DE69228783T2

DE69228783T2 - Strömungserzeugende Paneelen für die stromlose Kupferplattierung komplexer Konstruktionen

Info

Publication number: DE69228783T2
Application number: DE69228783T
Authority: DE
Inventors: Mark R. Forsyth; Sunghee Yoon
Original assignee: Raytheon Co
Current assignee: Raytheon Co
Priority date: 1991-08-26
Filing date: 1992-08-26
Publication date: 1999-12-02
Anticipated expiration: 2012-08-27
Also published as: AU2131392A; IL102936A; DE69228783D1; IL102936A0; EP0530665A1; CA2076701A1; EP0530665B1; JPH05209281A; ES2129419T3; CA2076701C; AU647658B2; US5603768A; KR960015096B1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Verwendung beim stromlosen Plattieren der inneren Oberflächen in den Kanälen von Mikrowellenanordnungen.
Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum stromlosen Plattieren der inneren Oberflächen in den Kanälen von Mikrowellenanordnungen.
Eine solche Vorrichtung und ein solches Verfahren sind bekannt aus der WO-A-84/01392.
Die vorliegende Erfindung betrifft generell das stromlose Plattieren mit Kupfer und betrifft insbesondere strömunginduzierende Platten zur Verwendung beim stromlosen Plattieren von komplexen Anordnungen mit Kupfer.
In der Raumfahrtindustrie besteht derzeit der Trend, Kunststoffteile stromlos mit Kupfer zu Plattieren, wodurch komplexe Mikrowellenanordnungen kosteneffektiv und leichtgewichtig bereitgestellt werden im Vergleich zu komplexen Mikrowellenanordnungen, die unter Verwendung von bearbeitetem Metall hergestellt sind. Kritisch ist eine hinreichende Strömung bzw. ein hinreichender Fluß von Lösung durch die Kanäle in komplexen Mikrowellenanordnungen, um zu gewährleisten, daß die inneren Oberflächen der Kanäle beim stromlosen Plattieren mit Kupfer vollständig abgedeckt werden. Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, strömunginduzierende Platten bereitzustellen, die auf die möglichst leichte und verläßlichste Art und Weise eine hinreichende Strömung von Lösung durch die Kanäle in komplexen Mikrowellenanordnungen bereitstellen.
Die obige Aufgabe wird gelöst durch die Vorrichtung zur Verwendung beim stromlosen Plattieren der inneren Oberflächen in den Kanälen von Mikrowellenanordnungen, die eingangs erwähnt wurde, wobei die Vorrichtung weiterhin aufweist einen Tank zum stromlosen Plattieren, eine vor- und zurückbewegbare, starre, eine Strömung induzierende Platte, in der eine Vielzahl von Öffnungen ausgebildet, die dazu ausgelegt ist, eine Vielzahl der Mikrowellenanordnungen darin festzulegen, wobei die Platte relativ zu dem Tank zum stromlosen Plattieren eine Größe besitzt, die dazu angepaßt ist, daß hinreichend Plattierungslösung durch in den Mikrowellenanordnungen angeordnete Kanäle strömt, indem die die Kanäle umgehende Lösungsströmung minimiert wird, so daß ein vollständige Plattierung der inneren Oberflächen in den Kanälen erzielt wird, und Mittel zum Festlegen von jeder der Vielzahl von Mikrowellenanordnungen in jeweiligen Öffnungen der Vielzahl von Öffnungen der starren Platte.
Die obige Aufgabe wird ferner gelöst durch das Verfahren zum stromlosen Plattieren der inneren Oberflächen in den Kanälen von Mikrowellenanordnungen, das eingangs erwähnt wurde, wobei das Verfahren die Schritte aufweist, die Anordnungen an einer starren Platte festzulegen, in der eine Vielzahl von Öffnungen ausgebildet ist, die dazu ausgelegt ist, eine Vielzahl von Mikrowellenanordnungen darin festzulegen, wobei die Platte relativ zu einem Tank zum stromlosen Plattieren eine Größe besitzt, die dazu angepaßt ist, daß hinreichend Plattierungslösung durch in den Mikrowellenanordnungen vorgesehene Kanäle strömt, indem die Lösungsströmung, die die Kanäle der Mikrowellenanordnungen umgeht, minimiert wird, um eine vollständige Plattierung der inneren Oberflächen in den Kanälen zu erreichen, und die Platte innerhalb des Plattierungstanks vor- und zurückzubewegen, um hervorzurufen, daß die Plattierungslösung durch die Kanäle strömt.
Um die obigen und weitere Aufgaben zu lösen, stellt die vorliegende Erfindung eine eine Strömung induzierende bzw. strömunginduzierende Platte zur Verwendung beim stromlosen Plattieren von komplexen Kunststoffanordnungen mit Kupfer bereit. Die strömunginduzierende Platte der vorliegenden Erfindung ist dazu angepaßt, beim stromlosen Plattieren von komplexen Mikrowellenanordnungen verwendet zu werden. In ihren breitesten Aspekten umfaßt die Platte ein festes Blech bzw. eine feste Wand, in der eine Vielzahl von Öffnungen ausgebildet ist, die dazu ausgelegt sind, eine Vielzahl von Mikrowellenanordnungen festzulegen. Das starre Blech hat in Relation zu einem Tank zum stromlosen Plattieren mit Kupfer eine Größe, die dazu angepaßt ist, eine hinreichende Strömung von Plattierungslösung durch die Kanäle in den Mikrowellenanordnungen hervorzurufen, indem der Lösungsstrom minimiert wird, der die Kanäle umgeht. Hierdurch wird eine vollständige Plattierung der inneren Oberflächen in den Kanälen mit Kupfer erzielt. Es sind Mittel vorgesehen zum Festlegen von jeder der Vielzahl von komplexen Mikrowellenanordnungen in jeweiligen Öffnungen der Vielzahl von Öffnungen des starren Bleches.
Die strömunginduzierenden Platten umfassen eine Ausführungsform mit einem einzelnen Kanal und eine mit mehreren Kanälen. Bei der Ausführungsform mit einem einzelnen Kanal besteht das starre Blech aus einer Vielzahl von im wesentlichen koplanaren starren Blechen, die miteinander verbindbar sind, um eine einzelne Platte zu bilden, und die zusammen unter Verwendung von Abdeckelementen und Festlegungsmitteln zum Anpassen der Abdeckelemente an jede der Platten festgelegt sind. Typischerweise sind die starren Bleche maschinell hergestellt aus einer einzelnen, kupferverkleideten Platte und sind miteinander verbunden unter Bildung einer einzelnen Platte, wobei eine Vielzahl von Abdeckelementen und Schrauben zur Anpassung der Abdeckelemente an jede der Platten verwendet werden.
Die Mittel zum Festlegen der Mikrowellenanordnungen in der Platte umfassen entweder Gummi- oder Kunststoffstopfen. Bei der Ausführungsform mit mehreren Kanälen besteht das starre Blech aus einer einzelnen Platte und die Vielzahl von Öffnungen umfassen eine Vielzahl von Schlitzen, die in der einzelnen Platte angeordnet sind und jeweils einen gestuften Abschnitt aufweisen. Der Schlitz und der gestufte Abschnitt sind so angepaßt, daß die Mikrowellenanordnung darin festzulegen ist, und ermöglichen, daß Plattierungslösung durch die Kanäle der Mikrowellenanordnung strömt. Die Mikrowellenanordnungen sind typischerweise in der Vielzahl von Schlitzen unter Verwendung eines Abdeckelementes festgelegt, das mittels Schrauben festgelegt ist, die den Abdeckblock an die Platte anpassen.
Die strömunginduzierenden Platten der vorliegenden Erfindung induzieren einen maximierten Lösungsstrom durch die Kanäle in den komplexen Mikrowellenanordnungen, indem der umgehende Lösungsstrom minimiert wird. Eine große, strömunginduzierende Platte (12 Zoll · 18 Zoll) erzeugt ein Druckdifferential, wenn sie durch den Plattierungstank bewegt wird, wodurch die Lösung durch die Kanäle in den komplexen Mikrowellenanordnungen gedrückt wird.
Der Zweck der strömunginduzierenden Platten der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine hinreichende Lösungsströmung durch die Kanäle in komplexen Mikrowellenanordnungen bereitzustellen. Eine vollständige Bedeckung der inneren Oberflächen der Kanäle beim stromlosen Plattieren mit Kupfer ist notwendig, um minimale RF-Energieverluste in den Kanälen zu gewährleisten. Die Vorteile der vorliegenden, strömunginduzierenden Platte liegen darin, daß viele Teile stabil gehalten werden können, was zu einer hohen Produktivität führt, und daß auf leichte Weise eine Lösungsströmung durch die Kanäle unter Verwendung eines standardmäßigen Metallisierungskübels bereitgestellt wird.
Die verschiedenen Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung ergeben sich leichter unter Bezugnahme auf die nachfolgende detaillierte Beschreibung in Verbindung mit der beigefügten Zeichnung, wobei gleiche Bezugsziffern gleiche strukturelle Elemente bezeichnen, und in der:
Fig. 1 eine perspektivische Explosionsdarstellung einer strömunginduzierenden Platte für komplexe Mikrowellenanordnungen in der Einkanal-Ausführungsform in Übereinstimmung mit den Prinzipien der vorliegenden Erfindung zeigt;
Fig. 2 einen Ausschnitt der perspektivischen Ansicht der zusammengebauten, strömunginduzierenden Platte der Fig. 1 für komplexe Mikrowellenanordnungen in der Einkanal-Ausführungsform zeigt, wobei an der Platte eine komplexe Mikrowellenanordnung angeordnet ist;
Fig. 3 eine perspektivische Ansicht einer strömunginduzierenden Platte für komplexe Mikrowellenanordnungen in der Mehrkanal-Ausführungsform in Übereinstimmung mit den Prinzipien der vorliegenden Erfindung zeigt;
Fig. 4 eine Ansicht der strömunginduzierenden Platte für komplexe Mikrowellenanordnungen in der Mehrkanal-Ausführungsform von hinten zeigt; und
Fig. 5 eine typische, strömunginduzierende Platte in der Einkanal-Ausführungsform zeigt, die in einem Plattierungstank angeordnet ist, um den Betrieb der vorliegenden Erfindung darzustellen.
Fig. 1 zeigt eine perspektivische Explosionsdarstellung einer Ausführungsform einer strömunginduzierenden Platte 10 für komplexe Mikrowellenanordnungen in der Einkanal-Ausführungsform in Übereinstimmung mit den Prinzipien der vorliegenden Erfindung. Fig. 2 zeigt einen Ausschnitt der perspektivischen Anordnung der zusammengesetzten, strömunginduzierenden Platte 10 in der Einkanal-Ausführungsform der Fig. 1, wobei eine komplexe Mikrowellenanordnung 20 daran vorgesehen ist.
Die strömunginduzierende Platte 10 in der Einkanal- Ausführungsform besteht aus einer kupferverkleideten Platte 11, die maschinell hergestellt ist, um eine Vielzahl von Löchern bzw. Öffnungen 12 darin bereitzustellen, die in einer Vielzahl von Reihen angeordnet sind. Jede Reihe von Löchern 12 ist in Bezug auf eine benachbarte Reihe von Löchern versetzt. Dies ermöglicht, daß zusätzliche komplexe Anordnungen 20 in der Einkanal-Platte 10 zum Plattieren festgelegt werden können. Die kupferverkleidete Platte 11 ist in vier Teilplatten 11a-11d aufgeteilt. Dies ermöglicht, daß die komplexen Anordnungen 20 leicht in die strömunginduzierende Einkanal-Platte 10 zum Plattieren eingeführt werden können, und gestattet, daß die Kanten bzw. Ecken der komplexen Anordnungen 20 plattiert werden. Die kupferverkleidete Platte 11 weist Durchgangslöcher 14 auf, die entlang ihrer jeweiligen Kanten angeordnet sind. Die Durchgangslöcher 14 ermöglichen das Zusammenbauen der Einkanal- Platte 10 mittels Maschinenschrauben 15 und Muttern 16, die hier nur beispielhaft genannt sind, und zwar unter Verwendung einer Vielzahl von Abdeckblöcken 17 oder Abdeckelementen 17 mit darin vorgesehenen Löchern 18, die mit den Durchgangslöchern 14 der Einkanal-Platte 11 zusammenpassen. In Fig. 2 ist die komplexe Mikrowellenanordnung 20 in einem der Löcher 12 in einer zusammengebauten Einkanal-Platte 10 gezeigt. Um dies zu erreichen, ist eine Vielzahl von Gummi- oder Kunststoffstopfen 21 in Löcher 22 eingeführt (von denen nur einige gezeigt sind), die mit entsprechenden Löchern in der komplexen Mikrowellenanordnung 20 zusammenpassen. Die Gummi- oder Kunststoffstopfen 21 ergreifen die Mikrowellenanordnung 20 und legen diese in dem Loch 12 während des Plattierens und des Transportes fest.
Im einzelnen umfaßt die Einkanal-Ausführungsform der vorliegenden Erfindung typischerweise eine kupferverkleidete Platte 11 mit 12 Zoll · 18 Zoll, die zunächst geführt ist, um neun Löcher 12 darin vorzusehen, und dann in vier Teilplatten 11a- 11d unterteilt wird, um das Plattieren der Flanschoberflächen der komplexen Anordnungen 20 zu gestatten. Drei Löcher 12 in einer mittleren Reihe der Löcher 12 sind gegenüber Löchern in benachbarten Reihen um eine viertel Lochdistanz versetzt, um zu erreichen, daß die komplexen Anordnungen 20, die in der mittle ren Reihe angeordnet sind, nicht die komplexen Anordnungen 20 in anderen Reihen kontaktieren. Nach dem Einsetzen von neun komplexen Anordnungen 20 in die Löcher 12 werden die vier Teilplatten 11a-11d zusammengebaut unter Verwendung der Abdeckblöcke 17, der Schrauben 15 und der Muttern 16, um die Einkanalplatte 10 zu bilden. Die komplexen Anordnungen 20 sind in den Löchern 12 unter Verwendung der Gummi- oder Rünststoffstopfen 21 festgelegt, die durch die Löcher 22 und die dazu passenden Löcher der komplexen Anordnungen 20 hindurchgezogen und gedehnt sind, so daß die Stopfen 21 die Anordnungen durch Reibkraft an der Platte 10 festlegen.
Typischerweise sind zwei zusammengesetzte Einkanal-Platten 10 in einem herkömmlichen Metallisierungskübel angeordnet, der dazu verwendet wird, um gedruckte Leiterplatten (PWBs) herzustellen (nicht gezeigt). Diese Konfiguration wurde dazu verwendet, um die vorliegende Erfindung auf die betriebliche Eignung hin zu testen. Die strömunginduzierenden Platten 10 für komplexe Mikrowellenanordnungen in der Einkanal-Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wurden getestet zum stromlosen Plattieren mit Kupfer während einer Testzeitspanne in der Qualitätssicherung. Es wurde eine vollständige Bedeckung beim stromlosen Plattieren der inneren Oberflächen der komplexen Kanäle 20 mit Kupfer unter Verwendung der strömunginduzierenden Einkanal- Platte 10 der vorliegenden Erfindung erhalten.
Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht einer Ausführungsform einer strömunginduzierenden Platte 30 für komplexe Mikrowellenanordnungen in einer Mehrkanal-Ausführungsform in Übereinstimmung mit den Prinzipien der vorliegenden Erfindung, während Fig. 4 eine Ansicht der Mehrkanal-Platte 30 der Fig. 3 von hinten zeigt. Fig. 3 zeigt eine zusammengesetzte Mehrkanal- Platte 30, in der ein zweiter Typ von komplexer Mikrowellenanordnung 40 angeordnet ist.
Die Mehrkanal-Platte 30 besteht aus einer kupferverkleideten Platte 31, in der eine Vielzahl von Schlitzen 32 angeordnet ist. Zusätzlich weist jeder der Schlitze 32 eine Stufe 33 auf, die entlang von einer Kante des Schlitzes angeordnet ist. Eine Vielzahl von Löchern 34 sind entlang einer oberen Kante der kupferverkleideten Platte 31 angeordnet und dazu ausgelegt, mit einer Vielzahl von entsprechenden Löchern 36 zusammenzupassen, die in einem Abdeckblock 35 oder einem Abdeckelement 35 angeordnet sind. Der Abdeckblock 35 ist an der kupferverkleideten Platte 31 mittels Maschinenschrauben 37 und Muttern 38 festgelegt, um ein Beispiel zu nennen.
Bei dieser Ausführungsform der Mehrkanal-Platte 30 wird eine kupferverkleidete Platte 31 mit 12 Zoll auf 18 Zoll bewegt, um sechs Schlitze 32 auszubilden, die jeweils die Stufe 33 entlang von wenigstens einer Kante hiervon angeordnet haben. Nach dem Einsetzen von sechs komplexen Anordnungen 40 in die Schlitze 32 wird die kupferverkleidete Platte 31 unter Verwendung des Abdeckblockes 35 und der Schrauben 37 und der Muttern 38 zusammengesetzt. Wie im Falle der Einkanal-Platte 10 werden zwei zusammengebaute Mehrkanal-Platten 30 in einem herkömmlichen Metallisierungskübel (nicht gezeigt) angeordnet, der zum Herstellen von PWBs verwendet wird. Die strömunginduzierenden Platten 30 für komplexe Mikrowellenanordnungen in der Mehrkanal-Ausführungsform wurden getestet zum stromlosen Plattieren mit Kupfer während einer Testperiode in der Qualitätssicherung. Wie im Falle der Einkanal-Platten 10 wurde eine vollständige Bedeckung der inneren Oberflächen der komplexen Kanäle 40 beim stromlosen Plattieren mit Kupfer erhalten.
Die strömunginduzierenden Platten 10, 30 der vorliegenden Erfindung induzieren einen maximalen Lösungsstrom durch Kanäle in den komplexen Mikrowellenanordnungen 20, 40, indem der umgehende Lösungsstrom minimiert wird. Die relativ großen (12 Zoll auf 18 Zoll), strömunginduzierenden Platten 11, 31 erzeugen ein Druckdifferential, wenn sie durch den Plattierungstank 45 (Fig. 5) bewegt werden, wodurch die Lösung durch die Kanäle in den komplexen Mikrowellenanordnungen 20, 40 gedrückt wird.
Die strömunginduzierenden Platten 10, 30 der vorliegenden Erfindung stellen einen hinreichenden Lösungsstrom durch die Kanäle in komplexen Mikrowellenanordnungen 20, 40 bereit. Die vollständige Bedeckung der inneren Oberflächen der Kanäle beim stromlosen Plattieren mit Kupfer ist notwendig, um einen minimalen RF-Energieverlust darin zu gewährleisten. Die Vorteile der vorliegenden, strömunginduzierenden Platten 10, 30 besteht darin, daß auf leichte Weise viele Anordnungen 20, 40 stabil gehalten werden, was eine hohe Produktivität ergibt, und daß auf leichte Weise eine Lösungsströmung durch die Kanäle unter Verwendung des standardmäßigen Metallisierungskübels bereitgestellt wird, der bei der Herstellung von gedruckten Leiterplatten verwendet wird.
Fig. 5 zeigt eine typische, strömunginduzierende Einkanal- Platte 10, die in einem Plattierungstank 45 angeordnet ist, der eine Plattierungslösung 46 enthält, um den Betrieb der vorliegenden Erfindung darzustellen. Die Platte 10 besitzt in Bezug auf die Größe bzw. Abmessungen des Tanks 40 relativ große Ab messungen. Demzufolge minimiert diese relative Ausbildung der Abmessungen den Betrag der Strömung, der die Kanäle der Mikrowellenanordnung 20 umgeht. Die Platte 10 wird in dem Plattierungstank 45 bewegt, wie es durch den Pfeil 47 mit zwei Pfeilspitzen in Fig. 5 dargestellt ist, wodurch ein Lösungsstrom durch die Mikrowellenanordnung 20 hervorgerufen wird. Dies führt zu einer gleichmäßigeren Plattierung der Mikrowellenanordnung 20.
Somit sind neue und verbesserte, strömunginduzierende Platten für komplexe Mikrowellenanordnungen in einer Einkanal- und einer Mehrkanal-Ausführungsform beschrieben worden. Es versteht sich, daß die oben beschriebenen Ausführungsbeispiele für viele bestimmte Ausführungsbeispiele, die Anwendungen der Prinzipien der vorliegenden Erfindung darstellen, lediglich beispielhaft sind. Für Fachleute ergeben sich auf deutliche Weise eine Vielzahl von und weitere Anordnungen, ohne den Schutzbereich der Erfindung zu verlassen.

Claims

1. Vorrichtung zur Verwendung beim stromlosen Plattieren der inneren Oberflächen in den Kanälen von Mikrowellenanordnungen, gekennzeichnet durch:

- einen Tank (45) zum stromlosen Plattieren;

- eine vor- und zurückbewegbare, starre, strömunginduzierende Platte (11; 31), in der eine Vielzahl von Öffnungen (12; 32) ausgebildet ist und die dazu ausgelegt ist, darin eine Vielzahl der Mikrowellenanordnungen (20; 40) festzulegen, wobei die Platte (11; 31) relativ zu dem Tank (45) zum stromlosen Plattieren eine Größe besitzt, die dazu angepaßt ist, daß hinreichend Plattierungslösung (46) durch in den Mikrowellenanordnungen (20; 40) angeordnete Kanäle strömt, indem die die Kanäle umgehende Lösungsströmung minimiert wird, so daß eine vollständige Plattierung der inneren Oberflächen in den Kanälen erzielt wird;

- Mittel (21, 22; 35-38) zum Festlegen von jeder der Vielzahl von Mikrowellenanordnungen (20; 44) in jeweiligen Öffnungen der Vielzahl von Öffnungen (12; 32) der starren Platte (11; 31).

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die starre Platte (11) eine Vielzahl von im wesentlichen koplanaren Teilplatten (11a-11d) aufweist, die miteinander zur Bildung einer einzigen Platte (11) verbindbar sind und die zusammen festgelegt werden unter Verwendung von Abdeckelementen (17) und Festlegungsmitteln (15, 16, 18), um die Abdeckelemente (17) an jede der Teilplatten (11a-11d) anzupassen.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (11; 31) eine kupferverkleidete Platte ist.

4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Vielzahl von im wesentlichen koplanaren Teilplatten (11a-11d) aus einer einzelnen verkleideten Platte (11) maschinell bearbeitet und miteinander verbunden sind, so daß sie eine einzelne Platte (11) bilden, unter Verwendung einer Vielzahl von Abdeckblöcken (17) und Schrauben (15), um die Abdeckblöcke (17) an jede der Teilplatten (11a-11d) anzupassen.

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Festlegungsmittel wenigstens einen Gummi- bzw. Kautschukstopfen (21) aufweisen.

6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Festlegungsmittel wenigstens einen Kunststoffstopfen (21) aufweisen.

7. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die starre Platte (31) aus einer einzelnen Platte (31) besteht und daß die Vielzahl von Öffnungen eine Vielzahl von Schlitzen (32) umfaßt, die in der einzelnen Platte (31) angeordnet sind und jeweils einen gestuften Abschnitt (33) aufweisen, wobei Schlitz (32) und gestufter Abschnitt (33) so angepaßt sind, daß die Mikrowellenanordnung (40) darin festzulegen ist, und ermöglichen, daß Plattierungslösung durch die Kanäle der Mikrowellenanordnung (40) strömt.

8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Mikrowellenanordnungen (40) in der Vielzahl von Schlitzen (32) unter Verwendung eines Abdeckblockes (35) und von Festlegungsmitteln (36, 37, 38) festgelegt sind, die dazu dienen, den Abdeckblock (35) an die Platte (31) anzupassen.

9. Verfahren zum stromlosen Plattieren der inneren Oberflächen in den Kanälen von Mikrowellenanordnungen, mit den Schritten:

- Festlegen der Anordnungen (20, 40) an einer starren Platte (11; 31), in der eine Vielzahl von Öffnungen (12; 32) ausgebildet ist und die dazu ausgelegt ist, eine Vielzahl von Mikrowellenanordnungen (20, 40) darin festzulegen, wobei die Platte (11; 31) relativ zu einem Tank (45) zum stromlosen Plattieren eine Größe besitzt, die dazu angepaßt ist, daß hinreichend Plattierungslösung (46) durch in den Mikrowellenanordnungen (20, 40) vorgesehene Kanäle strömt, indem die Lösungsströmung, die die Kanäle der Mikrowellenanordnungen umgeht, minimiert wird, um eine vollständige Plattierung der inneren Oberflächen in den Kanälen zu erreichen; und

- Vor- und Zurückbewegen der Platte (11; 31) innerhalb des Plattierungstanks (45), um hervorzurufen, daß die Plattierungslösung (46) durch die Kanäle strömt.