DE60222500D1 - Verfahren und Apparat zur Korrektur von Maskenstrukturen - Google Patents

Verfahren und Apparat zur Korrektur von Maskenstrukturen

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    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
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