DE4112936A1 - Elektrode fuer medizinische anwendungen - Google Patents

Elektrode fuer medizinische anwendungen

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Horst F Dr Heil
Max Prof Dr Ing Schaldach
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Biotronik SE and Co KG
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Biotronik Mess und Therapiegeraete GmbH and Co
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61NELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
    • A61N1/00Electrotherapy; Circuits therefor
    • A61N1/02Details
    • A61N1/04Electrodes
    • A61N1/05Electrodes for implantation or insertion into the body, e.g. heart electrode
    • A61N1/056Transvascular endocardial electrode systems
    • A61N1/0565Electrode heads

Description

Die Erfindung betrifft eine Elektrode der im Oberbegriff des Anspruchs 1 angegebenen Art sowie ein Verfahren zur Herstellung des Elektrodenkopfes.
Derartige Elektroden für medizinische Anwendungen, insbe­ sondere für Stimulationszwecke, wie beispielweise Herz­ schrittmacher, bestehen im allgemeinen aus einer isolier­ ten, vorzugsweise wendelförmigen, Zuleitung und einem Elektrodenkopf zur Übertragung der Stimulationsimpulse. Der Elektrodenkopf weist dabei im aktiven Bereich eine po­ röse Oberflächenschicht auf, die Teil eines elektrisch leitenden Grundkörpers ist.
Die bekannten Elektroden haben jedoch den Nachteil, daß sie in der Herstellung aufwendig sind. Insbesondere ist das Aufbringen der porösen Beschichtung schwierig, da wäh­ rend des Beschichtungsprozesses die Eigenschaften des Grundkörpers beeinträchtigt werden können. Aus diesem Grunde ist auch die Auswahl der Beschichtungsverfahren und somit der Einfluß auf die Porösität der Beschichtung be­ grenzt sowie die Variationsmöglichkeit der Prozeßführung während des Beschichtungsvorgangs eingeschränkt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Elek­ trode der eingangs genannten Gattung unter Beseitigung der genannten Nachteile die Konstruktion und das Herstellungs­ verfahren zu verbessern. Insbesondere sollen die Voraus­ setzungen geschaffen werden, um die Auswahl der Beschich­ tungsverfahren zu vergrößern und deren Parameter hinsicht­ lich der Porosität der Oberfläche unabhängig vom Grundkör­ per zu optimieren.
Diese Aufgabe wird mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß durch das versehen des Elektrodenkopfes mit einem Elektrodengrund­ körper aus einem nichtleitenden Werkstoff von insbesonde­ rer großer Oberflächenrauhigkeit und dessen Beschichtung mit einem leitenden Werkstoff sich verschiedene Eigen­ schaften in vorteilhafter Weise überlagern, ohne daß die Stimulationseigenschaften beeinträchtigt werden. So ist eine nur wenige Mikrometer dicke leitfähige Schicht geeig­ net, den für die Stimulation notwendigen Strom zu führen. Die - von der Stimulation zeitlich getrennte - Signal­ aufnahme erfolgt dabei ohnehin hochohmig und damit nahezu stromlos. Die bisherigen Beschränkungen der Prozeßparame­ ter mit Rücksicht auf mögliche nachteilige Veränderungen des Grundkörpers entfallen insbesondere bei der Verwendung eines Keramikgrundkörpers wegen dessen großer Temperatur­ beständigkeit.
Insbesondere läßt sich auch die Verbindung mit der Zulei­ tung einfacher und herstellungsgünstiger gestalten. Zu­ sätzlich werden durch das versehen des Grundkörpers mit einem nichtleitenden Werkstoff die Materialkosten für die Herstellung des Elektrodenkopfes gesenkt.
Insbesondere sind folgende vorteilhafte Weiterbildungen günstig:
Um die Bedingungen für das Beschichtungsverfahren zusätz­ lich zu verbesssern, weist der Grundkörper eine rauhe Oberfläche auf. Dadurch wird gewährleistet, daß die schicht- bzw. die tröpfchenweise aufzubringenden Werk­ stoffteilchen auf eine bereits poröse Fläche auftreffen und somit nacheinander durch stengeliges Wachstum die Be­ schichtung bilden. Damit sind günstige Voraussetzungen ge­ geben, um die Porositätseigenschaften der Oberflächenbe­ schichtung noch besser zum Tragen zu bringen, so daß die Beschichtung durch stengeliges Wachstum, insbesondere bei TiN, aufbringbar ist. Aufgrund der Oberflächenrauheit des Grundkörpers im Mikrobereich und den damit vorhandenen Er­ hebungen und Täler wird die Schattenbildung beim Aufbrin­ gen der Oberflächenbeschichtung der mikropischen, frei fliegenden Teilchen gefördert. Dies gilt insbesondere für das Aufbringen der Werkstoffteilchen mit Hilfe der reakti­ ven Kathodenzerstäubung. Als Beschichtungsmaterialien kom­ men dabei bevorzugt in Frage: Platin, Platin-Iridium Ver­ bindungen, Legierungen wie MP 35 N oder Ti-Al-N, Nitride, Oxide von beispielsweise Titan, Tantal, Eisen und Iridium.
In einer weiteren bevorzugten Ausführung der Erfindung weist der Grundkörper einen sich in die Zuleitungswendel hinein erstreckenden Schaft auf. Hierbei erstreckt sich die leitende Beschichtung ebenfalls bis in diesen Bereich hinein. Aufgrund der schaftartigen Verlängerung des Elek­ trodenkopfs wird die Montage der Elektrode dahingehend er­ leichert, daß durch bloßes Hineinstecken des Schaftes in die Zuleitungswendel zum einen der Kontakt zwischen Zulei­ tungswendel und dem Elektrodenkopf einfach hergestellbar und desweiteren der Elektrodenkopf schnell fixierbar ist.
Weiterhin ist es vorteilhaft, daß der Grundkörper aus ei­ nem Werkstoff besteht, dessen spezifische Dichte kleiner ist als diejenige herkömmlicher metallischer Elektroden­ werkstoffe. Bevorzugt besteht der Grundkörper dabei aus einem Keramikwerkstoff, vorzugsweise einer Aluminiumoxid- oder Glas-Keramik. Dadurch wird gewährleistet, daß der Elektrodenkopf zum einen ein sehr geringes Gewicht und desweiteren die bereits erwähnte rauhe Oberfläche auf­ weist. Die Aluminiumoxid-Keramik hat sich hierbei als Im­ plantatmaterial schon seit langem bewährt.
In einer anderen Weiterbildung der Erfindung besteht der Grundkörper aus einem Polymerwerkstoff, insbesondere einem Polysulfonwerkstoff, der den Aufbau einer günstigen Lei­ termatrix in der aufzubringenden Beschichtung während des Beschichtungsverfahrens ebenfalls unterstützt.
Als günstig erweist es sich auch, daß das herznahe Ende der Zuleitungswendel auf den Schaft aufgeschoben und sei­ nerseits von einem einen Mantelkörper bildenden Fixa­ tionselement umgeben ist. Dadurch ist dem aktiven Bereich benachbart das Fixationselement angeordnet, so daß eine exakte, dauerhafte Positionierung der Stimmulationsfläche im Herzen ermöglicht wird. Desweiteren ist durch diese Konstruktion das Fixationselement bei Beschädigung leicht austauschbar.
Der Schaft weist vorzugsweise mindestens einen axialen Ab­ schnitt auf, dessen Außendurchmesser den Innendurchmesser der Zuleitungswendel übertrifft. Weiterhin schließt sich an diesen Bereich in stufenförmigem Übergang mindestens ein Bereich an, dessen Außendurchmesser kleiner und insbe­ sondere gleich oder geringer ist als der Innendurchmesser der Zuleitungswendel. Im montiertem Zustand, also nach dem Überschieben der Zuleitungswendel, ist diese durch das Ausweiten von Bereichen der Wendel sowie durch die Stufung in axialer Richtung fixiert.
Um die Elektrode am Fixationsort möglichst präzise plazie­ ren zu können weist der Schaft eine konzentrische, insbe­ sondere zylindrische oder sich verjüngende Ausnehmung auf, die an die Spitze eines Führungsdrahtes angepaßt ist. Der Elektrodenkopf wird also durch die Spitze des Führungs­ drahtes bewegt. Da diese Ausnehmung im nichtleitenden Be­ reich des Kopfes vorgesehen ist, bleiben die Stimulations­ fläche und der Führungsdraht elektrisch voneinander ge­ trennt.
Die Zuleitungswendel und der Mantelkörper sind bereichs­ weise miteinander verklebt, so daß zum einen der Mantel­ körper fixiert wird, und zum anderen die durch die unter­ schiedlichen Durchmesser möglicherweise entstehenden Hohl­ räume zwischen der Zuleitungswendel und dem Mantelkörper ausgefüllt werden.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung bestehen der Mantelkörper und/oder der Isoliermantel aus Silikon, da dieser Werkstoff sich vielfach aufgrund seiner Biegsam­ keit sowie seiner Körperverträglichkeit bewährt hat.
Um die eine gute Haftfestigkeit der Beschichtung auf dem Grundkörper zu gewährleisten, wird der Grundkörper, bevor die Beschichtung aufgebracht wird, plasmabehandelt.
Der Elektrodenkopf wird dabei in folgenden Verfahren­ schritten hergestellt: Zunächst wird auf den vorgeformten nichtleitenden Grundkörper eine leitende Schicht durch ein Beschichtungsverfahren der Physical-Vapor-Deposition- Technologie, der Chemical-Vapor-Deposition-Technologie, Electron-Deposition-Technologie oder der Thermal-Spraying- Technologie so aufgebracht, daß eine poröse Oberfläche entsteht. In einem Verfahrensschritt werden dabei vorteil­ haft sowohl der Elekrodenkopf als auch der Schaft be­ schichtet. Anschließend wird die Zuleitungswendel über den Schaft des Grundkörpers sowie dann der Mantelkörper über die Zuleitungswendel bis zum Elektrodenkopf gezogen, so daß der Mantelkörper und der Elektrodenkopf eng aneinander anliegen.
Der Grundkörper wird insbesondere in einem zweistufigen Prozeß hergestellt, wobei der Werkstoff zunächst gepreßt und anschließend gesintert wird. Die Rauhigkeit des Grund­ körpers ist in vorteilhafter Weise so gewählt, daß die Po­ rosität der Beschichtung und diese Rauhigkeit einander überlagern, so daß die Gesamtoberfläche insgesamt sehr stark zunimmt. Dabei ist es besonders günstig, wenn die Dicke der Beschichtung kleiner ist als die Amplituden der Rauhigkeit des Grundkörpers. Auf diese Weise tragen beide Oberflächenstrukturen zur Gesamtstruktur bei.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Un­ teransprüchen gekennzeichnet bzw. werden nachstehend zu­ sammen mit der Beschreibung der bevorzugten Ausführung der Erfindung anhand der Figuren näher dargestellt. Es zeigen:
Fig. 1a bis 1c jeweils eine Seitenansicht eines Ausfüh­ rungsbeispiels eines Grundkörpers als Teil einer Herz­ schrittmacherelektrode sowie
Fig. 2a bis 2c ein Ausführungsbeispiel der Erfindung, das entsprechend den Schritten des Herstellungsverfahrens in verschiedenen Teilquerschnitten dargestellt ist.
In den Fig. 1a bis 1c ist in einer Seitenansicht je­ weils ein Ausführungsbeispiel eines Grundkörpers 10 der Elektrodenspitze dargestellt. Der Grundkörper 10 besteht dabei im wesentlichen aus einem halbkugelförmigen Elektro­ denkopf 11 und einem mit dem Elektrodenkopf 11 material­ einheitlich verbundenen, im wesentlichen zylindrischen Schaft 12.
Der Elektrodenkopf 11 und der Schaft 12 sind koaxial ange­ ordnet und weisen einen verrundeten Übergangsbereich 13 auf. Der Schaft 12 weist dabei an seinem freien Ende eine konzentrische Ausnehmung 14 auf, die einem Führungsdraht 15 angepaßt und dabei vorzugsweise sich in Richtung auf das stimulierende Ende der Elektrode verjüngend ausgebil­ det ist. Damit kann der Elektrodenkopf mit dem Führungs­ draht sicher erfaßt und auch geführt werden. Da die ent­ sprechende Ausnehmung im nichtleitenden Bereich des Elek­ trodenkopfes angebracht ist, werden die elektrischen Ei­ genschaften auch bei einer möglichen probeweisen Stimula­ tion mit eingeführtem Führungsdraht nicht verändert, wenn beispielsweise bei einer mehrlagigen koaxialen Leiteran­ ordnung der Zuleitungswendel die innere vom Führungsdraht kontaktierte Wendel nicht mit dem Elektrodenkopf (sondern mit einem anderen Elektrodenteil) in leitender Verbindung steht.
Die in den Fig. 1a bis 1c dargestellten verschiedenen Ausführungsbeispiele der Grundkörper 10 unterscheiden sich jeweils in der Ausbildung ihres Schaftes 12, wobei der Schaft 12 in eine - hier nicht dargestellte - Zuleitungs­ wendel 16 hineingesteckt wird: Um diese elektrisch leiten­ de und üblicherweise mit einem Mantel aus Silikonkautschuk ummantelte Zuleitungswendel 16 in axialer Richtung auf dem Schaft 12 zu fixieren, weist dieser jeweils mindestens ei­ nen axialen Abschnitt auf, dessen Außendurchmesser den In­ nendurchmesser der Zuleitungswendel 16 übertrifft, so daß die Wendel durch ihre elastische Vorspannung gehalten wird: Gleichzeitig wird durch die durchgehend leitende Be­ schichtung des Grundkörpers die elektrische Verbindung hergestellt. Diesem Bereich schließt sich in stufenförmi­ gem Übergang mindestens ein Bereich an, dessen Außendurch­ messer kleiner und insbesondere gleich oder geringer ist als der Innendurchmesser der Zuleitungswendel 16. Durch diese einfache Befestigungsmöglichkeit der Zuleitungswen­ del 16 sind nur kurze Schaftlängen erforderlich.
Bei dem in Fig. 1a dargestellten Ausführungsbeispiel er­ streckt sich der Schaft 12 in einem Abschnitt 17 von sei­ nem freien Ende bis in den mittleren Bereich des Grundkör­ pers 10 mit konstanten, den Innendurchmesser der Zulei­ tungswendel 16 übertreffenden Außendurchmesser. Daran schließt sich ein axialer Abschnitt 18 an, dessen Außen­ durchmesser kleiner ist als der Innendurchmesser der Zu­ leitungswendel 16. Der Übergang der beiden zylindrischen axialen Abschnitte 17 und 18 ist stufenförmig ausgebildet. Es schließt sich der verrundete Bereich 13 an, wobei der Übergang ebenfalls gestuft ausgebildet ist.
In dem weiteren in Fig. 1b dargestellten Ausführungsbei­ spiel des Grundkörpers 10 weist der Schaft 12 von dem ver­ rundeten Bereich 13 bis zu seinem freien Ende im wesentli­ chen einen gleichbleibenden Außendurchmesser auf. Ledig­ lich in drei Bereichen übersteigt der Außendurchmesser des Schaftes 12 den Innendurchmesser der Zuleitungswendel 16. Diese Bereiche sind in einem gleichmäßigen Abstand zuei­ nander vorgesehen und als ringförmige Verdickungen 19 des Schaftes 12 ausgebildet.
Der in Fig. 1c dargestellte Schaft 12 des Grundkörpers 10 besteht aus drei gleichförmig ausgebildeten Abschnitten 20, 21 und 22. In axialer Richtung weist dabei ein Ab­ schnitt 20, 21 oder 22 jeweils zunächst einen Außendurch­ messer auf, der dem Innendurchmesser der Zuleitungswendel entspricht. Der Außendurchmesser steigt in axialer Rich­ tung bis zum nächsten Abschnitt gleichmäßig an. In einem gestuften Übergang schließt sich dann der nächste Ab­ schnitt 20, 21, bzw. 22 an.
Im montierten Zustand, also nach dem Überschieben der Zu­ leitungswendel 16 über den Schaft 12, ist die Zuleitungs­ wendel 16 durch ihr bereichsweises Ausweiten sowie durch die Stufung in axialer Richtung vorteilhaft fixiert.
In den Fig. 2a bis 2c ist ein weiteres Ausführungsbei­ spiel der Erfindung entsprechend den nacheinander folgen­ den Montageschritten im Teilquerschnitt dargestellt: Der Grundkörper 10 entspricht dabei dem in Fig. 1a darge­ stellten.
Der Grundkörper 10 besteht aus einer Aluminiumoxidkeramik und wird in einem zweistufigen Prozeß durch Pressen und Sintern hergestellt: Durch dieses Verfahren weist die Oberfläche des Grundkörpers 10 im Mikrobereich Täler und Spitzen auf, die das folgende Beschichtungsverfahren be­ günstigen. Mittels der Physical-Vapor-Deposition-Tech­ nologie wird dann eine poröse leitende Platin-Iridium- Beschichtung aufgebracht, wobei sich in einem stengeligen Wachstum die poröse Schicht 23 mit einer Dicke im Bereich von 5 bis 10 µ bildet. Aufgrund der nichtleitenden Alu­ miniumoxid-Keramik kann das Physical-Vapor-Deposition (PVD) Verfahren ohne Einschränkung angewendet und die Pro­ zeßparameter hinsichtlich der Beschichtung optimiert wer­ den. Dabei wird sowohl der Elektrodenkopf 11 als auch der Schaft 12, also der ganze Grundkörper 10, in einem Arbeitsgang beschichtet.
Über den mit der leitenden Platin-Iridium-Schicht 23 über­ zogenen Schaft 12 wird das herznahe Ende der Zuleitungs­ wendel 16 bis zum verrundeten Bereich 13 geschoben: Auf die Zuleitungswendel 16 im axialen Abschnitt 18 sowie auf die Zuleitungswendel 16 im Bereich des freien Endes des Schaftes 12 wird nun Klebstoff aufgebracht, wodurch ein noch aufzubringender Mantelkörper 26 fixiert wird. Alternativ dazu kann der Grundkörper aber auch aus einem Polymer-Werkstoff bestehen.
Der als Fixationselement mit nach außen weisenden Blättern 25 ausgebildete Mantelkörper 26 wird über die mit Kleb­ stoff versehenen Bereiche und die Zuleitungswendel bis zum Elektrodenkopf so aufgezogen, daß der Mantelkörper 26 und der Elektrodenkopf 11 eng aneinander anliegen: Der noch unbedeckte Bereich der Zuleitungswendel 16 wird nun mit einem den isolierenden Mantel bildenden Siliconschlauch 24 umgeben: Der Siliconschlauch 24 ragt hierbei bis in den Mantelkörper 26 hinein: Auf diese Weise ist bis auf den aktiven Bereich des Elektrodenkopfes 11 der Schaft 12 so­ wie die Zuleitungswendel 16 vollständig von dem Silicon­ schlauch 24 bzw. von dem Mantelkörper 26 umgeben.
Dem aktiven Bereich des Elektrodenkopfes 11 ist damit di­ rekt benachbart der Mantelkörper 26 angeordnet, so daß ei­ ne exakte, dauerhafte Positionierung der Stimulationsflä­ che im Herzen ermöglicht ist.
Durch die Überlagerung der Oberflächenrauhigkeiten der Elektrode, in dem nämlich der unbeschichtete Grundkörper 10 eine hohe Oberflächenrauhigkeit aufweist, die der der Rauhigkeit oder Porosität der Beschichtung überlagert und insbesondere die Dicke der Beschichtung kleiner als die Amplitude der Rauhigkeit des Grundkörpers ist, wird die elektrisch wirksame Oberfläche wesentlich heraufgesetzt, was sich insbesondere bei der Signalaufnahme zwischen Sti­ mulationsimpulsen günstig bemerkbar macht. Die Rauhigkeit des Grundkörpers fördert aber auch bereits im Beschich­ tungsverfahren das Anhaften und den - insbesondere unre­ gelmäßigen - Aufbau der Beschichtung und trägt damit eben­ falls zur Oberflächenvergrößerung bei.
Die Erfindung beschränkt sich in ihrer Ausführung nicht auf das vorstehend angegebene bevorzugte Ausführungsbei­ spiel. Vielmehr ist eine Anzahl von Varianten denkbar, welche von der dargestellten Lösung auch bei grundsätzlich anders gearteten Ausführungen Gebrauch macht.

Claims (17)

1. Elektrode für medizinische Anwendungen, insbesondere zur Verwendung als Herzschrittmacherelektrode, mit einer von einem Isoliermantel umgebenen, vorzugsweise wendelför­ migen, Zuleitung und einem Elektrodenkopf, der in seinem aktiven Bereich eine poröse Oberfläche mit aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenkopf (11) aus einem mit einer leitenden Beschichtung (23) überzogenen Grundkörper (10) aus einem nichtleitendem Werkstoff besteht.
2: Elektrode nach Anspruch 1, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der unbeschichtete Grund­ körper (10) eine hohe Oberflächenrauhigkeit aufweist, die der der Rauhigkeit oder Porosität der Beschichtung überla­ gert und insbesondere die Dicke der Beschichtung kleiner als die Amplituden der Rauhigkeit des Grundkörpers ist.
3. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Grundkörper (10) einen sich in die Zuleitungswendel (16) hinein erstreckenden Schaft (12) aufweist und sich die leitende Beschichtung (23) ebenfalls bis in diesen Bereich hinein erstreckt.
4. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Grundkörper (10) aus einem Werkstoff besteht, dessen spe­ zifische Dichte kleiner ist als diejenige herkömmlicher metallischer Elektrodenwerkstoffe.
5. Elektrode nach Anspruch 4, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der Grundkörper (10) aus einem Keramikwerkstoff, vorzugsweise einer Aluminiumoxid- oder Glas-Keramik, besteht.
6. Elektrode nach einem der Ansprüche 1 bis 4, da­ durch gekennzeichnet, daß der Grund­ körper (10) aus einem Polymerwerkstoff, insbesondere einem Polysulfonwerkstoff, besteht.
7. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Be­ schichtung aus einer Pt-, Pt-Ir-, MP 35 N-, oder Ti-Al-N- Legierung besteht und mittels eines PVD-Verfahrens, insbe­ sondere durch Aufdampfen oder Kathodenzerstäubung, aufge­ bracht ist oder aus einem Nitrid oder Oxid von Ti, Ta, Fe oder Ir besteht und vorzugsweise mittels reaktiver Katho­ denzerstäubung erzeugt ist.
8. Elektrode nach einem der Ansprüche 3 bis 7, da­ durch gekennzeichnet, daß das herznahe Ende der Zuleitung (16) auf den Schaft (12) aufgeschoben und seinerseits von einem Fixationselemente tragenden Man­ telkörper umgeben ist.
9. Elektrode nach einem der Ansprüche 3 bis 8, da­ durch gekennzeichnet, daß der Schaft (12) mindestens einen axialen Abschnitt (17) aufweist, dessen Außendurchmesser den Innendurchmesser der Zulei­ tungswendel übertrifft.
10. Elektrode nach Anspruch 9, dadurch ge­ kennzeichnet, daß sich an diesen Bereich in stufenförmigem Übergang mindestens ein Bereich (18) an­ schließt, dessen Außendurchmesser kleiner ist und insbeso­ nere gleich oder geringer ist als der Innendurchmesser der Zuleitungswendel (16).
11. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Schaft (12) eine konzentrische, insbesondere zylindrische und/oder sich zum herzseitigen Ende hin verjüngende, Aus­ nehmung (14) aufweist, die an die Spitze eines Führungs­ drahtes (15) angepaßt ist.
12. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Zu­ leitungswendel (16) und der Mantelkörper (26) bereichswei­ se miteinander verklebt sind.
13. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Man­ telkörper (26) und/oder der Isoliermantel (24) aus Silikon besteht.
14. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Grundkörper (10) plasmabehandelt ist, so daß dieser eine erhöhte Haftfestigkeit in bezug auf die Beschichtung (23) aufweist.
15. Elektrode nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Be­ schichtung eine Dicke im Bereich von 5 bis 10 µ aufweist.
16. Verfahren zur Herstellung des Elektrodenkopfes nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte:
auf den vorgeformten nichtleitenden Grundkörper (10) wird eine leitende Schicht (23) durch ein Beschichtungsverfah­ ren der
der Physical-Vapor-Deposition-Technologie,
der Chemical-Vapor-Deposition-Technologie,
der Electron-Deposition-Technologie oder
der Thermal-Spraying-Technologie
so aufgebracht, daß eine poröse Oberfläche entsteht,
die wendelförmige Zuleitung wird über den Schaft (12) des Grundkörpers (10) gezogen,
der Mantelkörper (26) wird über die wendelförmige Zulei­ tung (16) bis zum Elektrodenkopf (11) gezogen, so daß der Mantelkörper (26) und der Elektrodenkopf (11) eng aneinan­ der anliegen.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der Grundkörper (10) in ei­ nem zweistufigen Prozeß hergestellt wird, wobei der Werk­ stoff zunächst gepreßt und anschließend gesintert wird.
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