DE4234506A1 - Isolierendes substrat fuer das befestigen von halbleiter-bauelementen - Google Patents
Isolierendes substrat fuer das befestigen von halbleiter-bauelementenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein isolierendes
Aluminiumoxid-Substrat, auf welches zum Befestigen von
Halbleiter-Schaltelementen, wie einen Inverter für eine Mo
torsteuerung oder Klimaanlage oder ein in einer NC-Steuerung
verwendetes Leistungsmodul, Kupferfolie aufgebracht wird.
Die elektronische Technologie hat sich während der letzten
Dekade wesentlich weiterentwickelt, mit schnell anwachsenden
Integrationslevel und abnehmenden Kosten. Der primäre Grund
für diesen Trend ist, daß Halbleiter zu primären elektroni
schen Einrichtungen wurden. Der Trend in dem Bereich von
Leistungsmodulen ist es, die Größe der elektronischen Kompo
nenten zu verringern und mehr Schaltungen in eine einzelne
Baueinheit einzuschließen. Um dieses Ziel zu erreichen, wer
den Schaltelemente auf einem isolierenden Substrat so befe
stigt, daß die einzelnen Schaltelemente elektronisch vonein
ander isoliert sind. Eine Metallfolie, auf welche elektroni
sche Komponenten gelötet werden können, wird auf die ebene
Oberfläche des isolierenden Substrats aufgebracht. Das Sub
strat ist üblicherweise aus einem keramischen Material, wie
Aluminiumoxid (Al2O3), hergestellt. Da die elektronischen
Einrichtungen jedoch kleiner und leistungsstärker werden,
ist ein Substratmaterial mit hoher Wärmeleitfähigkeit für
eine verbesserte Wärmeableitung erforderlich.
Die Wärmeleitfähigkeit von Al2O3 beträgt 17 W/(m.k.). Die
Wärmeleitfähigkeit von Aluminiumnitrid (AlN) ist ungefähr
fünfmal größer und beträgt 80 - 140 W /(m.k.). Daher bietet
ein AlN-Substrat eine bessere Wärmeableitung als ein
Al2O3-Substrat. Aufgrund der hohen Kosten von AlN war seine
Verwendung jedoch auf spezielle Anwendungen begrenzt.
Ein Verfahren, um die Wärmeableitung eines Al2O3-Substrates
zu erhöhen, ist die Dicke des Substrats zu verringern. In
dem Maße, in dem die Dicke des Substrats verringert wird,
verringert sich jedoch auch dessen Spannungsbeständigkeit.
Ein herkömmliches 0,635 mm dickes Al2O3-Substrat weist z. B.
eine Biegefestigkeit von 8 kg auf. Wird die Dicke des Sub
strates auf 0,275 mm verringert, beträgt die Biegefestigkeit
nur 2 kg, eine Verringerung um 75%. Bei einem solchen Sub
strat besteht eine große Wahrscheinlichkeit, daß sich mit
der Zeit aufgrund der thermischen Beanspruchungen in dem
Aufbau Risse entstehen.
Die vorliegende Erfindung wurde im Hinblick auf die obigen
Umstände gemacht und ihr liegt die Aufgabe zugrunde, sowohl
ein isolierendes Substrat für das Befestigen von Halbleiter-
Bauelementen zur Verfügung zu stellen, bei welchem das iso
lierende Substrat aus billigem Al2O3 hergestellt ist, dessen
thermische Leitfähigkeit durch das Verringern der Dicke des
keramischen Substrats verbessert wird, als auch die durch
thermische Spannungen beim Erwärmen und Abkühlen der
Halbleiter-Bauelemente bewirkte Rißbildung zu verhindern.
Weitere Aufgaben und Vorteile der Erfindung werden in der
nachfolgenden Beschreibung fortgesetzt und werden teilweise
aus der Beschreibung sichtbar oder bei der Ausübung der Er
findung deutlich. Die Aufgaben und Vorteile der Erfindung
können mittels der in den angefügten Ansprüchen angegebenen
Instrumenten und Kombinationen realisiert und erzielt wer
den.
Um die Aufgaben gemäß des Zweckes der Erfindung zu erzielen,
wie im folgenden ausgeführt und beschrieben wird, umfaßt das
erfindungsgemäße isolierende Substrat für das Befestigen von
Halbleiter-Bauelementen ein isolierendes Aluminiumoxid
(Al2O3)-Element mit ersten und zweiten gegenüberliegenden
ebenen Oberflächen, welche an einer Endfläche des Elementes
enden, einer ersten dünnen Schicht einer metallischen Folie,
welche auf der ersten ebenen Oberfläche angeordnet ist, wo
bei die Kanten der metallischen Folie mit einem ersten vor
herbestimmten Abstand vor der Endfläche enden, einer zweiten
dünnen Schicht einer metallischen Folie, welche auf der
zweiten ebenen Oberfläche angeordnet ist, wobei die Kanten
der zweiten metallischen Folie mit einem zweiten vorherbe
stimmten Abstand vor der Endfläche enden, und wobei der Un
terschied des entsprechenden ersten und zweiten vorherbe
stimmten Abstandes im wesentlichen nicht mehr als 0,5 mm be
trägt.
Die begleitenden Zeichnungen, welche einen Teil dieser Be
schreibung bilden, zeigen eine Ausführungsform der Beschrei
bung und dienen zusammen mit der Beschreibung zur Erklärung
der Aufgaben, Vorteile und Prinzipien der Erfindung. Es
zeigt:
Fig. 1 ein Bruchstück eines Querschnittes eines erfindungs
gemäßen isolierenden Substrats;
Fig. 2 ein Diagramm des Substrat-Riß-Erzeugungsverhältnis
ses als Funktion des absoluten Werts der Distanz A -
B zwischen den Kanten der CU-Folien;
Fig. 3 ein Diagramm der berechneten Spannungen an beiden
ebenen Oberflächen des isolierenden Substrats als
eine Funktion des Wertes A - B;
Fig. 4(a) eine Aufsicht, welche ein Beispiel eines Cu-Folien
musters auf der ersten ebenen Oberfläche des kerami
schen Substrats der vorliegenden Erfindung dar
stellt; und
Fig. 4(b) eine Aufsicht, welche ein Beispiel eines Kupferfo
lienmusters auf der zweiten flachen Oberfläche des
keramischen Substrats der vorliegenden Erfindung
darstellt.
Der Zweck der Erfindung ist es, die Rißbildung eines für das
Befestigen von Halbleiter-Bauelementen verwendeten
Cu-beschichteten Al2O3-Substrates zu verhindern, wobei die
Dicke des Substrates verringert wird, um die Wärmeleitfähig
keit des Substrates zu verbessern.
Um eine geeignete elektrische Isolierung zwischen zwei auf
den gegenüberliegenden Seiten einer 0,26 - 0,29 mm dicken
Aluminiumoxidplatte aufgebrachten dünnen Cu-Folienschichten
zu erzielen, dürfen die Folienkanten nicht bis zu der End
fläche oder der Kante der Aluminiumoxidplatte aufgebracht
werden. Ist der Unterschied der Abstände A - B zwischen den
Kanten der zwei dünnen Cu-Folienschichten 2 und 3 und der
Endfläche 4 der Aluminiumoxidplatte 1 auf einen Bereich von
0,5 mm oder weniger begrenzt, dann ist die thermische Span
nung an beiden ebenen Oberflächen 5 und 6 der Platte ausge
glichen und Rißbildung wird verhindert. Der Spannungsaus
gleich wird des weiteren verbessert, wenn die auf die beiden
ebenen Oberflächen 5 und 6 aufgebrachten Cu-Folienmuster
identisch sind und die obere und untere Fläche des Substra
tes überlagern, wenn das Substrat aus einer vertikalen Rich
tung, wie durch Pfeil 8 in Fig. 1 angedeutet, betrachtet
wird.
Um die obengenannte Aufgabe zu realisieren, stellt die vor
liegende Erfindung ein Halbleiter-Bauelement zur Verfügung,
wobei ein Halbleiterelement auf einer Oberfläche eines ebe
nen, isolierenden Aluminiumoxid-Substratmaterials befestigt
ist, auf welche eine Kupferfolie aufgebracht ist, welche da
durch gekennzeichnet ist, daß der absolute Wert des Unter
schiedes der Abstände zwischen den Kanten der Cu-Folie auf
beiden Seiten und der Endfläche des Aluminiumoxid-Substrates
0,5 mm oder weniger beträgt.
Die auf beiden ebenen Oberflächen des Al2O3-Substrates auf
gebrachte Cu-Folie weist des weiteren vorzugsweise ein Mu
ster auf, das oben und unten überlagert, wenn es aus einer
vertikalen Richtung betrachtet wird, wie durch den Pfeil 8
in Fig. 1 angedeutet. Zusätzlich beträgt die Dicke der
Al2O3-Platte vorzugweise 0,26 - 0,29 mm.
Werden die Cu-Folien auf beiden Seiten eines isolierenden
Substrates so aufgebracht, daß sie sich bis zu der Endfläche
der Al2O3-Platte erstrecken, beträgt die Trennung zwischen
den zwei dünnen Folienschichten nur die Dicke der
Al2O3-Platte, und eine Durchschlagspannung kann nicht er
zielt werden. Um eine gute elektrische Isolierung zu erzie
len, werden die dünnen Cu-Folienschichten nicht bis zu der
Endfläche des Al2O3-Substrates aufgebracht. Die Kupferfolien
2 und 3 werden, wie in Fig. 1 dargestellt, an Positionen
aufgebracht, welche mit dem jeweiligen Abstand A und B von
der Endfläche der Al2O3-Platte entfernt oder einwärts dieser
liegen.
Als die Positionen der Risse ermittelt wurden, die durch die
Erwärmungsgeschichte des Aufbaus erzeugt wurden, fand man
heraus, daß sich der in der Al2O3-Platte erzeugte Riß unter
der Cu-Folie befand, deren Kante weiter von der Endfläche
der Al2O3-Platte 1 entfernt lag. Der Grund hierfür ist, daß
sich die Spannung in der Keramik als eine Funktion der Tem
peratur ändert. Unterscheidet sich der Abstand zwischen der
Kante der Kupferfolie auf einer Seite des Al2O3-Substrates
und der Substratendfläche von dem Abstand zwischen der Kante
der Cu-Folie auf der anderen Seite des Al2O3-Substrates und
der Substratendfläche, konzentriert sich die Spannung an der
Kante der weiter von der Al2O3-Endfläche abliegenden
Cu-Folie.
Die Zugfestigkeit in einer Keramik, welche in beiden Ober
flächen des Al2O3 während der Abkühlzeit der Wärmegeschichte
des Aufbaus erzeugt wurde, wurde unter Verwendung des fini
ten Elementverfahrens berechnet. Die Abhängigkeit des Span
nungswertes einer bestimmten physikalischen Konstante wurde
aufgrund des technisch berechneten Wertes auf dem Wert A - B
erhalten. Die Dicke der Al2O3-Platte wurde als 0,27 mm defi
niert, und die Dicke der Cu-Folie wurde als 0,25 mm defi
niert. Die Spannung als Funktion des Wertes A - B wurde er
mittelt, und die Ergebnisse sind in Fig. 3 dargestellt. Die
Kurve 31 zeigt die Zugspannung der Cu-Folie 2 auf der
Al2O3-Platte 1; die unterbrochene Linie 32 zeigt die Zug
spannung der Cu-Folie 3 auf der Al2O3-Platte 1. Wie die Be
rechnungen zeigen, ist die Zugspannung um so größer, je wei
ter die Folienkante von der Endfläche des Al2O3 1 entfernt
liegt. Das heißt, wie durch die Linie 31 dargestellt, die
Zugspannung der Cu-Folie 2, welche die Al2O3-Platte während
der Abkühlzeit beeinflußt, nimmt zu, wenn der Wert A - B
groß und positiv wird, und nimmt ab, wenn der Wert groß und
negativ wird. Im Gegensatz dazu, wie durch die Linie 32 dar
gestellt, nimmt die Zugspannung der Cu-Folie 3, welche die
Al2O3-Platte 1 beeinflußt ab, wenn der Wert A - B groß und
positiv wird und nimmt zu, wenn der Wert groß und negativ
wird. Aus beiden Ergebnissen kann ein geeigneter Bereich für
den absoluten Wert der Differenz A - B ermittelt werden, in
welchem sich keine Risse in dem Al2O3-Substrat bilden. Ist A
- B = 0 und überlagern sich das obere und untere
Cu-Folienmuster auf den gegenüberliegenden ebenen Oberflä
chen, wenn sie aus einer vertikalen Richtung, entsprechend
zu dem Pfeil 8 aus Fig. 1, betrachtet werden, sind die Span
nungen der Cu-Folien ausgeglichen, so daß die Rißbildung
wesentlich reduziert wird.
Ein Leistungsmodul wurde unter Verwendung eines isolierenden
keramischen Substrates konstruiert, wobei 0,25 mm dicke
Cu-Folien 2 und 3 auf eine 0,275 mm dicke Al2O3-Platte 1
aufgebracht wurden. Wurde der Wert R = A - B während sich
ändernder Verfahren für das Aufbringen der Cu-Folien 2 und 3
verändert, bilden sich nach dem Erwärmen des Aufbaus Risse
in der Al2O3-Platte. Fig. 2 zeigt das Verhältnis zwischen
dem Rißbildungsverhältnis und R. Wie aus der Zeichnung deut
lich wird, bilden sich keine Risse, wenn der Wert von R 0,5
mm oder weniger beträgt. Ist der Wert von R größer als 0,5
mm, nimmt die Bildung von Rissen stark zu. Werden isolieren
de Substrate mit einem Wert von R < 0,5 mm hergestellt, kön
nen Leistungsmodule produziert werden, bei welchen keine
Substratfehler auftreten.
Fig. 4 zeigt ein Beispiel einer Aufsicht auf die erste und
zweite ebene Oberfläche eines erfindungsgemäßen isolierenden
Substrates. Die auf die Al2O3-Platte 1 aufgebrachten Muster
der Cu-Folien 2 und 3 weisen eine Liniensymmetrieform auf
und überlagern sich, wenn sie aus einer vertikalen Richtung
im Hinblick auf die Oberfläche des Substrates betrachtet
werden.
Die übliche Praxis war es, die Cu-Folie auf der Seite des
Substrates, auf welche die Schaltelemente befestigt werden,
mit einem Muster zu versehen, während die Cu-Folie 3 auf der
anderen Seite des Substrates, welche an eine Cu-Wärmesenke
gelötet wird, nicht mit einem Muster versehen wurde. Bei der
vorliegenden Erfindung wird die Cu-Folie jedoch an beiden
Seiten des Substrates mit einem Muster versehen. Dies führt
zu einer ausgeglichenen thermischen Spannung. Sowohl die
Cu-Folie 3 als auch die darunter befindliche gelötete
Schicht werden zur Ableitung der Wärme von einem Schaltele
ment auf das Wärmesenkesubstrat verwendet. Da die Cu-Folie 3
immer unter dem Element, welches auf der Cu-Folie 2 befe
stigt ist, existiert, tritt keine Auswirkung auf die Wärme
strahlung auf.
Wird gemäß der vorliegenden Erfindung die Dicke eines iso
lierenden Substrats, auf welches Halbleiterelemente befe
stigt sind, zur Verbesserung der Wärmeübertragung verrin
gert, wird die von den beiden dünnen Cu-Folienschichten er
zeugte Spannung, welche auf die Al2O3-Platte übertragen
wird, dadurch ausgeglichen, daß der absolute Wert des Unter
schiedes der Abstände zwischen der Kante der Cu-Folie und
der Endfläche des Al2O3-Substrates auf 0,5 mm oder weniger
festgelegt wird. Auf diese Weise wird ein Brechen der
Al2O3-Platte verringert, so daß höhere Integration und Ver
kleinerungen realisiert werden können. Des weiteren kann ein
verbesserter Spannungsausgleich durch das Überlagern der mit
Muster versehenen auf die beiden ebenen Oberflächen des iso
lierenden Substrates aufgebrachten Cu-Folien erzielt werden.
Die obige Beschreibung einer bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung wurde zu dem Zweck der Darstellung und der Be
schreibung angeführt. Es ist nicht beabsichtigt, die Erfin
dung auf die spezielle beschriebene Form zu begrenzen und
Abwandlungen und Änderungen sind in dem Licht der obigen
Lehre möglich und können durch die Ausübung der Erfindung
gewonnen werden. Die Ausführungsform wurde ausgewählt und
beschrieben, um die Prinzipien der Erfindung und dessen
praktische Anwendung zu erklären, um so zu ermöglichen, daß
Fachleute die Erfindung in verschiedenen Ausführungsformen
und mit verschiedenen Abwandlungen zu verwenden, die für die
spezielle Anwendung notwendig sind. Es ist beabsichtigt, daß
der Bereich der Erfindung durch die angefügten Ansprüche de
finiert wird, und deren Äquivalente.
Claims (10)
1. Isolierendes Substrat für das Befestigen von Halbleiter-
Bauelementen auf diesen, umfassend:
ein isolierendes Aluminiumoxid(Al2O3)-Element mit ersten und zweiten gegenüberliegenden ebenen Oberflächen, wel che an Endflächen des Elementes enden,
eine erste dünne, auf dieser ersten ebenen Oberfläche angeordnete Schicht aus einer metallischen Folie, deren Kanten in einem ersten vorbestimmten Abstand einwärts der Endflächen enden,
eine zweite dünne, auf dieser zweiten ebenen Oberfläche angeordneten Schicht aus einer metallischen Folie, deren Enden mit einem zweiten vorbestimmten Abstand einwärts der Endflächen enden,
wobei dieser erste und zweite vorbestimmte Abstand den Abstand zwischen den Kanten der ersten und zweiten dün nen Schicht der metallischen Folie auf mehr als die Dicke des isolierenden Elementes erhöht, und wobei der Unterschied zwischen diesem ersten und zweiten vorbe stimmten Abstand im wesentlichen nicht mehr als 0,5 mm beträgt, um die thermischen Spannungen auf den gegen überliegenden ebenen Oberflächen des isolierenden Ele mentes auszugleichen.
ein isolierendes Aluminiumoxid(Al2O3)-Element mit ersten und zweiten gegenüberliegenden ebenen Oberflächen, wel che an Endflächen des Elementes enden,
eine erste dünne, auf dieser ersten ebenen Oberfläche angeordnete Schicht aus einer metallischen Folie, deren Kanten in einem ersten vorbestimmten Abstand einwärts der Endflächen enden,
eine zweite dünne, auf dieser zweiten ebenen Oberfläche angeordneten Schicht aus einer metallischen Folie, deren Enden mit einem zweiten vorbestimmten Abstand einwärts der Endflächen enden,
wobei dieser erste und zweite vorbestimmte Abstand den Abstand zwischen den Kanten der ersten und zweiten dün nen Schicht der metallischen Folie auf mehr als die Dicke des isolierenden Elementes erhöht, und wobei der Unterschied zwischen diesem ersten und zweiten vorbe stimmten Abstand im wesentlichen nicht mehr als 0,5 mm beträgt, um die thermischen Spannungen auf den gegen überliegenden ebenen Oberflächen des isolierenden Ele mentes auszugleichen.
2. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die ersten und zweiten dünnen Schichten metallischer Fo
lien bei der Betrachtung durch die gegenüberliegende
ebene Oberfläche des Elementes sich überlagernde Muster
anordnungen aufweisen.
3. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die metallische Folie Kupfer (Cu) ist.
4. Substrat nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die metallische Folie (Cu) ist.
5. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das Aluminiumoxidelement eine Dicke im Bereich von 0,26
- 0,29 mm aufweist.
6. Substrat nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
das Aluminiumoxidelement eine Dicke im Bereich von
ungefähr 0,26 - 0,29 mm aufweist.
7. Substrat nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die metallische Folie aus Kupfer (Cu) besteht.
8. Substrat nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet daß die
metallische Folie aus Kupfer (Cu) besteht.
9. Substrat nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die metallische Folie eine Dicke von 0,25 mm aufweist.
10. Substrat nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
die metallische Folie eine Dicke von 0,25 mm aufweist.
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