DE670221C - Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen - Google Patents

Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen

Info

Publication number
DE670221C
DE670221C DES123331D DES0123331D DE670221C DE 670221 C DE670221 C DE 670221C DE S123331 D DES123331 D DE S123331D DE S0123331 D DES0123331 D DE S0123331D DE 670221 C DE670221 C DE 670221C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
sealing
light metals
oxide layers
post
resealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DES123331D
Other languages
English (en)
Inventor
Dr-Ing Nikolai Budiloff
Karl Voss
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens and Halske AG
Siemens AG
Original Assignee
Siemens and Halske AG
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens and Halske AG, Siemens AG filed Critical Siemens and Halske AG
Priority to DES123331D priority Critical patent/DE670221C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE670221C publication Critical patent/DE670221C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24—Chemical after-treatment
    • C25D11/246—Chemical after-treatment for sealing layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/82—After-treatment
    • C23C22/83—Chemical after-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Packages (AREA)
  • Sealing Material Composition (AREA)

Description

  • Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen Die auf Leichtmetallen, insbesondere auf Aluminium, auf elektrochemischem oder chemischem Wege erzeugten oxydhaltigen Schichten sind vielfach für Zwecke des Korrosionsschutzes noch nicht dicht genug. Sie werden daher in der Praxis häufig mit sog. Nachdichtmitteln behandelt, zu denen u. a. auch die Lösungen von Kobalt- oder Nickelacetat zählen. Die angedeutete Nachdichtmethode stellt sich durch die verwendeten Schwermetallsalze verhältnismäßig teuer und ergibt durch den Schwermetallgehalt der zur Nachdichtung benutzten Lösung die Möglichkeit der Verunreinigung der Oxydschicht.
  • Die Wirkung dieser Kobaltnickelacetate `vird darauf zurückgeführt, daß diese hydrolytisch gespalten -,werden und Kobalt oder Nickelhydroxyd abscheiden. Überraschenderweise ergab sich, daß die freie Essigsäure bei der Anwendung auf Oxydschichten eine gute Nachdichtwirkung zeigte. Die Essigsäure ist natürlich erheblich billiger als Kobalt- oder Nickelacetat und kann die oxydische Schicht in keiner Weise verunreinigen. Ähnliche günstige Wirkungen erzielte man auch bei Anwendung von Ammonacetat. .
  • Bei der erfindungsgemäßen Behandlung von Oxydschichten, in denen auf photographischem Wege Bilder erzeugt werden, konnte außerdem in sehr günstiger Weise das Ausblassen der Photos verhindert werden. Dieses Ausblassen photographischer Bilder in oxydischen Schichten von Leichtmetallen ist auf restliche Mengen Rhodanid oder Thiosulfat zurückzuführen. Die genannten Stoffe werden bei den photographischen Prozessen vornehmlich als Fixierlösungen und Tonbäder benutzt. Die Behandlung nach dem neuen Verfahren hatte nun die angenehme Nebenwirkung, diese restlichen Rhodanid- oder Thiosulfatmengen zu zerstören und damit dauerhafte Photobilder zu erzeugen.

Claims (1)

  1. PATRNTANSPRÜcnR: i. Verfahren zum Nachdichten von Oxydschichten auf Leichtmetallen, dadurch gekennzeichnet, daß Essigsäure als Nachdichtmittel benutzt wird. z. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß Ammonacetat als N achdichtmittel benutzt wird. 3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Nachdichtung bei Trä -gerschichten für Photobilder nach der Bilderzeugung zur Beseitigung des Ausblassens der Bilder benutzt wird.
DES123331D 1936-07-09 1936-07-09 Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen Expired DE670221C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES123331D DE670221C (de) 1936-07-09 1936-07-09 Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES123331D DE670221C (de) 1936-07-09 1936-07-09 Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE670221C true DE670221C (de) 1939-01-14

Family

ID=7536190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES123331D Expired DE670221C (de) 1936-07-09 1936-07-09 Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE670221C (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE942187C (de) * 1952-01-19 1956-04-26 Horizons Inc Verfahren zur Herstellung einer photographischen Schicht auf einer Platte aus oberflaechlich oxydiertem Aluminium
US3374155A (en) * 1965-02-19 1968-03-19 Ludwig J. Weber Modified oxide-coated aluminum and the method of modifying

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE942187C (de) * 1952-01-19 1956-04-26 Horizons Inc Verfahren zur Herstellung einer photographischen Schicht auf einer Platte aus oberflaechlich oxydiertem Aluminium
US3374155A (en) * 1965-02-19 1968-03-19 Ludwig J. Weber Modified oxide-coated aluminum and the method of modifying

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE670221C (de) Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen
DE3327011C2 (de)
DE856663C (de) Verfahren zur Herstellung von Selen-Gleichrichtern
DE1276261C2 (de) Pasten zum beizen von edelstahloberflaechen
DE829766C (de) Selen-Wechselstromgleichrichter und Verfahren zu seiner Herstellung
DE681493C (de) Verfahren zum Behandeln von Oxydschichten bzw. von Schichten mit darin erzeugten photographischen Bildern auf Leichtmetallen
DE1924157A1 (de) Verfahren zur Nachbehandlung von Werkstuecken
CH201297A (de) Verfahren zur Nachdichtung von Oxydschichten auf Leichtmetallen.
DE497693C (de) Verfahren zur beschleunigten Sedimentation schwer absetzbarer Aufschlaemmungen der Erzaufbereitung
DE2244958A1 (de) Aetzloesung
DE486964C (de) Verfahren zur Vermeidung sogenannter weisser Flecke an photographischem Entwicklungspapier
DE708303C (de) Verfahren zum Beizen von Eisen und Eisenlegierungen
DE653716C (de) Photographischer Abziehfilm mit einem Hilfstraeger und einem staendigen Traeger fuer die photographische Schicht
DE292306C (de)
DE685853C (de) Trockenplattengleichrichter vom Kupferoxydultyp mit auf der Traegerelektrode aufgewachsenem Halbleiter aus einer Traegermetallverbindung
DE635048C (de) Verfahren zur Herstellung von truebungsfreiem Celluloseacetat
DE219188C (de) Verfahren zur Herstellung von hydrotypischen (Pinatypie-) Druckplatten aus photographischen Gelatine-Negativen
DE721174C (de) Verfahren zur Behandlung von Filmen, insbesondere Farbfilmen
DE367015C (de) Verfahren zur gleichzeitigen Aufnahme und Wiedergabe von Lichtbildern und Schallwellen
DE645129C (de) Verfahren zur Herstellung von Silberbelegungen nach dem Kaltverfahren
DE939594C (de) Verfahren zur Entfernung von Blei aus Kupferlegierungen
DE931482C (de) Verfahren zur uebermikroskopischen Abbildung von Oberflaechen durch Aufbringen und Abloesen eines Lackfilms
DE372353C (de) Verfahren zur Nutzbarmachung von Abfaellen und Abwaessern der Viskosefabrikation
DE547274C (de) Verfahren zur weitmoeglichsten Ausschaltung der Handarbeit bei der Farbretusche an photographischen Platten
DE419177C (de) Verfahren zur Herstellung eines positiven Eisenblaupapieres