DE4317899A1 - Verfahren zur Abbildung mittels Elektronenstrahl-Lithographie - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abbildung mittels Elektronenstrahl-Lithographie.

Die Elektronenstrahl-Lithographie bietet bei Anfertigung von kleinen Strukturen viele Vorteile, wie etwa den Verzicht auf eine aufwendige Maske, wodurch gewünschte Strukturen in kleinen Stückzahlen kurzfristig hergestellt werden können. Ein weiterer großer Vorteil ist die hohe Auflösung, die durch die Verkleinerung der Bauelemente notwendig geworden ist. Diese jedoch wird durch den Proximity-Effekt, insbeson­ dere bei unterschiedlich dichten Strukturen, begrenzt. Der Proximity-Effekt rührt von Streuprozessen der Elektronen im Resist (elektronenempfindliche Schicht) her. Er entspricht einer Faltung des geschriebenen Bildes mit der Proximity- Funktion. Im Gegensatz zur optischen Lithographie, bei der die Auflösungsgrenze physikalisch bedingt ist, läßt sich die Auflösung durch eine Korrektur des Proximity-Effekts verbes­ sern.

Die Berechnung der Proximity-Funktion kann durch Monte Carlo-Simulationen erfolgen. In Fig. 1 sind Monte Carlo-Si­ mulationen von Elektronenbahnen veranschaulicht. Es sind je­ weils 100 Trajektorien dargestellt, für die Berechnung der Proximity-Funktion werden etwa 10^4-5 Elektronenbahnen benö­ tigt.

Von der Gestalt her setzt sich die Proximity-Funktion aus zwei Anteilen, einem schmalen hohen Peak und einem breiten Untergrund zusammen, der zu dem störenden Proximity-Problem führt.

Eine oft verwendete Näherung der Proximity-Funktion stellt eine Summe aus zwei Gauß-Funktionen dar,

die in Fig. 2 dargestellt ist und in die die Breite α der Vorwärtsstreuung im Resist (direkte Belichtung) und die Rückwärtsstreuung vom Substrat (β) sowie das Verhältnis von direkten zu indirekten (rückwärtsgestreuten) Elektronen ein­ gehen (η), wobei r die Reichweite ist. Die Proximity-Funk­ tion hängt auch von der betrachteten Tiefe im Resist ab. Zur Klassifizierung von Proximity-Funktionen werden meist nur die Werte α, β und η herangezogen. Es tragen z. B. die rück­ gestreuten Elektronen bei einem Siliciumsubstrat knapp die Hälfte zur Belichtung bei.

Im Vergleich zu Mustern bzw. Strukturen in Bereichen mit niedriger Musterdichte erhalten gleiche Muster in Bereichen mit hoher Musterdichte eine höhere Dosis aufgrund der Dosis­ verteilung rückwärtsgestreuter Elektronen mit hoher Reich­ weite. Die resultierende Dosis hängt von der belichteten Fläche in der Umgebung ab.

Die Auswirkung des Proximity-Effektes, der sich in einer Do­ sisverteilung auswirkt, auf das Schreiben einer Struktur bzw. eine Abbildung wird unter Bezug auf Fig. 7 erläutert, die eine unkorrigierte Abbildung zeigt. Wird die verwendete Dosis erhöht, so wächst der Spalt weiter zu, d. h. die Abbil­ dungseigenschaften werden schlechter. Wird die Dosis hinge­ gen herabgesetzt, so verschwinden die Linien. Es läßt sich keine Dosis finden, die zufriedenstellende Abbildungsergeb­ nisse liefert.

Der Proximity-Effekt kann durch verschiedene Maßnahmen redu­ ziert werden:

• - Erhöhung der Beschleunigungsspannung. Der direkte Anteil wird schmäler, der indirekte Anteil wird über eine größe­ re Breite verteilt, d. h. der Effekt wird weniger lokal.
• - Verringerung der Spannung. Der indirekte Anteil wird schmaler, dies jedoch zu dem Preis eines breiteren direk­ ten Anteils.
• - Die Breite der Vorwärtsstreuung kann klein gehalten wer­ den, wenn die bildgebende Schicht dünn genug ist. Zusätz­ lich kann der Anteil der Rückstreuung klein gehalten wer­ den, wenn eine inaktive Abstandsschicht oder eine dünne Abschirmschicht mit hoher Kernladungszahl zwischen Resist und Substrat eingefügt wird.

Die Beschränkung der Reduktionsverfahren liegt darin, daß ihre Anwendung die Berücksichtigung weiterer Kriterien er­ fordert, die sie leider häufig als unpraktikabel erscheinen lassen. So stehen oft nur bestimmte Strahlenergien zur Ver­ fügung, und auch das Aufbringen von mehreren Schichten birgt einen großen Aufwand in sich.

Auch wenn sich die Ursache des Proximity-Effekts nur mühsam beseitigen läßt, kann man dessen Wirkung in hohem Maße kor­ rigieren, indem man die Dosis entsprechend, d. h. in Ab­ hängigkeit von der umgebenden Mustergeometrie, wählt. Ge­ wünscht ist die Dosisverteilung, mit der man das Bild schreiben muß, um nach der Faltung mit der Proximity-Funk­ tion die vorgegebene Dosisverteilung zu erhalten.

Wegen der großen Bildkomplexität sind Verfahren, die Korrek­ tur über Dosisvariation betreiben, sehr aufwendig. Eine Mög­ lichkeit, den Aufwand zu minimieren, ist, nur die feinen Strukturen zu korrigieren; grobe, unkritische Strukturen bleiben unkorrigiert. Eine weitere Verbesserung ergibt sich durch die Berücksichtigung des oft hierarchischen Aufbaus, so daß das Korrekturverfahren nicht mehrmals auf gleiche Strukturen angewendet werden muß. Da die einzelnen Sektoren weitgehend unabhängig voneinander sind, kann man auch durch Einsatz von Parallelrechnern die Rechenzeit reduzieren. Eine Übersicht über Korrekturverfahren dieser Art ist in "Methods for proximity effect correction in electron lithography", Owen, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 1990 gegeben.

Ein derzeit übliches Korrekturverfahren ist die sogenannte selbstkonsistente Methode, die z. B. in "Self-consistent pro­ ximity effect correction technigue for resist exposure" (SPECTRE), Parikh, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1978 beschrie­ ben ist. Hierbei wird die zu schreibende Struktur in Ele­ mente aufgeteilt, im einfachsten Fall in die Strukturele­ mente selbst, und die Wechselwirkung der einzelnen Elemente untereinander wird ausgerechnet. D.h. es wird der Anteil ei­ nes Bildelements auf die jeweiligen in Reichweite liegenden Bildelemente betrachtet. Die erhaltene Dosis ergibt aus ei­ nem größenabhängigen Faktor multipliziert mit der eigenen Dosis, und aus den Dosen der umliegenden Elemente, die je­ weils mit Gewichtsfaktoren multipliziert werden. Diese Ge­ wichtsfaktoren hängen von Größe und Abstand ab. Hierbei fin­ det jeweils eine Mittelung über die Bildelementfläche statt. Es ergibt sich ein lineares Gleichungssystem. Um zu erfah­ ren, welche Dosisverteilung geschrieben werden muß, um die gewünschte Dosisverteilung zu erhalten, muß das Gleichungs­ system invertiert werden. Selbst bei Berücksichtigung nur der umliegenden Elemente durch Aufteilung in einzelne Sekto­ ren ergibt sich für dieses Verfahren ein hoher Rechenbedarf für größere Strukturen.

Es gibt ferner das iterative Verfahren. Bei dieser Methode wird die Dosisverteilung simuliert, der Dosisanteil von Ge­ bieten, die in der Simulation zuwenig Dosis erhalten haben, wird erhöht und umgekehrt. Mehrere Iterationen führen zu ei­ nem stabilen Ergebnis.

Ein weiterer Lösungsansatz besteht in der schon vorher be­ schriebenen Entfaltung. Der Proximity-Effekt entspricht ei­ ner Faltung und kann daher mit Entfaltung korrigiert werden. Hierbei wird der Resist mit einer Dosisverteilung belichtet, die eine Entfaltung der gewünschten Dosisverteilung mit der Proximity-Funktion darstellt, so daß die anschließende un­ vermeidliche Faltung im Resist zu der gewünschten Dosisver­ teilung führt. Grundsätzlich ermöglicht dieser Ansatz eine exakte Korrektur.

Die im Resist resultierende Dosis entspricht einer Faltung der geschriebenen Struktur, d. h. eines Bildes, mit der Pro­ ximity-Funktion, die in Fig. 2A dargestellt ist. Im Fou­ rierraum entspricht das dem Produkt der Transformierten. Um die Funktion zu entfalten, muß man die Transformierten im Fourierraum dividieren und dann die Rücktransformation aus­ führen. Die Transformierte einer Gaußfunktion ist wieder eine Gaußfunktion, d. h. bei der Division ergibt sich ein ex­ ponentieller Anstieg der hohen Frequenzen, der durch einen Filter unterdrückt werden muß. In der Praxis entspricht dies der Tatsache, daß man keine kleineren Strukturen als die Primäraufweitung schreiben kann (Fig. 2F). Die Rücktrans­ formation ergibt die zu schreibende Funktion (Fig. 2E) Bei teilweiser Rücktransformation erhält man die Funktion, mit der die gewünschte Funktion gefaltet werden muß, um die zu schreibende Funktion zu erhalten (Fig. 2D).

Die in Fig. 2 dargestellten Zusammenhänge sind ergänzend in Fig. 3 dargestellt. Diese zeigt die Flächendosis der Proxi­ mity-Funktion in Abhängigkeit von der Reichweite (Fig. 3A) sowie die invertierte transformierte, die fouriertransfor­ mierte und die gefilterte invertierte transformierte Funk­ tion, letztere mit einem durch das Filterverfahren bedingten Abklingen des hochfrequenten Anteils, wodurch sich eine leichte Verschmierung der Abbildung beim Schreiben ergibt.

Außerdem störend bei dem Entfaltungsverfahren ist das Auf­ treten von negativen Dosen. Es ist vorgeschlagen worden, diese einfach zu vernachlässigen oder einen Offset zu addie­ ren, wodurch jedoch eigentlich nicht zu belichtende Felder belichtet werden. Die bisherig aufgetretenen Schwierigkeiten sind in der geforderten hohen Auflösung für das Entfaltungs­ verfahren begründet.

Nachteilig bei derartigen Korrekturverfahren unter Verwen­ dung der Fourier-Transformation, wie sie z. B. in "Submicron proximity correction by the Fourier precompensation method", McDonald Haslam, SPIE Vol. 632, 1986 und "Transform based proximity corrections: Experimental results and compari­ sons", McDonald Haslam, J. Vac. Sci. Technol. B 4, 1986 be­ schrieben sind, sind die großen Datenmengen, die Notwendig­ keit von langwierigen Berechnungen und u. U. einer zusätzli­ chen Belichtung.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Abbildung mittels Elektronenstrahl-Lithographie zu schaffen, bei dem durch Proximity-Effekt hervorgerufene Falschbelich­ tungen korrigiert werden und das eine hohe Auflösung bei vergleichbar geringem Aufwand ermöglicht.

Diese Aufgabe ist durch die Erfindung bei einem Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Ver­ fahrensvarianten sind Gegenstand der Unteransprüche.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Abbildung mittels Elektronenstrahl-Lithographie, bei dem durch Proximity-Ef­ fekt hervorgerufene Falschbelichtungen korrigiert werden, wird eine Vorkorrektur der Abbildung in bezug auf die Strah­ lendosis durchgeführt. Es wird dazu eine grobe Faltung des Bildes durchgeführt. Das grob gefaltete Bild wird mit dem Ausgangsbild zusammengefügt. Dann wird das so gewonnene vor­ korrigierte Bild durch Elektronenstrahlen abgebildet.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird eine Trennung von Bild und der für das Bild notwendigen Korrektur durchge­ führt. Hierbei wird ausgenutzt, daß der Anteil des schmalen Peaks der Proximity-Funktion im wesentlichen strukturgebend ist, d. h. eine hohe Auflösung zur Mustererhaltung erforder­ lich ist, während der breite Untergrund für den Proximity- Effekt verantwortlich ist und zur Korrektur führt. Infolge der getrennten Behandlung von Bild und Korrektur muß die vom Bild geforderte hohe Auflösung nicht mehr durch das für die Abbildungskorrektur herangezogene System bereitgestellt wer­ den, das mit einer groben Auflösung arbeiten kann. Nach dem Korrekturschritt erfolgt wieder eine Zusammensetzung von Bild und Abbildungskorrektur. Die Bildabmessungen werden bei diesem Verfahren nicht durch mangelnde bzw. endliche Auflö­ sung verfälscht. Für die Korrektur können somit Systeme mit grober Auflösung herangezogen werden, wodurch der Aufwand für die Realisierung der gewünschten Bilddarstellung außer­ ordentlich herabgesetzt werden kann. Es kann eine hohe Lei­ stung ohne wesentlichen Auflösungsverlust erzielt werden.

Durch das erfindungsgemäße Verfahren ist in einer Reihe von Anwendungsfällen erst eine wirtschaftliche Abbildungs- bzw. Dosiskorrektur ermöglicht worden.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann die Ortsinformation über die Gebiete verschiedener Dosen einfach erhalten wer­ den, ohne daß eine a-priori-Festlegung der Gebiete erforder­ lich ist. Dies ist z. B. bei einer großen Anzahl von Schrei­ ber-Dosen vorteilhaft.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann sogar nicht hierarchisch aufgebaute Muster mit überschaubarem Aufwand korrigieren. Es ist in der Bestimmung des Dosisbereichs und der zu verwen­ denden Auflösung sehr flexibel.

Wie erwähnt wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren durch die Abtrennung der Korrektur vom eigentlichen Bild eine kon­ stante Übertragungsfunktion bis in die hohen Frequenzen ge­ währleistet. Die invertierte transformierte Proximity-Funk­ tion wird bei einer vorteilhaften Verfahrensvariante ab der nicht mehr sinnvoll erscheinenden Grenzfrequenz als konstant weitergeführt. Diese Konstante im räumlichen Frequenzraum entspricht bei der Faltung gerade der Identität (hier der abzubildenden Struktur), mit dieser Konstanten multipli­ ziert, die somit von der Faltungsfunktion abgetrennt wird. Die Differenz dieser Konstanten im Frequenzraum ergibt eine niederfrequente Faltungsfunktion, die somit mit geringer Auflösung verarbeitet werden kann. Allerdings muß diese ab­ gezogene Identität nach der Korrektur wieder zu dem Aus­ gangsbild hinzugefügt werden. Die Abbildungskorrektur arbei­ tet nur noch mit der für sie notwendigen Auflösung. Eine hohe Auflösung für das Durchschleusen des Originalbildes durch die Korrektur, wie bislang praktiziert wurde, ist nicht mehr erforderlich. Ein exemplarischer Nachweis für die Funktionstüchtigkeit konnte durch Computersimulation er­ bracht werden.

Bei einer weiteren vorteilhaften Verfahrensvariante wird das abzubildende Ausgangsbild in der gewünschten abzubildenden Auflösung gespeichert und mit dem grobgefalteten Bild zusam­ mengefügt. Diese Variante wird insbesondere angewendet, wenn die Faltung nicht optisch durchgeführt wird.

Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren kann die Faltung op­ tisch durchgeführt werden. Hierzu wird ein Linsen- und Fil­ tersystem eingesetzt. Die Vorkorrektur kann ferner ein­ schließlich der optisch durchgeführten Faltung mittels Strahlteiler sowie Linsen- und Filtersystem durchgeführt werden. Dabei wird parallel zu dem entsprechenden Korrektur­ bildteil mittels Strahlteiler, Halbspiegel oder dergleichen das unveränderte Bild übertragen.

Bei einer weiteren vorteilhaften Verfahrensvariante werden die in den unbeschriebenen Gebieten auftretenden negativen Dosen, hervorgerufen durch die Vorkorrektur der Abbildung, bei der Korrektur in den beschriebenen Gebieten berücksich­ tigt (Dosisreduktion). Negative Dosen an einer bestimmten Stelle wirken sich in einer Reduktion der dort durch den Proximity-Effekt von anderen Stellen deponierten Dosis aus; sie sind schreibtechnisch nicht darzustellen. Bei der Kor­ rektur über Entfaltung ist das Resultat aber danach ausge­ richtet, daß negative Dosen geschrieben werden und dem Pro­ ximity-Effekt unterliegen. Das Erfordernis negativer Dosen wird dadurch beseitigt, daß lediglich die Auswirkungen der negativen Dosen durch den Proximity-Effekt in das beschrie­ benen Gebiet hinein berücksichtigt werden. Dies führt zu ei­ ner Dosisabsenkung in der Nachbarschaft von Bildbereichen, die nicht beschrieben werden, für die aber ein stark negati­ ver Dosiskorrekturwert ermittelt wurde.

Als besonders zweckmäßig hat es sich bei der Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens erwiesen, mit sogenannten Ex­ traktionen zu arbeiten. Dies bedeutet, daß eine Bilddarstel­ lung mit weniger Daten realisiert werden kann. So kann gemäß einer vorteilhaften Verfahrensvariante das Zusammenfügen des grob gefalteten Bildes mit dem Ausgangsbild geschehen, indem eine flächige Mittelung des grob gefalteten Bildes über ein Bildelement erfolgt. Hierbei wirkt sich jede Einzelheit der Korrektur aufgrund der Mittelung aus, in die sie eingeht.

Es kann auch alternativ vorgesehen werden, daß die Dosis ei­ nes Bildelementes aus einem oder mehreren ausgewählten Punk­ ten des grob gefalteten Bildes bestimmt wird. Diese Verfah­ rensvariante läßt sich besonders schnell und einfach ausfüh­ ren.

Es kann auch zur Erzielung einer möglichst genauen Dosisver­ teilung vorgesehen werden, das Zusammenfügen des grob gefal­ teten Bildes mit dem Ausgangsbild geschieht, indem eine Un­ terteilung des Bildes entsprechend den Bereichen des grob gefalteten Bildes nach unterschiedlicher Dosis durchgeführt wird und in den Teilbereichen mit den betreffenden Dosen ge­ schrieben wird.

Zusätzlich können technische Aspekte wie bestimmte vorgege­ bene Winkel, Minimalabstände, etc. bei der Realisierung die­ ser Verfahrensvariante berücksichtigt werden, wenn bei der Bildunterteilung nach unterschiedlichen Dosen die Unter­ teilung in Abhängigkeit von den Bildelementen des Ausgangs­ bildes durchgeführt wird.

Die Erfindung wird im folgenden weiter anhand eines Ausfüh­ rungsbeispiels und der Zeichnung beschrieben. Das Ausfüh­ rungsbeispiel ist keinesfalls als die Erfindung einschrän­ kend anzusehen, sondern dient lediglich zu Erläuterungs­ zwecken, d. h. die Erfindung kann auf in zahlreichen Ausfüh­ rungsvarianten im Rahmen des Schutzumfangs der Ansprüche ausgeführt werden. Sie ist auch nicht auf die Merkmalskombi­ nationen in den Ansprüchen beschränkt, sondern diese können ungeachtet deren Zusammenfassung in den Ansprüchen kombi­ niert werden.

In der Zeichnung zeigen:

Fig. 1 ein Diagramm, das ein Beispiel einer Monte Carlo- Berechnung einer Dosisverteilung bei 50 keV veran­ schaulicht, wobei in dem Diagramm die Eindring­ tiefe gegen die Reichweite aufgetragen ist,

Fig. 2A bis 2F eine Veranschaulichung der Fouriertrans­ formation, wobei Fig. 2A die Proximity-Funktion, Fig. 2B die gewünschte Funktion, Fig. 2C das unkorrigierte Ergebnis, Fig. 2D die zur Faltung zu verwendende Funktion, Fig. 2E die zu schrei­ bende Funktion und Fig. 2F das korrigierte Ergeb­ nis darstellen, und

Fig. 3A bis 3D eine Veranschaulichung der Verarbeitung der Proximity-Funktion nach der Entfaltungsme­ thode,

Fig. 4A und 4B eine Veranschaulichung der Verarbeitung der Proximity-Funktion nach dem erfindungsgemäßen Verfahren,

Fig. 5 eine schematische Veranschaulichung einer Variante mit optischer Vorkorrektur und Faltung,

Fig. 6 eine Darstellung eines Testmusters mit Spalt und isolierten Linien,

Fig. 7 eine Darstellung einer unkorrigierten Abbildung des Testmusters,

Fig. 8 ein Beispiel einer Dosisverteilung, die sich aus einer Grobkorrektur ergibt, wobei die dunkleren Bereiche höheren Dosen entsprechen und 8 verschie­ dene Dosen verwendet worden sind, und

Fig. 9 eine Simulation des korrigierten Musters, geschrieben mit einer 15% höheren Dosis.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnung weiter erläutert.

Fig. 4 veranschaulicht die erfindungsgemäße Korrekturme­ thode. Schon ab einer relativ niedrigen Raumfrequenz ergibt sich ein konstanter Anteil, der abgetrennt werden kann. Das Ergebnis ist in Fig. 4B dargestellt. Ein Vergleich mit Fig. 3 zeigt die bessere Abbildungseigenschaft (Fig. 4A) bei gleichzeitig deutlich geringerer Anforderung an die Auflö­ sung der Korrektur (Fig. 4B).

Fig. 5 veranschaulicht eine Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens mit optischer Vorkorrektur und Faltung. Ein Bild 2 mit einer abzubildenden Struktur wird auf einen Teiler 4 gegeben, bei dem es sich z. B. um einen Halbspiegel handeln kann. In diesem wird der Strahl in einen ersten Teilstrahl 6, der die unveränderte Bildinformation trägt, und in einen zweiten Teilstrahl 8, der für die Korrektur vorgesehen ist, aufgeteilt. Der zweite Teilstrahl 8 wird durch ein Linsen- und Filtersystem 10 geführt, in dem eine Faltung gemäß der Erfindung durchgeführt wird. Anschließend wird der Teil­ strahl 8 ebenso wie der erste Teilstrahl 6 auf einen weite­ ren Halbspiegel 12 gegeben, wo die Teilstrahlen wieder zu­ sammengefügt werden. Anschließend werden sie für den Elek­ tronenstrahlschreibvorgang ausgewertet bzw. weiterverarbei­ tet.

Fig. 6 zeigt ein Testmuster mit Spalten und isolierten Li­ nien. Fig. 7 veranschaulicht den Effekt der Proximity-Funk­ tion bei einer unkorrigierten Abbildung. Weder die Spalte noch die isolierten Linien sind scharf bzw. deutlich abge­ bildet worden.

Fig. 8 zeigt ein Beispiel einer Dosisverteilung bei Anwen­ dung des erfindungsgemäßen Verfahrens, die sich aus einer Grobkorrektur ergibt. Es sind 8 verschiedene Dosen verwendet worden. Die dunkleren Bereiche entsprechen höheren Dosen. Fig. 9 zeigt eine Simulation des korrigierten Musters, ge­ schrieben mit einer 15% höheren Dosis. Die Spalten und Li­ nien sind scharf abgebildet worden.

Claims (11)

1. Verfahren zur Abbildung mittels Elektronenstrahl-Litho­ graphie, bei dem Falschbelichtungen, hervorgerufen durch Proximity-Effekt, korrigiert werden,

• - wobei eine Vorkorrektur der Abbildung in bezug auf die Strahlendosis durchgeführt wird,
• - wobei eine grobe Faltung des Bildes durchgeführt wird,
• - wobei das grob gefaltete Bild mit dem Ausgangsbild zusam­ mengefügt wird, und
• - das so gewonnene vorkorrigierte Bild durch Elektronen­ strahlen abgebildet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das abzubildende Ausgangsbild in der gewünschten abzubildenden Auflösung gespeichert wird und mit dem grob gefalteten Bild zusammengefügt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Faltung optisch durchge­ führt wird.

4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Vorkorrektur einschließ­ lich der optisch durchgeführten Faltung mittels Strahlteiler sowie Linsen- und Filtersystem durchgeführt wird.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß von der Faltungsfunktion einer Identität entsprechender Anteil (Vielfaches einer δ- Funktion) abgetrennt wird, die sich ergebende Funktion zur Faltung verwendet wird und der abgetrennte Anteil durch die Zusammenfügung mit dem Ausgangsbild berücksichtigt wird.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Korrektur nur im Be­ reich der beschriebenen Gebiete durchgeführt wird.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die in den unbeschriebenen Gebieten auftretenden negativen Dosen, hervorgerufen durch die Vor­ korrektur der Abbildung, bei der Korrektur in den beschrie­ benen Gebieten berücksichtigt werden (Dosisreduktion).

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Zusammenfügen des grob gefalteten Bildes mit dem Ausgangsbild geschieht, indem eine flächige Mittelung des grob gefalteten Bildes über ein Bildelement erfolgt.

9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Dosis eines Bildele­ mentes aus einem oder mehreren ausgewählten Punkten des grob gefalteten Bildes bestimmt wird.

10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Zusammenfügen des grob gefalteten Bildes mit dem Ausgangsbild geschieht, indem eine Unterteilung des Bildes entsprechend den Bereichen des grob gefalteten Bildes nach unterschiedlicher Dosis durchge­ führt wird und in den Teilbereichen mit den betreffenden Do­ sen geschrieben wird.

11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekenn­ zeichnet, daß bei der Bildunterteilung nach unter­ schiedlichen Dosen die Unterteilung in Abhängigkeit von den Bildelementen des Ausgangsbildes durchgeführt wird.