (z. B. (N,N-Dimethylaminomethyl)phthalimid und (N,N-Dimethylaminomethyl)naphthalin-2,3-dicarboximid), sowie eine Kombination von blockierten Pyrazolen, Isothiuronium-Derivaten und bestimmten Photobleichmitteln (z. B. eine Kombination von N,N'-Hexamethylenbis(1- carbamoyl-3,5-dimethylpyrazol), 1,8-(3,6-Diazaoctan)bis(isothiuroniumtrifluoracetat) und 2-(Tribrommethylsulfonyl)benzothiazol), und Merocyanin-Farbstoffe, wie 3-Ethyl-5[(3-ethyl-2benzothiazolinyliden)-1-methylethyliden]-2-thio-2,4-oxazolidindion, Phthalazinon und Phthalazinon-Deri vate oder Metallsalze dieser Derivate, wie 4-(1-Naphthyl)phthalazinon, 6- Chlorphthalazinon, 5,7-Dimethoxyphthalazinon und 2,3-Dihydro-1,4- phthalazindion, eine Kombination von Phthalazinon plus Sulfinsäurederivate (z. B. Phthalsäure, 4-Methylphthalsäure, 4-Nitrophthalsäure und Tetrachlorphthalsäureanhydrid); Chinazolindione, Benzoxazin- oder Naphthoxazin-Derivate; Rhodium-Komplexe, die nicht nur als Tonmodifikatoren, sondern auch als Quelle für Halogenidionen für die Silberhalogenidbildung in situ fungieren, wie Ammoniumhexachlororhodat(III), Rhodiumbromid, Rhodiumnitrat und Kaliumhexachlororhodat(IIL); anorganische Peroxide und Persulfate (z. B. Ammoniumperoxodisulfat Wnd Wasserstoffperoxid); Benzoxazin-2,4-dione, wie 1,3-Benzoxazin-2,4 = dion, 8- Methyl-1,3-benzoxazin-2,4-dion und 6-Nitro-1,3-benzoxazin-2,4-dion, Pyrimidine und asymmetrische Triazine (z. B. 2,4-Dihydroxypyrimidin, 2- Hydroxy-4-aminopyrimidin), Azauracile und Tetrazapentalen-Derivate (z.B. 3,6-Dimercapto-1,4-diphenyl-1H,4H-2,3a,5,6a-tetrazapentalen und 1,4-Di(o-chlorphenyl)-3,6-dimercapto- 1H,4H-2,3a,5,6a-tetrazapentalen).
  • In der Technik sind mehrere Verfahren bekannt, um mit trockenen Silbersystemen Farbbilder zu erhalten. Dazu gehören: eine Kombination von Silberbenzotriazol, wohlbekannten Magenta-, Gelb- und Cyan-Farbstoffbildenden Kupplern, Aminophenol-Entwicklungsmitteln, einem Trägertrennmittel, wie Guanidiniumtrichloracetat, und Silberbromid in Polyvinylbutyral, wie es in den US-Patenten Nr. 4,847,188 und 5,064,742 beschrieben ist; vorgebildete Farbstoffabgabesysteme, wie die im US-Patent Nr. 4,678,739 beschriebenen; eine Kombination von Silberbromoiodid, Sulfonamidophenol-Reduktionsmittel, Silberbehenat, Polyvinylbutyral, einem Amin, wie n-Octadecylamin und zweiwertigen oder vierwertigen Cyan-, Magenta- oder Gelb-Farbstoffbildenden Kupplern; Leucofarbstoffbasen, die unter Bildung eines Farbstoffbildes oxidiert werden (z. B. Malachitgrün, Kristallviolett und para-Rosanilin); eine Kombination von in situ gebildetem Silberhalogenid, Silberbehenat, 3-Methyl-1-phenylpyrazolon und N,N'-Dimethyl-p-phenylendiamin-Hydrochlorid, eingebaute phenolische Leucofarbstoff-Reduktionsmittel, wie 2-(3,5-Di(t-butyl)-4- hydroxyphenyl)-4,5-diphenylimidazol und Bis(3,5-di(t-butyl)-4-hydroxyphenyl)phenylmethan, eingebaute Azomethin-Farbstoffe oder Azofarbstoff-Reduktionsmittel; Silberfarbstoffbleichverfahren (zum Beispiel kann ein Element, das Silberbehenat, Behensäure, Polyvinylbutyral, Polyvinylbutyral-peptisierte Sllberbromoiodid-Emulsion, 2,6-Dichlor-4-benzolsulfonamidophenol, 1,8-(3,6-Diazaoctan)bis(isothiuronium-p-toluolsulfonat) und einen Azofarbstoff umfasst, belichtet und thermisch entwickelt werden, wobei man ein Silbernegativbild mit einer gleichmäßigen Farbstoffverteilung erhält, und dann auf eine Säureaktivatorfolie, die Polyacrylsäure, Thioharnstoff und p-Toluolsulfonsäure umfasst, laminiert und erhitzt werden, wobei man wohldefinierte Farbstoffpositivbilder erhält); sowie Amine, wie Aminoacetanilid (Gelb-Farbstoff-bildend), 3,3'-Dimethoxybenzidin (Blau-Farbstoff-bildend) oder Sulfanilid (Magenta- Farbstoff-bildend), die mit der oxidierten Form von eingebauten Reduktionsmitteln, wie 2,6-Dichlor-4-benzolsulfonamidophenol, unter Bildung von Farbstoffbildern reagieren. Neutrale Farbstoffbilder können durch die Zugabe von Aminen, wie Behenylamin und p-Anisidin, erhalten werden.
  • Die Oxidation von Leucofarbstoffen in solchen Silberhalogenidsystemen zur Farbbildung ist in den US-Patenten Nr. 4,021,240, 4,374,821, 4,460,681 und 4,883,747 offenbart.
  • Emulsionen der Erfindung können Weichmacher und Gleitmittel enthalten, wie Polyalkohole (z. B. Glycerin und Diole des im US-Patent Nr. 2,960,404 beschriebenen Typs), Fettsäuren oder Ester, wie die im US-Patent Nr. 2,588,765 und im US-Patent Nr. 3,121,060 beschriebenen; und Silikonharze, wie die im Britischen Patent Nr. 955,061 beschriebener.
  • Die Emulsionen der vorliegenden Erfindung können zusätzliche Stabilisatoren und Antischleiermittel enthalten, die in der photothermographischen Technik bekannt sind. Dabei kann es sich um primäre Stabillisatoren und Antischleiermittel oder um nach der Entwicklung wirksame Stabilisatoren handeln. Zu den bevorzugten Antischleiermitteln gehören organische Verbindungen, die trihalogenierte und insbesondere Tribrommethylgruppen aufweisen. Dabei handelt es sich häufig um aryl(aromatische) Kerne, bei denen die halogenierte Gruppe entweder direkt an den aromatischen Kern gebunden oder über eine verbrückende Gruppe (z. B. Sulfonyl) gebunden ist. Zu den weiteren geeigneten Antischleiermitteln gehören Isocyanate, Vinylsulfone und β-halogenierte Sulfone.
  • Die photothermographischen Elemente der vorliegenden Erfindung können Bildfarbstoffstabilisatoren enthalten. Beispiele für solche Bildfarbstoffstabilisatoren findet man im Britischen Patent Nr. 1,326,889 und in den US-Patenten Nr. 3,432,300, 3,698,909, 3,574,627, 3,573,050, 3,764,337 und 4,042,394.
  • Photothermographische Elemente, die Emulsionsschichten gemäß der vorliegenden Erfindung enthalten, können in photographischen Elementen verwendet werden, die lichtabsorbierende Materialien und Filterfarbstoffe enthalten, wie die in den US-Patenten Nr. 3,253,921, 2,274,782, 2,527,583 und 2; 956,879 beschriebenen. Falls gewünscht, können die Farbstoffe gebeizt werden, wie es zum Beispiel im US-Patent Nr. 3,282,699 beschrieben ist.
  • Photothermographische Elemente, die Emulsionsschichten enthalten, wie sie hier beschrieben sind; können Mattierungsmittel, wie Stärke, Titandioxid, Zinkoxid, Siliciumoxid, polymere Kügelchen einschließlich Kügelchen des im US-Patent Nr. 2,992,101 und im US-Patent Nr. 2,701,245 beschriebenen Typs enthalten.
  • Emulsionen gemäß dieser Erfindung können in photothermographischen Elementen verwendet werden, die antistatische oder leitfähige Schichten enthalten, wie etwa Schichten, die lösliche Salze (z. B. Chloride, Nitrate usw.), aufgedampfte Metallschichten, ionische Polymere, wie die in den US-Patenten Nr. 2,861,056 und 3,206,312 beschriebenen, oder unlösliche anorganische Salze, wie die im US-Patent Nr. 3,428,451 beschriebenen, umfassen.
  • Das Bindemittel kann aus beliebigen der wohlbekannten natürlichen oder synthetischen Harze, wie Gelatine, Polyvinylacetalen, Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, Celluloseacetat, Polyolefinen, Polyestern, Polystyrol, Polyacrylnitril, Polycarbonaten und dergleichen, ausgewählt werden. In diesen Definitionen sind natürlich auch Copolymere und Terpolymere mit umfasst. Die bevorzugten photothermographischen silberhaltigen Polymere sind Polyvinylbutyral, Ethylcellulose, Methacrylat-Copolymere, Maleinsäureanhydridester-Copolymere, Polystyrol und Butadien-Styrol-Copolymere.
  • Gegebenenfalls können diese Polymere auch in Kombinationen von zwei oder mehreren davon verwendet werden. Ein solches Polymer wird in einer ausreichenden Menge verwendet, um die darin dispergierten Komponenten zu tragen, d. h. innerhalb des effektiven Bereichs der Wirkung als Bindemittel. Der effektive Bereich kann von Fachmann in geeigneter Weise bestimmt werden.
  • Als Richtlinie für den Fall, dass wenigstens ein organisches Silbersalz getragen wird, lässt sich sagen, dass ein zu bevorzugendes Verhältnis vom Bindemittel zum organischen Silbersalz im Bereich von 15 : 1 bis 1 : 2 und insbesondere von 8 : 1 bis 1 : 1 liegt.
  • Photothermographische Emulsionen gemäß der vorliegenden Erfindung können auf eine Vielzahl von Trägern aufgetragen werden. Zu den typi schen Trägern gehören Polyesterfolie, mit Haftschicht versehene Polyesterfolie, Polyethylenterephthalatfolie, Cellulosenitratfolie, Celluloseesterfolie, Polyvinylacetatfolie, Polycarbonatfolie und verwandte oder harzartige Materialien sowie Glas, Papier, Metall und dergleichen. Typischerweise wird ein flexibler Träger eingesetzt, insbesondere ein Papierträger, der partiell acetyliert oder mit Baryt und/oder einem α-Olefinpolymer, insbesondere einem Polymer eines α-Olefins, das 2 bis 10 Kohlenstoffatome enthält, wie Polyethylen, Polypropylen, Ethylen-Buten-Copolymeren und dergleichen, beschichtet sein kann. Substrate können transparent oder undurchsichtig sein.
  • Substrate mit einer widerstandsheizbaren Schicht auf der Rückseite können ebenfalls in photothermographischen Abbildungssystemen verwendet werden, wie es in den US-Patenten Nr. 4,460,681, 4,477,562 und 4,374,921 gezeigt ist.
  • Photothermographische Emulsionen dieser Erfindung können mit verschiedenen Beschichtungsverfahren aufgetragen werden; dazu gehören Tauchbeschichtung, Luftbürsten beschichtung, Vorhangbeschichtung oder Extrusionsbeschichtung unter Verwendung von Trichtern des im US- Patent Nr. 2,681,294 beschriebenen Typs. Falls gewünscht, können nach den Verfahren, die im US-patent Nr. 2,761,791 und im Britischen Patent Nr. 837,095 beschrieben sind, zwei oder mehr Schichten gleichzeitig aufgetragen werden.
  • Weitere Schichten, wie Farbstoffrezeptorschichten zur Aufnahme eines mobilen Farbstoffbilds, eine opazifizierende Schicht, wenn Reflexionsabzüge gewünscht werden, eine schützende Deckschicht und eine Grundierungsschicht, können in photothermographische Artikel der vorliegenden Erfindung eingebaut werden, wie in der photothermographischen Technik bekannt ist.
  • Diese und weitere Aspekte der vorliegenden Erfindung werden anhand der folgenden nichteinschränkenden Beispiele der Erfindung verdeutlicht.
  • In den folgenden Beispielen wurden alle statischen Eigenschaften mit dem E. T. S. -Messgerät für den statischen Zerfall oder mit dem Keithly-6105- Oberflächenwiderstandsmessgerät in einer Kammer mit 70ºF und 20% relativer Feuchtigkeit gemessen.
  • Das folgende Beispiel beschreibt die Verwendung von Verbindung 1 der vorliegenden Erfindung zur Eindämmung der statischen Aufladung in einer transportfördernden Rückseitenbeschichtung.
  • Die folgende Lösung wurde bereitet:
  • A. MEK 439,94 g
  • B. MIBK 20,00 g
  • C. Superflex 200 (CaCO&sub3;, Pfizer) 0,06 g
  • D. Vital-PE-200-Harz (Polyester, Goodyear) 0,55 g
  • E. CAB-381-20-Harz (Celluloseacetatbutyrat, Eastman Chemical) 39,45 p
  • 500,00 g
  • Verbindung 1 wurde in den folgenden Mengen zu der obigen Lösung gegeben:
  • A. 0,20 Gew.-% der gesamten Lösung
  • B. 0,40 Gew.-% der gesamten Lösung
  • C. 0,80 Gew.-% der gesamten Lösung
  • D. 1,60 Gew.-% der gesamten Lösung
  • Die Lösungen wurden in einer Nassdicke von 2,0 mil (0,05 mm) aufgetragen und dann 3,0 min lang bei 180ºF getrocknet, und das Trockenbeschichtungsgewicht betrug ungefähr 0,20 g/ft².
  • Die folgenden Ergebnisse wurden erhalten:
  • Probe Ohm (Keithly-Einheit)
  • Kontrolle (keine Verbindung 1) 6,7 · 10¹&sup5;
  • A 5,9 · 10¹&sup5;
  • B 5,3 · 10¹&sup5;
  • C 1,1 · 10¹³
  • D 1,6 · 10¹²
  • Der spezifische Oberflächenwiderstand wurde stark reduziert, wenn Verbindung 1 zu der Rückseitenbeschichtungslösung gegeben wurde und die Konzentrationswerte stiegen.
  • Beispiel 2 Bindemittellösung
  • 87,2788 g MEK
  • 12,5464 g CAB 381-20
  • 0,1748 g Vitel PE200
  • 100,00 g
  • Lichthofschutz-Rückseitenbeschichtung
  • 50,0 g Bindemittellösung
  • 2,0 g MEK
  • 0,03a Lichthofschutzfarbstoff
  • 52,03 g
  • Verbindung 1 wurde in den folgenden gewichtsbezogenen Mengen zu der obigen Lichthofschutz-Rückseitenbeschichtung gegeben:
  • A. 0,31 g
  • B. 0,51 g
  • C. 0,76 g
  • D. 1,5 g
  • E. 3,0 g
  • Ergebnisse: Die beschichteten Proben wurden mit dem E. T. S. -Messgerät für den statischen Zerfall in einer Kammer mit 70ºF und 20% relativer Feuchtigkeit gemessen.
  • A. Das E. T. S. -Messgerät für statischen Zerfall lädt die beschichteten Proben mit einer Spannung von maximal 5000 Volt elektrisch auf. Die beschichtete Probe muss eine Aufladung mit 3000 Volt annehmen, damit die Daten annehmbar sind.
  • B. 0% zeigt an, das 100% der elektrischen Ladung in der in Sekunden angegebenen Zeit dissipiert wurde.
  • C. 10% zeigt an, das 90% der elektrischen Ladung in der in Sekunden angegebenen Zeit dissipiert wurde.
  • B. 50% zeigt an, das 50% der elektrischen Ladung in der in Sekunden angegebenen Zeit dissipiert wurde.
  • Das Ausmaß der statischen Aufladung wurde stark reduziert, wenn Verbindung 1 zu der Lichthofschutz-Rückseitenbeschichtungslösung gegeben wurde und wenn die Mengen gesteigert wurden.
  • Verbindung 1 ist C&sub8;F&sub1;&sub7;SO&sub3;&supmin; &spplus;NH&sub3;(CH&sub2;CH&sub2;O)&sub1;&sub2;CH&sub2;CH&sub2;N&spplus;H&sub3; SO&sub3;&supmin;C&sub8;F&sub1;&sub7;.

Claims (11)

1. Polymerfilm, der eine antistatische Beschichtung trägt, wobei die Beschichtung ein oleophiles polymeres filmbildendes Bindemittel in einem organischen Lösungsmittel und wenigstens eine Verbindung der Formel
(RfSO&sub3;)&supmin;&spplus; NR&sub3;(CH2CH&sub2;O)m(CH&sub2;CH&sub2;CH&sub2;O)n(CH&sub2;)pN&spplus;R&sub3; &supmin;(SO&sub3;Rf)
umfasst, wobei jedes Rf unabhängig eine hochgradig fluorierte Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
R H oder Alkyl mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
m 0 bis 20 beträgt, n 0 bis 20 beträgt, m plus n wenigstens 2 beträgt und p 1 bis 8 beträgt.
2. Polymerfilm gemäß Anspruch 1, wobei Rf eine perfluorierte Alkylgruppe ist.
3. Polymerfilm gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei R ein Alkyl mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder H ist.
4. Polymerfilm gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei m plus n zwischen 4 und 12 beträgt.
5. Polymerfilm gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der Polymerfilm einen Polyester-, Celluloseacetat- oder Cellulosetriacetatfilm umfasst.
6. Polymerfilm gemäß Anspruch 1 oder 2, der weiterhin eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht umfasst, mit der er beschichtet ist.
7. Polymerfilm gemäß Anspruch 5, der weiterhin eine Silberhalogenid- Emulsionsschicht umfasst, mit der er beschichtet ist.
8. Polymerfilm, der eine antistatische Beschichtung auf wenigstens einer seiner Oberflächen trägt, wobei die Beschichtung ein oleophiles polymeres filmbildendes Bindemittel in einem organischen Lösungsmittel und wenigstens eine Verbindung der Formel
(RfSO&sub3;&supmin;)&spplus; NR&sub3; (R¹O)m (R²O)nR³)p &spplus;NR (&supmin;SO&sub3;Rf)
umfasst, wobei jedes Rf unabhängig eine hochgradig fluorierte Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
R H oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist, R¹ eine Ethoxy-, Propoxy- oder Butoxygruppe ist, R² eine Ethoxy-, Propoxy- oder Butoxygruppe ist, R³ eine Alkylengruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen ist,
m 0 bis 20 beträgt, n 0 bis 20 beträgt, m plus n wenigstens 2 beträgt und p 1 bis 8 beträgt.
9. Polymerfilm gemäß Anspruch 8, wobei das organische Lösungsmittel weniger als 5 Gew.-% Wasser umfasst und wobei das organische Lösungsmittel aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Methylethylketon, Methylisobutylketon und Dimethylformamid besteht.
10. Polymerfilm gemäß Anspruch 9, wobei eine photothernnographische Emulsion auf den Film geklebt wird.
11. Verfahren zum thermischen Entwickeln des Films gemäß Anspruch 10, umfassend das Bestrahlen der photothermographischen Emulsion unter Bildung eines latenten Bildes und dann das thermische Entwickeln des latenten Bildes mit beheizten Walzen.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6372829B1 (en) 1999-10-06 2002-04-16 3M Innovative Properties Company Antistatic composition
US20030054172A1 (en) 2001-05-10 2003-03-20 3M Innovative Properties Company Polyoxyalkylene ammonium salts and their use as antistatic agents
US6740413B2 (en) * 2001-11-05 2004-05-25 3M Innovative Properties Company Antistatic compositions
US6924329B2 (en) 2001-11-05 2005-08-02 3M Innovative Properties Company Water- and oil-repellent, antistatic compositions
US6699648B2 (en) * 2002-03-27 2004-03-02 Eastman Kodak Company Modified antistatic compositions and thermally developable materials containing same
US6762013B2 (en) 2002-10-04 2004-07-13 Eastman Kodak Company Thermally developable materials containing fluorochemical conductive layers
US7258968B1 (en) 2006-04-13 2007-08-21 Carestream Health, Inc. Thermally developable materials with buried conductive backside coatings
WO2010055678A1 (ja) * 2008-11-14 2010-05-20 三菱マテリアル株式会社 導電性シリカゾル組成物及びそれを用いた成形品
CA2984198A1 (en) 2015-04-30 2016-11-03 Domenico TANFOGLIO Pyrolysis furnace

Family Cites Families (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2274782A (en) 1937-11-24 1942-03-03 Chromogen Inc Light-sensitive photographic material
US2588765A (en) 1944-03-21 1952-03-11 Gevaert Photo Prod Nv Lubricated photographic element containing a mixture of higher fatty alcohols and higher fatty acids
GB580504A (en) 1944-07-04 1946-09-10 Cecil Waller Improvements in or relating to the production of photographic silver halide emulsions
US2527583A (en) 1946-02-07 1950-10-31 Eastman Kodak Co Merocyanine filter and backing dyes
US2565418A (en) 1947-08-13 1951-08-21 Eastman Kodak Co Method of preparing photographic silver halide emulsions
BE484325A (de) 1947-08-13
BE484329A (de) 1947-11-19
US2701245A (en) 1951-05-01 1955-02-01 Eastman Kodak Co Bead polymerization of methyl methacrylate
BE513714A (de) 1951-08-23 1900-01-01
US2861056A (en) 1953-11-12 1958-11-18 Eastman Kodak Co Resinous carboxy ester-lactones and process for preparing them
CA557259A (en) 1955-02-23 1958-05-13 Canadian Kodak Co. Limited Multiple layer hopper for multiply coating a web
US2960404A (en) 1956-06-04 1960-11-15 Eastman Kodak Co Gelatin coating compositions
US2992101A (en) 1957-02-18 1961-07-11 Eastman Kodak Co Suppression of newton's rings in printing color films
GB837095A (en) 1957-12-16 1960-06-09 Ilford Ltd Improvements in or relating to the production of multilayer photographic materials
US2956879A (en) 1958-01-07 1960-10-18 Eastman Kodak Co Filter and absorbing dyes for use in photographic emulsions
US3080254A (en) 1959-10-26 1963-03-05 Minnesota Mining & Mfg Heat-sensitive copying-paper
BE604487A (de) 1960-06-06
US3428451A (en) 1960-09-19 1969-02-18 Eastman Kodak Co Supports for radiation-sensitive elements and improved elements comprising such supports
BE613181A (de) 1961-01-27
GB955061A (en) 1961-06-08 1964-04-15 Du Pont Improvements relating to the production of photographic films
BE623419A (de) 1961-10-10
BE627308A (de) 1962-01-22
US3206312A (en) 1962-06-12 1965-09-14 Eastman Kodak Co Photographic film having antistatic agent therein
US3301678A (en) 1964-05-28 1967-01-31 Eastman Kodak Co Process for stabilizing photographic images with heat
DE1214083B (de) 1964-08-14 1966-04-07 Agfa Gevaert Ag Lichtempfindliches photographisches Material mit mindestens einer lichtempfindlichen Silbersalzemulsionsschicht
US3432300A (en) 1965-05-03 1969-03-11 Eastman Kodak Co 6-hydroxy chromans used as stabilizing agents in a color photographic element
US3574627A (en) 1969-02-06 1971-04-13 Eastman Kodak Co Color photographic elements
US3573050A (en) 1969-02-27 1971-03-30 Eastman Kodak Co Color photographic layers comprising non-diffusible 5-hydroxycoumarans as stabilizing compounds
GB1325312A (en) 1969-10-03 1973-08-01 Minnesota Mining & Mfg Photo-sensitive compositions
JPS4920974B1 (de) 1970-06-01 1974-05-29
US3698909A (en) 1970-08-12 1972-10-17 Eastman Kodak Co Photographic dye image stabilizer-solvent
US3761279A (en) 1970-09-08 1973-09-25 Eastman Kodak Co Photothermographic element
BE777487A (fr) 1970-12-29 1972-04-17 Fuji Photo Film Co Ltd Nouveaux composes de dihydroxyspirochromane, ainsi que des compositionsde polyesters et des materiels de photographie en couleurs contenant lesdits composes comme stabilisants
US3700458A (en) 1971-03-01 1972-10-24 Eastman Kodak Co Chemical process
JPS5746052B2 (de) 1972-06-06 1982-10-01
US3785830A (en) 1972-06-14 1974-01-15 Eastman Kodak Co Photothermographic element,composition and process
IT966731B (it) 1972-06-30 1974-02-20 Minnesota Mining & Mfg Metodo per ridurre la carica bilita statica di strati foto grafici e di elementi fotografici strati fotografici ed elementi fotografici ottenuti con tale metodo
IT966734B (it) * 1972-07-24 1974-02-20 Minnesota Mining & Mfg Metodo per ridurre la caricabilita statica di strati fotografici e di elementi fotografici strati fotografici ed elementi fotografici ottenuti con tale metodo
US3847612A (en) 1973-02-02 1974-11-12 Minnesota Mining & Mfg Light-sensitive heat-developable sheet material
JPS5442249B2 (de) 1973-02-06 1979-12-13
US4042394A (en) 1973-05-07 1977-08-16 Eastman Kodak Company Photographic dye image stabilization
JPS5820024B2 (ja) 1974-01-22 1983-04-21 富士写真フイルム株式会社 ネツゲンゾウカンコウザイリヨウ
JPS5436852B2 (de) 1974-01-25 1979-11-12
US3985565A (en) 1974-07-12 1976-10-12 Eastman Kodak Company Photothermographic, composition using a phenolic leuco dye as a reducing agent
US3994732A (en) 1975-09-08 1976-11-30 Minnesota Mining & Mfg Dry silver toners
US4021240A (en) 1975-12-22 1977-05-03 Eastman Kodak Company Photothermographic and thermographic compositions and uses therefor containing sulfonamidophenol reducing agents and four equivalent color couplers
US4123274A (en) 1977-03-16 1978-10-31 Eastman Kodak Company Heat developable imaging materials and process
US4266015A (en) * 1977-09-13 1981-05-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light sensitive materials with fluorinated polymer antistats
US4220709A (en) 1977-12-08 1980-09-02 Eastman Kodak Company Heat developable imaging materials and process
US4374921A (en) 1981-06-08 1983-02-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Image enhancement of photothermographic elements
US4374821A (en) 1982-06-28 1983-02-22 E. R. Squibb & Sons, Inc. Myocardial imaging agent and method
US4570197A (en) * 1983-01-03 1986-02-11 Minnesota Mining & Manufacturing Company Static reduction in magnetic recording cassettes
US4460681A (en) 1983-03-15 1984-07-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Image enhancement of photothermographic elements
JPS59174835A (ja) 1983-03-25 1984-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 乾式画像形成方法
US4477562A (en) 1983-05-24 1984-10-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dry strip antihalation layer for photothermographic film
JPS61147249A (ja) 1984-12-20 1986-07-04 Fuji Photo Film Co Ltd 加熱工程を有する画像形成方法
US4775613A (en) 1985-03-30 1988-10-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-developable light-sensitive material
JPS6242152A (ja) 1985-08-15 1987-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
US4708928A (en) 1986-08-29 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photothermographic element comprising particles each containing silver halide, a silver compound and reducing agent
JPH0690447B2 (ja) * 1986-09-12 1994-11-14 コニカ株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
AU7847487A (en) 1986-09-18 1988-02-04 Selfridge, A.R. Cannulation of blood vessels
US4847188A (en) 1987-02-05 1989-07-11 Konica Corporation Thermally developable light-sensitive material
GB8712961D0 (en) 1987-06-03 1987-07-08 Minnesota Mining & Mfg Colour photothermographic elements
IT1228436B (it) 1987-07-24 1991-06-17 Minnesota Mining & Mfg Materiali fotografici agli alogenuri d'argento sensibili alla luce
US5217767A (en) * 1988-10-28 1993-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Static shielding film
IT1227930B (it) * 1988-11-25 1991-05-14 Minnesota Mining & Mfg Materiali fotografici agli alogenuri d'argento sensibili alla luce.

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Publication number Publication date
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