DE4418439A1 - Rasterelektronenmikroskop - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft Rasterelektronenmikro­ skope, beispielsweise Rasterelektronenmikroskope, die so beschaffen sind, daß ein konzentrierter Abtaststrahl auf die Oberfläche einer von einer Probenhalterung gehaltenen Probe gerichtet wird und die von der Probe emittierten Sekundärelektronen mittels eines elektronenoptischen Systems gesammelt werden, um die Spinpolarisation der Sekundärelektronen zu erfassen. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung Rasterelektronenmikroskope, die für den Fall geeignet sind, in dem die Bahnen der Sekundär­ elektronen durch das schwebende Magnetfeld oder derglei­ chen, das an der Anbringungsposition der Probe herrscht, leicht beeinflußt werden.

Bisher ist in einem Rasterelektronenmikroskop oder dergleichen zur Reduzierung des Einflusses des herrschen­ den schwebenden Magnetfeldes auf den Abtaststrahl und/oder die Bahnen der Sekundärelektronen an einer Innenfläche einer Probenkammer eine magnetische Abschir­ mung angebracht worden, die aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist; alternativ ist hierzu die Probenkammer selbst aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt worden. Für den ersten Fall stellt der Mott-Detektor ein Beispiel dar, der in Fig. 1 des Artikels mit dem Titel "Spin Polarisation due to Low-Energy Electron Diffraction at the W(001) Surface" von Koike u. a. (Japanese Journal of Applied Physics, Bd. 22, Nr. 8, August 1983, S. 1332 bis 1334) offenbart ist.

In dem Fall, in dem als Einrichtung zur Konzentration eines Abtaststrahls des Rasterelektronenmikroskops eine elektromagnetische Linse verwendet wird, ist die elektro­ magnetische Linse in der Nähe der Position angeordnet, an der die Probe angebracht ist. Selbst wenn daher die magnetische Abschirmung, die aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist, an der Innenfläche der Probenkammer angebracht ist oder wenn alternativ die Probenkammer aus dem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist, wirkt das aus der elektromagnetischen Linse austretende Magnetfeld auch an der Position, an der die Probe angebracht ist. Da in dem Rasterelektronenmikroskop die Sekundärelektronen unmittelbar nach der Emission durch die Probe niedrige Energie besitzen, wird die Bahn der Sekundärelektronen aufgrund des austretenden Magnetfeldes stark abgelenkt. Daher ist es schwierig, die Sekundärelektronen in die Spin-Erfassungseinrichtung einzuleiten. Außerdem führt der Spinpolarisationsvektor des jeweiligen Sekundärelek­ trons eine Präzession um eine Achse aus, die die Richtung des ausgetretenen Magnetfeldes besitzt. Die Drehung des Spinpolarisationsvektors aufgrund der Präzession hat jedoch in der obenerwähnten Spin-Erfassungseinrichtung einen Meßfehler zur Folge.

Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Rasterelektronenmikroskop zu schaffen, bei dem das aus der elektromagnetischen Linse austretende Magnetfeld, das schwebende Magnetfeld oder dergleichen an der Position, an der die Probe angebracht ist, soweit wie möglich reduziert werden können.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Rasterelektronenmikroskop, das die im Anspruch 1 angege­ benen Merkmale besitzt.

Erfindungsgemäß sind der Kopfabschnitt eines elektrone­ noptischen Systems und/oder ein Probenhalteabschnitt aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt und so angeordnet, daß sie eine Probe umge­ ben. Durch den Kopfabschnitt des elektronenoptischen Systems und/oder den Probenhalteabschnitt wird somit eine magnetische Abschirmung geschaffen. Alternativ bilden der Kopfabschnitt des elektronenoptischen Systems und der Probenhalteabschnitt zusammen eine einteilige magnetische Abschirmung. Dadurch wird das schwebende Magnetfeld und dergleichen, das am Ort der Probe herrscht, durch die magnetische Abschirmung abgeschirmt. In Bereichen der magnetischen Abschirmung, beispielsweise im Kopfabschnitt des elektronenoptischen Systems sind jedoch Fenster ausgebildet, durch die ein Abtaststrahl bzw. Sekundär­ elektronen geleitet werden können, so daß der Abtast­ strahl auf die Oberfläche der Probe gerichtet werden kann und die Sekundärelektronen gesammelt werden können.

Diese magnetische Abschirmung ist aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt, wobei nahezu das gesamte Magnetfeld in der Nähe der Probe durch die magnetische Abschirmung im wesentlichen abgeschirmt wird. Im Ergebnis kann das Magnetfeld am Ort der Probe bis auf einen Grad reduziert werden, bei dem die Bahnen der Sekundärelektronen und dergleichen durch das Magnet­ feld kaum beeinflußt werden. In der magnetischen Abschir­ mung sind jedoch die Fenster vorgesehen, um den Abtast­ strahl bzw. die Sekundärelektronen hindurchzuleiten. Obwohl die Anordnung der Fenster die magnetische Abschir­ mungswirkung tatsächlich reduziert, kann diese Reduzie­ rung der magnetischen Abschirmungswirkung nahezu vernach­ lässigt werden, sofern die Größe eines jeden der Fenster im Vergleich zur Größe der Probe oder zum Abstand zwi­ schen den Fenstern ausreichend klein ist.

Weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung sind in den Neben- und Unteransprüchen angegeben, die sich auf bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung beziehen.

Die Erfindung wird im folgenden anhand bevorzugter Ausführungsformen mit Bezug auf die Zeichnungen näher erläutert; es zeigen:

Fig. 1 eine Schnittansicht der Konstruktion eines Rasterelektronenmikroskops gemäß einer Ausfüh­ rungsform der vorliegenden Erfindung in der Umge­ bung einer Probe;

Fig. 2 eine perspektivische Ansicht des Aufbaus eines Teils einer beispielhaften Abwandlung des in Fig. 1 gezeigten Rasterelektronenmikroskops;

Fig. 3 eine Schnittansicht der Konstruktion eines Rasterelektronenmikroskops gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung in der Umgebung einer Probe;

Fig. 4 eine Schnittansicht der Konstruktion eines Rasterelektronenmikroskops gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung in der Umgebung einer Probe;

Fig. 5 eine Schnittansicht der Konstruktion eines Rasterelektronenmikroskops gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung in der Umgebung einer Probe;

Fig. 6 eine Schnittansicht des Aufbaus einer Probenkas­ sette eines Rasterelektronenmikroskops gemäß ei­ ner weiteren Ausführungsform der vorliegenden Er­ findung;

Fig. 7 eine Schnittansicht der Konstruktion eines Rasterelektronenmikroskops gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung in der Umgebung einer Probe; und

Fig. 8 eine Schnittansicht der Konstruktion eines Rasterelektronenmikroskops gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung in der Umgebung einer Probe und für den Fall, in dem das Rasterelektronenmikroskop der Messung der Auger- Elektronen dient.

Nun wird mit Bezug auf Fig. 1 eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben. Fig. 1 ist eine Schnittansicht, die die Konstruktion des erfindungsgemä­ ßen Rasterelektronenmikroskops in der Umgebung der Probe zeigt. Ein Abtaststrahl 1, der in einem System zur Erzeugung des Abtaststrahls erzeugt wird, wird mittels einer elektromagnetischen Linse 2 auf eine Oberfläche einer Probe 5 fokussiert. Die Sekundärelektronen 8, die von der Probe 5 emittiert werden, werden mittels eines elektronenoptischen Systems 7 beschleunigt und gesammelt, um in eine (nicht gezeigte) Spin-Erfassungseinrichtung eingeleitet zu werden, die dem elektronenoptischen System 7 funktional folgt. Hierbei ist die Probe 5 in einer Probenkassette 4 angebracht, die aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität wie etwa Permalloy oder reinem Eisen hergestellt ist, wobei die Probenkassette 4 auf einer Probenbühne 3 angebracht ist. Weiterhin ist auf seiten der Probe 5 des elektronenoptischen Systems 7 ein Kopfabschnitt 6 desselben, der aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität wie etwa Permalloy oder reinem Eisen hergestellt ist, in der Weise angeordnet, daß er mit der Probenkassette 4 in Kontakt ist oder dazwischen einen kleinen Spalt läßt. Der Kopfabschnitt 6 des elektronenoptischen Systems 7 besitzt zylindrische Form, wobei in seiner Wand ein Fenster 9 vorgesehen ist, um den Abtaststrahl 1 durchzulassen. Sowohl die Proben­ kassette 4 als auch der Kopfabschnitt 6 des elektronenop­ tischen Systems umgeben die Probe 5, um eine magnetische Abschirmung zu bilden. Da der Spalt zwischen der Proben­ kassette 4 und dem Kopfabschnitt 6 des elektronenopti­ schen Systems sehr klein ist, wird das Magnetfeld durch die magnetische Abschirmung abgeschirmt, ohne daß es in den Raum in der Nähe der Probe 5 eindringt. Um nun das Eindringen des Magnetfeldes durch den obenerwähnten Spalt weiter zu reduzieren, ist die der Probenkassette 4 zugewandte Stirnfläche des Kopfabschnittes 6 des elektro­ nenoptischen Systems 7 relativ groß ausgebildet. Der Einfluß des Magnetfeldes, das durch das Fenster 9 in die Umgebung der Probe eindringt, kann dadurch reduziert werden, daß die Größe des Fensters 9 ausreichend klein gemacht wird. Andererseits kann der Einfluß des Magnet­ feldes, das durch das auf seiten des elektronenoptischen Systems 7 befindliche offene Ende des Kopfabschnittes 6 in die Umgebung der Probe 5 eindringt, dadurch reduziert werden, daß der Abstand zwischen der Probe 5 und diesem offenen Ende ausreichend groß gemacht wird. Da die Sekundärelektronen 8 auch durch das auf seiten des elektronenoptischen Systems 7 befindliche offene Ende des Kopfabschnittes 6 geleitet werden und da in diesem Abschnitt die Sekundärelektronen 8 durch das elektrone­ noptische System 7 beschleunigt werden, kann der Einfluß des Magnetfeldes auf die Sekundärelektronen in diesem Abschnitt weiter vernachlässigt werden.

Wie oben beschrieben, kann das aus der elektromagneti­ schen Linse und dergleichen aus tretende Magnetfeld an dem Ort, an dem die Probe angebracht ist, wesentlich redu­ ziert werden. Hierbei kann die Bewegung der Probe 5 in der zur Probenoberfläche parallelen Richtung ausgeführt werden, solange die Probe 5 und die Innenfläche des Kopfabschnittes 6 des elektronenoptischen Systems 7 nicht miteinander in Kontakt sind. Die Bewegung in der zur Probenoberfläche senkrechten Richtung kann dadurch ausgeführt werden, daß ein normaler Bewegungsmechanismus hinzugefügt wird, der sich zusammen mit der Probenkasset­ te 4 zum Kopfabschnitt 6 des elektronenoptischen Systems bewegt. Weiterhin braucht für einen Austausch der Probe nur die Probenkassette 4, auf der die Probe 5 angebracht ist, gegen eine weitere Probenkassette ausgetauscht werden, an der eine weitere Probe angebracht ist, wobei dieser Austausch sowohl durch eine Probenkammer als auch durch eine Vorevakuierungskammer erfolgt, so daß es nicht notwendig ist, die gesamte Probenkammer zur Atmosphäre zu öffnen. Diese Vorgänge können ohne weiteres ausgeführt werden, wenn bei der Herstellung normaler Rasterelektro­ nenmikroskope verwendete Technologien angewandt werden, so daß eine Beschreibung hiervon aus Gründen der Einfach­ heit weggelassen wird.

Fig. 2 ist eine perspektivische Ansicht des Aufbaus einer weiteren Ausführungsform des Kopfabschnittes 6 des elektronenoptischen Systems 7. Hierbei sind der Abtast­ strahl 1, die elektromagnetische Linse 2 und die Sekundärelektronen 8 nicht dargestellt. Im Gegensatz zu der obenerwähnten Ausführungsform von Fig. 1 ist in der vorliegenden Ausführungsform das Fenster 9′ so beschaf­ fen, daß es sich bis zum Ende des Kopfabschnittes 6 erstreckt, außerdem ist der Flanschabschnitt an der Umfangslinie des Endes des Kopfabschnittes 6 weggelassen. Im Rasterelektronenmikroskop wird während der Beobachtung der Probe eine bestimmte Fläche der Probe sukzessive abgetastet. Hierbei wird zur Vereinfachung des Abtastvor­ gangs der Abtaststrahl abgelenkt. Da bei der Beobachtung mit hoher Vergrößerung die Ablenkbreite des Abtaststrahls 1 gering ist, kann selbst das Fenster 9 der obenerwähnten Ausführungsform von Fig. 1 die Anforderungen ausreichend erfüllen. Andererseits wird bei der Beobachtung mit niedriger Vergrößerung der Abtaststrahl 1 durch das Fenster 9 abgefangen, so daß es dann unmöglich ist, eine ausreichend große Fläche der Probe zu beobachten. Deswe­ gen besitzt in Fig. 2 das Fenster 9′ die Form eines rechteckigen Ausschnittes, um eine ausreichend großflä­ chige Beobachtung ohne Behinderung der magnetischen Abschirmungswirkung zu ermöglichen.

In den Fig. 3, 4 und 5 sind weitere Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Rasterelektronenmikroskops gezeigt. Auch in diesen Fällen sind der Abtaststrahl 1, die elektromagnetische Linse 2 und die Sekundärelektronen aus Gründen der Einfachheit nicht dargestellt.

Die in Fig. 3 gezeigte Ausführungsform ist so beschaffen, daß die Umfangsfläche 7 des elektronenoptischen Systems und der Kopfabschnitt 6 des elektronenoptischen Systems, die in Fig. 1 gezeigt sind, integriert sind, um ein einteiliges elektronenoptisches System zu schaffen. Sowohl die Umfangsfläche 7 als auch der Kopfabschnitt 6 sind aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabi­ lität hergestellt.

Die in Fig. 4 gezeigte Ausführungsform ist so beschaffen, daß die Probenkassette 4 aus einem nichtmagnetischen Material hergestellt ist und nur der Kopfabschnitt 6 des elektronenoptischen Systems aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist. Da in diesem Fall das Magnetfeld durch das auf seiten der Probe 5 befindliche offene Ende des Kopfabschnittes 6 des elek­ tronenoptischen Systems 7 eindringt, ist die Probenkas­ sette 4, die aus nichtmagnetischem Material hergestellt ist, ausreichend weit von diesem offenen Ende zur Seite des elektronenoptischen Systems 7 eingeschoben, so daß der Einfluß des Magnetfeldes auf die Umgebung der Probe 5 so gering wie möglich ist.

Die in Fig. 5 gezeigte Ausführungsform ist so beschaffen, daß der Kopfabschnitt 6 des elektronenoptischen Systems weggelassen ist. Dieser Kopfabschnitt 6 ist durch die Probenkassette 4 ersetzt, die aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist. Da in diesem Fall das Magnetfeld durch den Kopfabschnitt des elektronenoptischen Systems 7 eindringt, ist die Umfangs­ fläche der Probenkassette 4 so lang ausgebildet, daß das elektronenoptische System 7 ausreichend weit in sie hineingeschoben werden kann, so daß der Einfluß des Magnetfeldes auf die Umgebung der Probe 5 so gering wie möglich ist. Selbstverständlich ist in der nach oben weisenden zylindrischen Umfangsfläche der Probenkassette 4 das Fenster 9 vorgesehen, durch das der Abtaststrahl 1 geleitet wird.

Wenn in dein Fall, in dein die Probenkassette 4 aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist, die Probe 5 ein ferromagnetisches Material ist, breitet sich ein Teil des Magnetfeldes in der Probenkas­ sette 4 notwendig zur Seite der Probe 5 aus. In Fig. 6 ist eine Ausführungsform der Probenkassette gezeigt, mit der dieses nachteilige Phänomen verhindert wird. In diesem Fall ist die Probenkassette 4 durch einen Proben­ kassettenkörper 10, der aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist, und durch eine Probenkassettenplatte 11, die aus einem nichtmagne­ tischen Material wie etwa Kupfer, Aluminium oder rost­ freiem Stahl hergestellt ist, gebildet. Die Probe 5 ist auf der Probenkassettenplatte 11 angebracht. Da das nichtmagnetische Material mit niedriger magnetischer Permeabilität zwischen der Probe 5 und dem Probenkasset­ tenkörper 10 vorgesehen ist, kann das Magnetfeld im Probenkassettenkörper 10 kaum aus diesem austreten.

In Fig. 7 ist die Konstruktion einer weiteren Ausfüh­ rungsform des erfindungsgemäßen Rasterelektronenmikro­ skops gezeigt. Die obigen Ausführungsformen, die mit Bezug auf die Fig. 1 bis 6 beschrieben worden sind, sind so beschaffen, daß sie eine Ausbreitung des Magnetfeldes zur Probe oder in die Umgebung der Probe verhindern, während die in Fig. 7 gezeigte Ausführungsform so be­ schaffen ist, daß die Probenkassette 4 und der gesamte Kopfabschnitt des elektronenoptischen Systems 7 magne­ tisch abgeschirmt ist. In dieser Ausführungsform ist am Kopfabschnitt der elektromagnetischen Linse 2 mittels eines nichtmagnetischen Abstandshalters 12 eine sphäroi­ dische magnetische Abschirmung 15 angebracht, die aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist. In dieser magnetischen Abschirmung 15 sind ein Fenster 13 zum Einschieben der Probenbühne sowie ein Fenster 14 zum Einschieben des elektronenoptischen Systems 7 vorgesehen, so daß die Probenbühne 3 und das elektronenoptische System 7 darin so angeordnet werden können, daß sie die in der Figur gezeigte gegenseitige räumliche Beziehung besitzen. Da in der vorliegenden Ausführungsform die elektromagnetische Linse 2 und die magnetische Abschirmung 15 über den nichtmagnetischen Abstandshalter 12 miteinander verbunden sind, dringt das Magnetfeld der elektromagnetischen Linse 2 nicht in die magnetische Abschirmung 15 ein, ferner kann der Einfluß des schwebenden Magnetfeldes auf die Umgebung der Probe im wesentlichen vollständig beseitigt werden.

Obwohl die Beschreibung der obigen Ausführungsformen auf Rasterelektronenmikroskope des Typs eingeschränkt worden ist, bei dem der Spin der Sekundärelektronen erfaßt wird, können die gewünschten Effekte auch in dem Fall erhalten werden, in dem die vorliegende Erfindung beispielsweise auf ein Rasterelektronenmikroskop angewandt wird, das der Analyse der Auger-Elektronen dient. In Fig. 8 ist die Konstruktion einer beispielhaften Anordnung hierfür in der Umgebung der Probenhalterung gezeigt.

Wie aus dem Vergleich mit der in Fig. 7 gezeigten Ausfüh­ rungsform hervorgeht, verwendet die in Fig. 8 gezeigte Ausführungsform anstelle des elektronenoptischen Systems 7 zur Erfassung der Sekundärelektronen einen Energieana­ lysator 16, in dem in der Figur gezeigten Beispiel etwa einen zylindrischen Spiegelanalysator. In der vorliegen­ den Ausführungsform werden von den Elektronen, die von der Probe 5 durch Beaufschlagung mit dein Abtaststrahl 1 emittiert werden, diejenigen Elektronen analysiert, die von dein zylindrischen Spiegelanalysator 16 eingefangen werden.

Selbstverständlich kann die Analyse der Auger-Elektronen auf die gleiche Weise wie in den in den Fig. 1 bis 6 gezeigten Ausführungsformen bewerkstelligt werden; sie ist daher nicht auf die in Fig. 8 gezeigte Ausführungs­ form eingeschränkt.

Wie oben beschrieben, können in den gezeigten Ausfüh­ rungsformen der vorliegenden Erfindung das aus der elektromagnetischen Linse austretende Magnetfeld, das schwebende Magnetfeld und dergleichen am Ort der Anbrin­ gung der Probe soweit wie möglich reduziert werden, außerdem können die Sekundärelektronen ohne Verlust zur Spin-Erfassungseinrichtung geleitet werden. Dadurch kann eine Absenkung des Wirkungsgrades der Spin-Erfassungsein­ richtung wirksam verhindert werden. Da weiterhin die Präzession des Spinpolarisationsvektors der Sekundärelek­ tronen aufgrund des ausgetretenen Magnetfeldes und dergleichen in hohem Maß reduziert werden kann, kann das Auftreten von Meßfehlern der Spin-Erfassungseinrichtung wirksam verhindert werden.

Claims (13)

1. Rasterelektronenmikroskop, mit
einer Einrichtung (4) zum Halten einer Probe (5);
einer Einrichtung zum Richten eines Abtaststrahls (1) auf die Probe (5);
einer Einrichtung (2) zum Konzentrieren des Abtaststrahls (1); und
einer Einrichtung (7) zum Sammeln der Elektronen (8), die durch Richten des Abtaststrahls (1) auf die Probe (5) von der Probe (5) emittiert werden, sowie zum Erfassen der physikalischen Größen, die diese Elektronen (8) besitzen,
dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronensammeleinheit (6) und/oder ein die Probe (5) umgebender Abschnitt (4) durch ein Material mit hoher magnetischer Permeabilität abgeschirmt sind; und in einem Abschnitt (4, 6) aus dem Material mit hoher magnetischer Permeabilität ein Loch (9) vorgesehen ist, um den Abtaststrahl (1) durch diesen Abschnitt (4, 6) aus dem Material mit hoher magnetischer Permeabilität zu leiten.

2. Rasterelektronenmikroskop, mit
einer Einrichtung (4) zum Halten einer Probe (5);
einer Einrichtung zum Richten eines Abtaststrahls (1) auf die Probe (5);
einer Einrichtung (2) zum Konzentrieren des Abtaststrahls (1);
einer Einrichtung zur Erfassung der Spinpolarisa­ tion von Sekundärelektronen (8), die von der Probe (5) emittiert werden, wenn der Abtaststrahl (1) auf die Probe (5) gerichtet wird; und
einem elektronenoptischen System (7) zum Sammeln der Sekundärelektronen (8) und zum Einleiten der Sekun­ därelektronen (8) in die Einrichtung zur Erfassung der Spinpolarisation der Sekundärelektronen (8), dadurch gekennzeichnet, daß ein Kopfabschnitt (6) des elektronenoptischen Systems (7) und/oder ein die Probe (5) umgebender Ab­ schnitt (4) aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt sind; und
im Kopfabschnitt (6) des elektronenoptischen Systems (7) ein Abschnitt (9) vorgesehen ist, durch den der Abtaststrahl (1) geleitet werden kann.

3. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Abschnitt (9′) für die Hindurchführung des Abtaststrahls (1) die Form eines rechteckigen Ausschnit­ tes besitzt, der sich bis zum Ende des Kopfabschnittes (6) des elektronenoptischen Systems (7) erstreckt.

4. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil des die Probe (5) umgebenden Abschnittes (4) aus nichtmagnetischem Material hergestellt ist und dieser Teil in den Kopfabschnitt (6) des elektronenopti­ schen Systems (7) eingeschoben ist.

5. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der die Probe (5) umgebende Abschnitt (4) aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist und der Kopfabschnitt (6) des elektrone­ noptischen Systems (7) in die Einrichtung (4) zum Halten der Probe (5) eingeschoben ist.

6. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der die Probe (5) umgebende Abschnitt (10) aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist und die Probe (5) auf einem aus nichtma­ gnetischem Material hergestellten Teil (11) des Umfangs­ bereichs (10) angeordnet ist.

7. Rasterelektronenmikroskop, mit
einer Einrichtung (4) zum Halten einer Probe (5);
einer Einrichtung zum Richten eines Abtaststrahls (1) auf die Probe (5);
einer Einrichtung (2) zum Konzentrieren des Abtaststrahls (1);
einer Einrichtung zur Erfassung der Spinpolarisa­ tion von Sekundärelektronen (8), die von der Probe (5) emittiert werden, wenn der Abtaststrahl (1) auf die Probe (5) gerichtet wird; und
einem elektronenoptischen System (7) zum Sammeln der Sekundärelektronen (8) und zum Einleiten der Sekun­ därelektronen (8) in die Einrichtung zur Erfassung der Spinpolarisation der Sekundärelektronen (8),
dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Konzentrieren des Abtast­ strahls (1) eine elektromagnetische Linse (2) ist; und sowohl die Einrichtung (4) zum Halten der Probe (5) als auch ein Kopfabschnitt (6) des elektronenopti­ schen Systems (7) in einer sphäroidischen magnetischen Abschirmung (15) angeordnet sind, die über einen nichtma­ gnetischen Abstandshalter (5) am ausgangsseitigen Ende der elektromagnetischen Linse (2) angebracht ist.

8. Rasterelektronenmikroskop, mit einer Einrichtung (4) zum Halten einer Probe (5); einer Einrichtung zum Richten eines Abtaststrahls (1) auf die Probe (5);
einer Einrichtung (2) zum Konzentrieren des Abtaststrahls (1); und
einer Einrichtung (7) zum Analysieren der Elek­ tronen (8), die von der Probe (5) emittiert werden, wenn der Abtaststrahl (1) auf die Probe (5) gerichtet wird;
dadurch gekennzeichnet, daß ein Kopfabschnitt (6) der Einrichtung (7) zum Analysieren der Elektronen (8) und/oder ein die Probe (5) umgebender Abschnitt (4) aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt sind; und
im Kopfabschnitt (6) der Einrichtung (7) zum Analysieren der Elektronen (8) ein Bereich (9) zum Hindurchführen des Abtaststrahls (1) vorgesehen ist.

9. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Bereich (9′) zum Hindurchführen des Abtast­ strahls (1) die Form eines rechteckigen Ausschnittes besitzt, der sich bis zum Ende des Kopfabschnittes (6) der Einrichtung (7) zum Analysieren der Elektronen (8) erstreckt.

10. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil des die Probe (5) umgebenden Abschnittes (4) aus nichtmagnetischem Material hergestellt ist und der Teil (11) in den Kopfabschnitt (6) der Einrichtung (7) zum Analysieren der Elektronen (8) eingeschoben ist.

11. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der die Probe (5) umgebende Abschnitt (4) aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist und der Kopfabschnitt (6) der Einrichtung (7) zum Analysieren der Elektronen (8) in die Einrichtung (4) zum Halten der Probe (5) eingeschoben ist.

12. Rasterelektronenmikroskop gemäß Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der die Probe (5) umgebende Abschnitt (10) aus einem Material mit hoher magnetischer Permeabilität hergestellt ist und die Probe (5) auf einem aus nichtma­ gnetischem Material hergestellten Teil (11) dieses Abschnittes (10) angeordnet ist.

13. Rasterelektronenmikroskop, mit
einer Einrichtung (4) zum Halten einer Probe (5);
einer Einrichtung zum Richten eines Abtaststrahls (1) auf die Probe (5);
einer Einrichtung (2) zum Konzentrieren des Abtaststrahls (1); und
einer Einrichtung (16) zum Analysieren der Auger- Elektronen (17), die von der Probe (5) emittiert werden, wenn der Abtaststrahl (1) auf die Probe (5) gerichtet wird,
dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Konzentrieren des Abtast­ strahls (1) eine elektromagnetische Linse (2) ist; und
sowohl die Einrichtung (4) zum Halten der Probe (5) als auch die Einrichtung (16) zum Sammeln der Auger- Elektronen (17) und zum Erfassen der physikalischen Größen der Auger-Elektronen (17) in einer sphäroidischen magnetischen Abschirmung (15) angeordnet sind, die über einen nichtmagnetischen Abstandshalter (12) am ausgangs­ seitigen Ende der elektromagnetischen Linse (2) ange­ bracht ist.