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HINTERGRUND
DER ERFINDUNG
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GEBIET DER
ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Polierkissen gemäß dem Oberbegriff
des Anspruch 1. Ein Beispiel eines derartigen Polierkissens wird
in
EP 0878270 beschrieben.
Detaillierter bezieht sich die Erfindung auf ein Polierkissen und
ein vielschichtiges Polierkissen, dass eine Rille, die eine spezielle
Form auf der Seite der Polieroberfläche aufweist, oder einen konkaven
Teil aufweist, der eine spezielle Form aufweist, die sich zu der
Seite der Polieroberfläche öffnet. Das
Polierkissen und das vielschichtige Polierkissen der Erfindung können vielfältig bei
der Herstellung von Halbleitervorrichtungen verwendet werden und
werden besonders bevorzugt beim chemisch mechanischen Polieren und ähnlichem
einer Oberfläche
eines Materials verwendet, das wie ein Wafer poliert werden soll.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich des Weiteren auf ein Verfahren
zur Herstellung eines Polierkissen nach den Oberbegriffen der Ansprüche 10 und
11.
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Beschreibung
des Standes der Technik
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Kürzlich erregte
ein chemisch mechanisches Polieren (CMP) als Polierverfahren die
Aufmerksamkeit, dass es erlaubt eine Oberfläche auszubilden, die eine ausgezeichnete
Planheit aufweist. Bei dem CMP mit einem Polierkissen und einer
Oberfläche,
die poliert werden soll, aus einem Material das gleitend poliert
werden soll, wird ein Slurry, der eine wäßrige Dispersion ist, in dem
Schleifmittel dispergiert ist, von oben auf die Oberfläche des
Polierkissen gegossen und dadurch wird ein Polieren durchzuführen. Bei
dem CMP ist es bekannt, dass ein Polierergebnis sehr in Abhängigkeit
von dem Zustand und den Eigenschaften des Polierkissens beeinflußt wird.
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Die
Technik bei der die Abtragrate und ein Polierergebnis verbessert
werden kann, indem eine Rille auf der Oberfläche des Polierkissens angeordnet
wird, wie in JP-A H11-70463, H08-216029 und H08-39423 offenbart.
Selbst, wenn die Technik verwendet wird, können jedoch in einigen Fällen Kratzer
nicht ausreichend verhindert werden, dass sie auf einer polierten
Oberfläche
auf einem Material, das poliert werden soll, gebildet werden.
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Des
Weiteren wird ein Polierkissen, dass Poren auf einer polierten Oberfläche auf
dem Polierkissen bilden kann, ohne einen geschäumten Körper zu verwenden, in JP-W
Nr. 8-500622, JP-A
2000-34416, 2000-33552 und 2001-334455 offenbart. Selbst, wenn diese
Techniken verwendet werden, kann jedoch in einigen Fällen unterdrückt werden,
dass Poren durch Schleifmittel und Polierabfälle während des Polierens verstopft
werden oder es kann nicht unterdrückt werden, dass Poren nach
dem Putzen verstopft werden und dadurch kann die Abtragrate nicht
ausreichend verbessert werden. Weiter kann in einigen Fällen der
Slurry nicht ausreichend einheitlich auf dem Polierkissen verteilt
werden; demgemäß kann die
Abtragrate nicht ausreichend verbessert werden und eine ausreichend
einheitlich polierte Oberfläche
kann nicht erhalten werden.
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WO
01 91971 beschreibt Polierkissen für die chemisch mechanische
Planmachung, die eine Rauheit der Oberfläche von ungefähr 1 bis
ungefähr
9 μm und
geeignete mechanische Eigenschaften aufweist, wobei einige der Kissen
eine gerillte Makrotextur aufweisen, um den Transport des Slurry
zu erleichtern.
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WO
01 45 899 beschreibt ein Polierkissen und ein Verfahren und eine
Vorrichtung zum Polieren, wobei das Polierkissen charakterisiert
ist durch einen Mechanismus zur Zufuhr von Wasser auf die ebene
Fläche
des Polierkissens. Der Mechanismus weist eine Domänstruktur
auf und reduziert dadurch die Entstehung von Kratzern und die Anhaftung
von Staub.
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EP A 0878270 beschreibt
ein Polierkissen, das ein gerilltes Muster aufweist, das bei einer
chemisch mechanischen Vorrichtung zum Polieren verwendet wird, wobei
das Polierkissen eine Vielzahl von konzentrischen kreisförmigen Rillen
von unterschiedlicher Breite und Durchfeuchtung einschließt.
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EP-A-1164559
beschreibt eine Anordnung für
ein Polierkissen und ein Polierkissen, das dieselbe verwendet, wobei
das Polierkissen eine ausgezeichnete Eigenschaft der Zurückhaltung
des Slurrys und eine große
Rate der Abtragung aufweist.
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US-A-6022268
beschreibt Polierkissen und Verfahren, die sich darauf beziehen,
wobei die Kissen ein hydrophiles Poliermaterial und eine Topographie
der Oberfläche
und Textur aufweisen, die allgemein die Vorhersehbarkeit und Leistungsfähigkeit
des Polierens verbessern.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Die
vorliegende Erfindung beabsichtigt die oben bestehenden Probleme
zu lösen
und dadurch ein Polierkissen und ein vielschichtiges Polierkissen
zur Verfügung
zu stelle, dass insbesondere effektiv das Auftreten von Kratzern
unterdrücken
kann.
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Die
vorliegende Erfindung stellt ein Polierkissen zur Verfügung, wie
es im Anspruch 1 definiert ist sowie auch ein Verfahren zur Herstellung
eines Polierkissens, wie in den Ansprüchen 10 und 11 definiert, zur
Verfügung.
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Weitere
Entwicklungen des beanspruchten Gegenstandes und bevorzugte Ausführungsformen
werden in den abhängigen
Ansprüchen
2 bis 9 beansprucht.
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Gemäß dem erfindungsgemäßen Polierkissen
können
durch Bereitstellen einer Rille (a), die eine spezielle Tiefe und
Breite aufweist, eines konkaven Teils (b) und eines durchgehenden
Lochs (c), Kratzer, die auf Fremdkörper zurückzuführen sind, und darin gebildet
werden, wirksam unterdrückt
werden, dass sie auftreten und die polierte Oberfläche ist
ausgezeichnet in ihrer Planheit.
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Zusätzlich,
wenn die Rille (a) eine spezielle Tiefe und Breite, der konkave
Teil (b) eine spezielle Tiefe und Mindestlänge einer Öffnung und das durchgehende
Loch (c) eine spezielle Mindestlänge
einer Öffnung aufweist
und des Weiteren wenn jeweils die Fläche einer Öffnung des konkaven Teils (b)
und das durchgehende Loch 0,0075 mm2 oder
mehr aufweist, kann das Auftreten von Kratzern ganz sicher unterdrückt werden.
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Des
Weiteren, wenn die Mindestlängen
zwischen benachbarten Öffnungen
der Rille (a), des konkaven Teils (b) und des durchgehenden Lochs
(c) 0,05 mm oder mehr beträgt,
kann ein effizientes Polieren durchgeführt werden, während die
Stärke
des konvexen Teils, der zur polierten Oberfläche korrespondiert, aufrechterhalten
wird.
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Wenn
zumindest ein Teil des Polierkissens eine wasserunlösliche Matrix
einschließt,
die ein vernetztes Polymer und ein wasserlösliches Teilchen einschließt, kann
die Rauheit der Oberfläche
der inneren Oberfläche der
Rille (a), des konkaven Teils (b) und des durchgehenden Lochs (c)
leicht auf 20 μm
oder weniger gedrückt werden.
Demgemäß werden
die Poren durch Putzen nicht verstopft, der Slurry wird ausreichend
zurückgehalten
und die Rate der Abtragung kann größer gemacht werden.
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Des
Weiteren in dem Fall, indem die Rille (a) der konkave Teil (b) und
das durchgehende Loch (c) mit einem Verfahren gebildet werden, das
aus Schneiden und Bilden durch eine Form gewählt wird, wobei die Rauheit
der Oberfläche
der inneren Oberfläche
von jeder Komponente leicht kleiner gemacht werden kann, was ausreichend
dazu führt,
das Auftreten von Kratzern zu unterdrücken.
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Gemäß dem vielschichtigen
Polierkissen einer erfindungsgemäßen Ausführungsform,
kann das Polieren effizient durchgeführt werden, ohne eine Polierschicht
während
des Polierens zu deformieren. Des Weiteren kann das Auftreten von
Kratzern, auf Grund von Fremdkörpern,
die in der Rille und ähnlichem
entstehen, unterdrückt
werden und die Polieroberfläche
des Kissens und eine Oberfläche
eines Wafers oder ähnlichem, die
poliert werden soll, kann ausreichend in Kontakt gebracht werden,
demgemäß kann die
Abtragrate verbessert werden.
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DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
DER ERFINDUNG
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Im
folgenden wird die vorliegenden Erfindung detaillierter beschrieben
werden.
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Ein
erfindungsgemäßes Polierkissen
weist zumindest eine Komponente auf, die aus der Gruppe ausgewählt wird,
die aus einer Rille (a), die zumindest eine Art der Form aufweist,
die aus kreisförmig,
gitterähnlich und
einer Spiralform ausgewählt
wird, auf einer Seite der Polieroberfläche, einer konkaven Komponente
(b) und einem durchgehenden Loch (c) besteht.
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Die
Rauheit der Oberfläche
einer inneren Oberfläche
einer Rille (a) eines konkaven Teils (b) und eines durchgehenden
Lochs, die für
ein erfindungsgemäßes Polierkissen
zur Verfügung
gestellt werden, beträgt
20 μm oder
weniger, bevorzugt 15 μm
oder weniger, besonders bevorzugt 10 μm oder weniger und insbesondere 7 μm oder weniger.
Eine untere Grenze davon beträgt
normalerweise 0,05 μm.
Wenn die Rauheit der Oberfläche
20 μm oder
weniger beträgt,
können
Kratzer, die während
dem Polieren auftreten, effektiv am Auftreten gehindert werden.
Die Rauheit der Oberfläche
bedeutet einen durchschnittlichen Wert (Ra), der über die
Summe der absoluten Werte von allen Flächen oben und der Hauptlinie
unten erhalten wird, die durch die Probenlänge geteilt wird und wird über ein
Meßverfahren
gemessen, dass unten beschrieben ist, zumindest bevor das erfindungsgemäßen Polierkissen
verwendet wird.
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Dass
die Rauheit der Oberfläche
Ra der inneren Oberfläche
der Rille (a), des konkaven Teils (b) und des durchgehenden Lochs
(c) 20 μm
oder weniger beträgt,
bedeutet dass es keine große
Unebenheit darin gibt. Wenn es eine große Unebenheit gibt, ein besonders
großer
konvexer Teil (ausgebildet zum Beispiel durch einen Schneidrest,
der während
der Bildung der Rille entsteht) fällt während des Polierens herunter,
was zur Bildung von Kratzern führt.
Des Weiteren werden Fremdkörper,
die von dem heruntergefallenen konvexen Teil durch Drücken oder ähnlichem
gebildet werden, die durch Druck oder Reibungswärme, während des Polierens entstehen,
wobei Fremdkörper,
die durch den heruntergefallenen konvexen Teil oder Polierabfall
gebildet werden, Festkomponenten in dem Slurry und ähnliches
durch Wechselwirkung mit den Fremdkörpern, können in einigen Fällen die
Kratzer hervorrufen. Zusätzlich
können
selbst beim Putzen in einigen Fällen
die Kratzer auftreten, was zu einer ähnlichen Beeinträchtigung
führt.
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Wenn
die Rauheit der Oberfläche
Ra 20 μm
oder weniger beträgt,
kann zusätzlich,
um ein Auftreten von Kratzern zu verhindern, ein Mittel wie die
Rille (a), der konkave Teil (b) und das durchgehende Loch (c) sowie
eine Funktion der Verteilung des Slurry auf der polierenden Oberfläche und
eine Funktion der Entsorgung des Abfalls nach draußen als
besonders effizient angesehen werden.
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Die
Rauheit der Oberfläche
Ra ist ein Durchschnittswert, der durch Messen einzelner Durchschnittswerte
der Rauheit der Oberfläche
aus drei verschiedenen Ansichtsfeldern einer Oberfläche eines
Polierkissens, bevor es verwendet wird, mit einer Meßvorrichtung,
die die Rauheit der Oberfläche
messen kann und durch Berechnung des Durchschnitts von drei der
erhaltenen Durchschnittsrauheit der Oberfläche erhalten wird. Die Meßvorrichtung,
die verwendet wird, ist nicht besonders beschränkt, zum Beispiel eine optische
Meßvorrichtung
der Rauheit der Oberfläche,
wie ein analytisches Mikroskop einer dreidimensionalen Oberflächenstruktur,
ein Laserabtastmikroskop und ein Elektronenstrahlinstrument zur
Analyse der Oberflächenstruktur und
eine Kontaktmeßvorrichtung
der Rauheit der Oberfläche,
wie ein Meßgerät der Rauheit
der Oberfläche vom
Sondentyp kann verwendet werden.
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Die
Rille (a) befindet sich auf einer polierten Oberflächenseite
des Polierkissens. Die Rille (a) weist die Funktion auf, den Slurry
zurückzuhalten,
der während
des Polierens zugeführt
wird und um den Slurry einheitlicher auf der Polieroberfläche zu verteilen.
Zusätzlich
weist sie die Funktion eines Entsorgungswegs auf, der vorübergehenden
Abfall zurückhält, wie
Polierabfall, der während
des Polierens entsteht und verwendeten Slurry und entsorgt den Abfall
außerhalb
des Systems.
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Die
Rille (a) kann jede Form aufweisen, die aus ringförmig, gitterähnlich und
einer Spiralform ausgewählt
wird. Das erfindungsgemäße Polierkissen
kann eine von ihnen allein oder kann sie in Kombination aufweisen.
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Falls
die Rille (a) kreisförmig
ausgebildet ist, ist ihre ebene Form nicht besonders beschränkt und
die Gestalt kann kreisförmig,
polygonal (trigonal, tetragonal, pentagonal und ähnliches) eine Ellipse und ähnliches sein.
Die Anzahl der Rillen beträgt
vorzugsweise zwei oder mehr. Des Weiteren, obwohl die Anordnung
dieser Rillen nicht besonders beschränkt ist, können sie, zum Beispiel eine
konzentrische Anordnung (konzentrisch kreisförmig und ähnliches) mit mehreren Rillen 12 (1)
eine exzentrische Anordnung mit mehreren Rillen 12 (2)
sein oder in einer Weise, dass eine Vielzahl von anderen ringförmigen Rillen
innerhalb eines Teils, umgeben von einer ringförmigen Rille, angeordnet ist.
Unter diesen ist eine bevorzugt, bei der Rillen konzentrisch angeordnet
sind und weiter eine, bei der mehrere Rillen konzentrisch kreisförmig angeordnet
sind (ein Zustand bei der eine Vielzahl von kreisförmigen Rillen
konzentrisch angeordnet sind), was besonders bevorzugt ist. Das
Polierkissen, das die konzentrische Anordnung aufweist, ist überlegen
anderen gegenüber
bei den obigen Funktionen. Zusätzlich
ist das Polierkissen, das die konzentrische kreisförmige Anordnung
aufweist, ausgezeichneter bei den obigen Funktionen und die Rille
darauf kann leicht gebildet werden.
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Auf
der anderen Seite ist eine Profilform der Rille nicht besonders
beschränkt
und kann, zum Beispiel als eine Form auf der flachen Seite der Oberflächen und
einer Bodenoberfläche
untersten Teil* (die Länge
der jeweiligen Richtungen der Breite einer Öffnungsseite und einer Bodenseite
können
gleich sein oder die Öffnungsseite
kann länger
sein in der Länge
als die Bodenseite, oder die Bodenseite kann länger in der Länge sein
als die Öffnungsseite),
einer Hufeisenform, einer V-Form und ähnlichem gebildet werden.
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Wenn
die Rille (a) ringförmig
ausgebildet ist, ist ihre Größe nicht
besonders beschränkt
und eine Breite der Rille (22 in 3) beträgt vorzugsweise
0,1 mm oder mehr, bevorzugt in dem Bereich von 0,1 bis 5 mm und
besonders bevorzugt in dem Bereich von 0,2 bis 3 mm. Die Rille,
die eine Breite weniger als 0,1 mm aufweist, wird in einigen Fällen mit
Schwierigkeiten gebildet. Auf der anderen Seite beträgt eine
Tiefe der Rille vorzugsweise 0,1 mm oder mehr, bevorzugt in dem
Bereich von 0,1 bis 2,5 mm, und besonders bevorzugt in dem Bereich
von 0,2 bis 2,00 mm. Wenn die Tiefe der Rille weniger als 0,1 mm
beträgt,
ist es nicht bevorzugt, weil die Lebenszeit des Polierkissens ausgesprochen
kurz wird. Die Tiefe der Rille kann in Abhängigkeit von der Position verschieden
sein.
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Zusätzlich beträgt eine
Mindestlänge
zwischen benachbarten Rillen (23 in 3) vorzugsweise
0,05 mm oder mehr, bevorzugt in dem Bereich von 0,05 bis 100 mm
und besonders bevorzugt von 0,1 bis 10 mm. In einigen Fällen ist es
schwierig Rillen zu bilden, die eine Mindestlänge zwischen den benachbarten
Rillen von weniger als 0,05 mm aufweisen. Des Weiteren beträgt die Ganghöhe (21 in 3),
die die Summe aus der Breite der Rille und der Länge eines Teils zwischen benachbarten
Rillen ist, vorzugsweise 0,15 mm oder mehr, bevorzugt in dem Bereich
von 0,15 bis 105 mm, besonders bevorzugt von 0,3 mm bis 13 mm und
ganz besonders bevorzugt von 0,5 bis 2,2 mm.
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Jeder
der bevorzugten Bereiche kann mit anderen bevorzugten Bereichen
kombiniert werden. Das heißt,
es ist bevorzugt, zum Beispiel, dass die Breite 0,1 mm oder mehr
beträgt,
dass die Tiefe 0,1 mm oder mehr und dass die Mindestlänge 0,05
mm oder mehr beträgt;
besonders bevorzugt dass die Breite in dem Bereich von 0,1 mm bis
5 mm, dass die Tiefe von 0,1 bis 2,5 mm beträgt, und dass die Mindestlänge von
0,05 bis 100 mm; und weiter besonders bevorzugt, dass die Breite
in dem Bereich von 0,2 mm bis 3 mm, dass die Tiefe von 0,2 bis 2,00
mm und dass die Mindestlänge
von 0,1 bis 10 mm reicht.
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Die
Breite und Tiefe der ringförmigen
Rillen, die auf einer Polieroberflächenseite des Polierkissens
gebildet sind, können
die gleichen bei den jeweiligen Rillen sein oder sie können verschieden
sein.
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Wenn
die Rille (a) gitterförmig
ausgebildet ist, kann sie als eine kontinuierliche Rille gebildet
werden oder kann als zwei oder mehrere Rillen ausgebildet sein.
Des Weiteren ist eine ebene Form eines Musters, dass das Gitter
bildet nicht besonders beschränkt,
kann in verschiedenen Polygone ausgebildet sein. Als Polygone können, zum
Beispiel Tetragone, wie ein Quadrat (4), ein
Rechteck, ein Trapezoid und ein Raute (5), ein
Dreieck (6), ein Fünfeck und ein Sechseck genannt
werden. Die Profilform der Rille kann die gleiche sein wie die der
ringförmigen.
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Wenn
die Rille (a) als Gitter ausgebildet ist, können ihre Größen dieselben
sein wie die der Ringförmigen.
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Wenn
eine ebene Form eines Musters, das ein Gitter bildet, ein Quadrat
ist, beträgt
die Mindestlänge zwischen
den benachbarten Rillen (23 in 3) 0,05
mm oder mehr, bevorzugt in dem Bereich von 0,05 mm bis 100 mm und
besonders bevorzugt von 0,1 bis 10 mm beträgt. Eine gitterähnliche
Rille, die die Mindestlänge von
weniger als 0,05 mm aufweist, wird in einigen Fällen mit Schwierigkeit gebildet.
Des Weiteren beträgt
die Ganghöhe,
die eine Summe aus der Breite der Rille und der Länge eines
Teils zwischen benachbarten Rillen (21 in 3)
ist, beträgt
sowohl in einer vertikalen Richtung als auch einer lateralen Richtung,
vorzugsweise 0,15 mm oder mehr, bevorzugt in dem Bereich von 0,15
bis 105 mm, besonders bevorzugt von 0,3 bis 13 mm und ganz besonders
bevorzugt von 0,5 bis 2,2 mm. Jedoch kann eine Ganghöhe in der
vertikalen Richtung und eine in der lateralen Richtung die gleiche
sein oder verschieden sein. Des Weiteren, wenn der Tetragon eine
Raute ist, wird die kürzere
der Längen
von zwei Paaren der parallelen Seiten, die einander gegenüber stehen,
als Mindestlänge
genommen.
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Jeder
der bevorzugten Bereiche der Größen der
Rille kann mit anderen bevorzugten Bereichen kombiniert werden.
Das heißt,
dass vorzugsweise, zum Beispiel, die Breite 0,1 mm oder mehr, dass
die Tiefe 0,1 mm oder mehr und dass die Mindestlänge 0,05 mm beträgt oder
mehr; bevorzugt dass die Breite in dem Bereich von 0,1 mm bis 5
mm, dass die Tiefe von 0,1 bis 2,5 mm und dass die Mindestlänge von
0,05 bis 100 mm beträgt;
und besonders bevorzugt, dass die Breite in dem Bereich von 0,2
bis 3 mm, dass die Tiefe 0,2 bis 2,0 mm und dass die Mindestlänge von
0,1 bis 10 mm beträgt.
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Des
Weiteren, wenn eine ebene Form eines Musters, dass ein Gitter bildet,
ein Dreieck ist, beträgt
eine Länge
der kleinsten Seite des Dreiecks vorzugsweise 0,05 mm oder mehr,
bevorzugt in dem Bereich von 0,05 mm bis 100 mm und besonders bevorzugt
von 0,1 mm bis 10 mm. Wenn eine Länge der kleinsten Seite weniger
als 0,05 mm beträgt,
kann eine gitterähnliche
Rille in einigen Fällen
mit Schwierigkeit gebildet werden.
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Jeder
der bevorzugten Bereiche der Größen der
Rille können
mit anderen bevorzugten Bereichen kombiniert werden. Das heißt, es ist
vorzugsweise, zum Beispiel, dass die Breite 0,1 mm oder mehr, dass
die Tiefe 0,1 mm oder mehr; und dass die Länge der kleinsten Seite 0,05
mm oder mehr beträgt;
bevorzugt, dass die Breite 0,1 mm bis 5 mm, dass die Tiefe 0,1 bis
2,5 mm und dass die Länge
der kleinsten Seite 0,05 bis 100 mm beträgt; und besonders bevorzugt,
dass die Breite in dem Bereich von 0,2 mm bis 3 mm, dass die Tiefe 0,2
bis 2,00 mm und dass die Länge
der kleinsten Seite 0,1 bis 10 mm beträgt.
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Zusätzlich,
wenn eine plane Form eines Musters, das eine Gitter bildet, ein
Hexagon ist, ist die Mindestlänge,
die die kürzeste
von parallelen Seiten ist, bevorzugt 0,05 mm oder mehr, besonders
bevorzugt in dem Bereich von 0,05 bis 100 mm und besonders bevorzugt
0,1 bis 100 mm. Eine Gitter-ähnliche
Rille, deren Mindestlänge
weniger als 0,05 mm beträgt,
wird in einigen Fällen
unter Schwierigkeit gebildet.
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Jeder
der bevorzugten Bereiche kann mit anderen bevorzugten Bereichen
kombiniert werden. Das heißt,
dass es bevorzugt ist, zum Beispiel, dass die Breite 0,1 mm oder
mehr beträgt,
die Tiefe 0,1 mm oder mehr und die geringste Länge 0,05 mm oder mehr; besonders
bevorzugt liegt die Breite in dem Bereich von 0,1 mm bis 5 mm, die
Tiefe bei 0,1 mm bis 2,5 und die geringste Länge 0,05 mm bis 100 mm und
weiter besonders bevorzugt liegt die Breite bei 0,2 mm bis 3 mm,
die Tiefe bei 0,2 mm bis 2,0 und die geringste Länge bei 0,1 mm bis 10 mm.
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Die
Gitter-ähnlichen
Rillen, die auf der Seite der polierenden Oberfläche gebildet sind, können jeweils von
einer Art der Rillen sein, die gleich in der Breite und Tiefe sind
oder können
aus einer Kombination von zwei oder mehreren Arten an Rillen gebildet
sein, die unterschiedlich in der Breite und Tiefe sind. Des Weiteren kann
die polierende Oberfläche
darauf mit nur einer Art der Gitter-ähnlichen Rillen, den gleichen
in einer ebenen Form eines Musters, dass das Gitter bildet, versehen
sein oder kann mit zwei oder mehreren Arten der Gitter-ähnlichen
Rillen, die verschieden in der ebenen Form sind, versehen sein.
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Falls
die Rille (a) spiralförmig
ausgebildet wird, kann eine kontinuierliche Rille 12 (7)
gebildet werden oder kann aus zwei spiralförmigen Rillen 12a und 12b,
deren Spiralrichtung verschieden zu einander sind, gebildet werden
(8). Des Weiteren können zwei Spiralrillen gebildet
werden, deren Spriralrichtungen die gleichen sind oder es können drei
oder mehr Spiralrillen sein, deren Spiralrichtungen gleich zu einander
sind oder unterschiedlich zu einander sind, gebildet werden. Eine
Profilform der Rille kann die gleiche sein, wie die der ringförmigen Form.
Und wenn die Rille (a) spiralförmig
gebildet ist, können
ihr Größen die
gleiche sein wie die einer ringförmigen
Rille. Zusätzlich
kann eine Mindestlänge
zwischen benachbarten Rillen und die Ganghöhe auch die gleiche sein, wie
die der Ringförmigen.
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Die
Breite und die Tiefe der Spiralrille, die auf der Seite der polierenden
Oberfläche
des Polierkissens gebildet ist, kann die gleiche über die
gesamte Länge
sein oder verschieden sein. Des Weiteren, wenn zwei oder mehrere
Rillen gebildet werden, kann die Breite oder die Tiefe der jeweiligen
Rillen die gleiche oder verschieden sein.
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Der "konkave Teil (b)" existiert auf einer
Seite der polierenden Oberfläche
des Polierkissens. Des Weiteren ist das "durchgehende Loch (c)" gegenüber beiden
Oberflächen
der polierenden Oberfläche
und einer Oberfläche
gegenüber
der polierenden Oberfläche
geöffnet.
Der konkave Teil (b) oder das durchgehende Loch (c) (hierin im folgenden
in einigen Fällen
wird Bezug genommen darauf als "konkaver
Teil und ähnliches") weisen eine Funktion
des Zurückhaltens
des Slurry, der während
des Polierens anfällt
und einheitlicher den Slurry auf der polierenden Oberfläche zu verteilen
auf. Des Weiteren weist der konkave Teil und ähnliches die Funktion eines
Entsorgungswegs auf, der es ermöglicht
Abfall, wie den Polierabfall, der während des Polierens entsteht
und verwendeten Slurry zeitweise zurückzuhalten und entsorgt den
Abfall außerhalb
des Systems. Selbst wenn das Polierkissen die durchgehenden Löcher aufweist,
indem das Polierkissen an einer Oberflächenplatte der Poliervorrichtung
durch Druck oder ähnliches
fixiert wird, fließt
der Slurry nicht durch die durchgehenden Löcher ohne zum Polieren zu dienen.
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Die
ebene Form der konkaven Teile und ähnlichem ist nicht besonders
beschränkt,
kann aber zum Beispiel ein Kreis ein Polygon (Trigon, Pentagon und ähnlichem)
eine Ellipse und ähnlichem
sein. Eine Anordnung der Öffnungen
der konkaven Teile und ähnlichem
auf der polierenden Oberfläche
ist auch nicht beschränkt, aber
die Öffnungen
sind bevorzugt einheitlich über
die gesamte Oberfläche
der polierenden Oberfläche
angeordnet. Als ein spezielles Beispiel des Polierkissens kann eines
erwähnt
werden, dass die konkaven Teile oder ähnliches aufweist, einem bei
dem auf seiner polierenden Oberfläche die konkaven Teile 13 und ähnliches
eine kreisförmige
ebene Form aufweisen, sind einheitlich offen (9).
Eine Profilform der konkaven Teile oder ähnliches ist nicht besonders
beschränkt,
kann aber eine sein, die durch flache Oberflächenseiten und der Bodenoberfläche gebildet
wird (in dem Fall des konkaven Teils kann die Länge der jeweiligen horizontalen
Profilrichtungen einer sich öffnenden
Seite und einer Bodenseite die gleiche sein oder die Bodenseite
kann länger in
der Länge
sein als die sich öffnende
Seite. Des Weiteren in dem Fall des durchgehenden Lochs kann die Länge der
jeweiligen horizontalen Richtungen einer sich öffnenden Seite und der anderen
sich öffnenden
Seite die gleiche sein oder die Länge der Seite der polierenden
Oberfläche
kann länger
sein oder die Länge
der gegenüberliegenden
Oberflächenseite
kann länger
sein.), die Form eines Hufeisens, eine V-Form und ähnliches aufweisen.
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Die
Größe der konkaven
Teile oder ähnliches
ist nicht besonders beschränkt,
kann aber, wenn die ebene Form, zum Beispiel eine kreisförmige ist,
ein Durchmesser davon sein und wenn die ebene Form zumindest eine
ist, die aus Polygon, einer Ellipse und ähnlichem ausgewählt wird,
die Mindestlänge
der Öffnung
(25 in 10) vorzugsweise 0,1 mm oder
mehr beträgt,
besonders bevorzugt in dem Bereich von 0,1 bis 5 mm und weiter besonders
bevorzugt bei 0,2 bis 3 mm liegt. Gewöhnlich scheint es schwierig
zu sein, den konkaven Teil oder ähnliches
zu bilden dessen Durchmesser oder die Mindestlänge weniger als 0,1 mm beträgt. Des
Weiteren beträgt
die Tiefe des konkaven Teils oder ähnliches vorzugsweise 0,1 mm
oder mehr, bevorzugt liegt sie in dem Bereich von 0,1 bis 2,5 mm
und besonders bevorzugt bei 0,2 bis 2,0 mm. Dass die Tiefe des konkaven Teils
oder ähnlichem
weniger als 0,1 mm beträgt,
ist nicht bevorzugt, weil es zu einer außerordentlich kurzen Lebenszeit
des Polierkissens führt.
Des Weiteren für
eine Trennung der konkaven Teile oder ähnlichem beträgt die geringste
Länge zwischen
benachbarten konkaven Teilen oder ähnlichem (26 in 10)
vorzugsweise 0,05 mm oder mehr, bevorzugt in dem Bereich von 0,05
bis 100 mm und besonders bevorzugt von 0,1 bis 10 mm. Es scheint
auch schwierig zu sein den konkaven Teil oder ähnliches zu bilden, dessen
kürzeste
Länge weniger
als 0,05 mm beträgt.
Des Weiteren eine Ganghöhe,
die eine Summe aus der Mindestlänge
der Öffnung
des konkaven Teils oder ähnlichem
und einer Länge
eines Teils zwischen benachbarten konkaven Teilen oder ähnlichem
(26 in 10) ist, vorzugsweise in dem
Bereich von 0,15 mm oder mehr, besonders bevorzugt bei 0,3 bis 13
mm und insbesondere bei 0,5 bis 2,2 mm liegt.
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Jeder
der bevorzugten Bereiche kann mit anderen bevorzugten Bereichen
kombiniert werden. Das heißt,
es ist bevorzugt, zum Beispiel, dass die Mindestlänge der Öffnung 0,1
mm oder mehr, die Tiefe 0,1 mm oder mehr beträgt; und dass die Mindestlänge zwischen
den benachbarten konkaven Teilen oder ähnlichem 0,05 mm oder mehr
beträgt,
besonders bevorzugt dass die Mindestlänge der Öffnung in dem Bereich von 0,1 mm
bis 5 mm, die Tiefe bei 0,1 bis 2,5 mm liegt und dass die Mindestlänge zwischen
den konkaven Teilen oder ähnlichem
bei 0,05 bis 100 mm liegt; und weiter besonders bevorzugt, dass
die Mindestlänge
in einer ebenen Richtung in dem Bereich bei 0,2 mm bis 3 mm, die
Tiefe bei 0,2 bis 2,00 mm und die Mindestlänge zwischen den benachbarten
konkaven Teilen oder ähnlichem
bei 0,1 bis 10 mm liegt.
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Der
konkave Teil (b) beträgt
0,0075 mm2 oder mehr bei einer Fläche einer Öffnung an
der Oberfläche des
Polierkissens, bevorzugt 0,01 mm2, besonders
bevorzugt 1 mm2 oder mehr und normaler Weise
100 mm2 oder weniger beträgt. Da die
Fläche
der Öffnung
0,0075 mm2 oder mehr beträgt, kann
der Slurry, der während des
Polierens anfällt,
ausreichend zurückgehalten
werden und der Abfall, wie der Polierabrieb, der während des
Polierens anfällt
und der verwendeten Slurry, kann so zeitweise zurückgehalten
werden und kann leicht nach außen
entsorgt werden.
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Die
ebenen Formen, die Mindestlänge
der Öffnung
und die Tiefen der konkaven Teile oder ähnliches, die sich zu der Seite
der polierenden Oberfläche
und ähnlichem öffnen, können gleich
oder verschieden sein. Zusätzlich
können
die konkaven Teile oder ähnliches
mit einem einheitlichen Abstand über
die gesamte polierende Oberfläche
gebildet werden oder kann nicht einheitlich gebildet sein; jedoch,
um stabil das Polieren durchzuführen,
sind sie vorzugsweise einheitlich gebildet. Das erfindungsgemäße Polierkissen
kann eine Rille aufweisen, die eine unterschiedliche Gestalt aufweist,
die oben zusätzlich
zu den konkaven Teilen oder ähnlichem
beschrieben werden.
-
Das
erfindungsgemäße Polierkissen
kann aus welchem Material auch immer gebildet sein, solange die
Funktionen als Polierkissen erhalten werden. Jedoch unter den Funktionen
als Polierkissen sind insbesondere die Poren bevorzugt, die die
Funktion des Zurückhaltens
des Slurrys, während
des Polierens, aufweist und es ermöglicht den Abrieb zeitweise
zu halten, der während
des Polierens gebildet wird. Demgemäß ist das Polierkissen vorzugsweise
mit einer im Wasser unlöslichen
Matrix und im Wasser löslichen
Teilchen in einer im Wasser unlöslichen
Matrix oder mit einer im Wasser unlöslichen Matrix versehen, in
der Leerstellen fein verteilt gebildet sind (geschäumte Körper oder ähnliches).
-
Von
diesen werden in der Form die wasserlöslichen Teilchen in Kontakt
mit einer auf Wasser basierenden Lösungsmittelkomponente des Slurry
(der eine Lösungsmittelkomponente
und eine Feststoffkomponente enthält) während des Polierens gebracht,
lösen sich
oder schwellen, was zu einem Herunterfallen führt. Der Slurry wird in den
Poren zurückgehalten,
die auf Grund des Zurückgehen
gebildet werden. Auf der anderen Seite wird der Slurry später in den
Poren zurückgehalten,
die vorher als Leerstelle gebildet werden.
-
Ein
Material, das die "in
Wasser unlösliche
Matrix bildet" ist
nicht besonders beschränkt.
Im Hinblick auf das leichte Formen zu einer bestimmten Form, Eigenschaft
und Zustand und es zu ermöglichen
mit einer geeigneten Härte
und geeigneten Elastizität
ausgestatten zu werden, ist es üblich
ein organisches Material zu verwenden. Als organisches Material
können
thermoplastische Harze, Elastomere, Kautschuke (vernetzte Kautschuke)
und vernetzbare Harze, (Harze, die auf Grund von Wärme, Licht
und ähnliches
vernetzen, wie wärmehärtbare Harze
und lichthärtende
Harze) allein oder in Kombination verwendet werden.
-
Unter
diesen können
thermoplastische Harze, 1,2-Polybutadienharz,
polyolefinische Harze, wie Polyethylen, auf Polystyrol basierende
Harze, Polyacrylharze, wie auf (Meth)acrylat basierende Harze, auf
Vinylester basierende Harze (ausgenommen auf Acryl basierende Harze),
auf Polyester basierende Harze, auf Polyamid basierende Harze, auf
fluorierte Harze, wie Polyvinylidinfluorid, Polycarbonatharze und
Polyacetalharze erwähnt
werden.
-
Als
Elastomere können
auf Dien basierende Elastomere, wie 1,2-Polybutadien, polyolefinische
Elastomere (TPO), auf Styrol basierende Elastomere, wie Styrol-butadien-styrol
Blockcopolymere (SBS) und ihre hydrierte Blockcopolymere (SEBS),
thermoplastische Elastomere, wie thermoplastische auf Polyurethan
basierende Elastomere (TPU), thermoplastische auf Polyester basierende
(TPEE) und auf Polyamid basierende Elastomere (TPAE, auf Siliconharz
basierende Elastomere, auf fluoriertem Harz basierende Elastomere
und ähnliches
erwähnt
werden.
-
Als
Kautschuk, können
konjugierte auf Dien basierende Kautschuke, wie auf Butadien basierende Kautschuke
(hohe-cis Butadien Kautschuke, niederes-cis Butadien und ähnliches),
auf Isopren basierende Kautschuke, auf Styrol-butadien basierende
Kautschuke, und Styrol-isopren basierende Kautschuke, auf Nitril basierende
Kautschuke, wie Acrylnitril-Butadien basierende Kautschuke und ähnliches,
Acrylkautschuke, auf Ethylen-α-olefin
basierende Kautschuke, wie auf Ethylen-propylen basierende Kautschuke, wie
auf Ethylen-propylen-dien basierende Kautschuke und andere Kautschuke,
wie Butylkautschuke, Siliconkautschuke und Fluorkautschuke erwähnt werden.
-
Als
vernetzbare Harze können
auf Urethan basierende Harze, auf Epoxy basierende Harze, Acrylharze,
ungesättigte
auf Polyester basierende Harze, auf Polyurethan-Harnstoff basierende
Harze, auf Harnstoff basierende Harze, auf Silicon basierende Harze,
auf Phenol basierende Harze, auf Vinylester basierende und ähnliche
Harze erwähnt
werden.
-
Des
Weiteren kann das organische Material mit einer Säureanhydridgruppe,
einer Carboxylgruppe, einer Hydroxylgruppe, einer Epoxygruppe, einer
Aminogruppe und ähnlichem
modifiziert werden. Während
dem Modifizieren kann das organische Material auf seine Affinität mit den
in Wasser löslichen
Teilchen und dem Slurry kontrolliert werden.
-
Das
organische Material oben kann allein oder in Kombination mit zwei
oder mehreren Arten verwendet werden.
-
Des
Weiteren kann das organische Material ein vernetztes Polymer sein,
das teil oder vollständig
vernetzt ist oder kann ein nicht vernetztes Polymer sein. Demgemäß kann die
in Wasser unlösliche
Matrix nur aus einem vernetzten Polymer, einer Mischung eines vernetzten
Polymers und einem nicht vernetztem Polymer oder nur aus einem nicht
vernetztem Polymer gebildet sein. Jedoch ist es bevorzugt das vernetzte
Polymer zu enthalten (das vernetzte Polymer allein oder die Mischung
aus dem vernetztem Polymer und dem nicht vernetztem Polymer). Wenn
das vernetzte Polymer erhalten wird, kann die Rauheit der Oberfläche Ra der
inneren Oberfläche
der Rille (a), des konkaven Teils (b) und des durchgehenden Lochs
auf 20 μm
oder weniger gedrückt
werden und zur gleichen Zeit wird die in Wasser unlösliche Matrix
mit einer elastischen wiederherstellenden Kraft ausgestattet; eine
Verschiebung auf Grund der Scherbelastung, die an das Polierkissen,
während des
Polierens, angelegt wird, kann sehr gering sein. Des Weiteren kann
bei der in Wasser unlöslichen
Matrix wirksam ihre extreme Längung
und die plastische Verformung unterdrückt werden, um die Poren während des Polierens
und Putzens zu verschütten
und weiter kann bei der Oberfläche
des Polierkissens wirksam unterdrückt werden, dass sie außerordentlich
locker wird. Demgemäß können selbst
während
des Putzens die Poren effektiv gebildet werden und die den Slurry
zurückhaltende
Energie kann von einer Verschlechterung bewahrt werden. Des Weiteren,
da die Oberfläche
des Polierkissens weniger locker ist, wird die Polierflachheit nicht
gestört.
Ein Verfahren der Vernetzung ist nicht besonders beschränkt, das
heißt,
dass chemisches Vernetzen mit organischen Peroxiden, Schwefel und
Schwefelverbindungen, Vernetzung mit Strahlung mittels Elektronenstrahl
oder ähnlichem
angewendet werden.
-
Als
vernetztes Polymer unter den obigen organischen Material können vernetzte
Kautschuke, vernetzbare Kautschuke, vernetze thermoplastische Harze
und vernetzte Elastomer verwendet werden. Unter diesen sind in Hinblick
darauf, dass sie stabil gegen starke Säuren und starke Alkali sind,
die in vielen Slurries enthalten sind und dass sie weniger anfällig gegen
das Weichwerden auf Grund der Wasserabsorption sind, eines oder
beide der vernetzten thermoplastischen Harze und vernetzten Elastomere
sind bevorzugt. Des Weiteren unter den vernetzten thermoplastischen
Harzen und vernetzten Elastomeren, sind die, die mit organischen
Peroxid vernetzt werden, besonders bevorzugt und des Weiteren ist
vernetztes 1,2-Polybutadien ganz besonders bevorzugt. Mit diesem
kann die Rille (a), der konkave Teil (b) und das durchgehende Loch
(c), deren Rauheit der Oberfläche
Ra beträgt
20 μm oder
weniger, leicht gebildet werden.
-
Der
Gehalt an vernetztem Polymer ist nicht besonders beschränkt. Er
beträgt
vorzugsweise 30 Vol. % oder mehr, bevorzugt 50 Vol. % oder mehr,
besonders bevorzugt 70 Vol. % oder mehr und kann bei 100 Vol. %
relativ zu einer Gesamtheit der in Wasser unlöslichen Matrix liegen. Falls
der Gehalt des vernetzten Polymers in der in Wasser unlöslichen
Matrix weniger als 30 Vol. % beträgt, kann in einigen Fällen eine
Effekt, dass das vernetzten Polymer enthalten ist, nicht ausreichend
gezeigt werden.
-
Die
in Wasser unlösliche
Matrix, die das vernetzte Polymer enthält, kann, wenn ein Muster,
das aus einer in Wasser unlöslichen
Matrix gemacht ist, bei 80 °C
gemäß JIS K
6251 gebrochen wird, macht die Längung,
die nach dem Brechen zurückbleibt
(hierin im folgenden einfach als "Längung,
die nach dem Brechen zurück
bleibt") 100 % oder
weniger beträgt.
Das heißt,
dass die gesamte Länge
zwischen zwei Markierungspunkten nach dem Brechen zweimal oder weniger
der Länge
zwischen den Markierungspunkten vor dem Brechen beträgt. Die
Längung,
die nach dem Brechen zurück
bleibt, beträgt
vorzugsweise 30 % oder weniger, bevorzugt 10 % oder weniger, besonders
bevorzugt 5 % oder weniger und normalerweise 0 % oder mehr. Wenn die
Längung,
die nach dem Brechen 100 % übersteigt,
dünne Fragmente,
die reiben oder aus der Oberfläche des
Polierkissen herausragen, neigen ungünstiger Weise während des
Polierens oder Putzens dazu, die Poren zu verstopfen. Falls gemäß JIS K
6251 "Längungstestverfahren
von vulkanisiertem Kautschuk" mit
einer Testprobe, die die Form einer Hantel Nr. 3 aufweist und unter
den Bedingungen einer Zugrate von 500 mm/min und einer Testtemperatur
von 80 °C, wird
eine Testprobe gebrochen, wobei die "Längung,
die nach dem Brechen zurückbleibt" als eine Längungsrate
einer Länge
definiert wird, die erhalten wird, indem eine Länge zwischen zwei Markierungspunkten
vor dem Test von der gesamten Länge
der jeweiligen Längen
von den Markierungspunkten zu dem gebrochenen Teil der Testprobe,
die durch das Brechen auf die Länge
zwischen zwei Markierungspunkten vor dem Test getrennt wurden, abgezogen
wird. Des Weiteren gibt es beim ausgeführten Polieren eine Wärmeerzeugung
auf Grund des Gleitens, demgemäß wird der
Test bei 80 °C
durchgeführt.
-
Das "in Wasser lösliche Teilchen" ist ein Teilchen,
dass von der in Wasser unlöslichen
Matrix herunterfällt,
wenn das Polierkissen, in dem Polierkissen, mit dem Slurry in Kontakt
kommt, der eine wässrige
Dispersion ist. Das Herunterfallen kann durch das Lösen verursacht
werden, wenn die in Wasser löslichen
Teilchen mit Wasser oder ähnlichem
in Kontakt kommen, das in dem Slurry enthalten ist, oder kann durch
Quellen verursacht werden und Gel-ähnlich werden, wenn die in
Wasser löslichen
Teilchen Wasser oder ähnliches
enthalten. Des Weiteren kann die Auflösung oder das Quellen nicht
nur durch Kontakt mit Wasser, sondern auch mit einem wässrigen
Mischungsmedium verursacht werden, das ein alkoholisches Lösungsmittel,
wie Methanol enthält.
-
Die
in Wasser löslichen
Teilchen weisen, anders als den Effekt der Bildung der Poren auf
dem Polierkissen, einen anderen Effekt auf, die Eindrückhärte des
Polierkissens größer zu machen
und dadurch den Betrag des Eindrückens
des Materials, das poliert werden soll, auf Grund des Unterdrucks,
geringer zu machen. Das heißt,
wenn das erfindungsgemäße Polierkissen
in Wasser lösliche
Teilchen enthält,
kann seine Shore D Härte
auf vorzugsweise 35 oder mehr eingestellt werden, bevorzugt in dem
Bereich von 50 bis 90, besonders bevorzugt von 60 bis 85 und üblicherweise
100 oder weniger. Wenn die Shore D Härte 35 oder mehr beträgt, kann
der Druck, der an das Material, das poliert werden soll, angelegt
wird, größer gemacht
werden und zusätzlich
kann die Abtragrate removal* verbessert werden. Demgemäß sind die
in Wasser löslichen
Teilchen vorzugsweise Festkörper,
die eine ausreichende Eindrückhärte bei
dem Polierkissen sicherstellen.
-
Ein
Material, dass die in Wasser löslichen
Teilchen bildet, ist nicht besonders beschränkt. Und organische in Wasser
lösliche
Teilchen und anorganische in Wasser lösliche Teilchen können erwähnt werden.
Als organische in Wasser lösliche
Teilchen können
solche erwähnt
werden, die aus Sacchariden gemacht sind (Polysaccharide, wie Stärke, Dextrin
und Cyclodextrin, Laktose, Mannit und ähnliches), Zellulose (Hydroxypropylzellulose,
Methylzellulose und ähnliches),
Proteine, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylsäuren und
ihre Salze, Polyethylenoxid, in Wasser lösliche lichtempfindliche Harze,
sulfoniertes Polyisopren, sulfonierte Polyisoprencopolymere und ähnliche
erwähnt
werden. Zusätzlich
können
als anorganische in Wasser lösliche
Teilchen solche aus Kaliumacetat, Kaliumnitrat, Kaliumcarbonat,
Kaliumhydrogencarbonat, Kaliumchlorid, Kaliumbromid, Kaliumphosphat,
Magnesiumnitrat und ähnliches
gebildet, erwähnt
werden. Das Material, das die in Wasser löslichen Teilchen bildet, kann
allein oder in Kombination mit zwei oder mehreren Arten verwendet
werden. Des Weiteren können
die in Wasser lösliche
Teilchen von einer Art der in Wasser löslichen Teilchen sein, die
aus einem vorbestimmten Material gemacht sind oder aus zwei oder
mehreren Arten der in Wasser löslichen
Teilchen, die aus verschiedenen Materialien gemacht sind.
-
Der
durchschnittliche Teilchen-Durchmesser der in Wasser löslichen
Teilchen liegt vorzugsweise in dem Bereich von 0,1 bis 500 μm, bevorzugt
bei 0,5 bis 100 μm
und weiter besonders bevorzugt bei 1 bis 50 μm. Das heißt, dass die Größe der Poren
vorzugsweise in dem Bereich von 0,1 μm bis 500 μm, bevorzugt bei 0,5 bis 100 μm und weiter
besonders bevorzugt bei 1 bis 50 μm
liegen. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser der in Wasser
löslichen
Teilchen weniger als 0,1 μm
beträgt,
wird die Größe der gebildeten
Poren kleiner als das Schleifmittel, das verwendet wird; demgemäß wird es
schwierig das Polierkissen, das ausreichend den Slurry zurückhalten
kann, zu erhalten. Auf der anderen Seite, wenn der durchschnittliche
Teilchendurchmesser 500 μm übersteigt,
wird die Größe der Poren,
die gebildet werden sollen, außerordentlich
groß; als
ein Ergebnis neigt die mechanische Stärke und Abtragrate des erhaltenen
Polierkissen dazu beeinträchtigt zu
werden.
-
Das
in Wasser lösliche
Teilchen muss nicht enthalten sein. Der Gehalt der in Wasser löslichen
Teilchen bei der Verwendung liegt vorzugsweise in dem Bereich von
0,1 bis 90 Vol. %, bevorzugt in dem Bereich von 10 bis 60 Vol. %
und besonders bevorzugt bei 20 bis 40 Vol. % basierend auf 100 Vol.
% basierend auf 100 Vol. % der gesamten in Wasser unlöslichen
Matrix und der in Wasser löslichen
Teilchen. Falls der Gehalt der in Wasser löslichen Teilchen weniger als
0,1 Vol. % beträgt,
wobei die gebildeten Poren, die das erhaltene Polierkissen verwenden,
nicht ausreichend sein können
und die Abtragrate neigt dazu abzunehmen. Auf der anderen Seite,
wenn die in Wasser löslichen
Teilchen, die enthalten sind, 90 Vol. übersteigen, wird es schwierig, ausreichend
zu verhindern, dass die in Wasser löslichen Teilchen, die innerhalb
des Polierkissen sind, quellen oder gelöst werden; demgemäß wird es
schwierig die Härte
und die mechanische Stärke
des Polierkissen bei genauen Werten zu halten.
-
Des
weiteren werden die in Wasser löslichen
Teilchen bevorzugt in Wasser nur gelöst, wenn sie an einer Oberflächenschicht
bei einem Polierkissen exponiert werden und nicht um Feuchtigkeit
zu absorbieren und weiter zu quellen, wenn sie innerhalb des Polierkissen
sind. Demgemäß kann zumindest
ein Teil des äußersten
Teils des in Wasser löslichen
Teilchen mit einer äußeren Schale
versehen werden, die die Absorption der Feuchtigkeit unterdrückt. Die äußere Schale
kann physikalisch durch die in Wasser löslichen Teilchen absorbiert
werden oder kann eine chemische Bindung mit dem in Wasser löslichen
Teilchen eingehen oder kann in Kontakt mit den in Wasser löslichen
Teilchen über
beide Möglichkeiten
oben kommen. Als Material, dass die äußere Schale bildet, kann Epoxyharz,
Polimid, Polyamid, Polysilicat und ähnliches genannt werden. Die äußere Schale,
selbst wenn nur ein Teil der in Wasser löslichen Teilchen mit ihr versehen
ist, kann sie ausreichend die Wirkung zeigen.
-
Die
in Wasser lösliche
Matrix kann, um die Affinität
mit den in Wasser löslichen
Teilchen und die Dispersionseigenschaften der in Wasser löslichen
Teilchen in der in Wasser unlöslichen
Matrix zu kontrollieren, ein die Verträglichkeit beeinflussendes Mittel
enthalten. Als die Verträglichkeit
beeinflussendes Mittel kann ein Polymer, das durch eine Säureanhydridgruppe,
Carboxylgruppe, Hydroxylgruppe, Epoxygruppe, Oxazolingruppe, Aminogruppe
und ähnliches
modifiziert ist, ein Blockcopolymer, ein statistisches Copolymer,
weiter verschiedene Arten von nichtionischen oberflächenaktiven
Stoffen, Kupplungsmittel und ähnliches
genannt werden.
-
Des
weiteren kann die in Wasser unlösliche
Matrix andere als das die Verträglichkeit
beeinflussende Mittel enthalten, eine Art oder zwei oder mehr Arten
von Poliermittel, Oxidationsmittel, Hydroxide von Alkalimtetall,
Säure,
pH Einstellmittel und Antikratzmittel, die schon immer enthalten
waren. Des weiteren kann die in Wasser unlösliche Matrix ein Salz enthalten,
dass eine Säure
bildet, wenn es verwendet wird. Dadurch kann durch weitere Zugabe
von Wasser allein das Polieren ausgeführt werden.
-
Als
Poliermittel können
Teilchen wie Kieselsäure,
Aluminium, Cer, Zirkon, Titan und ähnliches genannt werden. Eine
Art oder zwei oder mehrere Arten von diesen können verwendet werden.
-
Als
Oxidationsmittel können
Wasserstoffperoxid, Peressigsäure,
Perbenzoesäure,
organische Peroxide, wie tert-Butylwasserstoffperoxid,
Permanganate, wie Kaliumpermanganat, Dichromate, wie Kaliumdichromat,
Halogensäureverbindungen,
wie Kaliumiodat, Nitrate, wie Salpetersäure, Eisennitrat, Perhalogensäureverbindungen,
wie Perchlursäure,
Persulfat, wie Ammoniumpersulfat, Heteropolysäuren und ähnliches genannt werden. Unter
diesen Oxidationsmittel sind, anders als Wasserstoffperoxid und
organische Peroxide, deren Zersetzungsprodukte nicht harmlos sind,
Persulfat, wie Ammoniumpersulfat, ist besonders bevorzugt. Eine
Art oder mehrere ihrer Arten können
verwendet werden.
-
Als
Hydroxid der Alkalimetalle, können
Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Rubidiumhydroxid, Caesiumhydroxid
und ähnliches
genannt werden. Eine Art oder mehrere ihrer Arten können verwendet
werden.
-
Als
Säuren
können
organische Säuren
und anorganische Säuren
genannt werden. Unter diesen können
als organische Säuren
p-Toluolschwefelsäure,
Dodecyl-bezolschwefelsäure,
Isoprenschwefelsäure,
Glukonsäure,
Milchsäure,
Zitronensäure,
Weinsäure, Äpfelsäure, Glykolsäure; Malonsäure, Ameisensäure, Oxalsäure, Bernsteinsäure, Fumarsäure, Maleinsäure, Phthalsäure und ähnliches
genannt werden. Des Weiteren können
als anorganische Säure,
Salpetersäure,
Salzsäure,
Schwefelsäure
und ähnliches
genannt zu werden. Eine Art oder zwei Arten von ihnen können verwendet
werden.
-
Als
Salz können
Ammoniumsalze, Alkalimetallsalze, wie Natriumsalze und Kaliumsalze
und Erdalkalimetallsalze, wie Calciumsalze und Magnesiumsalze von
den obigen Salzen genannt werden. Eine Art oder zwei Arten von ihnen
können
verwendet werden.
-
Als
Tensid, kann ein kationisches Tensid, ein anionisches Tensid und ähnliches
genannt werden. Von diesen können
als anionische Tenside Carboxylate, wie Fettsäureseifen und Alkylethercarboxylate,
Sulfonate, wie Alkylbenzolsulfonate, Alkylnaphthalensulfonate und α-Olefinsulfonate,
Schwefelestersalze wie Schwefelestersalz von höherem Alkohol, Alkylethersulfate,
Polyoxyethylenalkylphenyethersulfate und Phospohorestersalze, wie
Alkylphosphorestersalz und ähnliche
genannt werden. Eine Art oder zwei Arten von ihnen können verwendet
werden.
-
Als
Antikratzmittel können
Bisphenol, Bipyridyl, 2-Vinylpyridin,
4-Vinylpyridin, Salicylaldoxim, o-Phenylendiamin, m-Phenylendiamin, Catechol,
o-Aminophenol, Thioharnstoff, N-Alkylgruppen enthaltendes(Meth)acrylamid,
N-Aminoalkylgruppen
enthaltendes (Methyl)acrylamid, 7-Hydroxy-5-methyl-1,3,4-Triazaindolizin, 5-Methyl-1H-Benzotriazol;
Phthalazin, Melamin, 3-Amino-5,6-dimethyl-1,2,4-triazin und ähnliche genannt
werden. Eine Art oder zwei Arten von ihnen können verwendet werden.
-
Des
Weiteren kann die in Wasser unlösliche
Matrix, anders als das Verträglichkeit
beeinflussendes Mittel und die verschiedenen Arten von Materialien,
die bis jetzt in dem Slurry enthalten sind, verschiedene Arten von
Additiven wie Füllstoffe,
Weichmacher, Antioxidationsmittel, UV-Absorber, antistatische Mittel,
Gleitmittel, Weichmacher enthalten. Unter diesen können als
Material, um den Füllstoff
zu bilden, Materialien, die die Steifheit verbessern, wie Calciumcarbonat,
Magnesiumcarbonat, Talk und Ton, Materialien, die Poliereffekte
aufweisen, wie Kieselsäure,
Aluminium, Cerdioxid, Zirkon, Titanoxid, Magnesiumdioxid, Mangansesquioxid und
Bariumcarbonat verwendet werden.
-
Die
Form des erfindungsgemäßen Polierkissens
ist nicht beschränkt
und kann zum Beispiel in Form einer Scheibe, in Form eines Bandes
und in Form eines Walze ausgebildet sein, es ist bevorzugt es gemäß der entsprechenden
Poliervorrichtung auszuwählen.
Zusätzlich
ist die Größe des Polierkissens
vor dem Polieren nicht besonders beschränkt und im Fall, dass ein Polierkissen
in Form einer Scheibe verwendet wird, wird zum Beispiel ein Durchmesser
im Bereich von 0,5 bis 500 cm, bevorzugt im Bereich von 1,0 bis
250 cm und besonders bevorzugt von 20 bis 200 cm ausgebildet und
die Dicke kann von mehr als 0,1 mm und 100 mm oder weniger, insbesondere
in dem Bereich von 1 bis 10 mm ausgebildet werden.
-
Weder
ist eine Verfahren zur erfindungsgemäßen Herstellung des Polierkissens
noch ein Verfahren zur Bildung einer Rille (a), eines konkaven Teils
(b) und eines durchgehenden Lochs (c), die das Polierkissen aufweist,
besonders beschränkt.
Zum Beispiel eine Zusammensetzung für das Polierkissen, das ein
Polierkissen wird, wird in voraus erhalten; die Zusammensetzung
wird in einer gewünschten
Rohform ausgebildet; und danach können die Rille (a), der konkave
Teil (b) und das durchgehende Loch (c) gemäß dem Schneiden gebildet werden.
Des Weiteren, wenn eine Zusammensetzung mit einer Form gebildet
wird, auf der ein Muster, das eine Rille (a), ein konkaver Teil
(b) und ein durchgehende Loch (c) wird, gebildet ist, eine Rohform
des Polierkissens und der Rille (a), des konkaven Teils (b) und
des durchgehenden Lochs (c) können
gleichzeitig gebildet werden. Des Weiteren kann dieses Schneiden
und Formbilden zusammen ausgeführt
werden. Gemäß dem Schreiben
und Formbilden kann die Rauheit der Oberfläche Ra der inneren Oberfläche der
Rille (a), des konkaven Teils (b) und des durchgehenden Lochs (c)
leicht auf 20 um oder weniger ausgebildet werden. Wenn das Polierkissen
eines ist, bei dem die Leerstellen in der in Wasser unlöslichen
Matrix, wie in einem geschäumten
Körper
dispergiert sind, wird beim bilden der Form normalerweise eine Abscheideschicht
(skin layer) auf der Oberfläche
gebildet und die Poren werden nicht ausgebildet; demgemäß kann es
nicht als Polierkissen verwendet werden.
-
Ein
Verfahren zum Erhalten der Zusammensetzung für das Polierkissen ist nicht
besonders beschränkt.
Es kann durch zum Beispiel Kneten der notwendigen Materialien, wie
vorbestimmte organische Materialien, unter Verwendung einer Knetmaschine,
erhalten werden. Als Knetmaschine kann eine bekannte Knetmaschine
verwendet werden. Zum Beispiel kann als Knetmaschine eine solche
wie eine Walze, ein Kneter, Banbarymischer, ein Extruder (einwellig
oder vielwellig) und ähnliches
erwähnt
werden.
-
Die
Zusammensetzung, die die in Wasser löslichen Teilchen enthält, kann
durch Kneten, zum Beispiel der in Wasser unlöslichen Matrix, der in Wasser
löslichen
Teilchen und anderer Additive erhalten werden. Um es zu ermöglichen,
dass beim Kneten leicht gearbeitet wird, werden diese Materialien
erwärmt
und geknetet. Bei einer Temperatur zu dieser Zeit sind die in Wasser
löslichen
Teilchen vorzugsweise fest. Wenn das in Wasser lösliche Teilchen fest ist, unabhängig von
der Größe der Kompatibilität mit der
in Wasser unlöslichen
Matrix, können
diese mit dem bevorzugten durchschnittlichen Durchmesser dispergiert
werden. Demgemäß ist es
bevorzugt, in Übereinstimmung
mit der Arbeitstemperatur der in Wasser unlöslichen Matrix, die verwendet
werden soll, eine Art von in Wasser löslichen Teilchen auszuwählen.
-
Ein
vielschichtiges Polierkissen gemäß einer
erfindungsgemäßen Ausführungsform
weist eine Polierschicht auf, die zumindest eine Komponente ausgewählt aus
der Gruppe, die aus einer Rille (a), die zumindest eine Art der
Form aufweist, die aus ringförmig,
gitterähnlich
und einer Spiralform ausgewählt
wird, auf einer Seite der Polieroberfläche, einem konkaven Teil (b)
und einem durchgehenden Loch (c), wobei die Oberflächenrauheit
Ra der inneren Oberfläche
von diesem Teil 20 μm
oder weniger beträgt und
einer Trägerschicht besteht,
die auf die nicht polierende Seite der Oberfläche der Polierschicht laminiert
ist.
-
Als
Ausführungsformen
des vorliegenden vielschichtigen Polierkissens, können (1)
eines, das mit einer Polierschicht versehen ist, die nur eine Rille
(a) aufweist, die zumindest eine Form aufweist, die aus ringförmig, gitterähnlich und
einer Spiralform ausgewählt
wird und deren innere Oberfläche
eine Rauheit der Oberfläche
Ra von 20 μm
oder weniger und eine Trägerschicht,
die auf der nicht polierenden Seite der Oberfläche der Polierschicht angeordnet
ist, aufweist, (2) eines das mit einer Polierschicht versehen ist,
die nur einen konkaven Teil (b) aufweist, dessen innere Oberfläche eine
Rauheit der Oberfläche
Ra von 20 μm
oder weniger und eine Trägerschicht,
die auf der nicht polierenden Seite der Oberfläche der Polierschicht angeordnet
ist, aufweist, (3) eines das mit einer Polierschicht versehen ist,
die nur ein durchgehendes Loch (c) aufweist, dessen innere Oberfläche eine
Rauheit der Oberfläche
Ra von 20 μm
oder weniger und eine Trägerschicht,
die auf der nicht polierenden Seite der Oberfläche der Polierschicht angeordnet
ist, aufweist, (4) eines das mit einer Polierschicht versehen ist,
die zumindest zwei Teile einschließt, die aus einer Rille (a),
einem konkaven Teil (b) und einem durchgehenden Loch (c) aufweist,
dessen innere Oberfläche
eine Rauheit der Oberfläche
Ra von 20 μm
oder weniger und eine Trägerschicht,
die auf der nicht polierenden Seite der Oberfläche der Polierschicht angeordnet
ist, aufweist und ähnliches
erwähnt
werden.
-
Als
die Polierschicht des vielschichtigen Polierkissens, kann das obige
erfindungsgemäße Polierkissen
verwendet werden.
-
Die
Trägerschicht
ist eine Schicht, die die Polierschicht und ähnliches auf einer nicht polierenden
Seite der Oberfläche
der Polierschicht trägt.
Die Trägerschicht
ist nicht besonders in ihren Eigenschaften beschränkt und
sie ist vorzugsweise weicher als die Polierschicht. Wenn die Trägerschicht
weicher ausgebildet wird, selbst wenn die Dicke der Polierschicht
dünn (zum
Beispiel 5 mm oder weniger) ist, wird die Polierschicht daran gehindert
abzublättern
rise* oder die Oberfläche
der Polierschicht daran sich abzuheben, während dem Polieren; was zu
einem stabilen Polieren führt.
Die Härte
der Trägerschicht
beträgt
vorzugsweise 90 % oder weniger der Polierschicht, bevorzugt 80 %
oder weniger, besonders bevorzugt 70 % oder weniger und normalerweise
10 % oder mehr.
-
Des
Weiteren beträgt
die Shore D Härte
vorzugsweise 70 oder weniger (bevorzugt 60 oder weniger und besonders
bevorzugt 50 oder weniger).
-
Zusätzlich kann
die Trägerschicht
ein poröser
Körper
(geschäumter
Körper)
oder ein nicht poröser Körper sein.
Des Weiteren ist die ebene Form nicht besonders beschränkt und
kann dieselbe sein wie die Polierschicht oder verschieden von der
Polierschicht sein. Als eine ebene Form der Trägerschicht kann zum Beispiel
ein Kreis, ein Polygon (Tetragon und ähnliches) und ähnliches
angenommen adopted* werden. Des Weiteren ist die Dicke der Trägerschicht
nicht besonders beschränkt,
kann aber, zum Beispiel in dem Bereich von 0,1 bis 5 mm, bevorzugt
in dem Bereich von 0,5 bis 2 mm ausgebildet sein.
-
Ein
Material, das die Trägerschicht
bildet, ist nicht besonders beschränkt. Im Hinblick auf die Leichtigkeit
eine vorbestimmte Form und Zustand und die Fähigkeit eine geeignete Elastizität zu verleihen,
zu bilden, wird vorzugsweise ein organisches Material verwendet.
Als organisches Material können
die organischen Materialien verwendet werden, die die in Wasser
unlösliche
Matrix bei dem Polierkissen oben bilden. Jedoch kann das organische
Material, das die Trägerschicht
bildet, ein vernetztes Polymer oder ein nicht vernetztes Polymer
sein.
-
Das
vielschichtig Polierkissen kann mit nur einer Trägerschicht oder zwei oder mehreren
Schichten versehen sein. Zusätzlich
kann die Trägerschicht
und die Polierschicht direkt laminiert sein oder kann über eine andere
Schicht laminiert sein. Des Weiteren kann die Trägerschicht an der Polierschicht
oder einer anderen Schicht mit einem Haftmittel haften, einem Haftmaterial
(Klebeband und ähnliches)
und ähnlichem
oder kann in einem Stück
daran durch teilweises Schmelzen verbunden sein.
-
Das
vorliegende Polierkissen und das vielschichtige Polierkissen kann
mit einem Loch, einem Fenster und ähnlichem für die Endpunkterkennung versehen
sein.
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KURZE BESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNGEN
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1 ist
eine schematische Draufsicht eines Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen.
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2 ist
eine schematische Draufsicht, die ein anderes Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen
zeigt.
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3 ist
eine schematische graphische Darstellung eines Teilquerschnitts,
einschließlich
einer Rille des erfindungsgemäßen Polierkissens.
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4 ist
eine schematische Draufsicht, die ein anderes Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen
zeigt.
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5 ist
eine schematische Draufsicht, die ein anderes Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen
zeigt.
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6 ist
eine schematische Draufsicht, die ein anderes Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen
zeigt.
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7 ist
eine schematische Draufsicht, die ein anderes Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen
zeigt.
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8 ist
eine schematische Draufsicht, die ein anderes Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen
zeigt.
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9 ist
eine schematische Draufsicht, die ein anderes Beispiels des erfindungsgemäßen Polierkissen
zeigt.
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10 ist
eine schematische graphische Darstellung eines Teilquerschnitts,
einschließlich
eines konkaven Teils des erfindungsgemäßen Polierkissens.
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11 ist
eine erklärende
graphische Darstellung eines mikroskopischen Bildes eines Teilschnitts
des Polierkissens gemäß dem Beispiel
1-1.
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12 ist
eine erklärende
graphische Darstellung eines mikroskopischen Bildes eines Teilschnitts
des Polierkissens gemäß dem Vergleichsbeispiel
1-1.
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13 ist
eine erklärende
graphische Darstellung eines mikroskopischen Bildes eines Teilschnitts
des Polierkissens gemäß dem Beispiel
2-1.
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14 ist
eine erklärende
graphische Darstellung eines mikroskopischen Bildes eines Teilschnitts
des Polierkissens gemäß dem Beispiel
3-1.
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15 ist
eine erklärende
graphische Darstellung eines mikroskopischen Bildes eines Teilschnitts
des Polierkissens gemäß dem Beispiel
4-1.
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BEISPIEL
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Die
vorliegenden Erfindung wird speziell unten mittels Beispielen erklärt.
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[1] Polierkissen, das
eine ringförmige
Rille aufweist.
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1-1 Herstellung des Polierkissen.
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Beispiel 1-1
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80
Volumenteile an 1,2-Polybutadien (Handelsname "JSR RB830" hergestellt durch JSR Corp.), die eine
in Wasser unlösliche
Matrix wird, indem es vernetzt und 20 Volumenteile an β-Cyclodextrin
(Handelsname "Dexipearl β-100" hergestellt durch
Bio Research Corporation von Yokohama, durchschnittlicher Durchmesser der
Teilchen; 20 μm),
als in Wasser lösliche
Teilchen, wurden mit einem Schneckenextruder geknetet, dessen Temperatur
bei 160 °C
kontrolliert wurde und dadurch wurden weiße Pellets erhalten. Danach
wurden 0,3 Volumenteile an organischem Peroxid (Handelsname: "Percumyl D-40" hergestellt von
NOF CORP.) eingemischt und weiter bei 120 °C geknetet; das geknetete Material
wurde in eine Form extrudiert und auf 170 °C 18 Minuten lang erwärmt, um
zu vernetzen; und dadurch wurde ein Scheiben-ähnlich geformter Körper, der
einen Durchmesser von 60 cm und eine Dicke von 2,5 mm aufweist,
erhalten. Danach wurden konzentrische kreisförmige Rillen, die eine Breite
von 0,5 mm, eine Tiefe von 1 mm, eine Ganghöhe von 1,5 mm und eine Länge zwischen
benachbarten Rillen von 1 mm aufweisen, die in 1 gezeigt
werden, auf einer Seite der Oberfläche des geformten Körpers mit
einer Scheidemaschine, die von Kato Kikai Co.; Ltd, hergestellt
wurde, gebildet.
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An
anderer Stele wurden die Rauheit der Oberfläche Ra an der inneren Oberfläche der
Rille aus drei verschiedenen Ansichtsfeldern mit einem dreidimensionalen,
die Struktur der Oberfläche
analysierenden, Mikroskop (Handelsname "Zygo New View 5032" hergestellt von CANON Inc.) gemessen.
Als Ergebnis betrug die Rauheit der Oberfläche 1,8 μm.
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Ein
Abschnitt eines Teils der Rille für das Polierkissen wurde vergrößert und
mit einem optischen Mikroskop beobachtet. Das erhaltene Bild des
Mikroskops wird in 11 gezeigt.
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Beispiel 1-2
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100
Volumenteile 1, 2 Polybutadien (Handelsname "JSR RB 840" hergestellt von JSR Corp.), dass eine
in Wasser unlösliche
Matrix durch Vernetzen bildet und 100 Volumenteile an in Wasser
löslichen
Teilchen (durchschnittlicher Durchmesser der Teilchen: 20 μm), die durch
Beschichten von β-Cyclodextrin (Handelsname "Dexipearl β-100" hergestellt durch
Bio Research Corporation von Yokohama) auf ein Polypeptid erhalten wurde,
wurden mit einem Schneckenextruder, dessen Temperatur auf 160 °C eingestellt
wird, geknetet und dadurch wurden weiße Pellets erhalten. Danach
wurden 0,3 Volumenteile an organischem Peroxid (Handelsname "Perhexine 25B" hergestellt durch
NOF Corp.) mit weißen
Pellets eingemischt und weiter bei 120 °C geknetet und dadurch wurden
weiße
Pellets erhalten. An der nächsten
Stelle wurden die mit Peroxid versehenen Pellets in eine Form die*
eingebracht und auf 190 °C
10 Minuten lang erwärmt,
um zu vernetzen; und dadurch wurde ein Scheiben-ähnlich geformter Körper, der
einen Durchmesser von 60 cm und eine Dicke von 2,5 mm aufweist,
erhalten. Danach wurden auf einer Seite der Oberfläche des
geformten Körpers
konzentrische kreisförmige
Rillen, die eine Breite von 0,5 mm, eine Tiefe von 0,5 mm, eine
Ganghöhe
von 1,2 mm und eine Länge zwischen
den benachbarten Rille 0,7 mm aufweisen, mit einer Schneidemaschine ähnlich zu
Beispiel 1-1 geformt.
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Als
nächstes
wurde die Rauheit Ra der Oberfläche
auf einer inneren Oberfläche
der Rille ähnlich
zu Beispiel 1-1 gemessen. Als Ergebnis betrug die Rauheit der Oberfläche Ra 1,5 μm.
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Vergleichsbeispiel 1-1
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Die
Rauheit der Oberfläche
Ra einer inneren Oberfläche
einer Rille für
ein Polierkissen, das aus geschäumtem
Polyurethan hergestellt wurde, das eine ringförmige Rille aufweist, die eine
Breite von 0,25 mm, eine Tiefe von 0,4 mm, eine Ganghöhe von 1,5
mm (Handelsname "IC
1101" hergestellt
von Rodel Nitta Co.) aufweist, wurde ähnlich zu Beispiel 1-1 gemessen.
Als Ergebnis betrug die Rauheit Ra der Oberfläche 30 μm.
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Zusätzlich wurde
ein Abschnitt eines Teils der Rille für das Polierkissen vergrößert und
mit einem optischen Mikroskop beobachtet. Das erhaltene Bild des
Mikroskops wird in 12 gezeigt.
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1-2 Beurteilung der Polierleistungsfähigkeit.
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Die
Polierkissen gemäß den Beispielen
1-1 und 1-2 und Vergleichsbeispiel 1-1 wurde jedes auf einer Oberflächenplatte
einer Poliervorrichtung angebracht (Handelsname "Lap Master LM-15" hergestellt von SFT Corp.) und ein
Wafer mit einer SiO2 Schicht wurde 2 Minuten
unter den Bedingungen einer Umdrehungszahl von 50 U/min und einer
Fließrate
von 100 cm2/min eines chemisch mechanischen
Polierslurry (Handelsname "CMS
1101" hergestellt
von JSR Corp.), der um das dreifache verdünnt wurde, poliert. Jedes Polierkissen
bezüglich
der Abtragrate, Kratzer, Fremdkörper
und dem Zustand der Poren beurteilt. Die jeweiligen Meßverfahren
wurde wie folgt durchgeführt.
- (1) Abtragrate; Die Dicken vor und nach dem
Polieren wurde mit einem optischen Dickenmesser gemessen und eine
Abtragrate wurde aus diesen Dicken berechnet.
- (2) Kratzer und Fremdkörper;
die polierten Oberflächen
des SiO2 Schichtwafer wurden nach dem Polieren mit
einem Elektronenmikroskop beobachtet.
Die Beurteilungskriterien
der Kratzer waren wie folgt; das heißt O; kein Kratzer wurde beobachtet,
X; Kratzer wurden beobachtet. Und die Beurteilungskriterien für Fremdkörper waren
wie folgt; das heißt
O; kein Fremdkörper
wurde beobachtet, X; Fremdkörper
wurden beobachtet.
- (3) Der Zustand der Poren; Eine Oberfläche von jedem poliertem Polierkissen
wurde 5 Minuten mit #400 Diamantschleifmittel poliert, gefolgt von
einem Putzen und danach wurde der Zustand der Poren auf der geputzten
Oberfläche
mit einem Elektronenmikroskop beobachtet.
Die Beurteilungskriterien
waren wie folgt; das heißt,
O; so gut wie alle Poren waren offen, X; die Poren waren teilweise
verstopft.
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Die
Ergebnisse von (1) bis (3) werden zusammen in Tabelle 1 gezeigt.
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Aus
den Meßergebnissen
der Rauheit der Oberfläche
ist gefunden worden, dass die Rille des Polierkissens gemäß dem Vergleichsbeispiel
1-1 groß bei
der Unebenheit der inneren Oberfläche ist, nämlich nicht einheitlich. Zusätzlich wird
gemäß 12 ein
großer Überstand
gesehen. Zusätzlich
zeigt Figur 3.63 in Detailed Semiconductor CMP Technology (detailierte
Halbleiter CMP Technologie), herausgegeben von Doi Toshirou (Kogyo
Chosakai, erste Auflage), auf Seite 114 ein Bild eines Abtastelektronenmikroskops
eines geschäumten
Polierkissen aus Polyurethan (Handelsname "IC1000" hergestellt von Rodel Nitta Co.) ähnlich dem Polierkissen,
das im Vergleichsbeispiel 1-1 verwendet wird, zu sehen. Auch aus
diesem Mikroskopbild wird gefunden, dass es eine größere Unebenheit
bei der Rille, im Vergleich mit 11 gemäß Beispiel
1-1, gibt.
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Gemäß den Ergebnissen
in Tabelle 1, wurden die Kratzer und Fremdkörper auf der polierten Oberfläche beobachtet,
die mit einem Polierkissen gemäß dem Vergleichsbeispiel
1-1 poliert wurden. Zusätzlich
waren die Poren nach dem Putzen teilweise verstopft, das heißt geschlossen.
Insbesondere waren fast alle Poren in der Umgebung der offenen Teile
der Rille, die wahrscheinlich beim Putzen verstopft wurden, verstopft.
Des Weiteren ist gefunden worden, das die Abtragrate des Vergleichsbeispiels
1-1 ein viertel der des Beispiels 1-1 und ein fünftel des Beispiels 1-2 betrug,
das heißt
weit schlechter als diese. Dies wird berücksichtigt, weil die Poren
mit Fremdkörpern
und ähnlichem
während
des Polierens verstopft wurden.
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Auf
der anderen Seite waren bei den Polierkissen gemäß den Beispielen 1-1 und 1-2
eine Seitenoberfläche
und eine Bodenoberfläche
innerhalb der Rille sehr gering bei der Rauheit der Oberfläche, das
heißt
glatt. Das kann durch 11 bestätigt werden. Demgemäß wurde
Kratzer und Fremdkörper
kaum auf der polierten Oberfläche
beobachtet. Des Weiteren waren fast alle Poren komplett offen, selbst
nach dem Putzen, und alle Poren in der Umgebung der Öffnung der
Rille waren insbesondere offen. Die Abtragrate gemäß dem Vergleichsbeispiel
1-1 war das vierfache des Beispiels 1-1 und das fünffache
des Beispiels 1-2. Dies wird berücksichtigt,
weil die Poren nicht auf Grund von Fremdkörpern verstopft sind.
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[2] Polierkissen, das
eine Gitter-ähnliche
Rille aufweist
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2-1 Herstellung des Polierkissens
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Beispiel 2-1
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Auf
einer Oberflächenseite
des Scheiben-ähnlich
geformten Körpers,
der nach Beispiel 1-1 erhalten wurde und weist einen Durchmesser
von 60 cm und eine Dicke von 2,5 mm auf, wobei bei den Gitter- ähnlichen Rillen
die Breite 0,5 mm beträgt,
die Tiefe 1 mm beträgt
und die longitudinale Ganghöhe
beträgt
5 mm und eine querverlaufende Ganghöhe beträgt 5 mm und eine ebene Form
eines Musters, das ein Gitter bildet, ein Quadrat ist, das in 4 gezeigt
wird, wurden mit einer Schneidemaschine gebildet, die von Kato Kikai
Co., Ltd hergestellt wurde.
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Als
nächstes
wurden aus den erhaltenen Polierkissen ein Stück zur Verwendung bei der Messung
der Rauheit der Oberfläche
geschnitten, so dass eine Rille in eine Breitenrichtung eingeschlossen
sein kann. Danach wurde die Rauheit Ra der Oberfläche auf
einer inneren Oberfläche
der Rille aus drei verschiedenen Ansichtsfeldern des Stücks mit
dem oben erwähnten
dreidimensionalen analytischen Strukturmikroskop gemessen. Als Ergebnis
betrug die Rauheit der Oberfläche
Ra 2,5 μm.
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Ein
Abschnitt eines Teils der Rille für das Polierkissen wurde vergrößert und
mit einem optischen Mikroskop beobachtet. Das erhaltene Mikroskopbild
wird in 13 gezeigt.
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Beispiel 2-2
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Auf
einer Oberflächenseite
des Scheiben-ähnlich
gebildeten Körpers,
das in Beispiel 1-2 erhalten wurde und einen Durchmesser von 60
cm und eine Dicke von 2,5 mm aufweist, mit einer Schneidemaschine, ähnlich wie
in Beispiel 2-1, wurden Gitter-ähnliche
Rillen, bei der die Breite 1 mm, die Tiefe 1 mm, die longitudinale Ganghöhe 10 mm
und eine querverlaufende Ganghöhe
10 mm aufweist und eine ebene Form eines Musters, das ein Gitter
bildet, das ein Quadrat ist, gebildet.
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Als
nächstes
wurde die Rauheit der Oberfläche
Ra einer inneren Oberfläche
der Rille ähnlich
wie in Beispiel 2-1 gemessen. Als Ergebnis betrug die Rauheit der
Oberfläche
2,2 μm.
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Vergleichsbeispiel 2-1
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Die
Rauheit der Oberfläche
Ra der inneren Oberfläche
einer Rille eines Polierkissens, das aus geschäumtem Polyurethan gemacht ist,
weist eine Gitter-ähnliche
Rille auf, die eine Breite von 2 mm, eine Tiefe von 0,5 mm, eine
longitudinale Ganghöhe
von 15 mm und eine querverlaufende Ganghöhe von 15 mm (Handelsname "IC1000" hergestellt von
Rodel Nitta Co.) aufweist, wurde ähnlich wie in Beispiel 2-1
gemessen. Als Ergebnis betrug die Rauheit der Oberfläche Ra 25 μm.
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2-2 Überprüfung der Polierleistungsfähigkeit
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Ähnlich zu
[1], wurden die Poliereigenschaften der Polierkissen gemäß den Beispielen
2-1 und 2-2 und Vergleichsbeispiel 2-1 überprüft. Die Ergebnisse werden in
Tabelle 2 gezeigt.
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Aus
den Meßergebnissen
der Rauheit der Oberfläche
wurde gefunden, dass die Rille des Polierkissens gemäß dem Vergleichsbeispiel
1-1 größer bei
der Unebenheit der inneren Oberfläche ist, nämlich nicht einheitlich. Zusätzlich zeigt
Figur 3.63 in Detailed Semiconductor CMP Technology (detailierte
Halbleiter CMP Technologie), herausgegeben von Doi Toshirou (Kogyo
Chosakai, erste Auflage), auf Seite 114 ein Bild eines Abtastelektronenmikroskops
eines geschäumten
Polierkissen aus Polyurethan (Handelsname "IC1000" hergestellt von Rodel Nitta Co.) ähnlich dem
Polierkissen zu sehen, das im Vergleichsbeispiel 1-1 verwendet wird. Auch
aus diesem Mikroskopbild wird gefunden, dass es eine größere Unebenheit
bei der Rille gibt, im Vergleich mit 13 gemäß Beispiel
2-1.
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Gemäß den Ergebnissen
in Tabelle 2, wurden die Kratzer und Fremdkörper auf der polierten Oberfläche beobachtet,
die mit einem Polierkissen gemäß dem Vergleichsbeispiel
2-1 poliert wurden. Zusätzlich
waren die Poren nach dem Putzen teilweise verstopft, das heißt geschlossen.
Insbesondere waren fast alle Poren in der Umgebung der offenen Teile
der Rille, die wahrscheinlich beim Putzen verstopft wurden, verstopft.
Des Weiteren ist gefunden worden, das die Abtragrate des Vergleichsbeispiels
2-1 ein viertel der des Beispiels 2-1 und ein fünftel des Beispiels 2-2 betrug,
das heißt
weit schlechter als diese. Dies wurde berücksichtigt, weil die Poren
mit Fremdkörpern
und ähnlichem
während
des Polierens verstopft wurde.
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Auf
der anderen Seite waren bei den Polierkissen gemäß den Beispielen 2-1 und 2-2
eine Seitenoberfläche
und eine Bodenoberfläche
innerhalb der Rille sehr gering bei der Rauheit der Oberfläche, das
heißt
glatt. Das kann durch 13 bestätigt werden. Demgemäß wurde
Kratzer und Fremdkörper
kaum auf einer polierten Oberfläche
beobachtet. Des Weiteren waren fast alle Poren komplett offen nach
dem Putzen und alle Poren in der Umgebung der Öffnung der Rille waren insbesondere
offen. Die Abtragrate gemäß dem Vergleichsbeispiel
2-1 war das vierfache des Beispiels 2-1 und das dreifache des Beispiels
1-2. Dies wurde
berücksichtigt,
weil die Poren nicht auf Grund von Fremdkörpern verstopft sind.
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[3] Polierkissen, das
eine Spiral-förmige
Rille aufweist
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3-1 Herstellung des Polierkissens
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Beispiel 3-1
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Auf
einer Oberflächenseite
des Scheiben-ähnlich
gebildeten Körpers,
der nach Beispiel 1-1 erhalten wurde und der einen Durchmesser vor.
60 cm und eine Dicke von 2,5 mm aufweist, bei den Spiral-förmigen Rillen
beträgt
die Breite 1 mm, die Tiefe beträgt
1 mm und die Ganghöhe
beträgt
2,5 mm und eine Länge
zwischen benachbarten Rillen beträgt 1,5 mm, die in 7 gezeigt
werden, wurden mit einer Schneidemaschine gebildet, die von Kato
Kikai Co., Ltd hergestellt wurde.
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Als
nächstes
wurde von dem erhaltenen Polierkissen ein Stück zur Verwendung bei der Messung
der Rauheit der Oberfläche
geschnitten, so dass eine Rille in eine Breitenrichtung eingeschlossen
sein kann. Danach wurde die Rauheit Ra der Oberfläche auf
einer inneren Oberfläche
der Rille aus drei verschiedenen Ansichtsfeldern des Stücks mit
dem oben erwähnten
dreidimensionalen analytischen Strukturmikroskop gemessen. Als Ergebnis
betrug die Rauheit der Oberfläche
Ra 2,0 μm.
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Ein
Abschnitt eines Teils der Rille für das Polierkissen wurde vergrößert und
mit einem optischen Mikroskop beobachtet. Das erhaltene Mikroskopbild
wird in 14 gezeigt.
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Beispiel 3-2
-
Auf
einer Oberflächenseite
des Scheiben-ähnlich
gebildeten Körpers,
der in Beispiel 1-2 erhalten wurde und einen Durchmesser von 60
cm und eine Dicke von 2,5 mm aufweist, mit einer Schneidemaschine, ähnlich wie
in Beispiel 3-1, wurden Spiral-förmige
Rillen, bei denen die Breite 0,5 mm, die Tiefe 0,5 mm, die Ganghöhe 1,7 mm
und eine Länge
zwischen benachbarten Rillen 1,2 mm beträgt, gebildet.
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Als
nächstes
wurde die Rauheit der Oberfläche
Ra einer inneren Oberfläche
der Rille ähnlich
wie in Beispiel 3-1 gemessen. Als Ergebnis betrug die Rauheit der
Oberfläche
1,9 μm.
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Vergleichsbeispiel 3-1
-
Die
Rauheit der Oberfläche
Ra der inneren Oberfläche
einer Rille eines Polierkissens, das aus geschäumtem Polyurethan gemacht ist,
weist eine spiral-förmige
Rille auf, die eine Breite von 0,25 mm, eine Tiefe von 0,4 mm und
eine Ganghöhe
von 1,5 mm (Handelsname "IC1000" hergestellt von
Rodel Nitta Co.) aufweist, wurde ähnlich wie in Beispiel 3-1
gemessen. Als Ergebnis betrug die Rauheit der Oberfläche Ra 25 μm.
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2-2 Überprüfung der Polierleistungsfähigkeit
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Ähnlich zu
[1], wurden die Poliereigenschaften der Polierkissen gemäß den Beispielen
3-1 und 3-2 und Vergleichsbeispiel 3-1 überprüft. Die Ergebnisse werden in
Tabelle 3 gezeigt.
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Aus
den Meßergebnissen
der Rauheit der Oberfläche
wurde gefunden, dass die Rille des Polierkissens gemäß dem Vergleichsbeispiel
3-1 größer bei
der Unebenheit der inneren Oberfläche ist, nämlich nicht einheitlich. Zusätzlich zeigt
Figur 3.63 in Detailed Semiconductor CMP Technology (detailierte
Halbleiter CMP Technologie), herausgegeben von Doi Toshirou (Kogyo
Chosakai, erste Auflage), auf Seite 114 ein Bild eines Abtastelektronenmikroskops
eines geschäumten
Polierkissen aus Polyurethan (Handelsname "IC1000" hergestellt von Rodel Nitta Co., weist
eine Rille auf der polierenden Seite der Oberfläche auf) ähnlich dem Polierkissen gezeigt,
das im Vergleichsbeispiel 3-1 verwendet wird. Auch aus diesem Mikroskopbild
wird gefunden, dass es eine größere Unebenheit
bei der Rille gibt im Vergleich mit 14 gemäß Beispiel
3-1.
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Gemäß den Ergebnissen
in Tabelle 3, wurden die Kratzer und Fremdkörper auf der polierten Oberfläche beobachtet,
die mit einem Polierkissen gemäß dem Vergleichsbeispiel
3-1 poliert wurden. Zusätzlich
waren die Poren nach dem Putzen teilweise verstopft, das heißt geschlossen.
Insbesondere waren fast alle Poren in der Umgebung der offenen Teile
der Rille, die wahrscheinlich beim Putzen verstopft wurden, verstopft.
Des Weiteren ist gefunden worden, das die Abtragrate des Vergleichsbeispiels
2-1 im wesentlichen ein viertel der des Beispiels 3-1 und im wesentlichen
ein fünftel
des Beispiels 3-2
betrug, das heißt,
weit schlechter als diese. Dies wird berücksichtigt, weil die Poren
mit Fremdkörpern
und ähnlichem
während
des Polierens verstopft wurde.
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Auf
der anderen Seite waren bei den Polierkissen gemäß den Beispielen 3-1 und 3-2
eine Seitenoberfläche
und eine Bodenoberfläche
innerhalb der Rille sehr gering bei der Rauheit der Oberfläche, das
heißt
glatt. Das kann durch 14 bestätigt werden. Demgemäß wurde
Kratzer und Fremdkörper
kaum auf einer polierten Oberfläche
beobachtet. Des Weiteren waren fast alle Poren komplett offen nach
dem Putzen und alle Poren in der Umgebung der Öffnung der Rille waren insbesondere
offen. Die Abtragrate gemäß dem Vergleichsbeispiel
3-1 war das vierfache des Beispiels 3-1 und so groß wie mehr
als das fünffache
des Beispiels 3-2. Dies wird berücksichtigt,
weil die Poren nicht auf Grund von Fremdkörpern verstopft sind.
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[4] Polierkissen, das
einen konkaven Teil aufweist
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4-1 Herstellung des Polierkissens
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Beispiel 4-1
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Auf
einer Oberflächenseite
des Scheiben-ähnlich
gebildeten Körpers,
der nach Beispiel 1-1 erhalten wurde und einen Durchmesser von 60
cm und eine Dicke von 2,5 mm aufweist, viele konkave Teile, deren
ebene Form ein Kreis ist, wobei der Durchmesser 0,5 mm, die Tiefe
1 mm und die Ganghöhe
1,5 mm beträgt
[die Entfernungen zwischen den jeweiligen konkaven Teilen in einer
Umfangsrichtung und in einer diametralen Richtung waren jeweils
die gleichen (1 mm); das heißt
diese konkaven Teile waren äquidistant),
der in 9 gezeigt wird, wurden mit einer Schneidemaschine
gebildet, die von Kato Kikai Co., Ltd hergestellt wurde.
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Als
nächstes
wurde von dem erhaltenen Polierkissen ein Stück zur Verwendung bei der Messung
der Rauheit der Oberfläche
geschnitten, so dass eine Vielzahl von konkaven Teilen eingeschlossen
sein können. Danach
wurde die Rauheit Ra der Oberfläche
auf einer inneren Oberfläche
der Rille aus drei verschiedenen Ansichtsfelder des Stücks mit
dem oben erwähnten
dreidimensionalen analytischen Strukturmikroskop gemessen. Als Ergebnis
betrug die Rauheit der Oberfläche
Ra 2,3 μm.
-
Ein
Abschnitt eines Teils der Rille für das Polierkissen wurde vergrößert und
mit einem optischen Mikroskop beobachtet. Das erhaltene Mikroskopbild
wird in 15 gezeigt.
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Beispiel 4-2
-
Auf
einer Oberflächenseite
des Scheiben-ähnlich
gebildeten Körpers,
der in Beispiel 1-2 erhalten wurde und einen Durchmesser von 60
cm und eine Dicke von 2,5 mm aufweist, mit einer Schneidemaschine
gebildet, ähnlich
wie in Beispiel 3-1, wurden viele konkave Teile, deren ebene Form
ein Kreis ist, wobei der Durchmesser 0,5 mm, die Tiefe 0,5 mm, die
Ganghöhe
1,2 mm betrug, [die Entfernungen zwischen den jeweiligen konkaven
Teilen in einer Umfangsrichtung und in einer diametralen Richtung
waren jeweils die gleiche (0,7 mm); das heißt diese konkaven Teile waren äquidistant]
gebildet.
-
Als
nächstes
wurde die Rauheit der Oberfläche
Ra einer inneren Oberfläche
des konkaven Teils, ähnlich
wie in Beispiel 4-1, gemessen. Als Ergebnis betrug die Rauheit der
Oberfläche
1,5 μm.
-
Vergleichsbeispiel 4-1
-
Die
Rauheit der Oberfläche
Ra der inneren Oberfläche
einer Rille eines Polierkissens, das aus geschäumtem Polyurethan gemacht ist,
das viele konkave Teile, deren Durchmesser 1,5 mm, die Tiefe 1,0
mm, die Ganghöhe
5,5 mm betrug, (Handelsname "IC1000" hergestellt von
Rodel Nitta Co.) aufweist, wurde ähnlich wie in Beispiel 4-1
gemessen. Als Ergebnis betrug die Rauheit der Oberfläche Ra 25 μm.
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2-2 Überprüfung der Polierleistungsfähigkeit
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Ähnlich zu
[1], wurden die Poliereigenschaften der Polierkissen gemäß den Beispielen
4-1 und 4-2 und Vergleichsbeispiel 4-1 überprüft. Die Ergebnisse werden in
Tabelle 4 gezeigt.
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-
Aus
den Meßergebnissen
der Rauheit der Oberfläche
wurde gefunden, dass die Rille des Polierkissens gemäß dem Vergleichsbeispiel
4-1 größer bei
der Unebenheit der inneren Oberfläche ist, nämlich nicht einheitlich. Zusätzlich zeigt
Figur 3.63 in Detailed Semiconductor CMP Technology (detailierte
Halbleiter CMP Technologie), herausgegeben von Doi Toshirou (Kogyo
Chosakai, erste Auflage), auf Seite 114 ein Bild eines Abtastelektronenmikroskops
eines geschäumten
Polierkissen aus Polyurethan (Handelsname "IC1000" hergestellt von Rodel Nitta Co., weist
eine Rille auf der polierenden Seite der Oberfläche auf) ähnlich dem Polierkissen, das
im Vergleichsbeispiel 4-1 verwendet wird. Auch aus diesem Mikroskopbild
wird gefunden, dass es eine größere Unebenheit
bei dem konkaven Teil gibt, im Vergleich mit 15 gemäß Beispiel
4-1.
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Aus
den Ergebnissen in Tabelle 4, wurden die Kratzer und Fremdkörper auf
der polierten Oberfläche beobachtet,
die mit einem Polierkissen gemäß dem Vergleichsbeispiel
4-1 poliert wurden. Zusätzlich
waren die Poren nach dem Putzen teilweise verstopft, das heißt, geschlossen.
Insbesondere waren fast alle Poren in der Umgebung des offenen Teils
des konkaven Teils, die wahrscheinlich beim Putzen verstopft wurden,
verstopft. Des Weiteren ist gefunden worden, das die Abtragrate
des Vergleichsbeispiels 4-1 ein viertel der des Beispiels 4-1 und
im wesentlichen ein fünftel
des Beispiels 4-2
betrug, das heißt,
weit schlechter als diese. Dies wird berücksichtigt, weil die Poren
mit Fremdkörpern
und ähnlichem
während
des Polierens verstopft wurden.
-
Auf
der anderen Seite waren bei den Polierkissen gemäß den Beispielen 4-1 und 4-2
eine Seitenoberfläche
und eine Bodenoberfläche
innerhalb der Rille sehr gering bei der Rauheit der Oberfläche, das
heißt
glatt. Das kann durch 15 bestätigt werden. Demgemäß wurden
Kratzer und Fremdkörper
kaum auf einer polierten Oberfläche
beobachtet. Des Weiteren waren fast alle Poren komplett offen nach
dem Putzen und alle Poren in der Umgebung der Öffnung der Rille waren insbesondere
offen. Die Abtragrate gemäß dem Vergleichsbeispiel
4-1 war das vierfache des Beispiels 4-1 und so groß wie mehr
als das fünffache
des Beispiels 4-2. Dies wird berücksichtigt,
weil die Poren nicht auf Grund von Fremdkörpern verstopft waren.
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Die
vorliegenden Erfindung stellt ein Polierkissen und gemäß einer
Ausführungsform
ein vielschichtiges Polierkissen zur Verfügung, dass insbesondere wirksam
das Auftreten von Kratzern unterdrückt. Das erfindungsgemäße Polierkissen
weist zumindest eine Komponente auf, die aus einer Rille (a), die
zumindest eine Art der Form aufweist, die aus ringförmig, gitterähnlich und
einer Spiralform ausgewählt
wird, auf einer Seite der polierenden Oberfläche, einem konkaven Teil (b)
und einem durchgehenden Loch (c) ausgewählt wird. Oben beträgt die Rauheit
der Oberfläche
der inneren Oberfläche
des Teils 20 μm
oder weniger und das Polierkissen wird für chemisch mechanisches Polieren
verwendet.