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TECHNISCHES GEBIET
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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Detektion von Röntgenstrahlen,
wie im Oberbegriff zu Anspruch 1 beschrieben. Die Erfindung betrifft
auch eine Vorrichtung, wie im Oberbegriff zu Anspruch 5 beschrieben,
und eine Verwendung einer solchen Vorrichtung, wie im Oberbegriff
zu Anspruch 16 beschrieben.
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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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Das
zentrale Problem bei der medizinischen Röntgenbildgebung ist es, mit
der niedrigsten möglichen
Strahlungsdosis das bestmögliche
Bild zu erzielen. Um dies zu erreichen, ist ein hohe Detektionseffizienz
hinsichtlich aller Röntgenphotonen
entscheidend, die durch den Patienten hindurchgelangen. Die gegenwärtigen Röntgenbildgebungssysteme
funktionieren mit Detektions-Quanteneffizienzen (DQE) von 10% bis
ca. 60%.
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Silizium
ist in vieler Hinsicht das ideale Detektormaterial. Die wesentlichen
Vorteile sind die hohe Qualität
und Reinheit des Kristalls in Kombination mit sehr niedrigen Kosten
als Ergebnis von Forschung und Entwicklung in der Halbleiterindustrie und
den großen
Volumina an Silizium, die auf diesem Gebiet verwendet werden.
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Der
wesentliche Nachteil bei Silizium sind seine niedrige Ordnungszahl
und die entsprechende Verringerung des Bremsvermögens für höherenergetische Röntgenstrahlen.
Ein Silizium-Detektorwafer kann nur mit einer maximalen Dicke von
ca. 1 mm hergestellt werden, und die Standarddicke beträgt etwa
die Hälfte
davon. Dickere Detektoren verlangen die Anwendung von unvertretbar
hohen Spannungen, um das gesamte Detektorvolumen zu verarmen, damit
es zu einem effizienten Röntgenstrahlendetektor
wird. Wenn die Röntgenstrahlen
im rechten Winkel auf die Oberfläche
einfallen, entspricht dies einer Effizienz von nur 25% bei 20 keV.
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Ein
Weg, dieses Problem zu umgehen, ist die Ausrichtung des Detektors "edge on" [mit der Kante voran]
zu dem einfallenden Strahl. In dieser Geometrie könnte die
Dicke des Siliziums, das die Röntgenstrahlen
stoppt, groß genug
sein, um praktisch alle einfallenden Röntgenstrahlen zu stoppen. Dieses
Verfahren wird in der Erfindung umrissen, die im
US-Patent
4,937,453 von Robert S. Nelson beschrieben wird. Edge-on-Detektoren
für eine erhöhte Effizienz
sind auch für
andere Halbleiterdetektoren vorstellbar, jedoch sind sie im Fall
von Silizium wegen des begrenzten Bremsvermögens für dieses Material aufgrund
seines geringen Gewichtes von besonderer Bedeutung.
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Ein
Problem, das in dem Verfahren und der Vorrichtung nicht berücksichtigt
wird, die in Nelsons Patent (
US
4,937,453 ) beschrieben werden, besteht darin, dass der
Halbleiterdetektor beim Schneiden stets in einem Bereich in der
Nähe der
Kante mechanisch beschädigt
wird. Das Schneiden erfolgt üblicherweise
mit einer Diamantsäge
oder einem Laser. In diesem Bereich wird eine große Menge
Grundstrom erzeugt, und die aktiven Sensoren in dem Halbleiterwafer
müssen
in einiger Entfernung von der Kante angeordnet werden, damit sie
nicht durch diesen Grundstrom gesättigt werden, wodurch das Signal
aus den Röntgenstrahlen
maskiert würde.
Normalerweise, jedoch nicht immer, sind ein oder mehrere Schutzringe
zwischen den aktiven Sensoren (wenigstens einem Sensor) und (wenigstens
einer) der Kante(n) angeordnet, um den an der Kante des Detektors
erzeugten Strom abzuführen
und somit zu verhindern, dass er die aktiven Sensoren erreicht. Der
Abstand zwischen der Kante und den aktiven Sensoren beträgt von 0,1
mm bis 0,6 mm, und die in dieser Region stoppenden Röntgenstrahlen
werden nicht detektiert. Dieser so genannte tote Bereich ist äquivalent
zu einer Unwirksamkeit in der Größenordnung
von 20% bei der diagnostischen Röntgenbildgebung,
beispielsweise der Mammografie.
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Noch
schwerer wiegt der Informationsverlust, da vor allem die niederenergetischen
Photonen, die dem Bild die meisten Kontrastinformationen übermitteln,
in dem Bereich in der Nähe
der Kante stoppen, der kein aktives Detektorvolumen ist, und hauptsächlich die
hochenergetischen Photonen, mit weniger Kontrastinformationen, weiter
in den Detektor eindringen.
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Gemäß der
DE 19 61 84 65 weist eine
Detektoranordnung eine Anzahl Detektoren auf, die jeweils durch
eine Halbleiterplatte aus einem direkt konvergierenden Halbleitermaterial
mit einer Elektrodenschicht auf zwei gegenüberliegenden Seiten bereitgestellt
werden. Wenigstens zwei Detektoren liegen aneinander angrenzend
vertikal zu einer Oberfläche, welche
die einfallende Strahlung empfängt,
wobei die Hauptoberflächen
der Detektoren in einem Winkel von zwischen null und 90 Grad zu
letzterer Oberfläche
eingestellt sind. Separatoren aus einem strahlungsabsorbierenden
Material sind zwischen den Detektoren eingefügt. Die Grundidee ist es, die
Länge des
Weges der einfallenden Strahlung zu den Halbleiterdetektoren zu
erhöhen,
ohne den Abstand zwischen den Elektroden zu vergrößern. Außerdem ist die
Detektoranordnung für
hochenergetische Strahlung bestimmt und ist dazu bereitgestellt,
Compton-Strahlung zu detektieren.
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Die
JP 50732150 stellt eine
Anordnung zur Verringerung der Herstellungskosten und Verbesserung
von SN, Messgenauigkeit und Verwendungsleistung bereit. Eine Röntgenstrahlungs-Untersuchungseinrichtung
ist mit einer Röntgenquelle
zum Bestrahlen eines Probestücks
in Rotation mit Röntgenstrahlen
ausgestattet; es ist ein Kollimator mit in radialer Form ausgebildeten
Schlitzen zum Anziehen der Strahlen angeordnet, welche die Probe
durchdringen; und ein Halbleiterdetektor zum Detektieren der Röntgenstrahlen
mit einem empfindlichen Teil durch die Strahlung des Röntgenstrahls
aus dem Schlitz ist vorgesehen. Da die Röntgenuntersuchungsvorrichtung
in einem anderen Winkel als einem nahezu rechten Winkel hinsichtlich
der Ebene parallel zu dem vertikal ausgerichteten Rotationsachsenzentrum
des Halbleiteruntersuchungsteils und der Probe installiert ist und
geneigt in einem Einfallwinkel hinsichtlich der Verlängerungslinie
des Röntgenstrahls
installiert ist, wird die Abstrahlung des gestreuten Röntgenstrahls
aufgrund des Probestückes in
den Halbleiterdetektor verhindert, und der aus dem Schlitz zugeführte Röntgenstrahl
kann in sicherer Weise auf die gesamte Oberfläche oder einen Teil des empfindlichen
Teils gestrahlt werden. Diese Anordnung ist ebenfalls für Anwendungen
mit hoher Strahlung bestimmt.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Die
Aufgabe bei der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines
Verfahrens zum Detektieren von Röntgenstrahlen,
das die oben genannten Probleme durch Bereitstellung eines Verfahrens
gemäß Anspruch
1 löst.
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Eine
weitere Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung einer Vorrichtung
zum Detektieren von Röntgenstrahlen
gemäß Anspruch
5 und einer Verwendung der Vorrichtung gemäß Anspruch 16.
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Ein
Vorteil bei der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass sie neben
einer hohen räumlichen
Auflösung
eine DQE von nahezu 100% für
Energien, die bei der diagnostischen Röntgenbildgebung von Interesse
sind, im Bereich von 10 keV bis 50 keV ermöglicht.
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Ein
weiterer Vorteil besteht darin, dass die vorliegende Erfindung sehr
einfach und preisgünstig in
einem Detektor zu implementieren ist.
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Ein
weiterer Vorteil besteht darin, dass die Detektortiefe groß gestaltet
werden kann, ohne dass die Röntgenstrahlen
den toten Bereich in der Nähe der
Kante passieren.
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Ein
weiterer Vorteil besteht darin, dass die vorliegende Erfindung das
Röntgenbild
verbessert und/oder die Strahlungsdosis für den Patienten verringert.
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KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1 zeigt
den Detektorchip in einer perspektivischen Ansicht von oben. Ein
Schutzring ist zusammen mit den Streifen für den oberen Kontakt für die einzelnen
Dioden dargestellt. Die Anschlussflächen für jeden Streifen für Verbindungen
mit Elektronik sind nicht dargestellt.
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2 zeigt
den Detektor in einer Ansicht von der Seite zusammen mit eintreffenden
Röntgenstrahlen
und einem Kollimator, der die Gestalt des Röntgenstrahls bestimmt.
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AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN
AUSFÜHRUNGSFORMEN
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Ein
Siliziumdetektor wird aus einem rohen Siliziumwafer gefertigt, der
verschiedenen Behandlungen unterzogen wird, um die gewünschte Widerstandsfähigkeit
und andere Materialparameter zu erreichen, und das Muster aus Siliziumstreifensensoren,
welche die einzelnen Pixel in dem Detektor bestimmen, wird durch
Standard-Fotolithografietechniken erzeugt.
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In 1 ist
ein Detektorchip 101 in perspektivischer Ansicht dargestellt,
und ein Schutzring 102 ist zusammen mit einzelnen Pixelsensoren 103 an
einer Vorderseite des Detektors dargestellt. Die Größe der Pixelsensoren
ist hauptsächlich
durch die Anforderungen an die räumliche
Auflösung
für eine
bestimmte Bildgebungsaufgabe bestimmt. Bei Anwendungen wie der Mammografie
sollte der Abstand zwischen zwei angrenzenden Pixeln in der Größenordnung
von 25 μm
bis 100 μm
liegen. Der tote Bereich 104 entspricht ungefähr dem Abstand
von der Kante des Detektors bis irgendwo zwischen dem Anfang des
Schutzrings und dem Anfang der Streifen. Die Dicke der Wafer liegt
normalerweise im Bereich von 300 μm
bis 500 μm.
Um das gesamte Volumen des Detektors zu verarmen, wird eine Bias-Spannung zwischen
der Rückseite
des Detektors 105 angelegt, die gewöhnlich vollständig mit
Aluminium bedeckt ist. Die Verarmung kann beispielsweise mit +80
V erreicht werden, die an die Rückseite
des Detektorwafers angeschlossen werden. Die Pixelsensoren können dann
an Masse liegen und an Elektronik angeschlossen werden. In diesem
Fall werden die durch die einfallenden Röntgenstrahlen erzeugten Löcher durch
die Elektronik erfasst. Mit einer umgekehrten Diodenstruktur für die Sensorpixel
und –80
V, angeschlossen an die Rückseite
des Detektors, würden die
Elektronen von der Elektronik erfasst, und dies würde ebenso
gut funktionieren. Die zur Verarmung des gesamten Wafers erforderliche
Bias-Spannung hängt stark
vom jeweiligen Detektortyp und der jeweiligen Detektordicke ab und
liegt im Bereich von 10 V bis zu über 1000 V.
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Die
Elektronik, in der Regel bezogen auf anwendungsspezifische integrierte
Schaltungen [ASIC], zum Erfassen und Verarbeiten der Signale von
den einzelnen Sensorpixeln wird durch Standard-Verbindungstechniken
wie Drahtbonden oder Bump-Bonden mit den jeweiligen Sensorpixeln
verbunden. Die für
diese Verbindungen normalerweise erforderlichen Anschlussflächen sind
in 1 nicht dargestellt, sollten aber in der Nähe des Endes 106 der
Streifen angeordnet sein.
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Diese
Erfindung schlägt
eine Geometrie zwischen den einfallenden Röntgenstrahlen und dem Detektor
von der Art vor, dass die oben erwähnte Unwirksamkeit aufgehoben
wird. 2 zeigt einen Detektor, der hinsichtlich der einfallenden
Röntgenstrahlen
leicht geneigt ist, um zu bewirken, dass sie in einem kleinen Winkel
zu der Detektoroberfläche auf
den Detektor auftreffen.
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Zum
Erzielen einer maximalen Detektionseffizienz, z. B. für die Mammografie,
sollte der Detektor relativ zu den einfallenden Röntgenstrahlen
gemäß 2 in
einem bestimmten Winkel 107 zwischen der Detektoroberfläche und
den Röntgenstrahlen
ausgerichtet sein. Der Kollimator 108 formt den Röntgenstrahl
passend zu dem Detektorbereich (aktiven Bereich). Durch Veränderung
des Winkels der einfallenden Röntgenstrahlen
relativ zu der Oberfläche
des Detektors wird die Dicke des Siliziums bestimmt, auf das der
Röntgenstrahl
trifft. Durch die Dicke des Siliziums wiederum wird die Detektionseffizienz
bestimmt, und die Detektionseffizienz kann dementsprechend so ausgewählt werden,
dass sie Anforderungen hinsichtlich einer bestimmten Bildgebungsaufgabe
erfüllt.
Nimmt man eine Waferdicke von 0,3 mm und eine Röntgenstrahlenenergie von 25
keV an, die für
Mammografie typisch ist, so erzielt man bei einem Winkel von 2,8
Grad eine Detektionseffizienz im Silizium von über 90%. In diesem Fall wäre, wenn
der Kollimatorschlitz 109, der die Gestalt der einfallenden Röntgenstrahlen
bestimmt, eine Breite von 50 μm aufweist,
hierdurch eine Gesamtlänge
des Detektors von ca. 10 mm erforderlich. Die einfallenden Röntgenstrahlen
treffen auf ca. 7,5 mm Silizium. Ein größerer Winkel würde eine
leicht verringerte Detektionseffizienz, aber einen kürzeren Detektor
bedeuten. Außerdem
wird der tote Bereich hinsichtlich der Strahlung ausgeschlossen.
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Bei
einer Detektordicke von 0,5 mm wird dieselbe Leistung mit einem
etwas größeren Winkel,
ca. 3,8 Grad, erzielt. Auch relativ große Winkel von ca. 10 Grad führen in
diesem Fall zu ca. 3 mm Siliziumtiefe für alle einfallenden Röntgenstrahlen.
Dies ergibt eine Detektionseffizienz, die für verschiedene Anwendungen
bei niedrigeren Energien hoch genug ist; bei 20 keV würde sie
85% übersteigen.
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Ist
der Kollimator breiter, z. B. 100 μm, so muss der Detektor länger ausgebildet
werden, um den gesamten Bereich unter dem Kollimatorschlitz 109 abzudecken.
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Es
besteht die Wahl, ob die Vorderseite des Detektors 101 in 1 oder
die Rückseite
des Detektors 105 in 1 den eintreffenden
Röntgenstrahlen
zugewandt ist. Beide Schemata würden
recht gut funktionieren; es hat jedoch einen kleinen Vorteil, wenn
die Rückseite
des Detektors den Röntgenstrahlen
zugewandt ist. Dies hat den Grund, dass die Verarmungszone, d. h.
das aktive Detektorvolumen, auch in dieser Richtung nicht ganz bis
zu der Kante des Detektors reicht, selbst wenn der tote Bereich viel
kleiner ist, ungefähr
in der Größenordnung
von 1 μm,
verglichen mit dem Fall der Edge-on-Anordnung. Weil die Ausdehnung
dieses toten Bereiches auf der Rückseite
weniger dick ist, da hier weniger Bearbeitung des Detektors vorgenommen
worden ist, ist es von Vorteil, die Röntgenstrahlen auf die Rückseite des
Detektors einfallen zu lassen, da dies eine leicht erhöhte Effizienz
ergäbe.
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In
einem System wird das Röntgenbildgebungsobjekt
zwischen zwei Kollimatorschlitzen angeordnet, die in Bezug zueinander
ausgerichtet sind und mehr oder weniger identisch aussehen. Der
erste Kollimator formt den Röntgenstrahl
passend zu dem aktiven Detektorbereich. Der zweite Kollimatorschlitz
entfernt Compton-gestreute Röntgenstrahlen, und
der Detektor wird nach diesem Kollimatorschlitz angeordnet.
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Eine
wichtige Erweiterung des obigen Schemas besteht darin, mehrere Kollimatorschlitze
und entsprechende Detektoren nacheinander anzuordnen. Dies würde die
Bilderfassungszeit erhöhen,
da der Bereich vergrößert wird,
in dem Röntgenstrahlen detektiert
werden. In 2 würde dies einer Anordnung ähnlicher
Detektoren und Schlitze links und/oder rechts von dem dargestellten
Schlitz und Detektor entsprechen. Es kann auch zweckmäßig sein,
in diesem Schema eine röntgenabsorbierende Metallplatte
zwischen verschiedenen Detektoren anzuordnen, um zu verhindern,
dass gestreute Röntgenstrahlen
angrenzende Detektoren erreichen.
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Es
könnten
in dem obigen Schema anstelle von Silizium auch andere Halbleiter
als Silizium verwendet werden, z. B. Galliumarsenid oder CdZnTe. Diese
sind jedoch teurer und schwieriger in der Handhabung, und Parameter
wie die Ladungssammlungseffizienz für die durch die Röntgenstrahlen
induzierte Ladung sind nicht so gut wie bei Silizium.
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Die
Erfindung ist nicht auf die gezeigten Ausführungsformen beschränkt, sondern
kann auf mehrere Arten variiert werden, ohne dass von dem Umfang
der beigefügten
Ansprüche
abgewichen wird, und die Anordnung und das Verfahren können auf verschiedene
Arten implementiert werden, abhängig von
Anwendung, funktionalen Einheiten, Bedürfnissen und Anforderungen
usw.