DE4135448A1 - Kathodenstrahlroehre - Google Patents
KathodenstrahlroehreInfo
- Publication number
- DE4135448A1 DE4135448A1 DE4135448A DE4135448A DE4135448A1 DE 4135448 A1 DE4135448 A1 DE 4135448A1 DE 4135448 A DE4135448 A DE 4135448A DE 4135448 A DE4135448 A DE 4135448A DE 4135448 A1 DE4135448 A1 DE 4135448A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- refractive index
- ray tube
- cathode ray
- faceplate
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 52
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 33
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 19
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 18
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 claims description 17
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 13
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 6
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 120
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 29
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 21
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 18
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 7
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 208000003464 asthenopia Diseases 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000004438 eyesight Effects 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUBDBMMJDZJVOS-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-2-{[(4-methoxy-3,5-dimethylpyridin-2-yl)methyl]sulfinyl}-1H-benzimidazole Chemical compound N=1C2=CC(OC)=CC=C2NC=1S(=O)CC1=NC=C(C)C(OC)=C1C SUBDBMMJDZJVOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000012769 bulk production Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3447—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
- C03C17/3452—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/867—Means associated with the outside of the vessel for shielding, e.g. magnetic shields
- H01J29/868—Screens covering the input or output face of the vessel, e.g. transparent anti-static coatings, X-ray absorbing layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
- H01J29/896—Anti-reflection means, e.g. eliminating glare due to ambient light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/29—Mixtures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/45—Inorganic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/89—Optical components associated with the vessel
- H01J2229/8913—Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices
- H01J2229/8918—Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices by using interference effects
Description
Die Erfindung betrifft eine Kathodenstrahlröhre nach
dem Oberbegriff des Anspruchs 1 bzw. des Anspruchs 5.
Die Anforderungen an die Bildqualität bei Farbfern
sehgeräten sind stark gestiegen und daher ist auch
eine erhebliche Verbesserung der Kontrastwirkung ei
ner Kathodenstrahlröhre erwünscht.
Bevor diese Kontrastwirkung erläutert wird, wird zu
erst der Aufbau des Leuchtteils einer Kathodenstrahl
röhre beschrieben.
Fig. 1 zeigt einen Querschnitt durch die Leuchtfläche
der Kathodenstrahlröhre. Auf der inneren Oberfläche
eines Schirmträgers 2 sind ein dunkler, farbiges
Licht absorbierender Film 6, eine Schicht 4 aus
Leuchtmaterial für die drei Primärfarben blau, grün
und rot (BGR) und ein Hintergrund-Metallfilm 5 gebil
det zur Verbesserung der Kontrastwirkung durch Her
absetzung des Reflexionsvermögens der Leuchtoberflä
che für externes Licht.
Wenn nun für die beschriebene Kathodenstrahlröhre
eine Emissionsleuchtdichte F0 der Leuchtoberfläche,
eine Ausgangsleuchtdichte F1 eines durch den Schirm
träger 2 hindurchgehenden Lichts, eine Lichtdurchläs
sigkeit Tp des Schirmträgers 2, ein Gesamtreflexions
vermögen Rp des Leuchtfilms aus dem Film 6, der
Schicht 4 und dem Metallfilm 5, ein Öffnungsverhält
nis Tb des Films 6, eine Intensität E eines auf die
Leuchtoberfläche auffallenden Lichts, eine Intensität
E1 eines externen Oberflächenreflexionslichts, das an
der äußeren Oberfläche des Schirmträgers 2 reflek
tiert wurde, und eine Intensität E2 eines externen
Leuchtoberflächenreflexionslichts, das durch Refle
xion an der inneren Oberfläche des Schirmträgers und
am Leuchtfilm aus dem Schirmträger 2 heraustritt,
angenommen werden, dann kann ein die Kontrastwirkung
(-stärke) wiedergebender Kontrastindex Ct durch fol
gende Gleichung ausgedrückt werden:
Jedoch sind
F₁ = F₀ · Tb · Tp (2)
E₁ = 0,04E₀ (3)
E₂ = (0,96)²E₀ · Tp²[0,04+(0,96)²Rp] (4)
E₁ = 0,04E₀ (3)
E₂ = (0,96)²E₀ · Tp²[0,04+(0,96)²Rp] (4)
Da das Material des Schirmträgers 2 Glas ist, wird
die Oberflächenreflexion am Übergang zwischen der
Luft und dem Vakuum auf 4% geschätzt. Da E1 nach
Gleichung (3) konstant ist, ist nach Gleichung (1)
offensichtlich, daß zur Verbesserung der Kontrastwir
kung bzw. des Kontrastindex Ct die Ausgangsleucht
dichte F1 erhöht oder die Intensität E2 des externen
Leuchtoberflächenreflexionslichts verringert werden
muß. Um E2 zu verringern, ist es nach Gleichung (4)
wirksam, die Lichtdurchlässigkeit Tp des Schirmträ
gers 2 herabzusetzen. Daher wird zur Verbesserung der
Kontrastwirkung der Kathodenstrahlröhre oft die Maß
nahme praktiziert, die Lichtdurchlässigkeit des
Schirmträgers 2 zu reduzieren. In diesem Fall besteht
jedoch der Nachteil, daß die Ausgangsleuchtdichte F1
der Kathodenstrahlröhre gleichzeitig verringert wird,
wie sich auch aus Gleichung (2) ergibt.
Fig. 2 gibt die optischen Eigenschaften des Schirm
trägers 2 und der Leuchtoberfläche wieder. Die Kurven
BGR zeigen die Spektralverteilung der relativen Emis
sionsintensität der Emission der Schicht 4 aus dem
Dreifarben-Leuchtmaterial. Weiterhin bedeuten die
Kurven (II), (III), (IV) und (V) die Durchlaß-Spek
tralverteilungen des Schirmträgers 2 aus Glas mit
einer Dicke von 13 mm. (II) bezieht sich auf einen
klaren Typ mit etwa 85% spektraler Durchlässigkeit im
Bereich des sichtbaren Lichts, (III) auf einen grauen
Typ mit etwa 69% Durchlässigkeit, (IV) auf einen ge
tönten Typ mit etwa 50% Durchlässigkeit, und (V) auf
einen dunkelgrauen Typ mit etwa 38% Durchlässigkeit.
Je geringer die spektrale Durchlässigkeit des Schirm
trägers 2 ist, desto größer ist die Absorption des
von der Leuchtoberfläche der Kathodenstrahlröhre
emittierten Lichts im Schirmträger 2. Somit nimmt die
Leuchtwirkung ab. Dies ergibt sich aus der Beziehung
zwischen der Spektralverteilung der relativen Emis
sionsintensität der Leuchtoberfläche (Kurven BGR) und
der spektralen Durchlässigkeit gemäß Fig. 2. Wie je
doch Gleichung (4) zeigt, kann, da E2 stark abnimmt,
das auf die Leuchtoberfläche der Kathodenstrahlröhre
fallende Licht wirksam beseitigt werden, und dies ist
vorteilhaft für den Kontrast. Bei der Tendenz der
steigenden Beachtung der Bildqualität bei Farbfern
sehgeräten wurden in jüngster Zeit Schirmträger vom
getönten oder stark getönten Typ, die den Kontrast
stärker bewerten, wesentlich mehr benutzt als konven
tionelle Schirmträger vom klaren oder grauen Typ, die
die Leuchtwirkung stärker bewerten.
Weiterhin wurde mit der Vergrößerung der neueren Ka
thodenstrahlröhren und der Verbesserung der Leucht
wirkung und der Schärfewirkung die an die Leuchtober
fläche der Kathodenstrahlröhre angelegte Spannung,
d. h. die Beschleunigungsspannung für den Elektronen
strahl erhöht, und die Aufladung, d. h. die durch An
sammlung von Ladungen auf dem Schirm des Farbfernseh
empfängers bewirkte Elektrifizierung ist zu einem
großen Problem geworden. Das heißt durch diese Aufla
dung haftet feiner Staub aus der Luft am Schirm und
der Schmutz oder dergleichen wird deutlich wahrnehm
bar. Im Ergebnis bewirkt dies eine Verschlechterung
der Leuchtwirkung der Kathodenstrahlröhre. Wenn wei
terhin eine Person in die Nähe des aufgeladenen
Schirms kommt, kann eine für diese unangenehme Entla
dung stattfinden. Daher besteht neben der Verbesse
rung der Kontrastwirkung auch ein starker Wunsch da
hingehend, die Aufladung des Bildschirms zu verhin
dern.
Um die Aufladung des Bildschirms des Farbfernsehge
räts zu verhindern und die Kontrastwirkung des Bildes
zu verbessern, wird, wie in Fig. 3 gezeigt ist, die
Kathodenstrahlröhre 1 mit einem antistatischen, Licht
selektiv absorbierenden Film 3 auf der äußeren Ober
fläche des Schirmträgers 2 versehen. Der Film 3 be
steht aus einem Quarzglasfilm (SiO2) und hat sowohl
eine antistatische Funktion als auch eine Licht se
lektiv absorbierende Funktion. Um einen derartigen
Film 3 herzustellen, werden in eine Grundbeschichtung
aus einer alkoholischen Lösung eines Siliziumalkylats
mit einer Funktionsgruppe wie einer -OH-Gruppe oder
-OR-Gruppe feine Teilchen aus Zinnoxid (SnO2) oder
Indiumoxid (In2O3) als elektrisch leitender Füllstoff
eingemischt und dispergiert, und dann wird ein orga
nischer oder anorganischer Farbstoff oder Pigment
eingemischt und dispergiert, um eine Beschichtungs
flüssigkeit zu erhalten. Diese Beschichtungsflüssig
keit wird auf die äußere Oberfläche des Schirmträgers
2 der Kathodenstrahlröhre gegeben zur Bildung eines
Beschichtungsfilms auf diesem. Nachdem dieser gebil
det ist, wird eine Erwärmung auf 100 bis 200°C
durchgeführt, um eine hohe Festigkeit des Films zu
erhalten.
Fig. 4 zeigt einen Querschnitt durch den antistati
schen, Licht selektiv absorbierenden Film 3, der auf
der äußeren Oberfläche des Schirmträgers 2 gebildet
ist. Die Struktur des Films 3 weist in einem porösen
Quarzglasfilm 7 dispergierte organische oder anorga
nische Farbstoff- oder Pigmentteilchen 8 und leitende
Füllteilchen 9 auf.
Fig. 5 zeigt die Änderung der Oberflächenspannung des
Bildschirms der Kathodenstrahlröhre. L und L1 sind
Kurven der Oberflächenspannung bei einer Kathoden
strahlröhre ohne antistatische Funktion im einge
schalteten (L) und ausgeschalteten (L1) Zustand, und
M und M1 sind Kurven der Oberflächenspannung bei ei
ner Kathodenstrahlröhre mit antistatischer Funktion
im eingeschalteten (M) und ausgeschalteten (M1) Zu
stand. Bei der Kathodenstrahlröhre mit antistatischer
Funktion ist ein leitender Film auf der äußeren Ober
fläche des Schirmträgers 2 gebildet und es werden, da
dieser leitende Film mit Erdpotential verbunden ist,
die Oberflächenladungen stets nach Erde abgeleitet
mit dem Ergebnis einer großen Reduzierung der Aufla
dung.
Das Prinzip der Verbesserung der Kontrastwirkung
durch den antistatischen, Licht selektiv absorbieren
den Film 3 wird nun anhand von Fig. 6 erläutert.
Fig. 6 entspricht Fig. 1 mit der Ausnahme, daß zu
sätzlich der Film 3 auf der äußeren Oberfläche des
Schirmträgers 2 gebildet ist.
Weiterhin wird der optische Brechungsindex des Glas
materials des Schirmträgers 2 so bestimmt, daß er
praktisch der gleiche wie der des Films 3 ist, und
somit kann die Lichtreflexion am Übergang zwischen
diesen vernachlässigt werden. ln diesem Fall kann
eine Kontrastwirkung C′t in gleicher Weise wie durch
Gleichung (1) durch die folgende Gleichung ausge
drückt werden:
Hierbei sind
F′₁ = F₀ · Tb · Tp · Tc (6)
E₁ = 0,04E₀ (7)
E′₂ = (0,96)²E₀ · Tp²[0,04+(0,96)²Rp] (8)
E₁ = 0,04E₀ (7)
E′₂ = (0,96)²E₀ · Tp²[0,04+(0,96)²Rp] (8)
Da E1 konstant ist und wenn Tp auch konstant ist, ist
es zu weiteren Verbesserung der Kontrastwirkung C′t
entsprechend den Gleichungen (5) und (8) zweckmäßig,
die Lichtdurchlässigkeit Tc des antistatischen, Licht
selektiv absorbierenden Film 3 herabzusetzen. Durch
Optimierung der Spektralverteilung der Durchlässig
keit im Bereich des sichtbaren Lichts bei dem Film 3
und der relativen Spektralverteilung der Emissions
intensität der Schicht 4 aus dem Dreifarben-Leucht
material kann die Herabsetzung der durch Gleichung
(6) dargestellten Ausgangsleuchtdichte F′1 so gesteu
ert werden, daß diese so niedrig wie möglich ist, um
die Kontrastwirkung C′t zu verbessern.
In Fig. 2 zeigt eine Kurve (I) ein Beispiel für die
Spektralverteilung der Durchlässigkeit des auf der
äußeren Oberfläche des Schirmträgers 2 der Kathoden
strahlröhre gebildeten antistatischen, Licht selektiv
absorbierenden Films 3 für den beschriebenen Zweck.
Da es nachteilig für die Leuchtwirkung der Leucht
oberfläche der Kathodenstrahlröhre ist, wenn eine
Absorptionsspitze A des Films 3 nahe einer Hauptspek
tralwellenlänge 535 nm oder 625 nm der relativen
Spektralverteilung der Emissionsintensität gemäß den
Kurven G und R ist, wird die Absorptionsspitze A üb
licherweise in einem Bereich von 570 nm bis 610 nm
gelegt unter Berücksichtigung der Halbwertbreite des
Absorptionsbereichs und dergleichen.
Da dieser Wellenlängenbereich mit einem hohen Sehemp
findlichkeitsbereich des menschlichen Auges zusammen
fällt, ist die Absorption oder Beseitigung der Licht
komponente in diesem Bereich aus dem externen Licht
(gewöhnlich weißes Licht) für die Kontrastwirkung
vorteilhaft. Das heißt, durch Einstellung der Spitze
A des Absorptionsbereichs in dem Wellenlängenbereich
von 570 nm bis 710 nm, wodurch eine relativ hohe Be
einflussung des Sehvermögens des menschlichen Auges
und eine möglichst geringe Beeinflussung der Emissio
nen der Leuchtoberfläche (Kurven BGR) durch die opti
schen Eigenschaften des Films 3 erreicht wird, wird
nicht nur die Leuchtwirkung der Leuchtoberfläche auf
rechterhalten, sondern es wird auch das externe Licht
wirksam absorbiert, um die Kontrastwirkung zu verbes
sern.
In diesem Fall ist die Auswahl des organischen oder
anorganischen Farbstoffs oder Pigments mit entspre
chenden optischen Eigenschaften sehr wichtig. Im Fall
der Kurve (I) in Fig. 2 ist die Spitze A des Absorp
tionsbereichs auf 580 nm gelegt. Da die optischen
Eigenschaften des organischen oder anorganischen
Farbstoffs oder Pigments, der bzw. das mit der Basis
beschichtung gemischt wird, relativ breit sind in
bezug auf die Emission der Leuchtoberfläche, wird
beispielsweise im Fall der Grünemission (G) eine End
teil auf der Seite der größeren Wellenlängen in bezug
auf die spektrale Hauptwellenlänge oder im Fall der
Rotemission (R) ein Nebenspitzenteil auf der Seite
der kürzeren Wellenlängen in bezug auf die spektrale
Hauptwellenlänge durch den antistatischen, Licht se
lektiv absorbierenden Film absorbiert, und die Ver
besserung des Emissionsfarbtons kann gleichzeitig
durchgeführt werden.
Fig. 7 zeigt eine Intensität E0 = 100 eines auf die
äußere Oberfläche verschiedener Arten von Schirmträ
gern 2 einer Kathodenstrahlröhre auftreffenden exter
nen Lichts, Intensitäten E1 der durch die äußere
Oberfläche der Schirmträger 2 reflektierten externen
Lichts, Intensitäten E2 des durch die innere Oberflä
che der Schirmträger 2 und die Leuchtoberfläche re
flektierten und aus den Schirmträgern 2 heraustreten
den Lichts, und das Verhältnis des an der äußeren
Oberfläche reflektierten externen Lichts zum insge
samt reflektieren externen Licht {[E₁/(E₁+E₂)] · 100}.
Im Fall der Schirmträger (k), (l), (m) und (n), die
alle aus Glas bestehen, wird das externe Licht durch
ihre äußeren Oberflächen reflektiert, und im Fall der
Schirmträger (o) und (p), die mit einem etwa den
gleichen optischen Brechungsindex wie Glas aufweisen
den, antistatischen und Licht selektiv absorbierenden
Film 3 versehen sind, wird das externe Licht an der
äußeren Oberfläche des Films 3 reflektiert. Daher
betragen die Intensitäten E1 alle etwa 4,0. Die In
tensitäten E2 des durch die Leuchtoberfläche reflek
tierten externen Lichts hängen ab von der Lichtdurch
lässigkeit des Schirmträgers 2 und des Films 3 und,
da diese Lichtauswahlraten abnehmen, werden die In
tensitäten E2 plötzlich reduziert. Wenn die Messung
und die Auswertung durchgeführt werden, wird eine
Glühlampe mit einer relativen Spektralverteilung der
Emissionsintensität gemäß Fig. 8 für das externe
Licht verwendet.
Wie aus Fig. 7 ersichtlich ist, ist, wenn die Licht
durchlässigkeit des Schirmträgers 2 relativ hoch ist
wie bei den Schirmträgern (k) und (l), E2 im Ver
gleich zu E₁ sehr hoch, d. h. der Wert {[E₁/(E₁+E₂)] · 100}
ist klein und der Einfluß von E₁ kann vernachlässigt
werden. Wenn die Lichtdurchlässigkeit des
Schirmträgers 2 herabgesetzt wird wie bei den Schirm
trägern (m) und (n), nähern sich E1 und E2 einander
an, und der Einfluß von E1 kann nicht vernachlässigt
werden. Wenn der lichtabsorbierende Film 3 auf der
äußeren Oberfläche des Schirmträgers 2, dessen Licht
durchlässigkeit ursprünglich niedrig ist, wie der
Schirmträger (o) und (p), dann wird diese Tendenz
noch bemerkenswerter.
In diesem Fall wird erstaunlicherweise, um die Kon
trastwirkung der Kathodenstrahlröhre zu verbessern,
je stärker die Lichtdurchlässigkeit des Schirmträgers
2 reduziert wird und weiterhin je stärker die Licht
durchlässigkeit durch Bildung des Lichtabsorptions
films auf der äußeren Oberfläche des Schirmträgers 2
reduziert wird, die Oberflächenreflexion des externen
Lichts durch den Schirmträger 2 umso auffälliger.
Beispielsweise wird das Gesicht des Betrachters oder
dergleichen, das auf dem Bildschirm der Kathoden
strahlröhre reflektiert wird, von dem Betrachter
deutlich gesehen und das reflektierte Bild stört die
Betrachtung erheblich. Weiterhin kann, wenn das Bild
für eine lange Zeit gesehen wird, dies eine Augener
müdung bewirken. Dieses Problem der Oberflächenrefle
xion des externen Lichts ist sehr ausgeprägt; insbe
sondere wenn die Lichtdurchlässigkeit des Schirmträ
gers 2 weniger als 50% beträgt, und weiterhin, wenn
ein lichtabsorbierender Film 2 wie der antistatische,
Licht selektiv absorbierende Film 3 auf der äußeren
Oberfläche des Schirmträgers 2 gebildet ist, wird
dieses Problem noch schwerwiegender.
Wie beschrieben wurde, wird bei einer Kathodenstrahl
röhre, um die Kontrastwirkung zu erhöhen, je mehr die
Lichtdurchlässigkeit des Schirmträgers 2 herabgesetzt
wird und weiterhin je mehr die Lichtdurchlässigkeit
durch Bildung des Lichtabsorptionsfilms auf der äuße
ren Oberfläche des Schirmträgers 2 herabgesetzt wird,
die Oberflächenreflexion des externen Lichts an dem
Schirmträger 2 umso auffälliger. Durch das reflek
tierte Bild wird dem Betrachter das Sehen des Fern
sehbildes erschwert und es tritt eine Augenermüdung
beim Betrachter ein.
Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
eine Kathodenstrahlröhre mit einem Film mit geringem
Reflexionsvermögen zu schaffen, mit der es möglich
ist, die Lichtdurchlässigkeit des Schirmträgers zu
reduzieren, um die Kontrastwirkung der Kathoden
strahlröhre zu verbessern, und das aufgrund externen
Lichts reflektierte Bild zu schwächen, selbst wenn
ein lichtabsorbierender Film auf der äußeren Oberflä
che des Schirmträgers gebildet ist, und die mit nied
rigen Kosten hergestellt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch die
im kennzeichnenden Teil jeweils der Ansprüche 1 und 5
angegebenen Merkmale. Vorteilhafte Weiterbildungen
der erfindungsgemäßen Kathodenstrahlröhren ergeben
sich aus den jeweiligen Unteransprüchen.
Eine Kathodenstrahlröhre nach der Erfindung weist
einen Schirmträger mit einer Lichtdurchlässigkeit von
höchstens 50% und einen auf der äußeren Oberfläche
des Schirmträgers gebildeten optischen Film vom
Quarzglastyp mit fester Dicke auf, und der optische
Film ist vermischt und dispergiert mit feinsten Ma
gnesiumfluorid-Teilchen (MgF2) mit einer durch
schnittlichen Teilchengröße von höchstens 100 nm.
Da der optische Film vom Quarzglastyp (SiO2) mit fe
ster Dicke mit feinsten Magnesiumfluorid-Teilchen mit
einer durchschnittlichen Größe von höchstens 100 nm
dispergiert ist, kann die Reflexion externen Lichts
an der äußeren Oberfläche des Schirmträgers herabge
setzt werden, und der Einfluß des externen Lichts wie
das reflektierte Licht oder dergleichen kann redu
ziert werden.
Die Erfindung stellt weiterhin eine Kathodenstrahl
röhre zur Verfügung, die mit einem auf dem Schirmträ
ger mit einer Lichtdurchlässigkeit von höchstens 50%
gebildeten reflexionsmindernden Film versehen ist,
wobei der reflexionsmindernde Film aus einem opti
schen Mehrschicht-Interferenzfilm zusammengesetzt
ist, der durch abwechselndes Aufbringen von zwei bis
vier Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex
auf der Basis von Siliziumalkylat erhalten wird. Die
Schicht mit niedrigem Brechungsindex wird gebildet
durch einen Beschichtungsfilm einer Basisbeschichtung
mit niedrigem Brechungsindex aus einer alkoholischen
Lösung des Siliziumalkylats mit wenigstens einer -OH-
Gruppe und/oder -OR-Gruppe als funktioneller Gruppe
oder einer Basisbeschichtung mit niedrigem Brechungs
index, die durch Mischen und Dispergieren von fein
sten Magnesiumfluorid-Teilchen (MgF2) mit einer
durchschnittlichen Teilchengröße von höchstens 100 nm
in der alkoholischen Lösung des Siliziumalkylats mit
wenigstens einer -OH-Gruppe und/oder -OR-Gruppe als
funktioneller Gruppe erhalten wurde. Die Schicht mit
hohem Brechungsindex wird gebildet durch einen Be
schichtungsfilm einer Basisbeschichtung, die durch
Mischen und Dispergieren feinster Teilchen mit einer
durchschnittlichen Teilchengröße von höchstens 100 nm
aus wenigstens einem der Stoffe Titanoxid (TiO2),
Tantaloxid (Ta2O5), Zirkonoxid (ZrO2) und Zinksulfid
(ZnS) oder einer Mischung aus diesen in einer alkoho
lischen Lösung von Siliziumalkylat mit wenigstens
einer -OH-Gruppe und/oder -OR-Gruppe als funktionel
ler Gruppe erhalten wurde.
Selbst wenn ein Schirmträger mit einer Lichtdurchläs
sigkeit von höchstens 50% verwendet wird, kann durch
den reflexionsmindernden Film, der auf der äußeren
Oberfläche des Schirmträgers gebildet ist und aus
einem optischen Mehrschicht-Interferenzfilm aus einer
Kombination von zwei bis vier Schichten mit jeweils
hohem und niedrigem Brechungsindex auf der Grundlage
von Siliziumalkylat zusammengesetzt ist, die Refle
xion externen Lichts an der äußeren Oberfläche des
Schirmträgers herabgesetzt werden, und die Einflüsse
des externen Lichts wie das Reflexionsbild und der
gleichen können wirksam und mit geringen Kosten redu
ziert werden.
Um die Beschichtungsfilme zu bilden, werden weiterhin
organische oder anorganische Farbstoffe oder Pigmente
zu den Basisbeschichtungen gemischt und dispergiert.
Durch Mischen und Dispergieren der organischen oder
anorganischen Farbstoffe oder Pigmente zu den Basis
beschichtungen werden die Schichten mit hohem und
niedrigem Brechungsindex gefärbt, und zusätzlich zur
Kontrastverbesserung wird, da die optischen Eigen
schaften des mit der Basisbeschichtung vermischten
organischen oder anorganischen Farbstoffs oder Pig
ments relativ breit sind in bezug auf die Emission
der Leuchtoberfläche, beispielsweise im Fall der
Grünemission (G) ein Endteil auf der Seite der größe
ren Wellenlängen in bezug auf die spektrale Hauptwel
lenlänge oder im Fall der Rotemission (R) ein Neben
spitzenteil auf der Seite der kürzeren Wellenlängen
in bezug auf die spektrale Hauptwellenlänge durch
diesen antistatischen, Licht selektiv absorbierenden
Film absorbiert, und die Verbesserung des Emissions
farbtons kann gleichzeitig durchgeführt werden.
Es werden auch zu einer Basisbeschichtung feine lei
tende Teilchen aus Zinnoxid (SnO2) oder Indiumoxid
(In2O3) als elektrisch leitender Füllstoff gemischt
und dispergiert.
Weiterhin wird der elektrisch leitende Füllstoff nur
zur Basisbeschichtung mit hohem Brechungsindex ge
mischt und dispergiert.
Durch Mischen und Dispergieren der feinen elektrisch
leitenden Zinnoxid- oder Indiumoxid-Teilchen als
elektrisch leitender Füllstoff zur Basisbeschichtung
kann die antistatische Funktion erhalten werden und
der Brechungsindex kann erhöht werden. Insbesondere
kann durch Mischen und Dispergieren eines solchen
elektrisch leitenden Füllstoffs nur zur Basisbe
schichtung mit hohem Brechungsindex dieser bei der
Schicht mit hohem Brechungsindex erhöht und der Bre
chungsindex bei der Schicht mit niedrigem Brechungs
index wird relativ erniedrigt. Im Ergebnis können
insgesamt die optischen Eigenschaften der Schicht mit
niedrigem Brechungsindex erheblich verbessert werden.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von in den
Figuren dargestellten Ausführungsbeispielen näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine vergrößerten Teilschnitt der
Leuchtoberfläche einer bekannten Ka
thodenstrahlröhre,
Fig. 2 ein Diagramm der Spektralverteilung
der Durchlässigkeit des Schirmträgers
einer bekannten Kathodenstrahlröhre,
Fig. 3 den Aufbau einer bekannten Kathoden
strahlröhre mit einem antistatischen,
Licht selektiv absorbierenden Film,
Fig. 4 einen vergrößerten Teilschnitt des
antistatischen, Licht selektiv absor
bierenden Films nach Fig. 3,
Fig. 5 ein Diagramm über die Änderung der
Oberflächenspannung bei einem Schirm
träger einer bekannten Kathodenstrahl
röhre,
Fig. 6 einen vergrößerten Teilschnitt der
Leuchtoberfläche einer bekannten Ka
thodenstrahlröhre mit einem antistati
schen, Licht selektiv absorbierenden
Film,
Fig. 7 eine Tabelle bezüglich der Reflexions
eigenschaften anhand der Intensitäten
des an unterschiedlichen Schirmträgern
einer bekannten Kathodenstrahlröhre
reflektierten externen Lichts,
Fig. 8 die Spektralverteilung der Emission
einer Glühlampe, die für die Messung
und Auswertung der Oberflächenrefle
xion bei einer bekannten Kathoden
strahlröhre verwendet wird,
Fig. 9 einen vergrößerten Teilschnitt eines
Schirmträgers einer Kathodenstrahlröh
re nach einem ersten Ausführungsbei
spiel der Erfindung,
Fig. 10 ein Diagramm bezüglich des spektralen
Oberflächenreflexionsvermögens der
äußeren Oberfläche des Schirmträgers
der Kathodenstrahlröhre nach Fig. 9,
Fig. 11 eine Tabelle bezüglich der Reflexions
eigenschaften von Schirmträgern bei
der Kathodenstrahlröhre nach dem er
sten Ausführungsbeispiel der Erfin
dung,
Fig. 12 einen vergrößerten Teilschnitt eines
Schirmträgers einer Kathodenstrahlröh
re nach einem zweiten Ausführungsbei
spiel der Erfindung,
Fig. 13 ein Diagramm, das das spektrale Refle
xionsvermögen eines Schirmträgers und
eines Films mit niedrigem Reflexions
vermögen für Kathodenstrahlröhren nach
einem zweiten bis vierten Ausführungs
beispiel der Erfindung darstellt,
Fig. 14 eine Tabelle bezüglich der Reflexions
eigenschaften von Schirmträgern bei
einer Kathodenstrahlröhre nach dem
zweiten Ausführungsbeispiel der Erfin
dung,
Fig. 15 einen vergrößerten Teilschnitt des
Schirmträgers einer Kathodenstrahlröh
re nach einem dritten Ausführungsbei
spiel der Erfindung,
Fig. 16 eine Tabelle bezüglich der Reflexions
eigenschaften von Schirmträgern bei
einer Kathodenstrahlröhre nach dem
dritten Ausführungsbeispiel der Erfin
dung,
Fig. 17 einen vergrößerten Teilschnitt des
Schirmträgers einer Kathodenstrahlröh
re nach einem vierten Ausführungsbei
spiel der Erfindung,
Fig. 18 eine Tabelle bezüglich der Reflexions
eigenschaften von Schirmträgern bei
einer Kathodenstrahlröhre nach einem
vierten Ausführungsbeispiel der Erfin
dung, und
Fig. 19 einen vergrößerten Teilschnitt des
Schirmträgers einer Kathodenstrahlröh
re nach einem fünften Ausführungsbei
spiel der Erfindung.
Ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nun
anhand der Fign. 9 bis 11 beschrieben.
In Fig. 9 ist ein Teil eines Schirmträgers einer Ka
thodenstrahlröhre mit einem Film mit niedrigem Refle
xionsvermögen gezeigt. Ein antistatischer, Licht se
lektiv absorbierender reflexionsmindernder Film 10
mit einer Dicke d ist auf der äußeren Oberfläche des
Schirmträgers 2 gebildet. Der Film 10 unterscheidet
sich von dem konventionellen Film 3 insoweit, als
zusätzlich zu organischen oder anorganischen Farb
stoff- oder Pigmentteilchen 8 und elektrisch leiten
den Füllteilchen 9 feinste Magnesiumfluorid-Teilchen
11 in einen porösen Quarzglasfilm 7 eingemischt und
in diesem dispergiert sind.
Die durchschnittliche Größe der Magnesiumfluorid-
Teilchen 11 ist höchstens 100 nm, vorzugsweise höch
stens 30 nm aus dem Gesichtspunkt, daß der Brechungs
index wirksam reduziert und ein gleichförmiger Film
erhalten wird.
Im Fall des bekannten antistatischen, Licht selektiv
absorbierenden Films 3 sind die organischen oder an
organischen Farbstoff- oder Pigmentteilchen 8 und die
elektrisch leitenden Füllteilchen 9 in den porösen
Quarzglasfilm 7 eingemischt und in diesem dispergiert
und abhängig von der Art der zugemischten Materialien
beträgt der Brechungsindex des gebildeten Films 1,5
bis 1,54, der fast gleich dem des Glasmaterials des
Schirmträgers 2 ist. Als Beispiel für die elektrisch
leitenden Füllpartikel 9 werden vorzugsweise Zinnoxid
(SnO2), Indiumoxid (In2O3) und dergleichen verwendet.
Da jedoch Magnesiumfluorid (MgF2) selbst ein Material
mit sehr niedrigem Brechungsindex (n = 1,38) ist, wird
in diesem Ausführungsbeispiel durch Hinzufügen einer
festen Menge von feinsten Magnesiumfluorid-Teilchen
11 der Brechungsindex des lichtabsorbierenden Films
auf etwa 1,4 reduziert, um einen optischen Film mit
einem niedrigen Brechungsindex zu erhalten.
Es ist bekannt daß durch Bildung eines Films von
gewisser Dicke auf Glas, wobei der Film einen gerin
geren Brechungsindex als das Glas hat, die Reflexion
an der Oberfläche des Glases reduziert werden kann.
Unter der Annahme, daß der Brechungsindex eines auf
der Oberfläche von einem Glas zu bildenden Films, die
Dicke des Films und die Wellenlänge eines auftreffen
den Lichts n, d und λ sind, kann die Oberflächenre
flexion auf ein Minimum gebracht werden durch geeig
nete Bestimmung der Dicke d des Films, so daß der
folgenden Gleichung genügt werden kann:
worin m eine ganze positive Zahl ist, die wenigstens
1 und vorzugsweise 1 oder 2 beträgt. Die Oberflächen
reflexion R wird ausgedrückt durch die Gleichung
R = (n² - nOnG)²/(n² + nOnG)² ,
worin nO der Brechungsindex von Luft nG der Bre
chungsindex des Glases sind.
In diesem Ausführungsbeispiel wird der antistatische,
Licht selektiv absorbierende reflexionsmindernde Film
10 auf der äußeren Oberfläche des Schirmträgers 2
gebildet, der aus Glas mit einem Brechungsindex von
1,5 bis 1,54 zusammengesetzt ist, und der Brechungs
index des Films 10 wird dadurch auf etwa 1,4 redu
ziert, daß feinste Magnesiumfluoridteilchen 11 mit
einem niedrigen Brechungsindex in den porösen Quarz
glasfilm 7 eingemischt und in diesem dispergiert wer
den. Damit kann durch Einstellung der Dicke d des
Films 10 auf einen festen Wert die Oberflächenrefle
xion des externen Lichts an der Oberfläche des
Schirmträgers 2 reduziert werden, und es ist wün
schenswert, die Lichtkomponente mit einem Wellenlän
genbereich von 480 bis 620 nm wirksam zu absorbieren
oder zu beseitigen, welches ein Bereich des externen
Lichts (gewöhnlich weißes Licht) mit hoher visueller
Empfindlichkeit des menschlichen Auges ist. Daher
wird die Filmdicke d vorzugsweise so bestimmt, daß
sie folgender Gleichung genügt:
worin m eine positive ganze Zahl ist, die mindestens
1, vorzugsweise 1 oder 2 beträgt. Durch Bestimmung
von m = 1 und d = λ/4 gegen die mittlere Wellenlänge
von 550 nm wird d ≒ 138 nm erhalten.
Um weiterhin die Filmdicke einer Beschichtungsflüs
sigkeit auf einen festen Wert einzustellen, wird das
Aufbringen der Flüssigkeit mittels Schleuderbe
schichtung vorgenommen. Bei diesem Verfahren ist es
erforderlich, die Parameter genau zu steuern, wie die
Drehzahl beim Schleudervorgang, die Überbereichszeit,
die Viskosität der Beschichtungsflüssigkeit, feste
Komponenten und Temperatur, die Oberflächentemperatur
des Schichtträgers 2, Temperatur und Feuchtigkeit
einer Aufbringungs- und Trockenzelle und so weiter.
Nach der Filmbildung durch das Schleuderbeschich
tungsverfahren wird der Film bei einer Temperatur von
100°C bis 200°C ausgehärtet.
Fig. 10 zeigt das spektrale Oberflächenreflexionsver
mögen (a) eines konventionellen antistatischen, Licht
selektiv absorbierenden Films 3 auf der äußeren Ober
fläche des Schirmträgers 2 der Kathodenstrahlröhre
und das spektrale Oberflächenreflexionsvermögen (b)
eines antistatischen, Licht selektiv absorbierenden
reflexionsmindernden Films 10, der in diesem Ausfüh
rungsbeispiel nach der Erfindung gebildet wird. Beim
bekannten Film werden etwa 4% Oberflächenreflexion
im Bereich des sichtbaren Lichts erhalten, jedoch
beim vorliegenden Ausführungsbeispiel der Erfindung
ist die Oberflächenreflexion auf etwa 1,5% redu
ziert.
Fig. 11 zeigt optische Eigenschaften unterschiedli
cher Schirmträger (m1), (n1), (o1) und (p1), die mit
einem antistatischen, Licht selektiv absorbierenden
und reflexionsmindernden Film 10 gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel der Erfindung auf ihrer äußeren
Oberfläche versehen sind, d. h. eine Intensität E0=100
eines auf die Schirmträger 2 einer Kathodenstrahlröh
re auftreffenden externen Lichts, Intensitäten E1 des
durch die äußeren Oberfläche der Schirmträger 2 re
flektierten externen Lichts, Intensitäten E2 des an
der inneren Oberfläche der Schirmträger 2 und der
Leuchtoberfläche reflektierten und aus den Schirmträ
gern 2 austretenden externen Lichts und die Verhält
nisse des an der Oberfläche reflektierten externen
Lichts zum insgesamt reflektierten externen Licht
{[E₁/E₁+E₂)] · 100}. Wie der Vergleich mit den bekannten
Schirmträgern m, n, o und p in Fig. 7 zeigt, wer
den die Oberflächenreflexionsverhältnisse für das
externe Licht bei den Schirmträgern m1, n1, o1 und p1
auf etwa die Hälfte reduziert, und es ist offensicht
lich, daß eine erhebliche Verbesserung erzielt wird.
Ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung wird
nun anhand der Fig. 12 bis 14 erläutert.
Fig. 12 zeigt einen Ausschnitt eines Schirmträgers
einer Kathodenstrahlröhre mit einem Film mit niedri
gem Reflexionsvermögen. Hierbei ist auf der äußeren
Oberfläche des Schirmträgers 2 ein das Reflexionsver
mögen herabsetzender Film 12 gebildet, der aus einer
Kombination einer Schicht 13 mit hohem Brechungsindex
und einer festen Dicke d′1 und einer über dieser an
geordneten Schicht 14 mit niedrigem Brechungsindex
und einer festen Dicke d′2 zusammengesetzt ist.
Nachdem die äußere Oberfläche des Schirmträgers 2
ausreichend gereinigt ist, wird zuerst zu einer Be
schichtungsflüssigkeit, die durch Einmischen und Dis
pergieren eines antistatischen, elektrisch leitenden
Füllstoffs und eines Farbstoffs oder Pigments in eine
alkoholische Lösung eines Siliziumalkylats gemäß der
Herstellung eines herkömmlichen antistatischen, Licht
selektiv absorbierenden Films erhalten wurde, eine
feste Menge von feinsten Teilchen aus Titanoxid
(TiO2) mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von
40 nm hinzugemischt, um einen hohen Brechungsindex
der Beschichtungsflüssigkeit zu erzielen, und die so
erhaltene Beschichtungsflüssigkeit mit hohem Bre
chungsindex wird auf die gereinigte äußere Oberfläche
des Schirmträgers 2 mit einer Dicke d′1 im Schleuder
beschichtungsverfahren aufgegeben zur Bildung der
Schicht 13 mit hohem Brechungsindex.
Wie Fig. 12 zeigt, sind in der Schicht 13 zusätzlich
zu den organischen oder anorganischen Farbstoff- oder
Pigmentteilchen 8 und den elektrisch leitenden Füll
teilchen 9 feinste Titanoxid-Teilchen (TiO2) 15 in
den porösen Quarzglasfilm 7 eingemischt und disper
giert. Wenn der Film 13 keine Titanoxid-Teilchen 15
enthielte, wäre der Brechungsindex dieses Films 1,5
bis 1,54, was praktisch dem Brechungsindex des Glas
materials des Schirmträgers 2 entspricht. Da Titan
oxid einen hohen Brechungsindex von etwa 2,35 be
sitzt, wird durch Hinzufügen einer festen Menge von
feinsten Titanoxid-Teilchen 15 zu dem die organischen
oder anorganischen Farbstoff- oder Pigmentteilchen 8
und die elektrisch leitenden Füllteilchen 9 enthal
tenden Film dessen Brechungsindex auf etwa 1,8 erhöht
werden, so daß sich die Schicht 13 mit hohem Bre
chungsindex ergibt. Zur Erhöhung des Brechungsindex
können auch feinste Teilchen aus Tantaloxid (Ta2O5),
Zirkonoxid (ZrO2), Zinksulfid (ZnS) oder Mischungen
von diesen verwendet werden. Die durchschnittliche
Teilchengröße des Materials mit hohem Brechungsindex
soll höchstens 100 nm, vorzugsweise höchstens 30 nm
betragen unter dem Gesichtspunkt, daß der Brechungs
index wirksam erhöht und ein gleichförmiger Film er
halten wird.
Die in der beschriebenen Weise gebildete Schicht 13
mit hohem Brechungsindex wird in einem Wärmeofen aus
gehärtet. Dies erfolgt, um die Beschichtung in einem
gewissen Umfang zu härten, so daß eine Wanderung aus
der Schicht 13 heraus verhindert wird, die selbst
dann aufträte, wenn die Schicht 14 mit niedrigem Bre
chungsindex aufgebracht ist. In diesem Fall erfolgt
die Härtung für 20 Minuten bei einer Temperatur von
80°C. Das Aushärten braucht nicht durch Erwärmung zu
erfolgen, sondern kann auch unter Verwendung von UV-
Strahlung, auf chemische Weise oder dergleichen er
folgen.
Nachdem das Härten der Schicht 13 beendet ist, wird
zu einer Beschichtungsflüssigkeit, die durch Einmi
schen und Dispergieren eines antistatischen, elek
trisch leitenden Füllstoffs und eines Farbstoffs oder
Pigments in eine alkoholische Lösung eines Silizi
umalkylats erhalten wurde, eine feste Menge von fein
sten Teilchen aus Magnesiumfluorid (MgF2) mit einer
durchschnittlichen Teilchengröße von 30 nm hinzuge
mischt, um einen niedrigen Brechungsindex der Be
schichtungsflüssigkeit zu erzielen, und die so erhal
tene Flüssigkeit mit niedrigem Brechungsindex wird
auf die Schicht 13 mit hohem Brechungsindex mit einer
Dicke d′2 im Schleuderbeschichtungsverfahren aufgege
ben zur Bildung der Schicht 14 mit niedrigem Bre
chungsindex.
Wie Fig. 12 zeigt, sind in der Schicht 14 zusätzlich
zu den organischen oder anorganischen Farbstoff- oder
Pigmentteilchen 8 und den elektrisch leitenden Füll
teilchen 9 feinste Magnesiumfluorid-Teilchen (MgF2)
16 in den porösen Quarzglasfilm 7 eingemischt und
dispergiert. Wenn der Film 14 keine Magnesiumfluorid-
Teilchen 16 enthielte, wäre der Brechungsindex dieses
Films 1,5 bis 1,54. Da Magnesiumfluorid einen niedri
gen Brechungsindex von etwa 1,38 besitzt, wird durch
Hinzufügen einer festen Menge von feinsten Magnesi
umfluorid-Teilchen 16 zu dem die organischen oder
anorganischen Farbstoff- oder Pigmentteilchen 8 und
die elektrisch leitenden Füllteilchen 9 enthaltenden
Film dessen Brechungsindex auf etwa 1,42 herabge
setzt, so daß sich die Schicht 14 mit niedrigem Bre
chungsindex ergibt. Die durchschnittliche Größe der
Magnesiumfluorid-Teilchen 16 beträgt höchstens 100
nm, vorzugsweise 30 nm aus dem Gesichtspunkt einer
wirksamen Herabsetzung des Brechungsindex und eines
gleichförmigen Films.
Der erhaltene reflexionsmindernde Film 12 aus den
nacheinander mit festen Dicken auf dem Schirmträger 2
gebildeten Schichten 13 und 14 wird dann erwärmt,
beispielsweise für 30 Minuten bei einer Temperatur
von 175°C. Die Erwärmung wird durchgeführt zur Sta
bilisierung der optischen Eigenschaften und zur Ver
besserung der Festigkeit des Films 12.
In bezug auf die Struktur eines reflexionsmindernden
Films in Form eines optischen Mehrschicht-Interfe
renzfilms sind unter der Annahme, daß eine Schicht
mit niedrigem Brechungsindex und einer optischen
Dicke von etwa 1/4 Wellenlänge, eine Schicht mit ho
hem Brechungsindex mit einer optischen Dicke von etwa
1/4 Wellenlänge und eine Glasgrundplatte als L, H und
(S) bezeichnet werden, im Fall von zwei Schichten
(S)-H-L und (S)-2H-L grundsätzliche Strukturen. Hier
bei bedeutet 2H eine Schichtdicke von 1/2 Wellenlän
ge. Im Fall von 3- und 4-Schichtstrukturen werden die
Kombinationen etwas komplizierter, jedoch sind die
Strukturen im Prinzip Kombinationen von H und L.
Die Filmstruktur in Fig. 12 betrifft den Fall (S)-H-
L, und es wird eine Optimierung der Dicken d′1 und
d′2 durchgeführt. In Fig. 13 bedeuten (a) das spek
trale Oberflächenreflexionsvermögen eines Schirmträ
gers ohne einen antistatischen, Licht selektiv absor
bierenden Film oder mit einem konventionellen anti
statischen, Licht selektiv absorbierenden Film 3 auf
seiner äußeren Oberfläche und (b) das spektrale Ober
flächenreflexionsvermögen eines Schirmträgers nach
dem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung, d. h.
eines Schirmträgers, der mit einem antistatischen,
Licht selektiv absorbierenden und reflexionsmindern
den Film aus zwei Schichten versehen ist, bei dem das
durchschnittliche Reflexionsvermögen im Bereich des
sichtbaren Lichts auf 1,2% gesunken ist.
Fig. 14 zeigt optische Eigenschaften unterschiedli
cher Schirmträger m2, n2, o2 und p2, die mit einem
reflexionsmindernden Film 12 nach dem zweiten Ausfüh
rungsbeispiel der Erfindung auf ihrer äußeren Ober
fläche versehen sind, nämlich Intensitäten E1 und E2
des vom Schirmträger 2 reflektierten externen Lichts
und Oberflächenreflexionsverhältnisse
{[E₁/(E₁+E₂)] · 100} hierfür entsprechend dem ersten
Ausführungsbeispiel in Fig. 11. Verglichen mit den
bekannten Schirmträgern m, n, o und p in Fig. 7 wer
den die Oberflächenreflexionsverhältnisse für exter
nes Licht bei den vorliegenden Schirmträgern m2, n2,
o2 und p2 auf etwa 40% reduziert, so daß eine erheb
liche Verbesserung klar ersichtlich ist.
In herkömmlicher Weise wird bei einem derartigen re
flexionsmindernden Film die Schicht mit hohem Bre
chungsindex durch ein Material mit hohem Brechungs
index wie Titanoxid (TiO2) mit einer festen Dicke
mittels eines Vakuumaufdampfverfahrens gebildet, und
die Schicht mit niedrigem Brechungsindex wird eben
falls durch ein Material mit niedrigem Brechungsindex
wie Magnesiumfluorid (MgF2) mittels eines Vakuumauf
dampfverfahrens gebildet. Mit dem durch Vakuumauf
dampfen hergestellten reflexionsmindernden Film kön
nen die guten optischen Eigenschaften erhalten wer
den, jedoch sind die Kosten dieses Verfahrens sehr
hoch. Obgleich dieses Verfahren in besonderen Fällen
für Anzeigemonitore angewandt wurde, ist es aus wirt
schaftlichen Gründen schwierig, dieses auch bei der
Herstellung von Farbfernsehgeräten für den allgemei
nen Gebrauch einzusetzen.
In dieser Hinsicht werden nach der vorliegenden Er
findung sowohl die Schicht mit hohem Brechungsindex
als auch die Schicht mit niedrigem Brechungsindex
durch Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit auf
der Basis eines Siliziumalkylats auf einen Schirmträ
ger ohne Verwendung eines Vakuumaufdampfverfahrens
gebildet, so daß eine Kathodenstrahlröhre mit einem
Film mit niedrigem Reflexionsvermögen in der Massen
produktion mit geringen Kosten hergestellt werden
kann.
Ein drittes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird
nun anhand der Fig. 15 und 16 beschrieben.
Fig. 15 zeigt einen Teil eines Schirmträgers einer
Kathodenstrahlröhre mit einem Film mit niedrigem Re
flexionsvermögen. Hierbei ist asuf der äußeren Ober
fläche des Schirmträgers 2 ein reflexionsmindernder
Film 12 aus vier Schichten 13 und 14 mit jeweils ho
hem und niedrigem Brechungsindex gebildet. Es sind
eine Schicht 13 mit hohem Brechungsindex und der fe
sten Dicke d′′1, eine Schicht 14 mit niedrigem Bre
chungsindex und der festen Dicke d′′2, eine Schicht 13
mit hohem Brechungsindex und der festen Dicke d′′3 und
eine Schicht 14 mit niedrigem Brechungsindex und der
festen Dicke d′′4 übereinander auf dem Schirmträger 2
gebildet. Die Herstellung des reflexionsmindernden
Films 12 wird mit den gleichen Materialien und nach
dem gleichen Verfahren wie im ersten und zweiten Aus
führungsbeispiel durchgeführt.
In Fig. 13 zeigt die Kurve (c) das spektrale Oberflä
chenreflexionsvermögen eines Schirmträgers nach dem
dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung, d. h. eines
Schirmträgers mit einem reflexionsmindernden Film aus
der Kombination von vier Schichten, dessen Refle
xionsvermögen im Bereich des sichtbaren Lichts auf
durchschnittlich 0,5% gefallen ist. Es ist ersicht
lich, daß der reflexionsmindernde Film aus vier
Schichten im Vergleich zum Film aus zwei Schichten
hinsichtlich der Herabsetzung des spektralen Oberflä
chenreflexionsvermögens im Bereich des sichtbaren
Lichts überlegen ist.
Fig. 16 stellt optische Eigenschaften unterschiedli
cher Schirmträger m3, n3, o3 und p3 dar, auf deren
äußerer Oberfläche ein reflexionsmindernder Film 12
nach dem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung
gebildet ist, nämlich Intensitäten E1 und E2 des am
Schirmträger 2 reflektierten externen Lichts und
Oberflächenreflexionsverhältnisses {[E₁/(₁+E₂)] · 100}
hierfür entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel
in Fig. 11. Verglichen mit den bekannten Schirmträ
gern m, n, o und p in Fig. 7 sind die Oberflächenre
flexionsverhältnisse der vorliegenden Schirmträger
m3, n3, o3 und p3 auf etwa 17% herabgesetzt, woraus
sich ergibt, daß gegenüber dem zweiten Ausführungs
beispiel der Erfindung eine deutliche Verbesserung
erzielt wird.
Ein viertes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird
unter Bezug auf Fig. 17 und 18 beschrieben.
Fig. 17 zeigt einen Teil eines Schirmträgers einer
Kathodenstrahlröhre mit einem Film mit geringem Re
flexionsvermögen. Hierbei ist auf der äußeren Ober
fläche des Schirmträgers 2 ein verbesserter refle
xionsmindernder Film 12 aus zwei Schichten 13 und 14
mit hohem bzw. niedrigem Brechungsindex und festen
Dicken d1 bzw. d2 in gleicher Weise wie beim zweiten
Ausführungsbeispiel gebildet. Bei diesem Ausführungs
beispiel jedoch sind die elektrisch leitenden Füll
teilchen 9 nur in die Schicht 13 mit hohem Brechungs
index eingemischt und in dieser dispergiert, und die
organischen oder anorganischen Farbstoff- oder Pig
mentteilchen 8 sind nur in die Schicht 14 mit niedri
gem Brechungsindex eingemischt und in dieser disper
giert.
Da die elektrisch leitenden Füllteilchen 9 ursprüng
lich einen sehr hohen Brechungsindex besitzen, nimmt
bei dieser Filmstruktur die Konzentration der Füll
teilchen 9 in der Schicht 13 zu und der Brechungsin
dex dieser Schicht kann auf etwa 1,95 erhöht werden
im Vergleich zu etwa 1,8 beim ersten Ausführungsbei
spiel. Da weiterhin in der Schicht 14 mit niedrigem
Brechungsindex keine Füllteilchen 9 vorhanden sind,
kann der Brechungsindex dieser Schicht auf etwa 1,40
im Vergleich zu etwa 1,42 im zweiten Ausführungsbei
spiel gesenkt werden. Daher können die optischen Ei
genschaften des reflexionsmindernden Films 12 stark
verbessert werden.
In Fig. 13 zeigt die Kurve (d) ein spektrales Ober
flächenreflexionsvermögen eines Schirmträgers nach
dem vierten Ausführungsbeispiel der Erfindung, d. h.
eines mit einem aus zwei Schichten bestehenden, re
flexionsmindernden Film versehenen Schirmträgers, bei
dem das Reflexionsvermögen im Bereich des sichtbaren
Lichts auf durchschnittliche 0,8% gefallen ist. Im
Vergleich hierzu besteht bei dem aus zwei Schichten
zusammengesetzten reflexionsmindernden Film nach dem
zweiten Ausführungsbeispiel ein Abfall des spektralen
Oberflächenreflexionsvermögens im Bereich des sicht
baren Lichts auf durchschnittlich 1,2%.
Fig. 18 zeigt optische Eigenschaften unterschiedli
cher Schirmträger m4, n4, o4 und p4, die mit einem
reflexionsmindernden Film 12 entsprechend dem vierten
Ausführungsbeispiel der Erfindung auf ihrer äußeren
Oberfläche versehen sind, nämlich Intensitäten E1 und
E2 des an dem Schirmträger 2 reflektierten externen
Lichts und Oberflächenreflexionsverhältnisse
{[E₁/(E₁+E₂)] · 100} hierfür entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel
in Fig. 1. Verglichen mit den
Schirmträgern m1, n1, o1 und p1 des ersten Ausfüh
rungsbeispiels sind die Oberflächenreflexionsverhält
nisse für externes Licht der vorliegenden Schirmträ
ger m4, n4, o4 und p4 auf etwa 70% reduziert, was
als eine erhebliche Verbesserung anzusehen ist.
Bezüglich der Schicht 14 mit niedrigem Brechungsindex
kann bei diesem Ausführungsbeispiel, da ein niedriger
Brechungsindex (etwa 1,45) in einem gewissen Umfang
realisiert werden kann, selbst wenn die feinsten Ma
gnesiumfluorid-Teilchen 16 nicht zugemischt sind, die
alkoholische Lösung des Siliziumalkylats als eine
Basisbeschichtung mit niedrigem Brechungsindex ver
wendet werden.
Ein fünftes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird
nun in Verbindung mit Fig. 19 beschrieben.
Fig. 19 zeigt einen Teil eines Schirmträgers einer
Kathodenstrahlröhre mit einem Film mit niedrigem Re
flexionsvermögen. Hierbei ist auf der äußeren Ober
fläche des Schirmträgers 2 ein verbesserter refle
xionsmindernder Film 12 gebildet, der aus vier
Schichten 13 und 14 mit hohem und niedrigem Bre
chungsindex und Dicken d′′′1, d′′′2, d′′′3 und d′′′4 zu
sammengesetzt ist.
Bei diesem Ausführungsbeispiel kann in gleicher Weise
wie beim vierten Ausführungsbeispiel der Brechungs
index der Schicht 13 stärker als beim dritten Ausfüh
rungsbeispiel erhöht werden und es kann der Bre
chungsindex der Schicht 14 stärker als beim dritten
Ausführungsbeispiel herabgesetzt werden, wodurch die
optischen Eigenschaften des reflexionsmindernden
Films 12 weitgehend verbessert werden können.
In Fig. 13 zeigt die Kurve (e) das spektrale Oberflä
chenreflexionsvermögen eines auf einem Schirmträger
gebildeten antistatischen, Licht selektiv absorbie
renden und reflexionsmindernden Films nach dem fünf
ten Ausführungsbeispiel der Erfindung; hiernach kann
das Reflexionsvermögen im Bereich des sichtbaren
Lichts auf durchschnittlich 0,25% gesenkt werden.
Anhand des ersten bis fünften Ausführungsbeispiels
wurde ein antistatischer, Licht selektiv absorbieren
der und reflexionsmindernder Film beschrieben; die
Erfindung ist jedoch nicht hierauf beschränkt und
kann auch zur Anwendung kommen, wenn ein Film nur mit
einer antistatischen Funktion, nur mit einer Licht
selektiv absorbierenden Funktion oder nur mit einer
reflexionsmindernden Funktion auf der äußeren Ober
fläche eines Schirmträgers mit einer Lichtdurchläs
sigkeit von höchstens 50% gebildet wird.
Claims (14)
1. Kathodenstrahlröhre mit einem Schirmträger und
einem auf dessen Frontfläche gebildeten refle
xionsmindernden Film, wobei der Schirmträger
eine Lichtdurchlässigkeit von höchstens 50%
besitzt,
dadurch gekennzeichnet,
daß der reflexionsmindernde Film (10, 12) durch
Aufbringen einer Beschichtungsflüssigkeit gebil
det ist, die durch Einmischen und Dispergieren
von feinsten Magnesiumfluorid-Teilchen (11, 16)
mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von
100 nm in eine Basisbeschichtung aus einer alko
holischen Lösung eines Siliziumalkylats mit we
nigstens einer -OH-Gruppe und/oder -OR-Gruppe
als funktioneller Gruppe erhalten wurde, und daß
der reflexionsmindernde Film (10, 12) eine Dicke
d (nm) und einen Brechungsindex n besitzt, die
der folgenden Gleichung genügen, in der m eine
ganze positive Zahl ist, die mindestens 1 be
trägt:
480 ≦ 4nd/(2m-1) ≦ 620.
2. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Brechungsindex n des
reflexionsmindernden Films (10, 12) etwa 1,4 be
trägt.
3. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die durchschnittliche Größe
der Magnesiumfluorid-Teilchen höchstens 30 nm
beträgt.
4. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der reflexionsmindernde Film
(10, 12) durch eine Basisbeschichtung gebildet
ist, der dispergierte organische oder anorgani
sche Farbstoff- oder Pigmentteilchen (8) beige
mischt sind.
5. Kathodenstrahlröhre mit einem Schirmträger und
einem auf dessen Frontfläche gebildeten refle
xionsmindernden Film,
dadurch gekennzeichnet,
daß der reflexionsmindernde Film (12) einander
abwechselnde Schichten (13, 14) mit hohem und
niedrigem Brechungsindex aufweist, daß der
Schirmträger (2) eine Lichtdurchlässigkeit von
höchstens 50% besitzt, daß die Schicht (14) mit
niedrigem Brechungsindex aus einer Basisbe
schichtung aus einer alkoholischen Lösung eines
Siliziumalalkylats mit wenigstens einer -OH-
Gruppe und/oder einer -OR-Gruppe als funktionel
ler Gruppe gebildet wird, und daß die Schicht
(13) mit hohem Brechungsindex aus einer Basisbe
schichtung gebildet wird, die durch Vermischen
und Dispergieren feinster Teilchen (15) wenig
stens eines der Oxide Titanoxid, Tantaloxid und
Zirkonoxid in einer alkoholischen Lösung eines
Siliziumalkylats mit wenigstens einer -OH-Gruppe
und/oder einer -OR-Gruppe als funktioneller
Gruppe erhalten wurde, wobei die feinsten Teil
chen eine durchschnittliche Größe von höchstens
100 nm aufweisen.
6. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß feinste Teilchen (16) aus
Magnesiumfluorid mit einer durchschnittlichen
Größe von höchstens 100 nm in die Basisbeschich
tung zur Bildung der Schicht (14) mit niedrigem
Brechungsindex gemischt und in dieser disper
giert werden.
7. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß als feinste Teilchen (15)
Titanoxid in die Schicht (13) mit hohem Bre
chungsindex gemischt und in dieser dispergiert
werden.
8. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Brechungsindex der
Schicht (13) mit hohem Brechungsindex etwa 1,8
und der Brechungsindex der Schicht (14) mit nie
drigem Brechungsindex etwa 1,4 beträgt.
9. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß der reflexionsmindernde Film
(12) auf dem Schirmträger (2) durch aufeinand
erfolgendes Aufbringen der Schichten (13, 14) mit
hohem und mit niedrigem Brechungsindex gebildet
ist.
10. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß der reflexionsmindernde Film
(12) auf dem Schirmträger (2) durch aufeinan
derfolgendes Aufbringen einer Schicht (13) mit
hohem Brechungsindex, einer Schicht (14) mit
niedrigem Brechungsindex, einer Schicht (13) mit
hohem Brechungsindex und einer Schicht (14) mit
niedrigem Brechungsindex gebildet ist.
11. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schichten (13, 14) mit
hohem und niedrigem Brechungsindex durch die
Basisbeschichtungen, zu denen organische oder
anorganische Farbstoff- oder Pigmentteilchen (8)
gemischt und in diesen dispergiert sind, gebil
det sind.
12. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schichten (13, 14) mit
hohem und niedrigem Brechungsindex durch die
Basisbeschichtungen, zu denen elektrisch leiten
de feine Teilchen (9) aus Zinnoxid oder Indium
oxid als elektrisch leitender Füllstoff gemischt
und in diesen dispergiert sind, gebildet sind.
13. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schicht (14) mit niedri
gem Brechungsindex durch die Basisbeschichtung,
zu der nur organische oder anorganische Farb
stoff- oder Pigmentteilchen (8) gemischt und in
dieser dispergiert sind, gebildet ist.
14. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 13, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schicht (13) mit hohem
Brechungsindex durch die Basisbeschichtung, zu
der nur ein elektrisch leitender Füllstoff (9)
gemischt und in dieser dispergiert ist, gebildet
ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2288239A JP2546054B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 低反射膜付陰極線管 |
JP3106988A JP2702821B2 (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 低反射膜付陰極線管 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4135448A1 true DE4135448A1 (de) | 1992-05-14 |
DE4135448C2 DE4135448C2 (de) | 1996-08-29 |
Family
ID=26447073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4135448A Expired - Fee Related DE4135448C2 (de) | 1990-10-24 | 1991-10-23 | Kathodenstrahlröhre |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5243255A (de) |
KR (1) | KR940011569B1 (de) |
CN (1) | CN1050443C (de) |
CA (1) | CA2054016C (de) |
DE (1) | DE4135448C2 (de) |
GB (1) | GB2250860B (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0589147A1 (de) * | 1992-06-04 | 1994-03-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Kathodenstrahlröhre und Herstellungsverfahren |
EP0708063A1 (de) * | 1994-09-26 | 1996-04-24 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antistatische und nichtreflektierende Beschichtung für Bildschirme |
EP0713240A3 (de) * | 1994-11-17 | 1997-01-08 | Sumitomo Metal Mining Co | Transparente Leiterschicht zur elektrischen Feldabschirmung |
EP0821390A1 (de) * | 1996-07-24 | 1998-01-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Antireflektionsschichtverfahren zur Herstellung und mit einer solchen Schicht vorgesehene Kathodenstrahlröhre |
DE19818970B4 (de) * | 1997-05-06 | 2009-07-16 | Samsung Display Devices Co., Ltd., Suwon | Braunsche Röhre mit einem antibakteriellen Filmüberzug und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05113505A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Mitsubishi Electric Corp | 低反射膜付陰極線管およびその製造方法 |
JPH0643304A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-18 | Nikon Corp | 反射防止膜及び反射防止膜付き光学部品 |
EP0585819B1 (de) * | 1992-08-31 | 1997-04-16 | Sumitomo Cement Co. Ltd. | Antireflektive und antistatische Bekleidungschicht für eine Elektronenstrahlröhre |
DE69312017T2 (de) * | 1992-11-06 | 1997-12-04 | Toshiba Kawasaki Kk | Antireflektionsschicht und Anzeigegerät mit dieser Schicht |
US5578377A (en) * | 1993-04-21 | 1996-11-26 | Asahi Glass Company Ltd. | Colored thin film-forming coating solution and colored thin film obtained by such coating solution |
EP0649160B1 (de) * | 1993-10-18 | 2001-09-19 | Philips Electronics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf einen Bildschirm und Anzeigevorrichtung die diese enthalt |
TW263591B (en) * | 1994-10-11 | 1995-11-21 | Philips Electronics Nv | CRT display device for use in high ambient light |
JP3808917B2 (ja) * | 1995-07-20 | 2006-08-16 | オリンパス株式会社 | 薄膜の製造方法及び薄膜 |
US5990984A (en) * | 1995-11-16 | 1999-11-23 | Viratec Thin Films, Inc. | Coated polymer substrate with matching refractive index and method of making the same |
AU6316498A (en) * | 1997-01-15 | 1998-08-07 | Optimum Air Corporation | System and method for drying and curing waterbased coatings |
TW420817B (en) * | 1997-07-08 | 2001-02-01 | Toshiba Corp | Conductive antireflection film and cathod ray tube |
TW406374B (en) | 1997-07-17 | 2000-09-21 | Ibm | Method for forming transistors with raised source and drains and device formed thereby |
US5981148A (en) | 1997-07-17 | 1999-11-09 | International Business Machines Corporation | Method for forming sidewall spacers using frequency doubling hybrid resist and device formed thereby |
KR100247664B1 (ko) * | 1997-09-22 | 2000-03-15 | 손욱 | 실리카 박막의 제조방법 |
JPH11250834A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-17 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
KR20020013719A (ko) * | 2000-08-14 | 2002-02-21 | 이데이 노부유끼 | 광흡수/반 반사물질 부재와 표시장치 |
US20030179455A1 (en) * | 2002-03-22 | 2003-09-25 | Jeffrey Hunt | Fingerprint resistant anti-reflection coatings for plastic substrates |
KR101399273B1 (ko) * | 2004-09-16 | 2014-05-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 비정질 산화 규소 바인더를 갖는 MgF2 광학 박막, 및 그것을 구비하는 광학 소자, 그리고 그 MgF2 광학 박막의 제조 방법 |
JPWO2008001675A1 (ja) * | 2006-06-27 | 2009-11-26 | 株式会社ニコン | 光学多層薄膜、光学素子、及び光学多層薄膜の製造方法 |
KR20080110090A (ko) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | 삼성전자주식회사 | 굴절률 감쇠 필름, 이를 구비한 편광 부재, 및 이를 구비한표시 장치 |
SG11201505090UA (en) * | 2012-12-28 | 2015-08-28 | Fujifilm Corp | Curable Resin Composition, Infrared Ray CutOff Filter And Solid-State Imaging Device Using The Same |
JP6156336B2 (ja) * | 2014-11-21 | 2017-07-05 | マツダ株式会社 | 積層塗膜及び塗装物 |
JP2016097594A (ja) * | 2014-11-21 | 2016-05-30 | マツダ株式会社 | 積層塗膜及び塗装物 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3185020A (en) * | 1961-09-07 | 1965-05-25 | Optical Coating Laboratory Inc | Three layer anti-reflection coating |
US3504212A (en) * | 1967-03-20 | 1970-03-31 | Westinghouse Electric Corp | High contrast display device incorporating a light absorption and scattering layer |
US3946427A (en) * | 1973-10-12 | 1976-03-23 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
EP0085190A1 (de) * | 1982-02-01 | 1983-08-10 | Heiz, Therese | Verfahren zur Ausbildung einer Entspiegelungsschicht auf Bildschirmen |
DD160568A1 (de) * | 1981-06-18 | 1983-09-14 | Dietrich Scheller | Verfahren zur oberflaechenstabilisierung von siliziumhalbleiterbauelementen |
EP0246696A2 (de) * | 1986-05-21 | 1987-11-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Kathodenstrahlröhre und Kathodenstrahlröhre nach diesem Herstellungsverfahren |
EP0276459A1 (de) * | 1986-12-24 | 1988-08-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Kathodenstrahlröhre und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US4798994A (en) * | 1986-09-05 | 1989-01-17 | U.S. Philips Corporation | Low reflectance display device |
US4804883A (en) * | 1986-09-03 | 1989-02-14 | Flachglass Aktiengesellschaft | Front attachment for CRT. E.G. for a monitor or video tube |
US4873120A (en) * | 1986-12-23 | 1989-10-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing cathode-ray tube |
US4900984A (en) * | 1987-04-28 | 1990-02-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode ray tube with antistatic film on front panel |
EP0354465A2 (de) * | 1988-08-08 | 1990-02-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Farbfilter und eine einen solchen Filter verwendende Kathodenstrahlröhre |
EP0359345A2 (de) * | 1984-12-12 | 1990-03-21 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Projektionsfernsehröhre |
DE3932343A1 (de) * | 1988-09-29 | 1990-04-05 | Mitsubishi Electric Corp | Verfahren zur herstellung antistatischer kathodenstrahlroehren |
US4945282A (en) * | 1987-12-10 | 1990-07-31 | Hitachi, Ltd. | Image display panel having antistatic film with transparent and electroconductive properties and process for processing same |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59212503A (ja) * | 1983-05-16 | 1984-12-01 | Toyota Motor Corp | シリンダ装置 |
NL8402304A (nl) * | 1984-07-20 | 1986-02-17 | Philips Nv | Beeldbuis. |
US4732454A (en) * | 1985-04-22 | 1988-03-22 | Toray Industries, Inc. | Light-transmissible plate shielding electromagnetic waves |
US4747674A (en) * | 1986-04-18 | 1988-05-31 | Polaroid Corporation | Contrast enhancement filter |
US4846551A (en) * | 1986-04-21 | 1989-07-11 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Optical filter assembly for enhancement of image contrast and glare reduction of cathode ray display tube |
JPH0782822B2 (ja) * | 1986-12-23 | 1995-09-06 | 株式会社東芝 | 陰極線管 |
JPS63196091A (ja) * | 1987-02-10 | 1988-08-15 | 日東電工株式会社 | 回路基板の製造方法 |
US4987338A (en) * | 1988-03-31 | 1991-01-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode ray tube with film on face-plate |
US5051652A (en) * | 1988-12-06 | 1991-09-24 | Asahi Glass Company, Ltd. | Panel with anti-reflective multi-layered film thereon |
US5122709A (en) * | 1989-03-20 | 1992-06-16 | Hitachi, Ltd. | Antistatic cathode ray tube with lobe like projections and high gloss and hardness |
JPH03261047A (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-20 | Toshiba Corp | 表示装置 |
-
1991
- 1991-10-22 KR KR1019910018587A patent/KR940011569B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-10-22 US US07/780,283 patent/US5243255A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-10-23 DE DE4135448A patent/DE4135448C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-10-23 CA CA002054016A patent/CA2054016C/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-10-23 GB GB9122497A patent/GB2250860B/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-10-24 CN CN91110814A patent/CN1050443C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3185020A (en) * | 1961-09-07 | 1965-05-25 | Optical Coating Laboratory Inc | Three layer anti-reflection coating |
US3504212A (en) * | 1967-03-20 | 1970-03-31 | Westinghouse Electric Corp | High contrast display device incorporating a light absorption and scattering layer |
US3946427A (en) * | 1973-10-12 | 1976-03-23 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
DD160568A1 (de) * | 1981-06-18 | 1983-09-14 | Dietrich Scheller | Verfahren zur oberflaechenstabilisierung von siliziumhalbleiterbauelementen |
EP0085190A1 (de) * | 1982-02-01 | 1983-08-10 | Heiz, Therese | Verfahren zur Ausbildung einer Entspiegelungsschicht auf Bildschirmen |
EP0359345A2 (de) * | 1984-12-12 | 1990-03-21 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Projektionsfernsehröhre |
EP0246696A2 (de) * | 1986-05-21 | 1987-11-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer Kathodenstrahlröhre und Kathodenstrahlröhre nach diesem Herstellungsverfahren |
US4804883A (en) * | 1986-09-03 | 1989-02-14 | Flachglass Aktiengesellschaft | Front attachment for CRT. E.G. for a monitor or video tube |
US4798994A (en) * | 1986-09-05 | 1989-01-17 | U.S. Philips Corporation | Low reflectance display device |
US4873120A (en) * | 1986-12-23 | 1989-10-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing cathode-ray tube |
EP0276459A1 (de) * | 1986-12-24 | 1988-08-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Kathodenstrahlröhre und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US4900984A (en) * | 1987-04-28 | 1990-02-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode ray tube with antistatic film on front panel |
US4945282A (en) * | 1987-12-10 | 1990-07-31 | Hitachi, Ltd. | Image display panel having antistatic film with transparent and electroconductive properties and process for processing same |
EP0354465A2 (de) * | 1988-08-08 | 1990-02-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Farbfilter und eine einen solchen Filter verwendende Kathodenstrahlröhre |
DE3932343A1 (de) * | 1988-09-29 | 1990-04-05 | Mitsubishi Electric Corp | Verfahren zur herstellung antistatischer kathodenstrahlroehren |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J. electrochem. Soc. Bd. 137, No. 4 (1990), S. 1212-1218 * |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0589147A1 (de) * | 1992-06-04 | 1994-03-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Kathodenstrahlröhre und Herstellungsverfahren |
US5698258A (en) * | 1992-06-04 | 1997-12-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of producing a cathode-ray tube including first and second transparent layers of high and low refractive indices formed on a face plate to thereby lower electromagnetic wave emission and reduce external light reflection |
EP0708063A1 (de) * | 1994-09-26 | 1996-04-24 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antistatische und nichtreflektierende Beschichtung für Bildschirme |
EP0713240A3 (de) * | 1994-11-17 | 1997-01-08 | Sumitomo Metal Mining Co | Transparente Leiterschicht zur elektrischen Feldabschirmung |
EP0821390A1 (de) * | 1996-07-24 | 1998-01-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Antireflektionsschichtverfahren zur Herstellung und mit einer solchen Schicht vorgesehene Kathodenstrahlröhre |
US6184125B1 (en) | 1996-07-24 | 2001-02-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of fabricating conductive anti-reflection film for a cathode ray tube |
DE19818970B4 (de) * | 1997-05-06 | 2009-07-16 | Samsung Display Devices Co., Ltd., Suwon | Braunsche Röhre mit einem antibakteriellen Filmüberzug und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2054016A1 (en) | 1992-04-25 |
CA2054016C (en) | 1996-12-10 |
KR940011569B1 (ko) | 1994-12-21 |
GB9122497D0 (en) | 1991-12-04 |
KR920008820A (ko) | 1992-05-28 |
GB2250860A (en) | 1992-06-17 |
CN1050443C (zh) | 2000-03-15 |
US5243255A (en) | 1993-09-07 |
GB2250860B (en) | 1994-09-14 |
CN1062053A (zh) | 1992-06-17 |
DE4135448C2 (de) | 1996-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4135448C2 (de) | Kathodenstrahlröhre | |
DE4344934C2 (de) | Kathodenstrahlröhre und Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE69931045T2 (de) | Lichtabsorbierender antireflektierende körper und verfahren zur seiner herstellung | |
DE69531628T2 (de) | Lichtabsorbierender antireflektor | |
DE69935166T2 (de) | Schichtprodukt | |
WO1987000641A1 (en) | Reflection-reducing coating for an optical element made of organic material | |
KR950014542B1 (ko) | 저반사막을 갖는 음극선관 및 그 제조방법 | |
DD236616A5 (de) | Bildwiedergaberoehre | |
DE2512329C2 (de) | Bildröhre mit einer Schicht zur Erhöhung des Bildkontrastes und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE10056286B4 (de) | Substrat für Flüssigkristallanzeigeelemente | |
DE10152412A1 (de) | Filmschicht mit bestimmten optischen und elektrischen Eigenschaften | |
DE60030645T2 (de) | Kathodenstrahlröhre | |
KR950014541B1 (ko) | 광선택흡수층 또는 뉴트럴 필터층을 갖는 컬러음극선관 | |
DE19501229A1 (de) | Dünnschicht-Lichtemissions-Element | |
DE4132753C2 (de) | Farbkathodenstrahlröhre | |
DE10023936A1 (de) | Glühlampe | |
DE60016983T2 (de) | Transparente mehrschichtige Struktur mit niedriger Übertragung | |
DE19751582A1 (de) | Leuchtstoff-Bildschirm für eine flimmerfreie Kathodenstrahlröhre und ein Verfahren zur Herstellung des Bildschirms | |
DE3231727A1 (de) | Elektrolumineszente anzeigevorrichtung | |
DE69726817T2 (de) | Farbbildröhre | |
DE4115437C2 (de) | Projektions-Kathodenstrahlröhre | |
US6992425B1 (en) | Display apparatus with a multi-layer absorption, conduction and protection film | |
DE2260535C3 (de) | Verfärbungsfreies Stirnglas einer Farbfernsehröhre | |
DE69909028T2 (de) | Verfahren zur herstellung einer beschichtung auf einem bildschirm undanzeigevorrichtung mit einem beschichtetem bildschirm | |
DE60108590T2 (de) | Verfahren zur Oberflächenbehandlung der Frontplatte für ein Bildanzeigegerät und Bildanzeigegerät, das die behandelte Frontplatte beinhaltet |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |