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Gebiet der Erfindung
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Diese
Erfindung betrifft ein Quecksilberentfernungsverfahren und ein System
zur Verwendung in der Nassgasreinigung. Insbesondere betrifft sie
ein Quecksilberentfernungsverfahren, das wirksam sehr kleine Mengen
von Quecksilberkomponenten entfernen kann, die in einem Gas während einer
Nassgasreinigung, wie die Reinigung von Kohle- oder Schwerölvergasungsgas,
oder bei der Erdölraffination
vorhanden sind.
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Hintergrund der Erfindung
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Abgas
von Wärmekraftwerken
mit Kohleverbrennung enthält
von Kohle stammendes Quecksilber. Dieses Quecksilber kann in einem
herkömmlichen
Rauchgasbehandlungssystem (das einen elektrostatischen Abscheider,
eine Nassrauchgasentschwefelungsvorrichtung und dergleichen umfasst)
nicht vollständig
entfernt werden und ein Teil dessen wird aus diesem ausgetragen.
Da Quecksilber eine Spurenkomponente ist und einen sehr hohen Dampfdruck
aufweist und insbesondere metallisches Quecksilber die Eigenschaft
hat, dass es in Wasser unlöslich
ist, ist es schwierig, Quecksilber durch Rückgewinnung desselben mit einem Staubsammler
oder durch Waschen des Gases mit einem Gaswäscher zu entfernen.
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Eine
große
Menge Quecksilber wird daher bei herkömmlicher Abfallbeseitigung
durch Verbrennen oder dergleichen ausgetragen, jedoch ist die Beseitigungsgrößenordnung
relativ klein und sie produziert ein kleines Gasvolumen. Daher wurde
dieses Quecksilber häufig
beispielsweise durch Adsorption unter Verwendung von Aktivkohle
behandelt. Zwar sind Behandlungsverfahren, die die Adsorption durch
Aktivkohle umfassen, wirksame Verfahren zur Entfernung von diesem
Quecksilber, doch sind sie zur praktischen Verwendung bei der Behandlung
eines großen
Gasvolumens nicht geeignet, da enorme Verbrauchskosten erforderlich
sind.
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Infolgedessen
wurde ein Quecksilberentfernungsverfahren vorgeschlagen, wobei ein
Oxidationsmittel, beispielsweise in einem Nebelabscheider (M/E),
der stromabwärts
eines Rauchgasentschweflers installiert ist, gesprüht wird.
Da es schwierig ist, Aktivkohle in Wärmekraftwerken aus dem oben
beschriebenen Grund zu verwenden, liefert dieses Verfahren ein geeigneteres
Mittel zur Entfernung von Quecksilber durch Sprühen eines Oxidationsmittels
in einem Nebelabscheider.
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Darüber hinaus
wurde ein Verfahren vorgeschlagen, wobei metallisches Quecksilber
an einem Katalysator, wie einem Denitrierungskatalysator, oxidiert
wird, und dieses HgCl2 in einem Abgasentschwefler
entfernt wird.
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Quecksilber
existiert hauptsächlich
in zwei Formen: metallisches Quecksilber (Hg) der Wertigkeit Null und
Quecksilberchlorid (HgCl2). Während metallisches
Quecksilber in Wasser kaum löslich
ist, ist Quecksilberchlorid in Wasser relativ löslich. Daher kann Quecksilber
in der Form von Quecksilberchlorid mittels eines Entschweflers entfernt
werden. Entsprechend kann metallisches Quecksilber der Wertigkeit
Null durch Oxidation desselben zu Quecksilberchlorid mit Hilfe eines
Oxidationsmittels entfernt werden.
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Bei
diesem Verfahren wird daher ein Chlorierungsmittel, wie Cl2 oder HCl, unmittelbar vor einem Denitrierungskatalysator in
einem Denitrierer zugegeben und gesprüht, so dass metallisches Quecksilber
an dem Denitrierungskatalysator oxidiert wird.
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In üblichen
Abgasen ist nicht das gesamte Quecksilber in der Form von metallischem
Quecksilber vorhanden. Ein gewisser Anteil desselben ist in der
Form von Quecksilberchlorid vorhanden, da Kohle einen hohen Chlorgehalt
aufweist, und diese Quecksilberkomponente kann entfernt werden.
Daher kann ein Chlorierungsmittel für das übrige metallische Quecksilber
verwendet werden.
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Jedoch
ergab die Untersuchung des Quecksilbers, das beispielsweise in Kohle-
oder Schwerölvergasungsgas
enthalten ist, dass fast das gesamte Quecksilber als metallisches
Quecksilber in einer reduzierenden Atmosphäre vorhanden ist und wenig
in Wasser gelöst
wird. Entsprechend wird, wenn ein Oxidationsmittel in einer Atmosphäre eines
reduzierenden Gases während
der Nassgasreinigung gesprüht
wird, das Oxidationsmittel aufgrund des Vorhandenseins verschiedener
reduzierender Substanzen verschwendet und es kann nicht erwartet
werden, dass eine vorteilhafte Wirkung hervorgerufen wird.
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Darüber hinaus
erfolgt, wenn ein Chlorierungsmittel kontinuierlich gesprüht wird,
um eine Reaktion an dem Katalysator zu induzieren, bei einem Vergasungsgas
mit einem hohen Ammoniakgehalt und hohem Druck die Reaktion von
Ammoniak mit HCl, was zur Abscheidung von Ammoniumchlorid (NH4Cl) führt.
Dieses Ammoniumchlorid kann insofern ein Problem verursachen, als
es sich gerne in Einheiten wie GGHs ansammelt und diese blockiert.
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Die
US-A-4 863 489 (D1) offenbart ein Verfahren zur Entfernung von Quecksilber
aus einem Gasstrom, der Schwefelwasserstoff und Quecksilber enthält, durch
Inkontaktbringen des Gasstroms mit einem absorbierenden Fluidum,
wonach das absorbierende Fluidum unter Abtreiben des absorbierten
Quecksilbers regeneriert wird, das anschließend durch ein Aktivkohleadsorptionsmittel
entfernt wird.
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Zusammenfassung der Erfindung
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Im
Hinblick auf die oben beschriebenen Probleme führten die Erfinder der vorliegenden
Erfindung intensive Untersuchungen durch, um ein Quecksilberentfernungsverfahren
zu entwickeln, das Quecksilber als Spurenkomponente in Gasen wirksam
und effizient entfernen kann, das die aus dem Betrieb des Systems
herrührenden
Quecksilberentfernungskosten verringern kann und das ein vereinfachtes
Vorgehen und System erfordert und daher ohne weiteres durchgeführt werden
kann.
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Infolgedessen
ermittelten die Erfinder der vorliegenden Erfindung nun, dass die
Koexistenz von H2S in einem Vergasungsgas
bewirkt, dass metallisches Quecksilber in Wasser übergeht
und das auf diese Weise gesammelte in die Gasphase freigesetzt wird,
wenn das Wasser einem niedrigeren Druck ausgesetzt wird (oder geflasht)
wird. Das heißt,
im Falle einer Nassgasreinigung ermöglicht die Koexistenz von Schwefelwasserstoff
in der Wasserwaschstufe das Übergehen
von Hg in die Absorptionsflüssigkeit
und dadurch die Entfernung desselben und das in der Wasserwaschstufe
eingefangene Hg kann in die Gasphase durch Zurücksetzen des Hg-haltigen Abwassers
von dem erhöhten
Druck zu atmosphärischem
Druck freigesetzt werden. Daher wurde auch ermittelt, dass die oben
beschriebenen Probleme durch Entfernen von Quecksilber nach einem
diese Phänomene
nutzenden Verfahren gelöst
werden können.
Die vorliegende Erfindung wurde im Hinblick darauf gemacht.
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Insbesondere
erfolgt durch die vorliegende Erfindung die Bereitstellung eines
Quecksilberentfernungsverfahrens gemäß An spruch 1 zur Entfernung
von in einem Gas während
einer Nassgasreinigung vorhandenen Quecksilberkomponenten, wobei
das Verfahren eine Wasserwaschstufe zum Inkontaktbringen eines Quecksilberkomponenten
enthaltenden Gases mit einer Absorptionsflüssigkeit unter Druckbedingungen, die
die Gegenwart von nicht weniger als 10 ppm und vorzugsweise nicht
weniger als 100 ppm Schwefelwasserstoff umfasst, um zu bewirken,
dass Quecksilberkomponenten von dem Gas in die Absorptionsflüssigkeit übergehen;
eine Flashstufe anschließend
an die Wasserwaschstufe zum Versprühen der ausgetragenen Absorptionsflüssigkeit
unter einem niedrigeren Druck zur Trennung derselben in gasförmige Komponenten
und Abwasser; und eine Adsorptionsentfernungsstufe zum Durchleiten
der gasförmigen
Komponenten durch einen Quecksilbersilberentferner, der mit einem
Adsorptionsmittel zur Entfernung von Quecksilbersilberkomponenten
hieraus durch Adsorption ausgestattet ist, umfasst. Bei diesem Quecksilberentfernungsverfahren
werden Quecksilberkomponenten vorzugsweise in der Absorptionsflüssigkeit,
beispielsweise unter einem erhöhten Druck
von 0,2 bis 5,0 MPa und in Koexistenz mit etwa 500 ppm bis 10% Schwefelwasserstoff,
gelöst
und die geflashten Quecksilberkomponenten durch Adsorption an als
Adsorptionsmittel verwendeter Aktivkohle entfernt. Vorzugsweise
weist die Aktivkohle eine daran abgeschiedene S-Komponente auf.
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Durch
die vorliegende Erfindung erfolgt ferner die Bereitstellung eines
Quecksilberentfernungssystems gemäß Anspruch 4 zur Entfernung
von in einem Gas während
einer Naßgasreinigung
vorhandenem Quecksilber, wobei das System einen Wasserwaschturm,
wobei ein sowohl Quecksilberkomponenten als auch Schwefelwasserstoff
enthaltendes Gas in diesen eingeführt und eine Absorptionsflüssigkeit
durch den Turm unter Druckbedingungen zirkuliert wird, so dass bewirkt
wird, dass Quecksilberkomponenten in die Absorptionsflüssigkeit übergehen;
einen Flashzylinder, in dem die aus dem Wasserwaschturm ausgetragene
Ab sorptionsflüssigkeit
unter einem niedrigeren Druck zur Auftrennung in gasförmige Komponenten
und Abwasser versprüht
wird; und eine Quecksilberentfernungseinrichtung, die mit einem
Adsorptionsmittel ausgestattet ist, in der die in den gasförmigen Komponenten
vorhandenen Quecksilberkomponenten durch Adsorption entfernt werden,
umfasst. Typischerweise umfasst der im Vorhergehenden genannte Wasserwaschturm
einen Gaskühlturm
und einen Gasreinigungsturm. In diesem System, das einen Flashzylinder
und eine Quecksilberentfernungseinrichtung auf der stromabwärtigen Seite
des Wasserwaschturms installiert hat, können etwa 50 bis 95% des in
dem in das System eingeführten
gebildeten Gas vorhandenen Quecksilbers entfernt werden.
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Durch
die vorliegende Erfindung erfolgt ferner die Bereitstellung des
oben beschriebenen Systems, das ferner einen Schwefelwasserstoffabsorptionsturm,
in dem das von dem im Vorhergehenden genannten Wasserwaschturm zugeführte, in
diesen eingeführte,
mit Wasser gewaschene Gas und eine eine Aminverbindung enthaltende
Absorptionsflüssigkeit
zur Entfernung von Schwefelwasserstoff durch Absorption in die Absorptionsflüssigkeit
verwendet werden; einen zweiten Flashzylinder, in dem die aus dem
Schwefelwasserstoffabsorptionsturm ausgetragene Absorptionsflüssigkeit
unter einem niedrigeren Druck zur Auftrennung derselben in gasförmige Komponenten
und eine Absorptionsflüssigkeit,
die einem Regenerationsturm zuzuführen ist, versprüht wird;
und eine Quecksilberentfernungsvorrichtung, die mit einem Adsorptionsmittel
ausgestattet ist, in der die Quecksilberkomponenten, die in den
von dem zweiten Flashzylinder gelieferten gasförmigen Komponenten vorhanden
sind, durch Adsorption entfernt werden, umfasst. In diesem System
mit einem Flashzylinder und einer Quecksilberentfernungsvorrichtung,
die auf der stromabwärtigen
Seite des Schwefelwasserstoffabsorptionsturms installiert sind,
können
etwa 50 bis 95% des in dem in den Schwefelwasserstoffabsorp tionsturm
eingeführten
Wasserwaschgas vorhandenen Quecksilbers entfernt werden.
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In
der vorliegenden Erfindung kann Hg durch Koexistenz von Schwefelwasserstoff
in dem Wasserwaschturm des Systems entfernt werden. Das heißt, wenn
das zu behandelnde Gas ein System ist, das die Koexistenz von Schwefelwasserstoff
umfasst, geht Hg in das in dem Wasserwaschturm vorhandene Wasser über und
kann daher aus dem Gas entfernt werden. Infolgedessen ist Hg in
aus dem Wasserwaschturm ausgetragenem Abwasser enthalten.
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Wenn
das gesammelte Hg-haltige Abwasser von dem erhöhten Druck zu atmosphärischem
Druck zurückgebracht
wird, wird Hg in die Gasphase freigesetzt. Insbesondere wird Hg
durch Durchleiten des Abwassers durch einen Flashzylinder in die
Gasphase verteilt.
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Da
Schwefelwasserstoff üblicherweise
in einem der Gasreinigung unterzogenen Vergasungsgas vorhanden ist,
geht in dem Gas vorhandenes Hg in eine Absorptionsflüssigkeit
in einem Wasserwaschturm über. Nach
dem Durchleiten dieser Absorptionsflüssigkeit durch einen Flashzylinder
zur Rückgewinnung
gasförmiger
Komponenten kann Hg durch Durchleiten der gasförmigen Komponenten durch ein
Adsorptionsmittel adsorbiert und eingefangen werden. Die vorliegende
Erfindung umfasst ein System, wobei durch Flashen abgetrennte Hg-haltige
gasförmige
Komponenten durch ein Adsorptionsmittel geleitet werden, um Quecksilber
aus diesen mittels des Adsorptionsmittels zu entfernen. Daher können im
Vergleich zu dem Fall, bei dem das gesamte Vergasungsgas direkt
mit einem Adsorptionsmittel vor dessen Einführung in das System behandelt
wird, Hg durch die Behandlung eines viel kleineren Gasvolumens entfernt
werden und die zur Behandlung mit einem Adsorptionsmittel erforderlichen
Betriebskosten deutlich verringert werden.
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Daher
macht es die vorliegende Erfindung möglich, Quecksilber als Spurenkomponente
in Gasen wirksam und effizient zu entfernen und auch die Quecksilberentfernungskosten
infolge des Betriebs des Systems zu verringern.
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Kurze Beschreibung der
Zeichnungen
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1 ist
ein Diagramm, das ein Schema eines Systems, das zur Durchführung des
Nassgasreinigungsverfahrens der vorliegenden Erfindung geeignet
ist, erläutert.
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2 ist
ein Diagramm, das schematisch die Konstruktion des in Beispiel 1
verwendeten Reinigungssystems zeigt.
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3 ist
ein Diagramm, das schematisch die Konstruktion des in Beispiel 2
verwendeten Reinigungssystems zeigt.
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4 ist
ein Diagramm, das schematisch die Konstruktion des in Beispiel 3
verwendeten Reinigungssystems zeigt.
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Die
in diesen Figuren angegebenen Bezugszahlen sind wie folgt definiert: 1 Gaskühlturm, 2 Gasreinigungsturm, 3 Flashzylinder, 4 Quecksilberentfernungseinrichtung, 5 Schwefelwasserstoffabsorptionsturm, 6 Absorptionsflüssigkeitsregenerationsturm, 7 Umwälzpumpe, 8 Flashzylinder, 9 Absorptionsflüssigkeitswärmetauscher, 10 Vergasungsofen, 11 Zyklon, 12 Filter, 13 COS-Konverter, 14 Gas-Gas-Wärmetauscher, 15 Quecksilberentfernungseinrichtung, 20, 21 Flashzylinder.
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Detaillierte Beschreibung
der Erfindung
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Eine
spezielle Ausführungsform
das Nassgasreinigungsverfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung wird
im folgenden unter Bezug auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
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1 erläutert schematisch
ein Beispielsystem gemäß dieser
Ausführungsform,
das zur Durchführung
des Quecksilberentfernungsverfahrens der vorliegenden Erfindung
während
einer Nassgasreinigung geeignet ist. Im System dieser Ausführungsform
umfasst die Wasserwaschstufe eine Kühlstufe und eine Reinigungsstufe.
Die Kühlstufe
wird in einem Gaskühlturm 1 durchgeführt und
die Reinigungsstufe wird in einem Gasreinigungsturm 2 durchgeführt. Wasser,
das zur Absorption der in dem Gas vorhandenen Ammoniakkomponente
verwendet wird, wird beispielsweise in den Gasreinigungsturm 2 eingeführt. Diese
zwei Wasserwaschtürme
dienen zur Entfernung von in dem Gas vorhandenem Ammoniak durch
Absorption in eine Absorptionsflüssigkeit.
Das in den Gasreinigungsturm 2 eingeführte Wasser wird mittels einer
Pumpe 7 zirkuliert und fungiert als Absorptionsflüssigkeit
zur Absorption von Ammoniak. Ein Teil desselben wird dem Gaskühlturm 1, der
in Bezug auf die Richtung des Gasstroms auf der stromaufwärtigen Seite
installiert ist, zugeführt
und ebenfalls mittels einer Pumpe 7 durch den Turm zirkuliert.
Die vorliegende Erfindung kann auch in einer Ausführungsform
durchgeführt
werden, bei der die Kühl-
und Reinigungsstufen in einem einzigen Wasserwaschturm durchgeführt werden.
Alternativ kann Schwefelsäure
zu der Absorptionsflüssigkeit
in dem Gaskühlturm 1 gegeben
werden.
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In
der oben beschriebenen Wasserwaschstufe zur Entfernung von Ammoniak
gehen, wenn Quecksilberkomponenten in dem eingeführten Gas enthalten sind und
nicht weniger als 10 ppm Schwefelwasserstoff ebenfalls darin enthalten
sind, die Quecksilberkomponenten in die Absorptionsflüssigkeit
unter Druckbedingungen in den Wasserwaschtürmen (d.h. dem Kühlturm und
dem Reinigungsturm) über.
Da das Übergehen von
Quecksilberkomponenten in die Absorptionsflüssigkeit durch die Temperatur
beeinflusst wird, wird der Grad der Quecksilberentfernung aus dem
Gas erhöht,
wenn die Temperatur der Flüssigkeit
niedriger wird. Entsprechend wird angenommen, dass der Grad der
Quecksilberentfernung durch die Temperaturen des Gaskühlturms 1 und
Gasreinigungsturms 2 beeinflusst wird und der Grad der
Quecksilberentfernung erhöht
wird, wenn die Temperatur des auf der strombabwärtigen Seite installierten
Gasreinigungsturms 2 niedriger wird. Im Hinblick auf die
Quecksilberentfernung ist es bevorzugt, den Gasreinigungsturm 2 üblicherweise
bei 50°C
oder darunter und noch besser bei 40°C oder darunter zu betreiben.
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Als
nächstes
wird die aus der oben beschriebenen Wasserwaschstufe ausgetragene
quecksilberhaltige Absorptionsflüssigkeit
zu einer Flashstufe unter Verwendung eines Flashzylinders 3 überführt, indem
sie unter einem niedrigeren Druck versprüht wird. Auf diese Weise wird
die Absorptionsflüssigkeit
in gasförmige Komponenten
und Abwasser getrennt.
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Bei
derartigen Reinigungsbehandlungssystemen weist das aus der Waschstufe
ausgetragene Abwasser allgemein hohen Druck auf und enthält daher
verschiedene Gas darin gelöst.
Um derartiges Abwasser zu behandeln, ist es übliche Praxis, das Abwasser
im Flashzylinder 3 zu entspannen und es dadurch vom erhöhten Druck
zu befreien. Daher werden die darin gelösten Gase auf einmal geflasht
und in die Gasphase freigesetzt. Dann wird die verbliebene Lösung einer
Abwasserbehandlung unterzogen.
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Wenn
ein übliches
gebildetes Gas behandelt wird, werden die geflashten Gaskomponenten
in einem Verbrennungsofen verbrannt oder an die Atmosphäre abgelassen.
Jedoch umfassen diese Gaskomponenten, wenn das gemäß der vorliegenden
Erfindung zu behandelnde Gas ein quecksilberhaltiges Gas ist, Quecksilber.
Als Grund hierfür
wird angenommen, dass, wenn die Absorptionsflüssigkeit in die Quecksilber
in der Wasserwaschstufe übergegangen
ist, unter einem niedrigeren Druck versprüht wird, das Quecksilber zusammen mit
anderen Gasen in die Gasphase suspendiert oder dispergiert wird.
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Demgemäß werden
die in dem im Vorhergehenden genannten Flashzylinder 3 getrennten
gasförmigen
Komponenten durch eine Quecksilberentfernungsvorrichtung 4,
die mit einem Adsorptionsmittel (beispielsweise Aktivkohle) ausgestattet
ist, geführt.
In dieser Quecksilberentfernungsvorrichtung 4 werden in
dem Gas vorhandene Quecksilberkomponenten durch Adsorption an als
Adsorptionsmittel verwendeter Aktivkohle entfernt. Das Abgas, aus
dem Quecksilber durch Durchleiten durch die Quecksilberentfernungsvorrichtung 4 entfernt
wurde, wird dann einem Abgasverbrennungsofen zugeführt.
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Andererseits
dient das Quecksilberentfernungssystem dieser Ausführungsform,
die in 1 erläutert ist,
auch zur Entfernung von Quecksilberkomponenten aus dem mit Wasser
gewaschenen Gas, das aus den im Vorhergehenden genannten Wasserwaschtürmen in
einen Schwefelwasserstoffabsorptionsturm überführt wurde.
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In
der oben beschriebenen Wasserwaschstufe zur Entfernung von Ammoniak
geht ein gewisser Anteil der Quecksilberkomponenten aus dem quecksilberhaltigen
Gas in die Absorptionsflüssigkeit über. Jedoch
bleiben einige Quecksilberkomponenten immer noch in dem mit Wasser
gewaschenen Gas und sie werden zu einer weiteren Stufe des Nassgasreinigungssystems überführt. Auf
der stromabwärtigen
Seite der Wasserwaschstufe wird eine Schwefelwasserstoffentfernungsstufe
zur Entfernung von in dem Gas vorhandenem Schwefelwasserstoff bereitgestellt.
In dieser Stufe werden in dem Gas vorhandene Quecksilberkomponenten ebenfalls
entfernt. Die Schwefelwasserstoffentfernungsstufe umfasst einen
H2S-Absorptionsturm 5 und einen Absorptionsflüssigkeitsregenerationsturm 6.
Das aus der Wasserwaschstufe überführte, mit
Wasser gewaschene Gas wird in den Schwefel wasserstoffabsorptionsturm 5 eingeführt.
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Der
Hauptzweck des Schwefelwasserstoffabsorptionsturms 5 ist
die Entfernung von Schwefelwasserstoff durch Absorption in eine
ein Amin enthaltende Absorptionsflüssigkeit. Gemäß dieser
Ausführungsform können in
diesem Schwefelwasserstoffabsorptionsturm 5 Quecksilberkomponenten
von dem quecksilber- und schwefelwasserstoffhaltigen
Gas in die Absorptionsflüssigkeit
unter Druckbedingungen übergehen
(Wasserwaschstufe). Daher enthält
die aminhaltige Absorptionsflüssigkeit
auch Quecksilberkomponenten. Entsprechend wird die aus dem Schwefelwasserstoffabsorptionsturm 5 ausgetragene
Absorptionsflüssigkeit
in einen zweiten Flashzylinder 8 eingeführt, in dem sie unter einem
niedrigeren Druck versprüht
und in gasförmige Komponenten
und eine dem Regenerationsturm zuzuführende Absorptionsflüssigkeit
getrennt wird.
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Anschließend werden
in der Ausführungsform
die in dem im Vorhergehenden genannten Flashzylinder 8 abgetrennten
gasförmigen
Komponenten ähnlich
wie die gasförmigen
Komponenten von dem im Vorhergehenden genannten Flashzylinder 8 durch
die mit Aktivkohle ausgestattete Quecksilberentfernungsvorrichtung 4 geschickt.
In dieser Quecksilberentfernungsvorrichtung 4 werden in
dem Gas vorhandene Quecksilberkomponenten durch Adsorption an Aktivkohle
entfernt. Das Abgas, aus dem Quecksilber durch Hindurchleiten durch
die Quecksilberentfernungsvorrichtung 4 entfernt wurde,
wird dann einem Abgasverbrennungsofen zugeführt.
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Die
in dem Flashzylinder 8 abgetrennten gasförmigen Komponenten
können
in eine getrennt von der Quecksilberentfernungsvorrichtung 4 installierte
zweite Quecksilberentfernungsvorrichtung überführt und durch Adsorption an
Aktivkohle behandelt werden.
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Zusätzlich zu
Aktivkohle kann das Adsorptionsmittel ein Chelatharz, elementaren
Schwefel oder eine Schwefelverbindung, die von einem Träger geträgert ist,
der mindestens eine Verbindung, die aus der Gruppe von Al2O3, TiO2 und
SiO2 ausgewählt ist, umfasst, oder Zeolith
umfassen.
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Zwar
wurden mehrere Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung beschrieben, doch ist es selbstverständlich,
dass die vorliegende Erfindung nicht auf die oben beschriebenen
Ausführungsformen
beschränkt ist,
sondern verschiedene Änderungen
und Modifikationen ohne Abweichen von der Idee und dem Umfang der Erfindung
durchgeführt
werden können.
Die vorliegende Erfindung wird ferner durch die folgenden Beispiele erläutert. Jedoch
sollen diese Beispiele nicht als eine Beschränkung des Umfangs der Erfindung
betrachtet werden.
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Beispiel 1
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2 erläutert ein
Schema eines in diesem Beispiel verwendeten Nassgasreinigungssystems.
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In
einem Vergasungsofen 10 wurde diesem zugeführte Kohle
in ein Vergasungsgas umgewandelt, das durch einen stromabwärts desselben
installierten Zyklon 11 und dann durch ein Filter 12 geführt wurde
und einem COS-Konverter 13 zugeführt wurde. Die Zufuhrrate der
Kohle betrug 10 kg/h. Anschließend
durchlief das gebildete Gas einen Gas-Gas-Wärmetauscher 14 und
wurde dann in ein Nassgasreinigungsverfahren eingeführt. Der
Druck des gebildeten Gases betrug 0,9 MPa und die Durchflussrate
desselben betrug 22,4 m3N/h(d). Vor der
Wasserwaschstufe wies das gebildete Gas eine H2S-Konzentration
von 800 bis 1000 ppm und eine Temperatur (T1)
von etwa 200°C
auf.
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Die
Wasserwaschstufe umfasst zwei Türme:
einen auf der stromaufwärtigen
Seite installierten Kühlturm 1 und
einen auf der stromabwärtigen
Seite installierten Gasreinigungsturm 2, von der Richtung
des Gasstroms aus gesehen. Die Gastemperatur (T2)
am Auslass des Gaskühlturms 1 betrug
80°C, die
Durchflussrate der durch den Gaskühlturm 1 zirkulierten
Flüssigkeit
betrug 60 l/h und die Durchflussrate des Abwassers von dem Gaskühlturm 1 betrug
1,9 l/h. Ferner betrug die Gastemperatur (T3)
am Auslass des Gasreinigungsturms 2 40°C und die Durchflussrate der
durch den Gasreinigungsturm 2 zirkulierten Flüssigkeit
100 l/h.
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Die
aus der Wasserwaschstufe ausgetragene quecksilberhaltige Absorptionsflüssigkeit
wurde in einem Flashzylinder 20 versprüht. Die abgetrennten gasförmigen Komponenten
wurden in eine Quecksilberentfernungseinrichtung 4 eingeführt, in
der Quecksilber aus dem Gas entfernt wurde. Die Menge des aus Abwasser
geflashten Gases betrug 30 Nl/h.
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Andererseits
wurde das in der Wasserwaschstufe von Ammoniak befreite Gas einen
Schwefelwasserstoffabsorptionsturm 5 zugeführt. Die
Gastemperatur (T4) am Auslass des H2S-Absorptionsturms 5 betrug 40°C und die
Durchflussrate der durch den H2S-Absorptionsturm 5 zirkulierten
Flüssigkeit
betrug 30 l/h.
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Unter
Bezug auf das oben beschriebene System von 2 wurden
die Hg-Konzentrationen an verschiedenen Positionen S1 bis S6 in
dem System gemessen. Die auf diese Weise erhaltenen Ergebnisse sind in
der folgenden Tabelle 1 angegeben.
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Die
Differenz zwischen den in der Tabelle 1 angegebenen Konzentrationen
S1 und S2 (d.h. S1–S2)
ist die Quecksilbermenge, die durch die Wasserwaschstufe entfernt
wurde. Darüber
hinaus wurde, wenn die durch Flashen des Abwasser abgetrennten gasförmigen Komponenten
durch die Quecksilberentfernungsvorrichtung 4 geschickt
wurden, die Quecksilberkonzentration von 3,0 mg/m3N
(S5) auf weniger als 0,01 mg/m3N (S6) verringert.
Es wurde durch diese Ergebnisse festgestellt, dass Quecksilber in
das aus der Wasserwaschstufe ausgetragene Abwasser übergeht
und Quecksilberkomponenten aus den durch Flashen des Abwassers abgetrennten
gasförmigen
Komponenten effektiv entfernt werden können.
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Beispiel 2
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3 erläutert ein
Schema eines in diesem Beispiel verwendeten Nassgasreinigungssystems.
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Zusätzlich zum
System von Beispiel 1 umfasst dieses Beispiel eine zusätzliche
Stufe, wobei das in die Absorptionsflüssigkeit im Schwefelwasserstoffabsorptionsturm 5 entfernte
Quecksilber (Hg) in einen Flashzylinder 21 zur Freisetzung
desselben in die Gasphase eingeführt
und dann mittels einer Quecksilberentfernungsvorrichtung 15 unter
Verwendung von Aktivkohle oder dergleichen entfernt wird. Die Bedingungen
in Bezug auf das gebildete Gas und die Durchflussraten und Temperaturen,
die in der Wasserwaschstufe verwendet wurden, waren gleich den in
Beispiel 1 beschriebenen. Die Menge des durch Flashen des H2S-Absorptionsgases im Flashzylinder 21 abgetrennten
Gases betrug 50 lN/h.
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In
Bezug auf das oben beschriebene System von 3 wurden
die Hg-Konzentrationen an verschiedenen Positionen S1 bis S9 im
System gemessen. Die auf diese Weise erhaltenen Ergebnisse sind
in der folgenden Tabelle 2 angegeben.
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Die
Differenz zwischen den in Tabelle 2 angegebenen Konzentrationen
S2 und S3 (d.h. S2–S3)
ist die Quecksilbermenge, die durch Waschen mit der Absorptionsflüssigkeit
im Schwefelwasserstoffabsorptionsturm entfernt wurde. Darüber hinaus
wurde, wenn die durch Flashen der Absorptionsflüssigkeit abgetrennten gasförmigen Komponenten
durch die Quecksilberentfernungsvorrichtung 15 geleitet
wurden, die Quecksilberkonzentration von 0,45 mg/m3N
(S8) auf weniger als 0,01 mg/m3N (S9) verringert.
Es wurde durch diese Ergebnisse festgestellt, dass auch in der an
die Wasserwaschstufe anschließenden
Schwefelwasserstoffabsorptionsstufe Quecksilber in die Absorptionsflüssigkeit übergeht
und Quecksilberkomponenten aus den durch Flas hen der Absorptionsflüssigkeit
abgetrennten gasförmigen
Komponenten effektiv entfernt werden können.
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Beispiel 3
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4 erläutert ein
Schema eines in diesem Beispiel verwendeten Nassgasreinigungssystems.
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Zusätzlich zu
dem System von Beispiel 2 umfasst dieses Beispiel eine zusätzliche
Stufe, in der das Abgas, das den Gas-Gas-Wärmetauscher 14 durchlaufen
hat, das in Beispiel 2 direkt ausgetragen wurde, durch Wärmetauscher
geleitet und dann in einer Verbrennungsvorrichtung verbrannt wurde.
In diesem Beispiel betrug die Zufuhrrate von Kohle 1000 kg/h, die
Durchflussrate des gebildeten Gases 3500 m3N/h,
die H2S-Konzentration
in dem gebildeten Gas 800 bis 1000 ppm, die Gastemperatur (T2) am Auslass des Gaskühlturms 1 40°C, die Durchflussrate
der durch den Gaskühlturm
zirkulierten Flüssigkeit
8,4 t/h, die Durchflussrate von Abwasser des Gaskühlturms 1 0,4
t/h, die Menge des von Abwasser in dem Flashzylinder 20 produzierten
geflashten Gases 0,2 m3N/h, die Gastemperatur
(T3) am Auslass des Gasreinigungsturms 2 40°C, die Durchflussrate
der durch den Gasreinigungsturm 2 zirkulierten Flüssigkeit
10 t/h, die Gastemperatur (T4) am Auslass des
H2S-Absorptionsturms 5 40°C, die Durchflussrate
der durch den H2S-Absorptionsturm 5 zirkulierten
Flüssigkeit
3,6 t/h und die Menge des von der H2S-Absorptionsflüssigkeit
produzierten geflashten Gases 1,6 m3N/h. Die
anderen Bedingungen waren die gleichen wie in Beispiel 2.
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In
Bezug auf das oben beschriebene System von 4 wurden
die Hg-Konzentrationen an verschiedenen Positionen S1 bis S9 in
dem System gemessen. Die auf diese Weise erhaltenen Ergebnisse sind
in der folgenden Tabelle 3 angegeben.
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Es
wurde durch diese Ergebnisse festgestellt, dass, auch wenn ein großes Volumen
eines gebildeten Gases einer Nassgasreinigung unterzogen wird, das
Quecksilberentfernungsverfahren der vorliegenden Erfindung die Hg-Konzentration
in Abgas auf weniger als 0,01 mg/m3N an
allen Positionen S6 bis S9 verringern kann.
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Gemäß dem Quecksilberentfernungsverfahren
der vorliegenden Erfindung kann das zu behandelnde Gasvolumen durch
die Behandlung von geflashtem Gas deutlich verringert werden und
die zur Behandlung erforderlichen Betriebskosten können eben falls
im Vergleich zu dem Fall, bei dem das gebildete Gas direkt behandelt
wird, verringert werden. Darüber
hinaus kann, da keine Energiezufuhr für die Quecksilberentfernungs-(oder
Absorptions)stufe und die Hg-Flashstufe zum Zwecke der Quecksilberentfernung
erforderlich ist, Hg ohne eine wesentliche Modifizierung eines üblichen
Reinigungssystems positiv entfernt werden.
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Ferner
kann das Adsorptionsmittel zur Adsorption von Hg bei niedrigen Temperaturen
(400°C oder niedriger)
verwendet werden und es ist nur eine geringe Adsorptionsmittelmenge
wegen dessen hoher Rate der Hg-Entfernung erforderlich. Ferner sind,
da ein Gas, nachdem es in Wasser gelöst wurde, mit Aktivkohle behandelt
wird, Kohlwasserstoffe und andere Substanzen, die eine Hg-Adsorption
hemmen können,
darin nicht vorhanden.