DE69307239T2 - Zusammensetzung zum Entfernen von Kratzern und zur Desensibilisierung von Flachdruckplatten - Google Patents
Zusammensetzung zum Entfernen von Kratzern und zur Desensibilisierung von FlachdruckplattenInfo
- Publication number
- DE69307239T2 DE69307239T2 DE69307239T DE69307239T DE69307239T2 DE 69307239 T2 DE69307239 T2 DE 69307239T2 DE 69307239 T DE69307239 T DE 69307239T DE 69307239 T DE69307239 T DE 69307239T DE 69307239 T2 DE69307239 T2 DE 69307239T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- composition
- alkali metal
- phosphate
- organic solvent
- lithographic printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 66
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 13
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 10
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 10
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims description 9
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims description 9
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 8
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical group [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 8
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 claims description 8
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical group COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910013915 M3PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- -1 lithium silicates Chemical class 0.000 description 9
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 8
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 7
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 3
- OQEVSCYDUYRAAM-UHFFFAOYSA-N disodium;oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O OQEVSCYDUYRAAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K trilithium;phosphate Chemical class [Li+].[Li+].[Li+].[O-]P([O-])([O-])=O TWQULNDIKKJZPH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 JMMVHMOAIMOMOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCO XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBTDHCQNAQRHCE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethoxy)cyclohexyl]oxyethanol Chemical compound OCCOC1CCC(OCCO)CC1 LBTDHCQNAQRHCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLPUXJIIRIWMSQ-UHFFFAOYSA-N 2-cinnamylidenepropanedioic acid Chemical class OC(=O)C(C(O)=O)=CC=CC1=CC=CC=C1 BLPUXJIIRIWMSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOYWLLHHWAMFCB-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl acetate Chemical compound CCCCC(CC)COC(C)=O WOYWLLHHWAMFCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- LEEBETSNAGEFCY-UHFFFAOYSA-N [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC(=O)C=C1 Chemical class [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC(=O)C=C1 LEEBETSNAGEFCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- QYGWZBFQWUBYAT-WGDLNXRISA-N ethyl (e)-3-[4-[(e)-3-ethoxy-3-oxoprop-1-enyl]phenyl]prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C1=CC=C(\C=C\C(=O)OCC)C=C1 QYGWZBFQWUBYAT-WGDLNXRISA-N 0.000 description 1
- 229940105994 ethylhexyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical class [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002895 organic esters Chemical class 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 235000019351 sodium silicates Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000404 tripotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019798 tripotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N triton Chemical compound [3H+] GPRLSGONYQIRFK-MNYXATJNSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007762 w/o emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
- Diese Erfindung betrifft ganz allgemein den lithographischen Druck und insbesondere ein neues Verfahren und eine neue Zusammensetzung für die Behandlung lithographischer Druckplatten, die einen Aluminiumträger aufweisen. Ganz speziell betrifft diese Erfindung eine Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung, die insbesondere für die Entfernung von Kratzern von den Nichtbildbezirken von lithographischen Druckplatten und zur Desensibilisierung solcher Bereiche, so daß sie keine Druckfarbe aufnehmen, angepaßt ist.
- Der Stand der Technik, der sich auf den lithographischen Druck bezieht, basiert auf der Unmischbarkeit von Öl und Wasser, wobei das ölige Material oder die Druckfarbe vorzugsweise von dem Bildbereich zurückgehalten wird und wobei das Wasser oder die Fountain-Lösung vorzugsweise von dem Nichtbildbereich zurückgehalten wird. Wird eine in geeigneter Weise hergestellte Oberfläche mit Wasser befeuchtet und wird Druckfarbe aufgebracht, so halten die Hintergrund- oder Nichtbildbereiche das Wasser zurück und stoßen die Druckfarbe ab, während der Bildbereich die Druckfarbe aufnimmt und Wasser abstößt. Die Druckfarbe auf dem Bildbereich wird dann auf die Oberfläche eines Materials übertragen, auf dem das Bild reproduziert werden soll, wie zum Beispiel Papier, ein Tuch oder Gewebe und dergleichen. In üblicher Weise wird die Druckfarbe auf ein Zwischenmaterial übertragen, das als Blanket bezeichnet wird, das wiederum die Druckfarbe auf die Oberfläche des Materials überträgt, auf dem das Bild reproduziert werden soll.
- Auf dem Gebiet des Offset-Druckes werden Druckplatten fast ausschließlich mit Aluminiumträgern hergestellt. Von sich aus ist Aluminium ein relativ weiches Metall, so daß häufig der Fall auftritt, daß die Druckplatte beim Gebrauch zerkratzt wird oder in anderer Weise beschädigt wird.
- Aluminium ist seit vielen Jahren als Träger für lithographische Druckplatten verwendet worden. Um das Aluminium für eine solche Verwendung vorzubereiten, wird es in typischer Weise sowohl einem Aufrauhprozeß als auch einem nachfolgenden anodisierenden Prozeß unterworfen. Der Aufrauhprozeß dient dazu, um die Adhäsion der nachfolgend aufgebrachten strahlungsempfindlichen Beschichtung zu verbessern, und um die Wasseraufnahmecharakteristika der Hintergrundbereiche der Druckplatte zu steigern. Das Aufrauhen beeinflußt sowohl die Leistungsfähigkeit als auch die Dauerhaftigkeit der Druckplatte und die Qualität der Aufrauhung ist ein kritischer Faktor, der die Gesamtqualität der Druckplatte bestimmt. Ein feines, gleichförmiges Korn, das frei von Löchern ist, ist wesentlich, um die höchste Qualitätsleistung zu erbringen.
- Es sind sowohl mechanische als auch elektrolytische Aufrauhprozesse allgemein bekannt und sie werden im Rahmen der Herstellung von lithographischen Druckplatten in großem Maße angewandt. Gewöhnlich werden optimale Ergebnisse bei Anwendung des elektrolytischen Aufrauhprozesses erzielt, der nach dem Stande der Technik auch als elektrochemisc her Aufrauhprozeß oder elektrochemisches Aufrauhen bezeichnet wird, und es gibt eine große Anzahl von unterschiedlichen Prozessen der elektrolytischen Aufrauhung, die zur Anwendung bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten vorgeschlagen wurden. Prozesse des elektrolytischen Aufrauhens werden beispielsweise beschrieben in den U.S.-Patentschriften 3 755 116, 3 887 447, 3 935 080, 4 087 341, 4 201 836, 4 272 342, 4 294 672, 4 301 229, 4 396 468, 4 427 500, 4 468 295, 4 476 006, 4 482 434, 4 545 875, 4 548 683, 4 564 429, 4 581 996, 4 618 405, 4 735 696, 4 897 168 und 4 919 774.
- Die Anwendung einer elektrochemischen Aufrauhung erfordert die Verwendung von Aluminium, das sehr rein ist und infolgedessen sehr weich und dies erschwert ferner das Problem der Kratzerbildung.
- Bei der Herstellung von lithographischen Druckplatten schließt sich an den Aufrauhungsprozeß in typischer Weise ein Anodisierungsprozeß an unter Verwendung einer Säure, wie zum Beispiel Schwefel- oder Phosphorsäure, und an den Anodisierungsprozeß schließt sich in typischer Weise ein Prozeß an, der die Oberfläche hydrophil macht, wie zum Beispiel ein Prozeß der thermischen Silizierung oder Elektrosilizierung. Die Anodisierungsstufe dient dazu, um eine anodische Oxidschicht zu erzeugen und wird vorzugsweise derart gesteuert, daß eine Schicht von mindestens 0,3 g/m² erzeugt wird. Verfahren zur Anodisierung von Aluminium unter Erzeugung einer anodischen Oxidbeschichtung mit anschließender Hydrophilisierung der anodisierten Oberfläche durch Techniken, wie zum Beispiel einer Silizierung, sind aus dem Stande der Technik allgemein bekannt und brauchen hier nicht weiter beschrieben zu werden.
- Zu den zahlreichen Patentschriften, die sich auf Verfahren zur Anodisierung von lithographischen Druckplatten beziehen, gehören die U.S.-Patentschriften 2 594 289, 2 703 781, 3 227 639, 3 511 661, 3 804 731, 3 915 811, 3 988 217, 4 022 670, 4 115 211, 4 229 266 und 4 647 346. Illustrativ für die vielen Materialien, die zur Herstellung von hydrophilen Trennschichten geeignet sind, sind Polyvinylphosphonsäure, Polyacrylsäure, Polyacrylamid, Silicate, Zirkonate und Titanate. Zu den zahlreichen Patentschriften, die sich auf hydrophile Trennschichten beziehen, die in lithographischen Druckplatten verwendet werden, gehören die U.S. -Patentschriften 2 714 066, 3 181 461, 3 220 832, 3 265 504, 3 276 868, 3 549 365, 4 090 880, 4 153 461, 4 376 914, 4 383 987, 4 399 021, 4 427 765, 4 427 766, 4 448 647, 4 452 674, 4 458 005, 4 492 616, 4 578 156, 4 689 272, 4 935 332 und die europäische Patentschrift 190 643.
- Der Anodisierungsprozeß soll die Oberfläche abriebresistenter machen und eine erhöhte Adhäsion für die lichtempfindlichen Beschichtungen herbeiführen, die auf die Oberfläche aufgebracht werden, doch ist die hierbei erzeugte Oxidschicht sehr dünn und infolgedessen leicht zu beschädigen. Überdies hängt die Härte der Oxidschicht von den besonderen Charakteristika des Anodisierungsprozesses ab, der angewandt wird, und um so weicher die Schicht ist, um so anfälliger für Beschädigungen durch Kratzer ist sie.
- Aufgrund der Umgebung in den meisten Print-Shops ist es unwahrscheinlich, daß eine Druckplatte jemals robust genug sein kann, um den diversen Bedingungen und Methoden der Handhabung widerstehen zu können. Sehr oft wird eine Platte verkratzt, bevor sie der Presse zugeführt wird. Ist der Kratzer leicht und ist er nicht durch die Oxidschicht gebrochen oder ist er nicht auf dem Bildbereich in Erscheinung getreten, so wird die Druckqualität nicht beeinträchtigt. Oftmals jedoch wird die Oxidschicht schwer beschädigt und der Bereich der Beschädigung wird für Druckfarbe aufnahmefähig. Das mit dem Druck beschäftigte Personal versucht in verschiedener Weise, diese beschädigten Bereiche hydrophil zu machen, doch sind in typischer Weise derartige Versuche ineffektiv und kurzlebig. Die Hersteller von Druckplatten, wie auch jene, die Hilfschemikalien für Drucker herstellen, stellen in üblicher Weise Zusammen- setzungen zur Entfernung von Kratzern her, mit denen die Hydrophilizität als eine ausgedehnte und permanente Korrektur wiederhergestellt werden soll. In typischer Weise sind diese Zusammensetzungen ungeeignet, um in voll akzeptabler Weise zu wirken. Das Ziel ist gewesen, eine Zusammensetzung herzustellen, die leicht zu verwenden ist und die in wirksamer Weise den beschädigten Bereich unter einer Vielzahl von Bedingungen effektiv desensibilisiert, so daß für einen Druckpressenarbeiter eine hohe Wahrscheinlichkeit besteht, daß er die Platte in normaler Weise verwenden kann und nicht ersetzen muß oder eine Unterbrechung des Druckpressenlaufes für eine ausgedehnte Korrekturbehandlung herbeiführen muß. Es hat sich gezeigt, daß dies extrem schwierig zu erreichen ist.
- Es sind viele Zusammensetzungen zur Verwendung als Kratzerentfernungsmittel sowie Desensibilisierungsmittel für lithographische Druckplatten und/oder für solche hiermit in Beziehung stehenden Funktionen als Plattensäuberungsmittel und Platten-Finishers vorgeschlagen worden.
- Zu Beispielen gehören Desensibilisierungszusammensetzungen, enthaltend Silicate, Netzmittel und hydrophile Kolbide, wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 258 122, ausgegeben am 24. März 1981; Fountain-Lösungen mit Trinatriumphosphat, Natriummetasilicat, Tetrakaliumpyrophosphat, einem nicht-ionogenen oberflächenaktiven Mittel und einem Dialkylpolysiloxan, wie sie in der U.S.-Patentschrift 4 340 509, ausgegeben am 20. Juli 1982, beschrieben werden; Zusammensetzungen zur Entfernung von Kratzern mit einer Wasser-in-Öl-Emulsion, wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 399 243, ausgegeben am 16. August 1983; Plattenreinigungsmittel mit einem Silicat und einem kationischen oder arnphoteren oberflächenaktiven Mittel, wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 576 743, ausgegeben am 18. März 1986; Zusammensetzungen zur Entfernung von Kratzern mit Trinatriumphosphat, Natriummetasilicat und einem anionischen oberflächenaktiven Mittel, wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 778 616, ausgegeben am 18. Oktober 1988, sowie Plattenreinigungszusammensetzungen mit einem organischen Lösungsmittel, Natriummetasilicat und einem nicht-ionogenen oberflächenaktiven Mittel, wie sie beschrieben werden in den U.S.-Patentschriften 4 886 553, ausgegeben am 12. Dezember 1989 sowie 4 997 588, ausgegeben am 5. März 1991.
- Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung einer neuen und verbesserten Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung, welche die Nachteile der Zusammensetzungen des Standes überwindet und wirksamer die Bedürfnisse der lithographischen Druckplattentechnik erfüllt.
- Gemäß dieser Erfindung umfaßt eine Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung zur Verwendung im Falle von lithographischen Druckplatten:
- (1) ein Alkalimetallsilicat mit einem Verhältnis von SiO&sub2; zu M&sub2;O von mindestens zwei zu eins, wobei M für ein Alkalimetall steht;
- (2) ein Phosphat der Formel M&sub3;PO&sub4;, in der M für ein Alkalimetall steht;
- (3) ein organisches Lösungsmittel,
- (4) ein nicht-ionogenes oberflächenaktives Mittel und
- (5) Wasser.
- Die neue Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung dieser Erfindung wird beim Verfahren dieser Erfindung angewandt durch Aufbringen auf einen Kratzer in einem Nichtbildbereich einer lithographischen Druckplatte mit einem aufgerauhten und anodisierten Aluminiumträger. Die Behandlung des Kratzers mit der Zusammensetzung, beispielsweise durch Aufbringen mit einem Filzschreiber, desensibilisiert den Kratzerbereich, so daß er keine Druckfarbe aufnimmt.
- Das Alkalimetallsilicat dient dazu, eine permanente hydrophile Schicht zu erzeugen. Natriumsilicate werden bevorzugt verwendet. Kalium- und Lithiumsilicate sind ebenfalls sehr wirksam, sind jedoch weniger wünschenswert aufgrund ihrer beträchtlich höheren Kosten. Es ist insbesondere wichtig, daß das Verhältnis von SiO&sub2; zu M&sub2;O mindestens zwei zu eins beträgt, um eine permanente Bildung einer hydrophilen Schicht zu erreichen. Ein besonders vorteilhaftes Silicat zur Verwendung im Rahmen dieser Erfindung ist SILICATE D, erhältlich von der Firma Philadelphia Quartz Corporation. Es weist ein Verhältnis von SiO&sub2;:Na&sub2;O von 2,5:1 auf. Natriummetasilicat, das die Formel Na&sub2;SiO&sub3; hat und ein Verhältnis von SiO&sub2;: Na&sub2;O von 1:1, ist für die Zwecke dieser Erfindung nicht geeignet. Es hat die Fähigkeit, Aluminium zu lösen und verhindert dadurch die permanente Bildung einer hydrophilen Schicht.
- Das Phosphat, das in der neuen Zusammensetzung dieser Erfindung verwendet wird, dient dazu, die Oberfläche des Aluminiums zu aktivieren, und zwar durch einen geringfügigen Ätzungsgrad. Es ist ferner geeignet, die Oberfläche zu phosphatisieren, durch Umsetzung mit Aluminium unter Bildung eines unlöslichen hydrophilen Salzes, das als Teil auf der Oberfläche verbleibt. Vorzugsweise wird Trinatriumphosphat verwendet. Die entsprechenden Kalium- und Lithiumphosphate, d.h. Trikaliumphosphat und Trilithiumphosphat, sind ebenfalls wirksam, jedoch weniger wünschenswert aufgrund ihrer beträchtlich höheren Kosten. Lediglich die tribasischen Phosphatsalze eignen sich für die Zwecke dieser Erfindung, da die monobasischen und dibasischen Phosphatsalze in der Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung, die hier beschrieben wird, ineffektiv sind.
- Das organische Lösungsmittel unterstützt primär die Entfernung von Druckfarbe und anderen Grenzflächen-Verunreinigungen, während die primäre Funktion des nicht-ionogenen oberflächenaktiven Mittels darin besteht, die Oberflächenspannung zu vermindem, wodurch eine bessere Eindringung der aktiven Komponenten in die Kornstruktur erleichtert wird, ohne daß zur gleichen Zeit die Hintergrund-Hydrophilizität oder die Bild-Oleophilizität nachteilig beeinflußt werden.
- Die Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung dieser Erfindung hat die Fähigkeit, einen beschädigten Teil einer lithographischen Druckplatte wirksam zu restaurieren, die im Hintergrund auf eine völlig desensibilisierte saubere Druckoberfläche druckt. Die Zusammensetzung desensibilisiert nicht nur wirksam einen Bereich des Plattenhintergrundes, der beschädigt worden ist durch Kratzer, sondern auch Hintergrundbereiche, die drucken aufgrund einer Tönung oder Schlammabscheidung (scumming).
- Das Merkmal "Aluminium", das hier verwendet wird, soll, wie es der Zusammenhang erfordert, sowohl reines Aluminium als auch Aluminiumlegierungen einschließen. Zu geeigneten Aluminiumlegierungen gehören Legierungen, die geringere Mengen an beliebigen der Elemente Silicium, Eisen, Kupfer, Mangan, Magnesium, Zink, Titan, Chrom, Nickel und dergleichen enthalten.
- Die Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung dieser Erfindung eignet sich im Falle eines sehr breiten Bereiches von lithographischen Druckplatten. Beispielsweise eignet sich die Zusammensetzung sowohl im Falle von negativ arbeitenden als auch positiv arbeitenden Platten. Platten, die auf der Verwendung von strahlungsempfindlichen Photopolymeren beruhen und Platten, die auf der Verwendung von Diazoharzen beruhen, können in geeigneter Weise mit der hier beschriebenen Zusammensetzung behandelt werden.
- Wie im vorstehenden angegeben, weist die Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung dieser Erfindung auf:
- (1) ein Alkalimetallsilicat mit einem Verhältnis von SiO&sub2; zu M&sub2;O von mindestens zwei zu eins, wobei M für ein Alkalimetall steht;
- (2) ein Phosphat der Formel M&sub3;PO&sub4;, in der M für ein Alkalimetall steht,
- (3) ein organisches Lösungsmittel,
- (4) ein nicht-ionogenes oberflächenaktives Mittel, und
- (5) Wasser.
- Das Alkalimetallsilicat liegt in der Zusammensetzung in typischer Weise in einer Menge von etwa 0,5 bis etwa 15 Gew.-%, und vorzugsweise in einer Menge von etwa 2 bis etwa 8 Gew.-%, vor; das tribasische Phosphatsalz liegt in typischer Weise in der Zusammensetzung in einer Menge von etwa 0,1 bis etwa 12 Gew.-%, und vorzugsweise in einer Menge von etwa 1 bis etwa 4 Gew.-%, vor; das organische Lösungsmittel liegt in der Zusammensetzung in typischer Weise in einer Menge von etwa 1 bis etwa 40 Gew.-%, und vorzugsweise in einer Menge von etwa 5 bis etwa 15 Gew.-%, vor; das nicht-ionogene oberflächenaktive Mittel liegt in der zusammensetzung in typischer Weise in einer Menge von etwa 0,01 bis etwa 4 Gew.-%, und vorzugsweise in einer Menge von etwa 0,3 bis etwa 1 Gew.-%, vor; und Wasser liegt in typischer Weise in der Zusammensetzung in einer Menge von etwa 30 bis etwa 98 Gew.-%, und vorzugsweise in einer Menge von etwa 75 bis etwa 90 Gew.-%, vor.
- Bei Verwendung der Zusammensetzung dieser Erfindung reagieren das Alkalimetallsilicat und das tribasische Phosphatsalz unter Bildung einer robusten, kontinuierlichen und permanenten hydrophilen Schicht, die die nachteiligen Effekte von Kratzern, eines Abriebs und von anderen Handhabungsdefekten verhütet. Das Silicat/Phosphatsystem eignet sich nicht zur Aktivierung und passiviert letztlich die Aluminiumoberfläche, sofern Druckfarbe und anderer öliger Staub nicht entfernt werden. Dies ist die primäre Funktion des organischen Lösungsmittels. Ein sehr breiter Bereich von organischen Lösungsmitteln ist für diesen Zweck geeignet. Bevorzugte Lösungsmittel sind solche, die bei einer geringen Konzentration wirksam sind, eine geringe Toxizität aufweisen und langsam genug verdampfen, um wirksam zu sein, jedoch nicht so langsam, daß sie auf der Platte bleiben. Vorzugsweise ist das organische Lösungsmittel mit Wasser mischbar.
- Glykolether werden bevorzugt als organisches Lösungsmittel in der Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung dieser Erfindung verwendet. Zu geeigneten Glykolethern für diesen Zweck gehören:
- Ethylenglykolmonomethylether
- Ethylenglykolmonoethylether
- Ethylenglykolmonomethyletheracetat
- Diethylenglykolmonomethylether
- Ethylenglykolmonoethyletheracetat
- Ethylenglykoldimethylether
- Ethylenglykolmonobutylether
- Diethylenglykolmonobutyletheracetat
- Diethylenglykolmonobutylether
- Propylenglykolmonomethylether
- Propylenglykolmonoethylether
- Propylenglykolmonomethyletheracetat
- Dipropylenglykolmonomethylether
- und dergleichen.
- Zu Beispielen von anderen geeigneten organischen Lösungsmitteln für den Zweck dieser Erfindung gehören Alkohole, wie zum Beispiel Isopropanol, n-Propanol, n-Butanol und Tetrahydrofurfurylalkohol; organische Ester, wie zum Beispiel Ethylhexylacetat, Isopropylacetat, n-Butylpropionat sowie Ethylpropionat; Ketone, wie zum Beispiel Methylpropylketon, Methylisobutylketon, Diacetonalkohol und Isophoron; Ether, wie zum Beispiel Isopropylether; Glykole, wie zum Beispiel Ethylenglykol, Propylenglykol, Dipropylenglykol und Triethylenglykol.
- Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, in der Zusammensetzung dieser Erfindung ein organisches Lösungsmittel zu verwenden, das einen Siedepunkt bei Atmosphärendruck im Bereich von 95ºC bis 210ºC aufweist.
- Nicht-ionogene oberflächenaktive Mittel, die im Rahmen dieser Erfindung verwendet werden, weisen vorzugsweise eine hydrophile-lipophile Balance (HLB) von größer als 12, und in vorteilhafterer Weise von mindestens 16, auf. Die hydrophile-lipophile Balance wird weit verbreitet dazu verwendet, um oberflächenaktive Mittel aufgrund ihrer relativen Balance von hydrophilen und oleophilen Gruppen zu charakterisieren. Bezüglich einer Beschreibung der hydrophilen-lipophilen Balance wird verwiesen auf "Emulsions", Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technolgy, 3. Ausgabe, Band 8, Seiten 900-930, Verlag Wiley- Interscience, New York, N.Y., (1978). Um so höher der HLB-Wert ist, um so größer ist der Grad der Hydrophilizität.
- Ein bevorzugtes nicht-ionogenes oberflächenaktives Mittel für die Verwendung im Rahmen dieser Erfindung ist TRITON X-405, ein oberflächenaktives Mittel, das von der Firma Rohm & Haas hergestellt wird. Es ist eine 70 gew.-%ige wäßrige Lösung von Octylphenoxypolyoxyethylenethanol mit einem HLB-Wert von 17,9. Die Isooctyl-, Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Dodecyl- und Tridecylanalogen sind wie auch die Oxypropylenderivate im Rahmen dieser Erfindung geeignet.
- Zu Beispielen von anderen Klassen von nicht-ionogenen oberflächenaktiven Mitteln, die für die Zwecke dieser Erfindung geeignet sind, gehören ethoxylierte und propoxylierte Alkohole, einschließlich, jedoch nicht begrenzt hierauf, Decanol, Octanol, Tridecanol, Cetylalkohol und Stearylalkohol; Siliconglykolcopolymere; fluorierte Alkylpolyoxyethylenethanole; sowie Glyzerin und Glykolester.
- Wie im vorstehenden angegeben, weisen lithographische Druckplatten in typischer Weise einen Aluminiumträger auf. Derartige Platten weisen ferner mindestens eine strahlungsempfindliche Schicht auf, die auf dem Träger aufliegt.
- Es ist eine große Vielzahl von strahlungsempfindlichen Materialien bekannt, die sich zur Herstellung von Bildern für die Verwendung im Rahmen lithographischer Druckprozesse eignen. Jede beliebige strahlungsempfindliche Schicht ist geeignet, die nach der Exponierung und einer erforderlichen Entwicklung und/oder Fixierung einen Bereich in bildweiser Verteilung liefert, der zum Druck verwendet werden kann.
- Zu geeigneten, negativ arbeitenden Zusammensetzungen gehören jene, die enthalten Diazoharze, photoquervernetzbare Polymere und photopolymerisierbare Zusammensetzungen. Zu geeigneten positiv arbeitenden Zusammensetzungen gehören aromatische Diazooxidverbindungen, wie zum Beispiel Benzochinondiazide und Naphthochinondiazide.
- Zu strahlungsempfindlichen Materialien, die in lithographischen Druckplatten geeignet sind, gehören Silberhalogenidemulsionen; Chinondiazide (polymere und nicht-polymere), wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 141 733 (ausgegeben am 27. Februar 1979 für Guild) und den hier beschriebenen Literaturstellen; lichtempfindliche Polycarbonate, wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 3 511 611 (ausgegeben am 12. Mai 1970 für Rauner und andere) und in den hier angegebenen Literaturstellen; Diazoniumsalze, Diazoharze, Cinnamal-Malonsäuren und funktionelle Äquivalente hiervon und andere Stoffe, wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 3 342 601 (ausgegeben am 19. September 1967 für Houle und andere) und in den hier zitierten Literaturstellen; sowie lichtempfindliche Polyester, Polycarbonate und Polysulfonate, wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 139 390 (ausgegeben am 13. Februar 1979 für Rauner und andere) und den hier zitierten Literaturstellen.
- Eine besonders wichtige Klasse von negativ arbeitenden lithographischen Druckplatten ist jene Klasse auf Basis der Verwendung von Diazoharzen. Die strahlungsempfindliche Schicht umfaßt in typischer Weise das Diazoharz, ein polymeres Bindemittel und andere Komponenten, wie zum Beispiel Färbemittel, Stabilisatoren, Exponierungsindikatoren, oberflächenaktive Mittel und dergleichen. Zu besonders geeigneten Diazoharzen gehören beispielsweise das Kondensationsprodukt von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd, das Kondensationsprodukt von 3-Methoxy-4-diazodiphenylamin und Paraformaldehyd und die Diazoharze der U.S.-Patentschriften 3 679 419, 3 849 392 und 3 867 147. Besonders geeignete polymere Bindemittel für die Verwendung mit solchen Diazoharzen sind Acetalpolymere, wie sie beispielsweise beschrieben werden in den U.S.-Patentschriften 4 652 604, 4 741 985 und 4 940 646.
- Eine zweite besonders wichtige Klasse von negativ arbeitenden lithographischen Druckplatten ist jene auf Basis der Verwendung von strahlungsempfindlichen photoquervernetzbaren Polymeren. Photoquervernetzbare Polymere, die sich besonders für diesen Zweck eignen, sind jene, die die photosensitive Gruppe -CH=CH-CO- als einen integralen Teil der Polymerkette aufweisen, insbesondere sind es die p-Phenylendiacrylatpolyester. Diese Polymeren werden beispielsweise beschrieben in den U.S.- Patentschriften 3 030 208, 3 622 320, 3 702 765 und 3 929 489. Ein typisches Beispiel für ein solches photoquervernetzbares Polymer ist der Polyester, der hergestellt wird aus Diethyl- p-phenylendiacrylat und 1,4-Bis (β-hydroxyethoxy) cyclohexan, der aufgebaut ist aus wiederkehrenden Einheiten der Formel:
- Andere besonders geeignete Polymere dieses Typs sind jene, die ionische Reste aufweisen, die sich ableiten von Monomeren, wie zum Beispiel Dimethyl-3,3'-[(natriumimino) disulfonyl]dibenzoat und Dimethyl-5-natriumsulfoisophthalat. Zu Beispielen von solchen Polymeren gehören Poly[1,4-cyclohexylen-bis(oxyethylen)-p-phenylendiacrylat]-co-3,3'-[(natriumimino)disulfonyl]dibenzoat sowie Poly[1,4-cyclohexylen-bis(oxyethylen)- p-phenylendiacrylat]-co-3,3'-[natriatriumimino)disulfonyl]dibenzoat-co-3-hydroxyisophthalat.
- Eine dritte besonders wichtige Klasse von negativ arbeitenden lithographischen Druckplatten besteht aus sogenannten "Doppelschicht"-Platten. Im Falle dieses Typs einer lithographischen Druckplatte wird eine strahlungsempfindliche Schicht mit einem Diazoharz auf einen anodisierten Aluminiumträger aufgetragen und eine strahlungsempfindliche Schicht mit einem photoquervernetzbaren Polymeren wird auf die Schicht mit dem Diazoharz aufgebracht. Derartige Doppelschichtplatten werden beispielsweise beschrieben in der britischen Patentschrift 1 274 017. Sie sind vorteilhaft deshalb, weil die strahlungsempfindlichen Schichten mit einem Gehalt an Diazoharzen viel fester an den meisten anodisierten Aluminiumträgern anhaften als strahlungsempfindliche Schichten, die photoquervernetzbare Polymere enthalten. Infolgedessen wird die erhöhte Leistung, die durch photoquervernetzbare Polymere erhalten wird, erreicht, ohne daß auf die ausgezeichneten adhäsiven Eigenschaften von Diazoharzzusammensetzungen verzichtet werden muß.
- Die Erfindung wird weiterhin durch die folgenden Praxisbeispiele veranschaulicht.
- Eine Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung, die für die Behandlung von lithographischen Druckplatten geeignet ist, wurde gemäß der folgenden Formulierung hergestellt:
- Die oben beschriebene Zusammensetzung ist eine klare, wasserweiße Lösung mit einem pH-Wert von 12,4 und einer Dichte von 1,0338. Sie wurde verwendet zur Behandlung von Kratzern auf der lithographischen Druckplatte, die in der U.S.-Patentschrift 4 647 346, ausgegeben am 3. März 1987, beschrieben wird.
- Die Platte wurde absichtlich mit Kratzern versehen durch Verwendung einer steifen Drahtborstenbürste, nachdem die Platte exponiert, entwickelt und fertiggestellt worden war. Sie wurde in diesem Zustand ohne weitere Behandlung 4 Stunden lang liegen gelassen, bevor sie in eine Druckpresse eingesetzt wurde. Nach dem Aufbringen auf eine Presse wurde die Platte nach dem Standardverfahren aufgerollt. Das looste Abzugsblatt wurde zur Begutachtung entnommen. Es wurde festgestellt, daß die Fläche, die mit der Drahtbürste behandelt worden war, druckte. Unter Verwendung der oben beschriebenen Zusammensetzung wurde eine Hälfte der mit Kratzern versehenen Fläche der Plattenoberfläche behandelt. Die Platte wurde dann aufgerollt und nach 100 Drukken wurde ein Abzugsblatt entnommen. Es wurde festgestellt, daß der mit Kratzern versehene unbehandelte Bereich immer noch druckte und zwar mit dem gleichen Stärkegrad. Der Bereich, der mit der Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung behandelt wurde, druckte sauber, ohne Spur einer Hintergrundempfindlichkeit. Der Versuch wurde bis auf 220 000 Drucke fortgesetzt, zu welchem Zeitpunkt die Platte aufgrund eines Bildabriebs abgezogen wurde. Hierdurch wurde der Versuch beendet. Die unbehandelte, mit Kratzern versehene Fläche druckte weiterhin und wurde als praktisch gleich wie zu Beginn des Versuchs angesehen. Der behandelte Bereich blieb sauber mit keinem Verlust an Hydrophilizität.
- ZU Vergleichszwecken wurde die gleiche lithographische Druckplatte in gleicher Weise mit den folgenden Zusammensetzungen mit den im folgenden angegebenen Ergebnissen behandelt.
- Eine Zusammensetzung, die identisch war mit derjenigen, die in Beispiel 1 beschrieben wurde, mit der Ausnahme, daß SILICATE D fortgelassen wurde, wurde hergestellt.
- In gleicher Weise, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde die Platte mit Kratzern versehen und zum Druck verwendet, wo festgestellt wurde, daß das Abzugsblatt bei 100 Drucken in dem mit Kratzern versehenen Bereich, der mit der Zusammensetzung dieses Beispieles behandelt worden war, sauber war. Der Versuch wurde fortgesetzt, wobei Abzugsblätter nach jeden 10 000 Drukken entnommen wurden. Nach 60 000 Drucken wurde festgestellt, daß der behandelte Bereich begann, in einigen der Kratzerbereiche eine Empfindlichkeit zu zeigen. Diese wurde progressiv schwerwiegender bis zu 90 000 Drucken, wo es sich ergab, daß die Kratzer so ausgeprägt waren wie die Kratzer auf dem Abschnitt der Platte, die nicht mit der zusammensetzung dieses Beispieles behandelt wurde.
- Es wurde eine Zusammensetzung wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, die identisch mit dieser war, mit der Ausnahme, daß das Trinatriumphosphat fortgelassen wurde.
- In gleicher Weise wie in Beispiel 1 beschrieben wurde die Platte mit Kratzern versehen und auf einer Presse laufen gelassen, wo festgestellt wurde, daß das Abzugsblatt bei 100 Drukken in dem mit Kratzern versehenen Bereich, der mit der Zusammensetzung dieses Beispieles behandelt worden war, sauber war. Der Versuch wurde fortgesetzt, wobei Abzugsblätter jeweils nach 10 000 Drucken entnommen wurden. Bei 20 000 Drukken wurde festgestellt, daß der behandelte Bereich begann, eine Empfindlichkeit im Falle sämtlicher Kratzer zu zeigen, obgleich die Dichte nicht so groß war wie im Falle der Kratzer in dem unbehandelten Bereich. Bei 30 000 Drucken waren die Kratzer in dem behandelten Bereich gleich denen in dem unbehandelten Bereich.
- Es wurde eine Zusammensetzung wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, die identisch mit dieser war, mit der Ausnahme, daß das SILICATE D ersetzt wurde durch ein gleiches Gewicht an Natriummetasilicat.
- In gleicher Weise wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde die Platte mit Kratzern versehen und auf einer Druckpresse laufen gelassen, wo festgestellt wurde, daß das Abzugsblatt bei 100 Drucken sauber war in dem mit Kratzern versehenen Bereich, der mit der Zusammensetzung dieses Beispieles behandelt worden war. Das Drucken wurde fortgesetzt, wobei Abzugsblätter jeweils nach 10 000 Drucken entnommen wurden. Bei 70 000 Drucken wurde festgestellt, daß der behandelte Bereich begann, eine Empfindlichkeit in einigen der mit Kratzern versehenen Bereichen zu zeigen. Das Aussehen der Kratzer wurde progressiv schlechter bis zu 90 000 Drucken, wo die Kratzer in dem behandelten Abschnitt gleich waren denen in dem unbehandelten Bereich.
- Es wurde eine Zusammensetzung wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, die identisch war mit der in Beispiel 1 beschriebenen Zusammensetzung, mit der Ausnahme, daß das Trinatriumphosphat ersetzt wurde durch ein gleiches Gewicht an Dinatriumphosphat.
- In gleicher Weise wie in Beispiel 1 beschrieben wurde die Platte mit Kratzern versehen und auf einer Druckpresse zum Druck verwendet, wo festgestellt wurde, daß das Abzugsblatt bei 100 Drucken eine sehr geringfügige Empfindlichkeit in dem Bereich zeigte, der mit der Zusammensetzung dieses Beispieles behandelt worden war. Der Versuch wurde fortgesetzt, wobei Abzugsblätter nach jeweils 10 000 Drucken entnommen wurden. Bei 40 000 Drucken waren die Kratzer in dem behandelten Bereich gleich jenen in dem unbehandelten Bereich.
- Es wurde eine Zusammensetzung wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt, die dieser Zusammensetzung identisch war, mit der Ausnahme, daß der Propylenglykolmonomethylether fortgelassen wurde.
- In gleicher Weise wie in Beispiel 1 beschrieben wurde die Platte mit Kratzern versehen und auf einer Druckpresse zum Druck verwendet, wo festgestellt wurde, daß das Abzugsblatt bei 100 Drucken einen behandelten Bereich aufwies, der lediglich geringfügig besser war als der nicht-behandelte Bereich. Bei 5000 Drucken waren beide Abschnitte gleich. Bei einer genaueren Inspektion wurde festgestellt, daß die Druckfarbe nicht während des Aufbringens der Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung entfernt wurde.
- Eine Zusammensetzung, die von der Firma PRINTING DEVELOPMENTS, INC. unter der Bezeichnung Plate Cleaner and Scratch Remover vertrieben wurde, wurde analysiert und es wurde gefunden, daß sie aus einer wäßrigen Lösung bestand, die enthielt 0,43 Gew.-% Natriummetasilicat, 0,8 Gew.-% Trinatriumphosphat, 8,4 Gew.-% Ethylenglykolmonobutylether und als einem nicht-ionogenen oberflächenaktiven Mittel, einem Polyoxyethylenlaurylether mit einem HLB-Wert von 9,9.
- In gleicher Weise wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde die Platte mit Kratzern versehen und auf einer Druckpresse zum Drucken verwendet, wo festgestellt wurde, daß das Abzugsblatt bei 100 Drucken sauber war in der mit Kratzern versehenen Fläche, die mit der Zusammensetzung dieses Beispieles behandelt worden war. Der Versuch wurde fortgesetzt, wobei Abzugsblätter jeweils nach 10 000 Drucken entnommen wurden. Bei 70 000 Drucken wurde festgestellt, daß die Platte begann, eine Empfindlichkeit in dem mit Kratzern versehenen Bereich zu zeigen, der behandelt worden war. Das Aussehen der Kratzer wurde progressiv schlechter, bis bei 100 000 Drucken die Kratzer in dem behandelten Abschnitt gleich waren jenen in dem unbehandelten Abschnitt.
- Wie sich aus den obigen Beispielen ergibt, wurden wirksame Ergebnisse bei Verwendung der Kratzerentfernungs- und Desensibilisierungszusammensetzung lediglich dann erzielt, wenn die Zusammensetzung sämtliche der wesentlichen Bestandteile, wie hier beschrieben, enthielt.
Claims (10)
1. Zusammensetzung zum Entfernen von Kratzern und zur
Desensibilisierung, die zur Behandlung von Kratzern in
Nicht-Bildbezirken von lithographischen Druckplatten und
zur Desensibilisierung von solchen zerkratzten Bezirken,
derart, daß sie keine Druckfarbe aufnehmen, geeignet ist,
und die umfaßt:
(1) ein Alkalimetallsilicat mit einem Verhältnis von SiO&sub2;
zu M&sub2;O von mindestens 2 zu 1, wobei M für ein
Alkalimetall steht;
(2) ein Phosphat der Formel M&sub3;PO&sub4;, worin M für ein
Alkalimetall steht;
(3) ein organisches Lösungsmittel;
(4) ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel; und
(5) Wasser.
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1 mit etwa 2 bis etwa 8
Gew.-% des Alkalimetallsilicates, etwa 1 bis etwa 4
Gew.-% des Phosphates, etwa 5 bis etwa 15 Gew.-% des
organischen Lösungsmittels, etwa 0,3 bis etwa 1 Gew.-%
des nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittels; und etwa
75 bis etwa 90 Gew.-% Wasser.
3. Zusammensetzung nach Ansprüchen 1 oder 2, worin das
Alkalimetallsilicat ein Natriumsilicat ist.
4. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, in der
das Phosphat Trinatriumphosphat ist.
5. Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, in der
das organische Lösungsmittel
Propylenglykolmonomethylether ist.
6. Verfahren zur Behandlung eines Kratzers in einem Nicht-
Bildbezirk einer lithographischen Druckplatte und zur
Desensibilisierung eines solchen zerkratzten Bezirkes,
derart, daß er keine Druckfarbe aufnimmt; wobei die
lithographische Druckplatte einen gekörnten und
anodisierten Träger aufweist, zusammengesetzt aus Aluminium
oder einer Legierung hiervon, auf dem sich mindestens
eine strahlungsempfindliche Schicht befindet, die dazu
befähigt ist, eine lithographische Druckoberfläche zu
bilden; wobei das Verfahren umfaßt das Aufbringen einer
Zusammensetzung auf den Kratzer, die umfaßt:
(1) ein Alkalimetallsilicat mit einem Verhältnis von SiO&sub2;
zu M&sub2;O von mindestens 2 zu 1, wobei M für ein
Alkalimetall steht;
(2) ein Phosphat der Formel M&sub3;PO&sub4;, worin M für ein
Alkalimetall steht;
(3) ein organisches Lösungsmittel;
(4) ein nicht-ionisches oberflächenaktives Mittel; und
(5) Wasser.
7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die Zusammensetzung
umfaßt etwa 2 bis etwa 8 Gew.-% des Alkalimetallsilicates,
etwa 1 bis etwa 4 Gew.-% des Phosphates, etwa 5 bis etwa
Gew.-% des organischen Lösungsmittels, etwa 0,3 bis
etwa 1 Gew.-% des nicht-ionischen oberflächenaktiven
Mittels und etwa 75 bis etwa 90 Gew.-% Wasser.
8. Verfahren nach Ansprüchen 6 oder 7, bei dem das
Alkalimetallsilicat ein Natriumsilicat ist.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 8, in dem das
Phosphat Trinatriumphosphat ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 9, in dem das
organische Lösungsmittel Propylenglykolmonomethylether
ist.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/951,065 US5342435A (en) | 1992-09-25 | 1992-09-25 | Scratch remover and desensitizer composition for use with lithographic printing plates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE69307239D1 DE69307239D1 (de) | 1997-02-20 |
| DE69307239T2 true DE69307239T2 (de) | 1997-07-17 |
Family
ID=25491208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69307239T Expired - Fee Related DE69307239T2 (de) | 1992-09-25 | 1993-09-10 | Zusammensetzung zum Entfernen von Kratzern und zur Desensibilisierung von Flachdruckplatten |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5342435A (de) |
| EP (1) | EP0589805B1 (de) |
| JP (1) | JPH06199066A (de) |
| DE (1) | DE69307239T2 (de) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5965326A (en) * | 1997-01-21 | 1999-10-12 | Presstek, Inc. | Method for selectively deleting undesired ink-receptive areas on wet lithographic printing constructions incorporating metallic inorganic layers |
| GB9710552D0 (en) * | 1997-05-23 | 1997-07-16 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
| JP4230130B2 (ja) * | 2001-07-04 | 2009-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 |
| US8047303B2 (en) * | 2008-02-29 | 2011-11-01 | National Oilwell Varco L.P. | Drilling rig drawworks installation |
| US9202959B2 (en) * | 2012-09-25 | 2015-12-01 | International Business Machines Corporation | Embedded junction in hetero-structured back-surface field for photovoltaic devices |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS585798B2 (ja) * | 1977-06-30 | 1983-02-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用不感脂化液およびそれを用いる平版印刷版の製造方法 |
| US4340509A (en) * | 1978-03-24 | 1982-07-20 | Michael A. Canale | Composition, concentrate and fountain solution for lithographic printing operations |
| US4234443A (en) * | 1978-03-24 | 1980-11-18 | Michael A. Canale | Composition and a method useful for making a fountain solution for lithographic printing operations |
| US4399243A (en) * | 1980-12-12 | 1983-08-16 | Richardson Graphics Company | Cleaner and scratch remover composition |
| DE3117358A1 (de) * | 1981-05-02 | 1983-01-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Mittel und verfahren zum reinigen und rehydrophilieren von offsetdruckformen |
| JPS5990850A (ja) * | 1982-11-16 | 1984-05-25 | Toshiba Corp | レジストパタ−ンの剥離液 |
| US4504406A (en) * | 1983-02-22 | 1985-03-12 | American Hoechst Corporation | Cleansing agent for printing plates |
| JPS60147395A (ja) * | 1984-01-12 | 1985-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用版面洗浄剤 |
| JPS60172592A (ja) * | 1984-02-17 | 1985-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の修正剤 |
| US4778616A (en) * | 1987-06-01 | 1988-10-18 | Hoechst Celanese Corporation | Scratch corrector for lithographic printing plates |
| US4886553A (en) * | 1987-06-01 | 1989-12-12 | Hoechst Celanese Corporation | Cleaner for lithographic printing plates |
| US4997588A (en) * | 1989-02-14 | 1991-03-05 | Hoechst Celanese Corporation | Cleaner for lithographic printing plates free of aromatic hydrocarbons |
| JP2754282B2 (ja) * | 1990-10-25 | 1998-05-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版の修正剤 |
-
1992
- 1992-09-25 US US07/951,065 patent/US5342435A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-09-10 DE DE69307239T patent/DE69307239T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-10 EP EP93420364A patent/EP0589805B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-09-24 JP JP5238194A patent/JPH06199066A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0589805A3 (de) | 1994-04-27 |
| EP0589805A2 (de) | 1994-03-30 |
| DE69307239D1 (de) | 1997-02-20 |
| EP0589805B1 (de) | 1997-01-08 |
| JPH06199066A (ja) | 1994-07-19 |
| US5342435A (en) | 1994-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69402246T2 (de) | Flachdruckplatte mit einer hydrophilen Sperrschicht auf einem Aluminiumträger | |
| DE2934897C1 (de) | Desensibilisierungsloesung fuer fotoempfindliche Diazodruckplatten | |
| DE2912060C2 (de) | Träger für lithographische Platten und seine Verwendung | |
| DE2925360C2 (de) | Oberflächenschutzmittel für lithographische Druckplatten | |
| EP0024298B1 (de) | Schlussbehandlungslösung für Flachdruckplatten und Verfahren zum Behandeln einer entwickelten Flachdruckplatte | |
| DE2925362C2 (de) | Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten | |
| DE2925363C2 (de) | Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten | |
| DE1471706A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von lithographischen Platten | |
| DE2941960A1 (de) | Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten | |
| DE69307239T2 (de) | Zusammensetzung zum Entfernen von Kratzern und zur Desensibilisierung von Flachdruckplatten | |
| DE69722773T2 (de) | Schutzüberzug, nützlich zu erhöhung der widerstandsfahigkeit eines druckplattenvorläufers gegen umgebungsfeuchtigkeit | |
| EP0034324A2 (de) | Verfahren zum Konservieren von druckfertig entwickelten Flachdruckformen | |
| DE3406406C2 (de) | ||
| EP0279164B1 (de) | Von organischen Lösemitteln freies, weitgehend pH-neutrales Entwicklergemisch zum Entwickeln von Flachdruckplatten | |
| US4886553A (en) | Cleaner for lithographic printing plates | |
| DE2653824A1 (de) | Desensibilisator fuer lithographische druckplatten sowie verfahren zu dessen anwendung | |
| EP0012956B1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Flachdruckformen | |
| EP0200913A1 (de) | Entwicklergemisch, dessen Verwendung und ein Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten mit diesem Entwickler | |
| DE2340323C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen | |
| DE3336084A1 (de) | Desensibilisierungsgummi fuer flachdruckformen | |
| DE2615075A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer druckplatte fuer flachdruckverfahren und mittel zur durchfuehrung des verfahrens | |
| US4997588A (en) | Cleaner for lithographic printing plates free of aromatic hydrocarbons | |
| DE69001272T2 (de) | Endbearbeitungsloesung fuer lithographische platten. | |
| DE3439220A1 (de) | Propanol enthaltendes Entwicklergemisch sowie Verfahren zur Herstellung reprographischer Materialien | |
| DE69426123T2 (de) | Verfahren zur Verbesserung der Hydrophilie des Substrates für eine lithographische Druckplatte durch Behandlung mit Polyvinylphosphonsäurelösung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: KODAK POLYCHROME GRAPHICS LLC, NORWALK, CONN., US |
|
| 8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: DERZEIT KEIN VERTRETER BESTELLT |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |