DE2515911A1 - Bildwiedergabe mittels maskenverfahren - Google Patents
Bildwiedergabe mittels maskenverfahrenInfo
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- DE2515911A1 DE2515911A1 DE19752515911 DE2515911A DE2515911A1 DE 2515911 A1 DE2515911 A1 DE 2515911A1 DE 19752515911 DE19752515911 DE 19752515911 DE 2515911 A DE2515911 A DE 2515911A DE 2515911 A1 DE2515911 A1 DE 2515911A1
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
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- Y10S430/153—Multiple image producing on single receiver
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
Böblingen, den 4. April 1975 bu-hr
Aniaelderin: International Business Machines
Corporation, Armonk, ri.Y. Iu504
Amtliches Aktenzeichen: Heuanmeldung;
Aktenzeichen der Anmelderin: YO 973 O56
bildwiedergabe mittels Maskenverfahren
üie Erfindung betrifft ein Verfahren zur Synthese einer bildwiedergabe
aus Einzelabbildungen auf einer strahlungsernpfindlichen
oberfläche mit einer relativ hierzu geführten, der Strahlung ausgesetzten
Projektions-Expositions-Verfahren, bei denen Photoresistoberflächen
über Masken belichtet werden, die die gesamte Abbildung wiedergeben, sind an sich bekannt. Ebenso werden einzelne oder
mehrere Elektronenstrahlen über entsprechende Oberflächen gelenkt, indem durch deren entsprechendes An- und Abschalten die ;
üildsynthese auf der zu belichtenden Oberfläche entsteht. Außer- <
dem ist eine Lichttafel bekannt, die die Synthese optischer ÄDbildungen auf einer Photoresistoberflache gestattet. Eine
solche Lichttafel läßt sich durch ein Band steuern, um die gewünschte Abbildung auf der Photoresistschicht, die einen Oberflächenbereich
eines Halbleiterscheibchens abdeckt, herbeizuführen.
In der USA Patentschrift 3 51d 083 ist ein Maskenverfahren zur
Belichtung von Oberflächen gezeigt, bei dem die Maske aus einem offnungsraster bestent, durch welche die Strahlung auf darunterliegende,
freigelassene Oberflächenbereiche einfallen kann. Dabei wird die Maske relativ zur Strahlungsquelle längs eines durch
einen Ab fühlgriff el vorgegebenen Pfades bewegt; tioöei der Abfünlgriffel
auf einer Originalabbildung nachgeführt wird, so daß auf dar
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Delichteten Oberfläche eine entsprechend der Anzahl der vorgegebenen
Maskenoffnung bereitgestellte^Anzanl von identischen Abbildungen
auf der Abbildungsfläche entsteht.
In der UoA Patentschrift 3 434 894 ist ein lonenimplantationsverfahren
besenrieben, bei dem eine Vielzahl von Ionenquellen
Anwendung finaet, die im Zusammenwirken mit Maskenöffnungen und
einem Ablenksystem eine entsprechende Überflächenbeeinflussung herbeiführen.
In beiden genannten Patentschriften sind keine Maßnahmen angegeben,
um Oberflächenbereiche zu belichten, die vollständig von nichtbelichteten
Bereichen umgeben sein sollen.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Maskenbelichtungsverfahren
anzugeben, da." unter Vermeidung oben genannter ,iM'acnteile eine einfache, wirkungsvolle und betriebssichere Belichtung
für eine bildsynthese auf einer ßildoberflache bereitstellt, j
.Die i^rfindungsgeiiiäße Lösung der Aufgabe läßt sich dem Patentan- ;
Spruch i entnehmen. Mit hilfe des hierin angegebenen vier-Schritt- ·
.oelichtungsverfahrens, erübrigt sich beim Einbringen von ßelich- ι
tungsinseln in die bildoberflachen die Anwendung von ΐ-Iasken zu j
Substraten oder anderer entsprechender Stützmaßnahmen.
Vorliegende Erfindung stellt ein Maskenexpositions-Verfahren bereit, welches eine besondere Maskenherstellung erübrigt. Außerdem
scneiden Stabilitäts- und "wärme ab le it ungs prob lerne aus, die unvermeidlich
mit Feldern dicht aneinanderliegender, parallel verlaufender
langer Linien verbunden sind, wie z. B. wort- und Bitleitungen auf einem Halb leiterplatten· en, das zur Speicherherstellung
entsprechend belichtet werden soll. Übliche Masken für Elektronenstrahl-Projektions-Expositions-Verfahren für solche
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Linienfelder bestehen normalerweise aus Abdeckstreifen mit mehr
oder weniger unhandlichen Maskenöffnungen, nämlich mit großem
Längen - zu breiten - sowie Dickenverhältnis. Demgegenüber stellt die brfindung ein Maskenexpositionsverfahren bereit, das unter
Anwendung einer Anzanl von rechteckigen Maskeneinheitsöffnungen
in einem Vier- Schritt-Belichtungsverfahren unter sukzessiver Maskenverschiebung in Anwendung zxtfeckentsprechender Ablenksignale
an das Strahlablenkungssystem eine Bildsynthese auf der Abbildungsfläche in einfachster Weise gestattet.
Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen der Erfindung
sind in den Unteransprüchen zu entnehmen.
j Die Erfindung wird in der nachfolgenden Ausführungsbeispielsbescnreibung
mit nilfe der unten aufgeführten Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigen:
eine diagrammartige Darstellung einer Einzelmaskenöffnung und die hierdurch bedingte Bildwiedergab
esynthese gemäß der Erfindung,
eine diagrarnmartige Darstellung einer Maskenöffnungsanordnung
gemäß der Erfindung und die hierdurch bedingte Bildwiedergabesynthese einer
Linie Undefinierter Länge und minimaler Breite, )
eine diagrammartige Darstellung einer Maskenöffnungsanordnung
gemäß der Erfindung und die hierdurch bedingte Bildwiedergabesynthese, bei der ein abgeschlossenes, nicht belichtetes Gebiet
vorliegt,
eine diagrammartige Darstellung einer Maskenöffnungsanordnung gemäß der Erfindung und die hier-
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-n-
durch bedingte Bildwiedergabesynthes-e eines
Gebietes Undefinierter Länge und Undefinierter : Breite,
,Pxgn. 5a - 5c graphische Darstellungen, in denen jeweils die
1 Anzahl n, o, o, als Punktionen der Länge L auf-
'· getragen sind.
Pign. 6a - 6c eine gewünschte Bildwiedergabesynthese mit den
erforderlichen Einzelheiten.
pas Belichtungsmaskenschema gemäß der Erfindung dient zur Anwen- |dung bei Elektronenstrahlverfahren, so daß die Maske den hierauf
gerichteten Elektronenstrahlen ausgesetzt ist. Entsprechende Verfahren sind bekannt und brauchen an dieser Stelle nicht näher
beschrieben zu werden.
Zur Erläuterung der Erfindung wird eine Maske angenommen, die eine
größere Anzahl von kleinen, rechteckigen Maskenöffnungen besitzt, um entsprechend rechteckige Gebiete des zu belichtenden Körpers
exponieren zu können. Ein rechteckiges Gebiet besteht bekanntlich aus einem "Polygon, dessen Seiten parallel zu den X- und Y-Achsen
eines kartesischen Koordinationsystems verlaufen. Wenn auch zur Erläuterung der Erfindung in den beigefügten Zeichnungen keine
Maske als ganzes dargestellt ist, so sind doch die Maskenöffnunjgen
in den Zeichnungen im vergrößerten Maßstab und bezüglich lihrer Lage maßstabsgerecht dargestellt, um beispielhafte, zusammengesetzte
Abbildungen bereitzustellen. In den Fign. 1 bis 5 'einschließlich besteht jede Zeichnung aus zwei Teilen, worin der
mit I bezeichnete Teil die gewünschte Expositionsabbildung und jder mit M bezeichnete Teil die zur Erzeugung von I benötigte
!Maskenöffnungskonfiguration darstellt. Zweckmäßigerweise sind jdie Teile I und M in einem rechtwinkligen Gittersystem dargejstellt,
wobei sich versteht, daß die I- und M-Lagen nicht notwendigerweise mit Elementarflächen eines solchen Gitterssystems
zusammenfallen müssen, bzw. kongruent zu sein haben. Außerdem
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sind aus Zweckmäßigkeitsgründen die Teile I und M für ein Einmal-Projektionssystem
gezeigt.
,Fig. 1 zeigt den Abbildungsteil I mit einer minimalen Expositionsfläche a χ a und einen Maskenteil M mit einer minimalen Masken-Öffnung,
b χ bj wobei a = 2b und die Abbildung mit Hilfe vier
aufeinanderfolgender Expositionsschritte der Maskenöffnung in den mit 1, 2, 3 und 4 bezeichneten Positionen erfolgt. Ist die
'Abbildung in der Position 1 die erste, bzw. die ßezugsexposition dann folgt:
a) Die Abbildung in Position 2 erfolgt durch Bildablenkung um
eine Distanz entsprechend -b in Y-Richtung.
ib) Die Aboildung in Position 3 ergibt sich durch Bildablenkung
um die Distanzen -b in Y-Richtung und +b in X-Richtung und
!c) die Abbildung in Position 4 ergibt sich durch Bildablenkung
> um die Distanz +b in X-Richtung.
.'Worin, wie gesagt, alle Ablenkungen relativ zur Position 1, also
!der bezugsposition erfolgen.
Es versteht sich, daß die oben angegebene Ablenkungsreihenfolge ,und die Ablenkungsdistanzen +b in entsprechender V/eise für die
gesarate Beschreibung der vorliegenden Erfindung gelten.
In Fig. 2 ist ein Abbildungsteil und ein Maskenteil für eine Linie minimaler breite und der Länge η χ a mit (η = ganzzahlig)
gezeigt. Die im Maskenteil M gezeigte, gestrichelte Maskenöffnung
läßt sich durch eine ganzzahlige Anzahl ähnlicher öffnungen ersetzen. Als Ergebnis zeigt sich eine Maske mit einer Reihe von
η öffnungen, unabhängig von ihrer Länge. Dies steht dann im Gegensatz zu einer einzigen länglichen öffnung, die sonst in
einer üblichen Maske vorhanden ist.
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Fig. 3 zeigt eine Expositionsabbildung mit einem unbelichteten
Gebiet U1, das vollständig von einem "exponierten Gebiet E umgeben
ist, das seinerseits wiederum von einem unbelichteten zureiten Gebiet Up umgeben ist. Eine Maske zur Erzeugung einer solchen
Abbildung verwendet acht identische rechteckige Öffnungen, die wie in M gezeigt, angeordnet sind. Unabhängig von Größe und relativen
Abmessungen des zentralen, unbelichteten Gebietes und des unmittelbar anschließenden exponierten Gebietes wird deshalb
das zentrale elektronenundurchlässige Gebiet E-O der Maske gleich-Iförmig
an seinem Umfang unterstützt, bzw. gehalten, gleichförmig von elektrischem Strom durchflossen und für eine Wärmeabfuhr be-
!reitgeha.lt en.
'Fig. 4 zeigt einen Abbildungsteil und einen Maskenteil für ein
IRechteck mit den Abmessungen na χ ma,' wobei sich entweder die gestrichelt
gezeichneten üffnungsspalten oder die Offnungszeilen
;in der Maske durch ganzzahlige Vielfache von üffnungsspalten bzw.
I zeilen in der Maske M ersetzen lassen können.
Alle Maskenöffnungsanordnungen, wie oben beschrieben, umfassen
''Abbildungen mit Abmessungen in den X- und Y-Koordinaten, die ganzzahligen Vielfachen der minimalen Expositions fläche a χ a
|in Pig. 1 entsprechen. Im weiteren werden Abmessungen und offinungsanordnungen
für Abbildungsexpositionen in Betracht gezogen, deren Abmessungen in den X- und Y-Koordinaten nicht ganzzahligen
Vielfachen der minimalen Expositionszeile entsprechen.
'Angenommen, eine rechtwinklige Abbildung sei gefordert, bei der
die Abmessung L beliebiger Menge vorgegeben sei,.wobei die Ab- |
bildung durch ein Vier-Schritt-rechtwinkliges-Expositionsmuster j zusammenzusetzen sei. Da irgendwelche Maskenöffnungen ein größeres
Ausmaß als die minimale Abmessung b χ b aufweisen können und da der Abstand zwischen benachbarten Maskenöffnungen kleiner als b !
sein kann, da b = 0,5a, ergeben sich die folgenden Maskenöffnungs-;
1 Gestaltungsgleichungen:
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1) Für (L - Ly )lO,5 2) Für (L-UJ )>
0,5
gilt: η = \l\ gilt: η = |"ΪΓ|
s = b d = b
d = b + L - n s b + £=£
; o = d-sn o = d-s
1 o, = η (d - s) = no ο, = (n-1) (d-s) = (n-l)d>
In den obenstehenden Gleichungen bedeuten:
j j bedeutet eine Zahl, die auf die nächste ganze Zahl abgerundet ist.
ΓΙ bedeutet eine Zahl, die auf die nächste ganze Zahl aufgerundet
ist.
IL = Seitenlänge des zu exponierenden Rechtecks mit L >_ a.
IL = Seitenlänge des zu exponierenden Rechtecks mit L >_ a.
η = Anzahl der in Richtung von L erforderlichen öffnungen. 's = Breite des Maskenmaterial zwischen benachbarten Öffnungen
d = Länge der üffnungsseite in der L-Richtung.
ο = Länge jedes doppelt exponierten Gebiets in der L-Richtung.
o. = Summe aller ο längs der Richtung L.
j Die graphischen Darstellungen nach den Fign. 5a bis 5c zeigen
die Anzahl η, ο und o, als Funktion der Länge L.
!Das Schema nach Fig. 6a bringt ein Beispiel worin eine Exposi-1tionsabbildung
gefordert wird, die eine Länge 4,4 a und eine
'Breite von 1,9 a besitzen soll. Fig. 6b zeigt eine bevorzugte Maskenöffnungsanordnung für die Zusammensetzung der Abbildung
j gemäß Fig. 6a, wobei ein minimaler Anteil von Doppel- und Vierfachexpositionen
vorliegt. Diese optimale Maskenöffnungsanordnung
wird von oben stehenden Gleichungen wie folgt abgeleitet: I a = 1, d. h. jede Kästchenseite =0,1
L = 4,4 (längste Seite)
(L - [lJ ) = 4,4 - 4 = 0,4
Da 0,4 geringer ist als 0,5, wenden sich die Gleichungen unter Bedingung 1) an:
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η =
s = b = 0,5
d = 0,5 + = 0,5 + 0,1 = 0,6
ο = d-s = 0,6 - 0,5 = 0,1
ot = η (d-s) = 4 (0,6 - 0,5) = 0,4
Damit ergibt sich aus der Abbildung nach Fig. 6b, daß vier Spalten
von öffnungen erforderlich sind, wobei jede mit einer längsten
Seite von 0,6 versehen ist und ein Abstand von 0,5 zwischen den öffnungen vorliegt. Fig. 6c zeigt die durch jede öffnung verursachte
Doppelexposition mit ο = 0,1, wobei die Gesamtdoppelexposition
in Richtung der längsten Seite sich zu o, =0,4 aus der Rechnung ergibt.
;Eine gleiche Rechnung läßt sich zur Bestimmung der Anzahl, Größe
ι und der Abstände der öffnungen in jeder Spalte aufstellen, um
die genaue Breite (d. h. 1,9a) für das Rechteck in Fig. 6a zu erhalten. Die Parameter η, ο und o, lassen sich direkt den Darstellungen
nach den Fign. 5a bis 5c entnehmen. Alle dem vorliegenden Schema zu entnehmenden Vierfachexpositionen lassen sich als in·
tern bezeichnen, d. h. sie liegen nicht an Kanten. Alle Gebiete einer Doppelexposition besitzen minimale Längen und sind gleichförmig
längs der Kanten verteilt. Das rein willkürliche Abbildungsgebiet in Fig. 6a soll lediglich beispielhaft für nicht
ganzzahlige Gebiete sein, wobei sich die Vorschriften der Erfindung leicht auf Seitenlängen oder Gebiete anwenden lassen, deren
J Abmessungen größer als das minimale Expositionsgebiet a χ a sind,
unabhängig davon, ob sie nun ganzzahlig oder nicht ganzzahlig ' sind.
Als Ergebnis der Anwendung einer Vielzahl von im Abstand zueinander
angeordneten öffnungen, um eine Abbildung zusammenzusetzen,
können Masken relativ unempfindlich sein, da in Extremfällen die Gesamtmaskenfläche angenäherte 80 Prozent Maskenmaterial und 20
Prozent Leerraum für die öffnungen enthält.
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-SJ-
Gemäß vorliegender Erfindung lassen sich die öffnungen irgendwo
auf der Maskenoberfläche anbringen. Alle zur Herstellung entsprechender
Bauelemente benötigten Expositionen, benötigen nicht die volle Anwendung der oben beschriebenen Verfahr ensiaaßnahmen. So
xfürde z. B. die Exposition einer Vielzahl von fiinzellochungen
lediglich eine übliche Einzellochung erfordern und unter gewissen Voraussetzungen (d. h. eine Exposition einer Anordnung paraller
Linien) könnte eine Zwei-Schritt-Expositionsschema Anwendung finden anstatt eines Vier-Schritt-Expositionsschemas, das oben
beschrieben worden ist.
Obgleich vorliegende Erfindung speziell im Zusammenhang mit rechtwinkligen
Abbildungen und öffnungen beschrieben worden ist, lassen sich Gebiete mit gekrümmten Abgrenzungen oder auch geraden
Abgrenzungen, die aber dann nicht parallel zueinander verlaufen, in an sich bekannter VJeise durch eine Näherung mit einer entsprechenden
Anzahl rechtwinkliger Elementargebiete ebenfalls erfassen.
L ■ I
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Claims (3)
- - 10 PATENTANSPRÜCHE'lT) Verfahren zur Synthese einer Bildwiedergabe aus Einzelabbildungen auf einer strahlungsempfindlichen Oberfläche mit Hilfe einer relativ hierzu geführten, der Strahlung ausgesetzten Maske, dadurch gekennzeichnet, daß über zumindest eine, und zwar eine relativ kleine, rechteckige l-laskenöffnune; während eines ersten Zeitabschnittes je ein erster vorherbestimmter Flächenbereicn der strahlungs-: empfindlichen Oberfläche (E) zur exakten Abbildung der wasKenöffnung bzw. Maskenöffnungen, während eines zweiten Abschnittes unter entsprechender Maskenverschiebung je ein zweiter, vorherbestimmter, an den ersten angrenzender Flächenbereich der strahlungsempfindlichen Oberfläche (E), während eines dritten Zeitaoschnittes unter entsprechender Maskenverschiebung, je ein dritter, vorherbestimmter, zumindest an den zweiten angrenzender Flächenbereich der strahlungsempfindlichen Oberfläche (E) und während eines vierten Zeitabschnittes unter entsprechender Maskenverschiebung je ein vierter, vorherbestimmter, an genannte übrige Flächenbereiche anstoßender Flächenbereich der s trail lungs empfindlichen Oberfläche (E) der Strahlung aus- ; gesetzt xtferden, so daß sich die gewünschte zusammengesetzte! Bildwiedergabe (I) ergibt. ■
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daßbei mehreren rechteckigen Maskenöffnungen (Fig. 3) sowohl i ihre Anordnung als auch die Maskenverschiebungen so ge- j troffen werden, daß sich nach Abschluß der vierten Masken- |verschiebung eine einzige zusammenhängende Gesamtbildwiedergabe (I) ergibt.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 und/oder Anspruch 2, dadurch ι gekennzeichnet, daß die Bestrahlung mit Hilfe ablenkbarer · Elektronenstrahlen erfolgt, wobei Strahlablenkung zur effek-: tiven Maskenöffnungsverschiebung dient. j509851/0704Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlablenkung rechtwinklig: und jeweils parallel zu den Maskenöffnungsseiten erfolgt.YO 973 056509851 /0704
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Legal Events
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---|---|---|---|
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8130 | Withdrawal |