DE69317632T2

DE69317632T2 - Verfahren zur Behandlung von Ozonschicht dezimierenden Substanzen

Info

Publication number: DE69317632T2
Application number: DE69317632T
Authority: DE
Inventors: Hiroshi Uchiyama
Original assignee: EC CHEM IND CO; ITOCHU FINE CHEMICAL CORP
Current assignee: EC CHEM IND CO; ITOCHU FINE CHEMICAL CORP
Priority date: 1992-12-18
Filing date: 1993-12-07
Publication date: 1998-07-30
Anticipated expiration: 2013-12-08
Also published as: JP3421954B2; EP0602510A1; DE69317632D1; EP0602510B1; US5439568A; JPH06182140A

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Behandeln von ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen gemäß den Oberbegriffen der Ansprüche 1 und 8.
Mehr im besonderen betrifft diese Erfindung ein Verfahren zum Behandeln von Substanzen, welche für die Ozonschicht der Erde destruktiv bzw. schädlich sind, sowie spezieller ein Verfahren zum Behandeln von Chlorfluorkohlenstoffverbindungen (CFC-Verbindungen).
Gegenwärtig werden ozonschichterschöpfende bzw. -abreichernde Substanzen als hauptsächlich CFC-Verbindungen enthaltend betrachtet, und demgemäß werden sie als 1995 völlig auf zugebend bezeichnet. Jedoch werden gegenwärtig CFC-Verbindungen in einer Reihe von Anwendungen benutzt, wie bei Autokühlern und Kühlschränken, und daher mögen die Verbindungen aufbereitet und harmlos gemacht werden. Insbesondere ist es schwierig, spezielle CFCs, welche Chlor im Molekül haben können, wie jene von Monofluormethan (R-11), Difluormethan (R-12), Trifluortrichlorethan (R-113), Tetrafluordichlorethan (R-114), Pentafluormonochlorethan (R-115) und Tetrafluorethan (CFC-134), zu zersetzen.
Kürzlich ist ein Verfahren als ein Mittel zum Zersetzen von CFC-Verbindungen vorgeschlagen worden, worin die Verbindungen mittels eines Hochtemperaturplasma bei 10.000ºC zersetzt werden (FR-A-2 640 148). Jedoch erfordert dieses Verfahren die Erzeugung einer sehr hohen Temperatur von 10.000ºC und beinhaltet Probleme, die vor einer praktischen Anwendung im Hinblick auf die Behandlungseinrichtung und die Behandlungskosten noch gelöst werden müssen.
Andererseits haben die Erfinder früher ein Verfahren vorgeschlagen, in dem eine Glimmentladung in einer Mischung aus Argon und Helium oder einer Mischung aus Argon und einem Keton unter atmosphärischem Druck zum Erregen eines Plasmas erzeugt wird, welches die Oberfläche von Substanzen hydrophil oder hydrophob macht (Japanische Patentveröffentlichung Offenlegung 3- 23475, US-A-5 124 173).
Ein Verfahren zum Behandeln von ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen gemäß den Oberbegriffen der Ansprüche 1 und 8 ist aus FR-A-2 640 148 bekannt, welche ein Verfahren zum Zersetzen einer halogenierten organischen Verbindung durch Hochtemperaturplasma offenbart, das mittels eines induktiven Hochfrequenzplasmagenerators erzeugt wird. Weiterhin offenbart JP-A-4279179 ein Verfahren zum Zersetzen einer halogenierten organischen Verbindung durch Plasma, das unter Hochvakuumbedingung unter Verwendung eines umwandlungs- bzw. Übergangsmetallkatalysators erzeugt wird. Darüberhinaus wird gemäß Chemical Abstracts, Bd. 118, Nr. 12, 1992, Zusammenfassung Nr. 108961h ein durch Gleichstrombogenentladung erzeugtes Heißplasma verwendet. Schließlich offenbart EP-A-467 639 ein Verfahren zum kontinuierlichen Behandeln eines Feststoffs, d.h. eines hydrophoben Films oder einer hydrophoben Platte bzw. Dünnplatte zum Verleihen von hydrophiler Natur, in dem seine hydrophile Behandlung mittels Plasma ausgeführt wird, das durch Glimmentladung bei atmosphärischem Druck und Raumtemperatur erzeugt wird.
Die Erfinder haben ein intensives Studium über Mittel zum Zersetzen von gasförmigen ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen, speziell CFC-Verbindungen, gemacht, um diese harmlos zu machen, und gefunden, daß die CFC-Verbindungen wirksam bzw. effektiv durch ein Plasma atmosphärischen Drucks zersetzt werden können, welches die Erfinder früher erfunden haben, wodurch die vorliegende Erfindung bewerkstelligt worden ist. Daher ist es ein primäres Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Zersetzen von ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen, speziell von CFC-Verbindungen, die Chlor enthalten, welche bei normaler Temperatur und normalem Druck perfekt gasförmig sind, oder unter einem erhöhten oder verminderten Druck nahe dem atmosphärischen Druck, zu Chlorwasserstoff und Fluorwasserstoff, die in Wasser absorbiert werden, zur Verfügung zu stellen, d.h. ein Verfahren zum Zersetzen von ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen zur Verfügung zu stellen&sub1; die Chlor enthalten, speziell von CFC- Verbindungen, das außerdem in der Wirtschaftlichkeit vorteilhaft ist.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren gemäß den Ansprüchen 1 und 8 zur Verfügung gestellt.
In diesem Verfahren wird eine gasförmige Zusammensetzung, die Hehum oder Argon oder eine Mischung hiervon, oder eine Mischung aus Argon und Aceton enthält, in einen Plasmareaktor eingeleitet, der eine dielektrisch beschichtete Elektrode hat, umfassend ein festes Dielektrikum, das auf der Oberfläche von wenigstens einer von gegenüberliegenden Elektroden angeordnet ist, wobei eine Glimmentladung atmosphärischen Drucks in der gasförmigen Atmosphäre erzeugt wird, die gasförmigen ozonschichterschöpfenden bzw.-abreichernden Substanzen zum Zersetzen der Substanzen in die Glimmentladung eingeleitet werden, und die resultierenden Zersetzungsprodukte in Wasser absorbiert werden.
In der vorliegenden Erfindung wird, wie in dem durch die Erfinder erfundenen Plasmabehandlungsverfahren atmosphärischen Drucks, eine Glimmentladung atmosphärischen Drucks in einem Inertgas, wie Hehum, Argon, Argon und einem Keton, oder Stickstoff erzeugt, gasförmige ozonschichterschöpfende bzw.-abreichernde Substanzen, speziell CFC-Verbindungen, werden im Gasoder Dampfzustand in die Glimmentladung eingeleitet, um zersetzt zu werden, durch Zersetzung erzeugter Chlorwasserstoff und Fluorwasserstoff werden in Wasser absorbiert und als Chlorwasserstoffsäure bzw. Salzsäure sowie Fluorwasserstoffsäure bzw. Flußsäure beseitigt, und das Inertgas, wie Helium, Argon, Argon und Keton, oder Stickstoff wird für die Glimmentladungserzeugung wiederverwendet Demgemäß stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Zersetzen von gasförmigen ozonschichterschöpfenden bzw.-abreichernden Substanzen, vornehmlich CFC-Verbindungen, zur Verfügung, welche sehr wirtschaftlich und praktisch ist, in welchem gasförmige ozonschichterschöpfende bzw.-abreichernde Substanzen, wie CFC-Verbindungen, hauptsächlich jene CFC-Verbindungen, die Chlor enthalten, zersetzt werden, und die Zersetzungsprodukte in Wasser oder einer wäßrigen Säurelösung absorbiert werden.
Die vorliegende Erfindung wird nun im Detail beschrieben.
Gasförmige ozonschichterschöpfende bzw. -abreichernde Substanzen in der vorliegenden Erfindung sind jene Verbindungen, welche destruktiv bzw. schädlich für die Ozonschicht sind, ganz besonders CFC-Verbindungen, die Chlor enthalten. Speziell umfassen diese Verbindungen Monofluormethan (R-11), Difluormethan (R-12), Trifluortrichlorethan (R-113), Tetrafluordichlorethan (R-114), Pentafluormonochlorethan (R-115), Tetrafluorethan (CFC-134). Weiterhin kann die vorliegende Erfindung auch jene Verbindungen behandeln, welche nicht von den Vorschriften erfaßt sind, aber als destruktiv bzw. schädlich für die Ozonschicht angesehen werden, wie Trifluormethan (R-3), Monofluorpentachlorethan (R-111) und Monofluorpentachlorpropan (R-211), sowie ozonschichterschöpfende bzw.-abreichernde Substanzen, die andere als CFC-Verbindungen sind, wie 1,1,1-Trichlorethan und Perchlorethylen.
In der Behandlung dieser gasförmigen Verbindungen werden die Verbindungen oder ihre Dämpfe in eine Erzeugungseinrichtung für Plasma atmosphärischen Drucks eingeleitet. In Abhängigkeit von der Größe der Einrichtung ist die Rate des Einleitens vorzugsweise 200 cm³ bis 1000 cm³/min als Dämpfe der Verbindungen für eine Einrichtung, wie sie in der Ausführungsform gezeigt ist.
Es werden Plasmaerzeugungsbedingungen in der Erzeugungseinrichtung für atmosphärisches Plasma beschrieben.
Als Stromquelle für das Erzeugen einer Glimmentladung kann eine Frequenz von 50 Hz bis 100 kHz oder 13,56 MHz, deren Verwendung, anders als diejenige von Rundfunkfrequenzen, genehmigt ist, verwendet werden. Von diesen Frequenzen sind 200 Hz bis 50 kHz zu bevorzugen, um eine Temperatur von niedriger als 100ºC nahe an Raumtemperatur zu erreichen, und 3 kHz bis 10 kHz sind die besten für 30 bis 60ºC und Raumtemperatur.
Weiterhin ist die Spannung, abhängig von der Art des Gases und dem Spalt zwischen den Elektroden, normalerweise 1000 bis 8000 V.
Um ein Plasma atmosphärischen Drucks zu erzeugen, ist es notwendig, eine Glimmentladung in der Einrichtung in der Gegenwart eines Inertgases, wie Hehum, Argon oder einer Mischung von Argon und einem Keton, zu erzeugen. Für eine Argonatmosphäre ist es notwendig, eine kleine Menge an Ketondampf hinzuzäifügen, aber für die Zersetzung von 1,1,1-Trichlorethan kann eine stabile Glimmentladung ohne die Hinzufügung von Keton erzeugt werden, und Trichlorethan wird zu einer wasserlöslichen Substanz, wie Chlorwasserstoffsäure bzw. Salzsäure, zersetzt. In diesem Fall fährt die Glimmentladung selbst bei Hinzufügung von Trichlorethan zu Argongas in einer Menge von mehreren ppm bis 15%, fort, stabil zu sein, und es ist unnötig, ein Gas zur Erleichterung der Glimmentladungserzeugung hinzuzufügen, wie Keton oder Hehum, was vorher unerläßlich für das Erzeugen einer Glimmentladung in Argon gewesen ist.
Weiterhin ist es für 1,1,1-Trichlorethan nicht klar, warum die Glimmentladungserzeugung erleichtert wird, aber bei CFC R-113, welches eine ähnliche Siedetemperatur hat, wird keine Entladung erzeugt, wenn es zu Argon allein hinzugefügt wird, und die Substanz wird nicht zersetzt. Daher ist es für CFC R-113 notwendig, wie in der Ausführungsform, Hehum oder eine Mischung aus Argon und Helium oder Argon und einem Keton, zu verwenden.
Die durch die Zersetzung mittels des Plasmas atmosphärischen Drucks resultierenden Zersetzungsprodukte werden in Wasser absorbiert. Das heißt, die Zersetzungsprodukte sind hauptsächlich Fluorverbindungen oder Chlorverbindungen, welche unter Bildung von Chlorwasserstoffsäure bzw. Salzsäure oder Fluorwasserstoffsäure bzw. Flußsäure leicht in Wasser absorbiert werden.
Diese Säuren werden in Wasser gelöst und neutralisiert, in der Form von Natriumsalzen entfernt, nichtzersetztes Gas wird in einen Tank atmosphärischen Drucks aufgenommen und zur Wiederverwendung in die Glimmentladung rezirkuliert.
Eine Anzahl von Glimmentladungsrohren kann in Reihe verbunden werden, um restliche Fluorverbindungen und Chlorverbindungen vollständig zu entfernen, wodurch ein sehr wirtschaftliches Verfahren zur Verfügung gestellt wird.
Es sei dann eine Einrichtung zum Ausführen der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
Figur 1 ist eine schematische Ansicht einer Erzeugungseinrichtung für Plasma atmosphärischen Drucks, die in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, Figur 2 ist eine schematische Vertikalquerschnittsansicht der Einrichtung, und Figur 3 ist eine schematische Ansicht zum Erläutern des Behandlungsverfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung. Figur 4 ist eine schematische Seitenansicht eines Beispiels der Elektrode, die in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, und Figur 5 ist eine schematishe perspektivische Ansicht eines anderen Beispiels einer Erzeugungseinrichtung für Plasma atmosphärischen Drucks, die in der vorliegenden Erfindung verwendet wird.
Es sei auf Figur 1 Bezug genommen, wonach eine dünne Metallplatte 2 um das Äußere eines aus Glas hergestellten zylindrischen Rohrs 1 zur Ausbildung einer Elektrode gewickelt ist. Ein Metallstab 3 ist auf der Mittellinie des Zylinders des aus Glas hergestellten zylindrischen Rohrs 1 zur Ausbildung der anderen Elektrode positioniert, und die individuellen Elektroden sind mit Verbindungsanschlüssen 6 bzw. 7 versehen. T-förmige Glasrohre 4 und 5 sind mit beiden Enden des aus Glas hergestellten zylindrischen Rohrs 1 in Eingriff, wobei eines derselben als ein Gaseinlaßkanal verwendet wird und das andere als ein Gasauslaß verwendet wird. Ein Kanal, der sich auf der Mittellinie des aus Glas hergestellten zylindrischen Rohrs 1 befindet, wird als ein Halter bzw. Träger des Metallstabs benutzt, wobei der Kanal geschlossen ist, und der andere Kanal ist mit der Plasmaerzeugungseinrichtung verbunden.
In der Einrichtung des obigen Aufbaus funktioniert das Glas des aus Glas hergestellten zylindrischen Rohrs 1 als ein Dielektrikum, wenn eine Hochspannung an beide Elektroden angelegt wird, und es wird, wie in Figur 2 gezeigt ist, eine Glimmentladung in dem Zylinder erzeugt. Beispiele der Bedingungen für das Erzeugen der Glimmentladung sind wie folgt: Wie durch die Pfeile der Figur 1 gezeigt ist, wird Hehumgas von einem Kanal des T- förmigen Rohrs 4 her eingeleitet und von einem Kanal des T- förmigen Rohrs 5 her entladen, und es wird eine Spannung von 3 kHz, 2500 V zwischen die dünne Metallplatte 2 und den Metallstab 3 angelegt. Infolgedessen wird in dem Zylinder eine Glimmentladung erzeugt, um ein Plasma zu bilden. In diesem Falle war der Strom 30 mA und die Ausgangsleistung war 80 W.
In der vorliegenden Erfindung befindet sich das Reaktorrohrinnere unter einem erhöhten Druck oder einem verminderten Druck, nahe an atmosphärischem Druck. Wenn ein Gas von einem Gaseinlaßkanal 4 in Figur 3 her eingeleitet wird, ist das Zylinderinnere aufgrund eines Widerstands während des Durchströmens des Gases durch einen Wasserabsorptionsbehälter unter einem erhöhten Druck, oder das Zylinderinnere ist unter einem verminderten Druck, wenn das Gas von einem Kanal 4 her unter Sog durch eine Pumpe von dem Gasauslaßkanal 8 her eingeleitet wird. Die Glimmentladung wird bei einem niedrigeren Druck erzeugt, aber in der vorliegenden Erfindung bedeutet der verminderte Druck anstatt eines Vakuums vielmehr einen Druck, der nahe an atmosphärischem Druck ist, bis zu 66,66 kPa (500 torr), wenn der atmosphärische Druck 101,33 kPa (760 torr) ist.
Als ein Beispiel der in der obigen Einrichtung verwendeten Elektrode wird es bevorzugt, eine bandförmige dünne Metallplatte zu verwenden, die um das Äußere des Glaszylinders gewickelt ist, wie in Figur 4 gezeigt ist, weil die Glimmentladung in dem Glasrohr gut sichtbar ist.
Da die obige Einrichtung ein Beispiel ist und das Einleiten des CFC in die Glimmentladung ein Mittel zur Zersetzung ist, können auch vertikale Elektroden, wie in Figur 5 gezeigt ist, oder mittels einer Anzahl von Dielektrika bedeckte Elektroden in einem großen Behälter, wie einem Cottrell-Präzipitator, anstatt eines Zylinders verwendet werden.
Weiterhin können, da Glas gegen eine Korrosion durch Fluorwasserstoff empfindlich ist und eine kurze Gebrauchslebensdauer hat, ein säurebeständiges Harz, wie Polyester, ABS, Methacryl-, Polyimid-, AS- oder Fluorharz verwendet werden. Diese Harze sind gute Dielektrika.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Figur 1 ist eine schematische Ansicht, die eine Erzeugungseinrichtung für Plasma atmosphärischen Drucks zeigt, welche in der vorliegenden Erfindung verwendet wird.
Figur 2 ist eine schematische Vertikalquerschnittsansicht, welche die in Figur 1 gezeigte Erzeugungseinrichtung für Plasma atmosphärischen Drucks zeigt.
Figur 3 ist eine schematische Ansicht zum Erläutern des Behandlungsverfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung.
Figur 4 ist eine schematische Seitenansicht, die ein Beispiel der in der vorliegenden Erfindung verwendeten Elektrode zeigt.
Figur 5 ist eine schematische perspektivische Ansicht, die ein anderes Beispiel einer in der vorliegenden Erfindung verwendeten Erzeugungseinrichtung für Plasma atmosphärischen Drucks zeigt.

BESCHREIBUNG VON BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN

Es werden nun Ausführungsformen der Zersetzung von Dämpfen von CFC-Lösungsmitteln unter Verwendung der obigen Einrichtung beschrieben.

Beispiel 1

Ein CFC-Lösungsmittel niedrigen Siedepunkts für die Einrichtungsreinigung wurde in einer Gaswaschflasche untergebracht, Helium wurde durch die Flasche geleitet, um eine Mischung von Dampf des CFC-Lösungsmittels und Helium zu erzeugen, und die Mischung wurde von dem T-förmigen Rohr 4 her in den Zylinder eingeleitet. In diesem Falle wurde die chlorhaltige CFC- Verbindung von etwa 10 Volumen-% mit Helium gemischt, welche sofort zu Chlorwasserstoff und Fluorwasserstoff zersetzt wurde, die ziemlich harmlos für die Ozonschicht sind. Das ausströmende Gas wurde in Wasser eingeleitet, das in einem Zersetzungsproduktabsorptionsbehälter enthalten war, wie in Figur 3 gezeigt ist, um den Chlorwasserstoff und den Fluorwasserstoff zu Salzsäure bzw. Flußsäure umzuwandeln. Der pH-Wert des Wassers änderte sich sofort nach dem Hindurchgehen des ausströmenden Gases durch Wasser von 7 auf 1 bis 2, was die saure Natur zeigt.
Als ein Glasstab mit Ammoniakwasser näher an das ausströmende Gas gebracht wurde, wurde weißer Rauch aus Ammoniumchlorid erzeugt, was das Vorhandensein von Chlorwasserstoff zeigt, der aus der Zersetzung des CFC resultierte.
Obwohl die Zersetzungsrate von der Gasströmungsrate und Gasgeschwindigkeit durch den Zylinder abhängt, hatte die in der obigen Ausführungsform verwendete Einrichtung eine Länge des Entladungsteils von 500 mm und einen inneren Durchmesser des Glaszylinders von 16 mm, als die CFC/Helium-Mischung, die 10% CFC enthielt, mit einer Rate von 5 Liter/Minute durchgeleitet wurde, war die Zersetzungsrate etwa 34%, und für eine Rate von 2 Liter/Minute war die Zersetzungsrate größer als 60%, was den hohen Wirkungsgrad bzw. die hohe Effektivität des vorliegenden Behandlungsverfahrens zeigt.
Die Tabelle 1 zeigt gaschromatographische Tabellen von unbehandeltem und behandeltem CFC-Helium-Gemisch und plasmabehandeltem CFC-Helium-Gemisch.
Das Probengas für die Gaschromatographie wurde an dem Auslaß des Plasmabehandlungsrohrs (z.B. 5 in Figur 3) probegenommen. Tabelle 1
Weiterhin kann, wie in Figur 3 gezeigt ist, Hehum für die Wiederverwendung mit sehr niedrigen Betriebskosten getrocknet werden, nachdem Chlorwasserstoff und Fluorwasserstoff als Zersetzungsprodukte entfernt worden sind.

Beispiel 2

Helium wurde mit 1,1,1-Trichlorethan gemischt und bei einer Strömungsrate von 5 Litern/Minute in der gleichen CFC- Zersetzungseinrichtung wie oben behandelt. Als Ergebnis war die Zersetzungsrate etwa 26%. In entsprechender Weise war die Zersetzungsrate so hoch wie nahezu 75%, als 1,1,1-Trichlorethan mit Argon gemischt und bei einer Strömungsrate von 3 Liter/Minute behandelt wurde. Dieses ist in Tabelle 2 gezeigt. Tabelle 2
Weiterhin wurde, wenn Argon nicht getrocknet wurde, so daß es Wasser enthielt, und gleichartig behandelt wurde, die Zersetzungsrate sogar weiter auf 80% verbessert. Dieses ist in Tabelle 3 gezeigt. Tabelle 3
Wie oben beschrieben ist, besteht die vorliegende Erfindung darin, CFC-Verbindungen durch ein Plasma atmosphärischen Drucks so zu zersetzen, daß sie harmlos sind, und zwar ohne daß eine teure Plasmaerzeugungseinrichung erforderlich ist, wie sie in Verfahren nach dem Stande der Technik verwendet wird, und die Erfindung kann leicht CFC-Verbindungen unter Verwendung einer sehr einfachen Einrichtung mit verbesserter Wirkung zersetzen.

Claims

1. Verfahren zum Behandeln von ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen durch Erzeugen eines Glimmentladungsplasmas in der Gegenwart einer zu zersetzenden Substanz und eines anderen Gases in einem Plasmareaktor (1, 2, 3), und Absorbieren der resultierenden Zersetzungsprodukte in Wasser, gekennzeichnet durch

(a) Einleiten von Hehum, Argon, einer Mischung aus Hehum und Argon oder einer gasförmigen Mischung aus Argon und Keton als das andere Gas bei einem Druck von etwa 66,66 kPa (500 torr) bis etwa atmosphärischem Druck in den Plasmareaktor (1, 2, 3), der gegenüberliegende Elektroden (2, 3) und ein zwischen die gegenüberliegenden Elektroden (2, 3) zwischengefügtes und auf einer Oberfläche von wenigstens einer (2) der gegenüberliegenden Elektroden (2, 3) angeordnetes festes Dielektrikum (2) umfaßt, so daß dadurch eine gasförmige Atmosphäre bei einem Druck von etwa 66,66 kPa (500 torr) bis etwa atmosphärischem Druck innerhalb des Plasmareaktors (1, 2, 3) gebildet wird;

(b) Erzeugen der Glimmentladung als Glimmentladung atmosphärischen Drucks innerhalb der gasförmigen Atmosphäre und mit einer Temperatur, die niedriger als 100ºC und nahe an Raumtemperatur ist; und

(c) Einleiten der gasförmigen ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen in die Glimmentladung zum Zersetzen der genannten Substanzen.

2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren das Erzeugen der Glimmentladung atmosphärischen Drucks durch Anwenden einer Frequenz in dem Bereich von 200 Hz bis 50 kHz zwischen den gegenüberliegenden Elektroden (2, 3) umfaßt.

3. Verfahren gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Glimmentladung atmosphärischen Drucks durch Anwenden einer Frequenz in dem Bereich von 3 kHz bis 10 kHz zwischen den gegenüberliegenden Elektroden (2, 3) erzeugt wird.

4. Verfahren gemäß Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Glimmentladung atmosphärischen Drucks durch Anwenden einer Spannung von 1000 bis 8000 Volt über den gegenüberliegenden Elektroden (2, 3) erzeugt wird.

5. Verfahren gemäß irgendeinem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die ozonschichterschöpfende bzw. -abreichernde Substanz Trichlorethan umfaßt bzw. enthält, wobei das Verfahren das Behandeln des Trichlorethans in der gasförmigen Atmosphäre von Argon zum Bilden eines wasserlöslischen Zersetzungsprodukts umfaßt.

6. Verfahren gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Volumen des behandelten Trichlorethans 15% basierend auf dem Gesamtvolumen von Argon ist.

7. Verfahren gemäß irgendeinem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanzen, Chlorfluorkohlenstoff umfassen bzw. enthalten.

8. Verfahren zum Behandeln einer ozonschichterschöpfenden bzw. -abreichernden Substanz durch Erzeugen eines Glimmentladungsplasmas in der Gegenwart der durch Zersetzen zu behandelnden Substanz und eines anderen Gases in einem Plasmareaktor (1, 2, 3), gekennzeichnet durch Zersetzen von gasförmigem Chlorfluorkohlenstoff oder niedrigsiedendem Chlorfluorkohlenstofflösungsmittel, welches das Erzeugen einer Glimmentladung atmosphärischen Drucks bei einer Temperatur, die niedriger als 100ºC und nahe an Raumtemperatur ist, in dem Plasmareaktor (1, 2, 3) umfaßt, welcher als das andere Gas ein gasförmiges Material, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Argon, Hehum, einer Mischung aus Argon und Helium, und einer Mischung aus Argon und Aceton besteht, bei im wesentlichen atmosphärischem Druck enthält.

9. Verfahren gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren das Einleiten des Chlorfluorkohlenstoffgases oder -dampfs in den die Glimmentladung atmosphärischen Drucks enthaltendem Plasmareaktor (1, 2, 3) als eine Mischung mit dem gasförmigen Material umfaßt.

10. Verfahren gemäß Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Erzeugens einer Glimmentladung atmosphärischen Drucks das Anlegen einer Spannung von etwa 1000 bis etwa 8000 Volt bei einer Frequenz von 200 Hz bis etwa 50 kHz an gegenüberliegende Elektroden (2, 3), die innerhalb des das gasförmige Material enthaltenden Plasmareaktors (1, 2, 3) und durch ein auf einer Oberfläche von einer (2) der gegenüberliegenden Elektroden (2, 3) vorgesehenes festes Dielektrikum (1) getrennt sind.