DE4243947A1

DE4243947A1 - Arrangement for cleaning an oven

Info

Publication number: DE4243947A1
Application number: DE4243947A
Authority: DE
Inventors: Klaus Dipl Ing Erdmann; Udo Dipl Ing Reiff; Rudolf Begero
Original assignee: Individual
Current assignee: BSH Hausgeraete GmbH
Priority date: 1992-12-23
Filing date: 1992-12-23
Publication date: 1994-06-30
Also published as: SI9300662A; EP0607555A2; EP0607555B1; EP0607555A3; DE59309110D1

Description

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Reinigung eines Back ofens, der eine Muffel, einer unterhalb der Muffel angeordneten Heizkörper und gegebenenfalls einen oberhalb der Muffel ange ordneten Heizkörper aufweist.The invention relates to an arrangement for cleaning a baking furnace, one muffle, one arranged below the muffle Radiator and possibly one above the muffle arranged radiator.

Es sind bereits Backöfen bekannt, bei denen sowohl der unterhalb der Muffel angeordnete Heizkörper als auch der oberhalb der Muffel angeordnete Heizkörper neben dem Backen bzw. dem sonstigen Zube reiten von Speisen in der Muffel auch für eine sogenannte kataly tische Selbstreinigung der Muffel benutzt wird. Dabei wird der Muffelinnenraum auf eine hohe Temperatur ( 550°C) gebracht, um verunreinigte Stellen an den Muffelinnenwänden zu entfernen.Ovens are already known in which both the below the muffle arranged radiator as well as that above the muffle arranged radiators next to the baking or other accessories riding food in the muffle also for a so-called kataly table self-cleaning of the muffle is used. The Muffle interior brought to a high temperature (550 ° C) remove contaminated areas on the inside of the muffle.

Diese katalytische Selbstreinigung ist mit einer Reihe von Nach teilen verbunden. Zunächst erfordert die katalytische Selbst reinigung wie bereits erwähnt eine relative hohe Temperatur. Diese Temperatur ist dabei so zu wählen, daß einerseits der gewünschte Reinigungseffekt erzielt werden kann, daß andererseits aber auch Beschädigungen bzw. eine allmähliche Zerstörung des Backofeninnenraums vermieden wird.This catalytic self-cleaning is with a number of after share connected. First, the catalytic self requires cleaning as already mentioned a relatively high temperature. This temperature should be chosen so that on the one hand the Desired cleaning effect can be achieved on the other hand but also damage or a gradual destruction of the Oven interior is avoided.

Die katalytische Selbstreinigung erfordert einen hohen Energieeinsatz und ist auch mit dem weiteren Nachteil verbunden, daß der Backofen bei einer Reinigung während einer relativ langen Zeit anderweitig nicht genutzt werden kann. Diese Zeit setzt sich aus der Zeit zusammen, in der die Betriebstemperatur gebildet wird, aus der Zeit der eigentlichen Reinigung und schließlich aus der Zeit, die erforderlich ist, den Backofen wieder auf eine Temperatur abzukühlen, die eine gefahrlose Bedienung des Backofens erlaubt.Catalytic self-cleaning requires a high level Use of energy and is also associated with the further disadvantage that the oven is cleaned during a relatively long time Time cannot be used for other purposes. This time is set composed of the time in which the operating temperature was formed will, from the time of the actual cleaning and finally out the time it takes to put the oven back on Cool down temperature, the safe operation of the Oven allowed.

Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung der eingangs genannten Art anzugeben, die die Selbstreinigung von Backöfen vereinfacht.Based on this prior art, the invention lies Task based on an arrangement of the type mentioned specify that simplifies the self-cleaning of ovens.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit den Merkmalen des Patent anspruche 1 gelöst. Die erfindungsgemäße Anordnung zeichnet sich dadurch aus, daß nur eine vergleichsweise geringe Betriebstempe ratur von etwa 50 bis 70°C erforderlich ist. Der Backofen und insbesondere die Muffel wird durch diese Temperatur, die weit unterhalb der maximalen Betriebstemperatur zum Beispiel für be stimmte Back- und Bratvorgänge liegt, nicht beeinträchtigt. Ent sprechend der vergleichsweise geringen Temperatur für die Reini gung wird für die Reinigung eine nur kurze Zeit beansprucht, so daß sich der Backofen entsprechend lange für seinen bestimmungs gemäßen Gebrauch einsetzten läßt.This object is achieved with the features of the patent claims 1 solved. The arrangement according to the invention stands out characterized in that only a comparatively low operating temperature temperature of about 50 to 70 ° C is required. The oven and in particular the muffle is disturbed by this temperature below the maximum operating temperature for example for be correct baking and roasting is not affected. Ent speaking of the comparatively low temperature for the Reini cleaning takes only a short time, so that the oven suitably long for its intended can be used appropriately.

Ein weiterer besonderer Vorteil der erfindungsgemäßen Anordnung besteht in dem für die Reinigung erforderlichen, nur geringen Energieeinsatz.Another particular advantage of the arrangement according to the invention consists of only a minimal amount required for cleaning Use of energy.

Die Erfindung wird nun anhand der Zeichnungen beschrieben.The invention will now be described with reference to the drawings.

Es zeigtIt shows

Fig. 1 eine perspektivische Darstellung einer Backofenmuffel der erfindungsgemäßen Anordnung; und Figure 1 is a perspective view of an oven muffle of the arrangement according to the invention. and

Fig. 2 eine schaltungstechnische Ausgestaltung der erfindungs gemäßen Anordnung. Fig. 2 shows a circuit design of the arrangement according to the Invention.

Die in Fig. 1 dargestellte Muffel M ist in einem Elektrobackofen angeordnet. Die erfindungsgemäße Anordnung ist jedoch allgemein im Zusammenhang mit Backöfen einsetzbar. Die Muffel M ist quader förmig ausgebildet. In ihrem Bodenbereich ist eine Vertiefung, insbesondere eine Wanne W angeordnet, die der Aufnahme eines Reinigungsmittel R wie beispielsweise einer Spüllauge oder eines Email-Reinigers dient. Muffel M und Wanne W können einteilig ausgebildet sein, alternativ ist eine separate Wanne W vorgese hen.The muffle M shown in Fig. 1 is arranged in an electric oven. However, the arrangement according to the invention can generally be used in connection with ovens. The muffle M is cuboid. A recess, in particular a trough W, is arranged in its base area, which serves to hold a cleaning agent R, such as, for example, a washing-up liquid or an enamel cleaner. Muffle M and tub W can be formed in one piece, alternatively, a separate tub W is provided.

Unterhalb des Muffels M ist in bekannter Weise ein in Fig. 1 elektrischer Heizkörper vorgesehen, der die Unterhitze für die im Backofen durchführbaren Back- bzw. Bratvorgänge erzeugt. Dieser Heizkörper ist insbesondere durch zwei Heizkörperstäbe R1 und R2 gebildet, die längs der Seitenkanten des Muffelbodens in etwa parallel verlaufen, und von einer in Fig. 2 dargestellten Schaltvorrichtung angesteuert werden.Below the muffle M, an electric heater is provided in a known manner in FIG. 1, which generates the bottom heat for the baking or roasting processes which can be carried out in the oven. This heating element is formed in particular by two heating element rods R1 and R2, which run approximately parallel along the side edges of the muffle base, and are controlled by a switching device shown in FIG. 2.

Ferner kann der Backofen einen weiteren, in Fig. 1 nicht dar gestellten Heizkörper (R0 in Fig. 2) für die Bildung der Ober hitze aufweisen, wobei für den Back- bzw. Bratbetrieb der unter halb der Muffel M angeordnete Heizkörper R1, R2 und der oberhalb der Muffel M angeordnete Heizkörper gleichzeitig durch eine ent sprechende Schaltvorrichtung S (Fig. 2) aktivierbar sind, um dem Back- bzw. Bratgut gleichzeitig Unter- und Oberhitze zuzuführen. Dabei können beide Heizkörper (R0; R1, R2 in Fig. 2) für unter schiedliche Leistungen ausgelegt sein. Gegebenenfalls lassen sich Unter- und Oberhitze individuell in einem vorgebenen Leistungs bereich für den Back- und Bratbetrieb einstellen.Furthermore, the oven can have a further, not shown in Fig. 1 radiator (R0 in Fig. 2) for the formation of the upper heat, wherein for the baking or roasting operation arranged under half the muffle M radiator R1, R2 and the radiator arranged above the muffle M can be activated at the same time by a corresponding switching device S ( FIG. 2) in order to simultaneously supply the baked or fried goods with bottom and top heat. Both radiators (R0; R1, R2 in Fig. 2) can be designed for different powers. If necessary, the bottom and top heat can be set individually in a specified performance range for baking and roasting.

Die elektrotechnische Ansteuerung des unterhalb der Muffel M angeordneten Heizkörpers wird unten anhand von Fig. 2 erläutert.The electrical control of the radiator arranged below the muffle M is explained below with reference to FIG. 2.

Das in die Wanne W eingeführte bzw. auf den Muffelboden aufge tragene Reinigungsmittel R wird durch die von dem unterhalb der Muffel M angeordneten Heizkörper R1, R2 erwärmt und schließlich verdampft. Insbesondere bildet der unterhalb der Muffel angeord nete Heizkörper R1, R2, während zweier aufeinanderfolgender Zeiträume unterschiedliche Temperaturen, die zunächst das Reinigungsmittel R erwärmen und schließlich verdampfen.The inserted into the tub W or on the muffle bottom carried cleaning agent R is by the of the below the Muffle M arranged radiators R1, R2 heated and finally evaporates. In particular, it forms below the muffle nete radiators R1, R2, during two consecutive Periods of different temperatures that initially the Warm up cleaning agent R and finally evaporate.

Als Reinigungsmittel R wird beispielsweise eine Spüllauge oder ein Email-Reinungsmittel benutzt. Der erste Zeitraum liegt zum Beispiel im Bereich von 3 bis 4 Minuten, während der zweite Zeitraum im Bereich von 5 bis 8 Minuten liegt. Im ersten Zeitraum werden durch die Erwärmung des Reinigungsmittels R Verunreinigun gen im Bereich des Muffelbodens bzw. der Wanne W gelöst. Im zweiten Zeitraum gelangt das verdampfte Reinigungsmittel R direkt auf die Muffelwände und die obere Muffelabdeckung und wirkt unmittelbar auf dort befindliche Verunreinigungen ein.A detergent solution or, for example, is used as the cleaning agent R. an enamel cleaner is used. The first period is Example in the range of 3 to 4 minutes while the second Period is in the range of 5 to 8 minutes. In the first period become contaminated by heating the cleaning agent R. loosened in the area of the muffle bottom or the tub W. in the evaporated cleaning agent R reaches the second period directly on the muffle walls and the upper muffle cover and acts directly on impurities located there.

In Fig. 2 ist eine Schaltvorrichtung S dargestellt, mit der der unterhalb der Muffel M angeordnete Heizkörper R1, R2 separat in der Weise aktivierbar ist, daß dieser eine Temperatur bildet, die das in die Muffel M eingeführte Reinigungsmittel R verdampft.In Fig. 2, a switching device S is shown, with which the radiator R1, R2 arranged below the muffle M can be activated separately in such a way that it forms a temperature which evaporates the cleaning agent R introduced into the muffle M.

Die Schaltvorrichtung S besteht aus einem Bedienelement B, das beispielsweise durch einen Schaltdrehknopf, durch eine Taste einer Tastatur oder durch ein sonstiges Eingabeelement gebildet ist.The switching device S consists of an operating element B, the for example by means of a control knob, by a button a keyboard or other input element is.

Zusätzlich kann die Schaltvorrichtung S eine Schaltung Z aufwei sen, die ausgelöst durch die manuelle Betätigung des Bedien elements B den Heizkörper R1, R2 in der Weise aktiviert, daß der Heizkörper R1, R2 in aufeinanderfolgenden Zeiträumen unterschied liche Temperaturen erzeugt, wobei die Temperatur im zweiten Zeit raum (Verdampfungsphase) höher ist als die Temperatur im voran gegangen Zeitraum (Erwärmungsphase).In addition, the switching device S can have a circuit Z triggered by the manual operation of the operator elements B activates the radiator R1, R2 in such a way that the Radiators R1, R2 differed in successive periods Liche temperatures generated, the temperature in the second time room (evaporation phase) is higher than the temperature in advance passed period (warming phase).

Die Verdampfungstemperatur beträgt beispielsweise 50 bis 70°C.The evaporation temperature is, for example, 50 to 70 ° C.

Das verdampfte Reinigungsmittel löst Verunreinigungen an den Seitenwänden und an der Decke der Muffel M ab. Etwaige noch verbleibende Verunreinigungen lassen sich relativ leicht manuell entfernen.The evaporated cleaning agent dissolves impurities on the Muffle M from the side walls and on the ceiling. Any more remaining impurities are relatively easy to manually remove.

Der unterhalb der Muffel angeordnete elektrische Heizkörper ist durch die ohmschen Widerstände R1 und R2 dargestellt.The electric radiator is located below the muffle represented by the ohmic resistors R1 and R2.

Die Schaltungskomponente Z kann weiter in der Weise ausgestaltet sein, daß für den regulären Back- und Bratbetrieb des Ofens ausgelöst durch die entsprechende Betätigung des Bedienelements B der unterhalb der Muffel angeordnete Heizkörper R1, R2 für die Unterhitze gemeinsam mit einem oberhalb der Muffel angeordneten Heizkörper R0 über einen Schalter SW3 für die Oberhitze aktiviert wird.The circuit component Z can further be configured in this way be that for the regular baking and roasting of the oven triggered by the corresponding actuation of control element B the radiator R1, R2 arranged below the muffle for the Lower heat together with one arranged above the muffle Radiator R0 activated via a switch SW3 for the top heat becomes.

Die Schaltkomponente Z steuert zwei Schalter SW1 und SW2 und damit die Zuordnung der beiden elektrischen Heizelemente R1, R2 zueinander bzw. zu einer Spannung U.The switching component Z controls two switches SW1 and SW2 and thus the assignment of the two electrical heating elements R1, R2 to each other or to a voltage U.

In einer ersten Schaltstellung (SW1: "1", SW2: "1") sind die Heizelemente R1 und R2 parallel geschaltet; in einer zweiten Schaltstellung (SW1: "2", SW2: "2") sind die Heizelemente R1 und R2 in Serie geschaltet. Mit der ersten Schaltstellung wird in Abhängigkeit der absoluten Beträge der ohmschen Widerständen R1 und R2 eine höhere Heizleistung als in der zweiten Schaltstellung gebildet.In a first switching position (SW1: "1", SW2: "1") they are Heating elements R1 and R2 connected in parallel; in a second Switch position (SW1: "2", SW2: "2") are the heating elements R1 and R2 connected in series. With the first switch position in Dependence of the absolute amounts of the ohmic resistors R1 and R2 a higher heating output than in the second switching position educated.

Darüberhinaus kann in einer dritten Schaltstellung (SW1: "1", SW2: "2") nur das Heizelement R1 aktiviert werden und in einer vierten Schaltstellung (SW1: "2", SW2: "1") wird nur das Heizele ment R2 aktiviert. Je nach Ausgestaltung von R1 und R2 lassen sich damit bei einer vorgegebenen Betriebsspannung U weitere (erste und zweite) Temperaturen für die Erwärmungs- und Verdampfungsphase bilden.In addition, in a third switching position (SW1: "1", SW2: "2") only the heating element R1 can be activated and in one fourth switch position (SW1: "2", SW2: "1") is only the heating ment R2 activated. Depending on the design of R1 and R2 leave thus at a given operating voltage U more (first and second) temperatures for heating and Form evaporation phase.

Unabhängig von diesen Umschaltmöglichkeiten (Reihen-/Parallelschal tung von R1 und R2 sowie der wahlweisen Anschaltung von R1 oder R2) kann die Schaltvorrichtung (S) die erste und/oder zweite Temperatur durch eine getaktete Ansteuerung des Heizkörpers R1, R2 bilden.Regardless of these switching options (series / parallel scarf of R1 and R2 as well as the optional connection of R1 or R2) the switching device (S) can be the first and / or second Temperature by clocked control of the radiator R1, Form R2.

Die genannten Ansteuervorgänge (erste bis vierte Schaltstellung; Taktung) werden von der Schaltungskomponente Z zeitlich in der Weise gesteuert, daß die Erwärmungsphase ("erster Zeitraum") auf etwa 3 bis 4 Minuten begrenzt wird, während die insbesondere unmittelbar folgende Verdampfungsphase ("zweiter Zeitraum") auf weitere 5 bis 8 Minuten begrenzt wird.The control processes mentioned (first to fourth switching position; Clocking) are timed by the circuit component Z in the Controlled that the heating phase ("first period") on is limited to about 3 to 4 minutes, during which in particular immediately following evaporation phase ("second period") is limited another 5 to 8 minutes.

Claims

1. Arrangement for cleaning an oven which has a muffle, a radiator arranged below the muffle and, if appropriate, a radiator arranged above the muffle, characterized in that the arrangement has a switching device (S) with which the muffle ( M) arranged radiator (R1, R2) can be activated separately in such a way that the radiator (R1, R2) arranged below the muffle (M) forms a first temperature which evaporates a cleaning agent (R) arranged in the muffle (M) .

2. Arrangement according to claim 1, characterized in
that the heating element (R1, R2) arranged below the muffle (M) can be activated separately in the manner by the switching device,
that the heater (R1, R2) arranged below the muffle (M) forms a second temperature for a first period of time, which is below the first temperature, and forms the first temperature for a second period of time.

3. Arrangement according to one of the preceding claims, characterized, that the radiator (R1, R2) consists of two electrical heating elements (R1, R2), which is optional by the switching device (S) can be connected in parallel or in series.

4. Arrangement according to one of the preceding claims, characterized, that the switching device (S) the first and / or second Temperature through a timed control of the radiator (R1, R2) forms.

5. Arrangement according to one of the preceding claims, characterized, the muffle (M) a recess (W) for receiving the Reini has agent (R).