DE4005756A1 - Praezisions-referenzspannungsquelle - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Präzisions-Referenzspannungsquelle nach
der Gattung des Hauptanspruchs.
Die Anforderungen an die Kenndaten monolithisch integrierter
Schaltungen für das Kraftfahrzeug werden laufend höher. Wegen des
großen Temperaturbereichs von
-40°C Tj +150°C
und darüber
sind Referenzspannungsquellen mit extrem kleinem bzw. definiert
vorgebbarem Temperaturkoeffizienten (TK) und geringer Piezo-Empfind
lichkeit besonders wichtig.
Aus dem Aufsatz von G. C. M. Meÿer, P. C. Schmale und K. van
Zalinge "A New Curvature-Corrected Bandgap Reference" in IEEE
Journal of Solid-State Circuits, Vol. SC-17, Nr. 6, Dezember 1982
ist bereits eine Präzisions-Referenzspannungsquelle nach der Gattung
des Hauptanspruchs bekannt, die 47 Komponenten auf einer Chipfläche
von 4 mm² enthält und einen IC-Herstellungsprozeß mit Nickel-
Chrom-Widerstands-Technologie erfordert. Ihr Temperaturkoeffizient
wird mit 50 ppm in einem Temperaturbereich von
25°C Tj 85°C
angegeben.
Aus dem Aufsatz von A. P. Brokaw "A Simple Three-Terminal IC
Bandgap-Reference" in IEEE Journal of Solid-State Circuits, Vol.
SC-9, Nr. 6, Dezember 1974 ist des weiteren bereits eine nach dem
Bandgap-Prinzip arbeitende monolithisch integrierte Referenz
spannungsquelle bekannt, die 29 Komponenten auf einer Chipfläche von
1,47 mm² enthält und ebenfalls mit Nickel-Chrom-Widerstands-Tech
nologie hergestellt wird. Ihr Temperaturkoeffizient wird mit 5 bis
60 ppm für einen Temperaturbereich von
-55°C Tj 125°C
angegeben.
Die erfindungsgemäße Präzisions-Referenzspannungsquelle mit den
kennzeichnenden Merkmalen des Hauptanspruchs hat demgegenüber den
Vorteil, daß bei ihr der in etwa parabelförmige Verlauf des
Temperaturkoeffizienten der Bandabstands-Referenz entgegen den
bekannten an Schaltmitteln aufwendigen Lösungen durch einfache
Maßnahmen linearisiert ist und daß bei ihr die Piezo-Empfindlichkeit
gesenkt ist.
Der Temperaturkoeffizient der Bandgap-Spannung von Silizium enthält
Terme höherer Ordnung (Tsividis, Y. P.: "Accurate Analysis of
Temperature Effects in I C -V BE Characteristics with Application
to Bandgap Reference Sources", IEEE Journal of Solid-State Circuits,
Vol. SC-15, Nr. 6, Dezember 1980).
Für die monolithisch integrierte Schaltung stehen folgende Zonen zur
Verfügung: Substrat (P-), Isolierungs-Diffusion (P-P⁺), Epitaxie
(N-), buried-layer-Diffusion (N⁺), deep-collector-Diffusion
(N⁺), Basis-Diffusion (P), Emitter-Diffusion (N⁺), Metalli
sierung und evtl. weitere Zonen wie dotiertes Polysilizium bzw.
Cr/Ni-Widerstände (für "fused-links"); auch weitere Zonen können
prozeßbedingt vorhanden sein, wie etwa eine obere und untere
Isolierungs-Diffusion oder eine Basisanschluß-Diffusion.
Betrachtet man die Temperaturkoeffizienten der spezifischen bzw.
flächenhaften Widerstände
R(Δ T) = R To [1 + α(Δ T) + b (Δ T) ² + γ (Δ T) ³]
dieser Zonen, so finden sich welche mit (nahezu) linearem Tempera
turkoeffizienten wie die N⁺-dotierten bzw. metallischen Zonen und
solche mit einem mehr oder weniger hohen Anteil an Termen höherer
Ordnung wie die P-dotierten. Ebenso finden sich Zonen mit mehr oder
weniger hoher Piezo-Empfindlichkeit.
Der Gegenstand der Erfindung beruht nun darauf, den in etwa parabel
förmigen Temperaturverlauf der Bandgap-Spannung gegenüber dem
Bekannten weiter zu linearisieren bzw. durch einen Widerstand mit
einem Temperaturkoeffizienten mit ebenfalls einem Anteil an Termen
höherer Ordnung zu kompensieren. Eine hinreichend gute Kompensation
läßt sich bereits durch Berücksichtigen des quadratischen Terms
erreichen. Da es Zonen mit großem und mit kleinem quadratischem Term
gibt, läßt sich der richtige Wert durch eine geeignete Kombination
von mindestens zwei verschiedenen Zonen erzielen. Hierdurch ergibt
sich gegenüber dem Stand der Technik nicht nur eine drastische
Vereinfachung von Schaltung und Technologie, sondern damit verbunden
auch eine erheblich geringere Chipfläche. Letzteres ist besonders
wichtig:
Da die zu den obengenannten Beispielen mit ihrer durch die zusätz
lichen Komponenten zwar aufwendigen, aber theoretisch guten Kompen
sation angegebenen Temperaturkoeffizienten mit 5 bis 50 ppm noch
relativ zu groß sind, werden sie durch andere Effekte hervorgerufen
wie etwa durch die Piezo-Empfindlichkeit ihrer Komponenten als Folge
temperaturabhängiger mechanischer Spannungen (siehe hierzu: G. C. M.
Meÿer: "Integrated Circuits and Components for Bandgap References
and Temperature Transducers", Dissertation TH Delft, 18.3.1982, 18).
Schaltungen, die weniger Chipfläche beanspruchen, sind von Haus aus
leichter zu beherrschen, vor allem dann, wenn entsprechend der
Erfindung weniger piezoempfindliche Zonen für die Darstellung
kritischer Widerstände verwendet und dazuhin im Layout Kompen
sationsmethoden angewandt werden.
Die Erfindung sei anhand der Fig. 1 bis 11 erläutert. Fig. 1
zeigt die Grundschaltung einer Bandgap-Referenz nach Brokaw, ergänzt
durch eine Anwerfschaltung. In den Fig. 2 bis 4 sind die Tempera
turgänge der Referenzspannungen einer beispielhaften Schaltung für
Widerstände mit drei verschiedenen Temperaturkoeffizienten im
Temperaturbereich von
-40°C Tj + 160°C
wiedergegeben. Die
Fig. 5 und 6 stellen erfindungsgemäße Modifikationen der Schal
tung nach Fig. 1 dar, Fig. 7 den damit erzeugten Temperaturgang
der Referenzspannung. In Fig. 8 ist die Schaltung und in Fig. 9
das Layout überkreuzgekoppelter Lateraltransistoren zur Verminderung
ihrer Piezoempfindlichkeit aufgezeigt, ebenso in Fig. 10 und 11 die
Anordnung im Layout für die kritischen NPN-Referenz-Transistoren.
Die Bandgap-Referenz nach Fig. 1 besteht aus den beiden
Referenz-Transistoren 23 und 24, wobei der Transistor 24 in der
Regel durch Parallelschalten von K gleichen Transistoren 23 mit
2K16 hergestellt ist. Wegen der formalen Abhängigkeit von lnk
ist K=4 bereits ausreichend und K über 8 kaum gebräuchlich.
Zusammen mit dem Widerstand 22 erzeugt die Anordnung am Widerstand
21 eine temperaturproportionale Spannung, die den negativen
Temperaturgang der Basis-Emitter-Spannung des Transistors 23 bei
richtiger Auslegung bereits recht gut kompensiert. Die Potential
differenz 17/15 stellt die Summenspannung dar. Sie entspricht recht
genau dem Potential des Bandabstands (von Silizium).
Die beiden Referenz-Transistoren 23, 24 arbeiten auf den Strom
spiegel mit den beiden lateralen PNP-Transistoren 25, 26, deren
gemeinsame Basis über den PNP-Emitterfolger 27 am Kollektor 24
liegt. Entsprechend wird mit dem PNP-Emitterfolger 6 vom Kollektor
des Transistors 23 ausgekoppelt, dessen Emitter mit der Basis des
NPN-Emitterfolgers 7 verbunden ist. Um auch größere Spannungen als
die Bandgap-Spannung zu erhalten, ist der Emitter des Transistors 7
nicht direkt am Punkt 17, sondern über den Widerstand 8 am Punkt 17
angeschlossen. Die an der Klemme 18 abzunehmende Referenzspannung
ist somit entsprechend dem Transformationsverhältnis der Widerstände
8, 9 höher. Die Transistoren 25, 26, 27, 6, 7 bilden einen
Operationsverstärker, der mittels des Kondensators 10 dynamisch
stabilisiert ist. Der ebenfalls als Stromspiegel arbeitende
Transistor 4 mit Widerstand 5 liefert einen hinreichend kleinen
"Anlaufstrom" in die Schaltung. Der positive Pol der Betriebs
spannung ist mit der Klemme 16, der negative mit der Klemme 15
verbunden.
Den Temperaturverlauf der Referenzspannung eines Beispiels in der
Schaltung nach Fig. 1 zeigt Fig. 2. Dort ist die Bandgap-Spannung
als Funktion der Temperatur zwischen -40°C und +160°C für eine
Ausführung wiedergegeben, bei der die horizontale Tangente in die
Mitte des Temperaturbereichs gelegt ist und die Widerstände 21 und
22, wie bei einfachen Referenzen üblich, mittels der Basis-Diffusion
dargestellt sind. Wie daraus hervorgeht, weist die Referenzspannung
einen ziemlich parabelförmigen Temperaturverlauf auf, der bekannt
lich vom Herstellungsprozeß, also von Dotierungen und Dotierungs
profilen abhängig ist und somit bei anderen Ausführungen auch noch
Terme höherer Ordnung enthalten kann. An den beiden Ecktemperaturen
beträgt die Ablage etwas mehr als -5 mV, entsprechend einem
mittleren Temperaturkoeffizienten von -4%.
In diesem Beispiel läßt sich der Temperaturgang bereits dadurch
deutlich verbessern, daß für die Widerstände 21, 22 die Emitter
diffusion anstelle der Basisdiffusion herangezogen wird, wie die
Fig. 3 erkennen läßt. Werden ferner in unserem Beispiel - rein
theoretisch - die Widerstände 21 und 22 mit dem Temperaturkoeffi
zienten "0" versehen, so zeigt die in Fig. 4 wiedergegebene
Rechnung immer noch eine Abweichung von ca. -2,3 mV mit Anteilen
höherer Ordnung.
Dieser stets in etwa parabelförmige Verlauf läßt sich nun dadurch
kompensieren, daß in Fig. 1 dem Widerstand 21 ein Temperatur
koeffizient mit größeren Anteilen an Termen höherer Ordnung gegeben
wird als dem Widerstand 22.
Fig. 5 zeigt eine erfindungsgemäße Modifikation der Schaltung für
eine Ausführung der Widerstände mit einer Zone des Prozesses, die
einen größeren quadratischen Term β₂₁ enthält. Da nun β₂₂ stets
kleiner sein muß als β₂₁, ist in diesem Fall der Widerstand 22 in
mindestens zwei Teil-Widerstände 32, 42 aufzuspalten und für den
Kompensations-Widerstand 42 eine Zone mit kleinerem β zu verwenden.
Eine hinreichend gute Kompensation für dieses Beispiel ergibt sich,
wenn die Differenz der Koeffizienten der quadratischen Terme β₂₁
und β₂₂ bei 0,74 · 10-6 liegt. Führt man die Widerstände 21,
32 mittels der Basisdiffusion und den Widerstand 42 mittels der
Emitterdiffusion aus, so ergibt sich der Temperaturverlauf nach
Fig. 7 mit 3435 Ω für den Widerstand 21, 393 Ω für den Widerstand
32 und 60 Ω für den Widerstand 42.
Wie bereits erwähnt, sollten die Widerstände mit Zonen gebildet
werden, die einen möglichst geringen Piezoeffekt aufweisen, wie etwa
der Emitterdiffusion oder anderer stärker n-dotierter Zonen. In
diesem Fall enthält der Temperaturkoeffizient des Quadratwiderstands
praktisch keine Terme höherer Ordnung. Die Lösung hierzu ist in
Fig. 6 wiedergegeben. Damit sich der Widerstand 21 mit einem
höheren quadratischen Anteil als der Widerstand 22 darstellen läßt,
ist er in die Teil-Widerstände 31 und 41 aufzuspalten und der Kom
pensations-Widerstand 41 mittels einer Zone mit größerem quadra
tischem Term auszuführen. Die Differenz β₂₁-b₂₂ sollte jetzt
0,49 · 10-⁶ betragen. Enthält die Emitterdiffusions-Zone keine
Terme höherer Ordnung und weist die für den Kompensations-Widerstand
41 benutzte Basisdiffusion wieder den gleichen quadratischen Term
auf wie im vorigen Beispiel, so erhält der Widerstand 31 den Wert
3135 Ω und der Widerstand 22 den Wert 453 Ω, die Korrektur in
Basisdiffusion 41 erhält den Wert 300 Ω. Der Verlauf des Tempera
turgangs entspricht ebenfalls dem von Fig. 7.
Werden zur Kompensation des quadratischen Terms der Referenzspannung
prozeßbedingte Streuungen berücksichtigt, so liegt die Differenz der
resultierenden quadratischen Terme bei einer Kompensation im Wider
stand 22 mittels des Widerstands 42 im Bereich
0,3 · 10-⁶ β₂₁ - β₂₂ 1,2 · 10-⁶.
Wird dagegen im Widerstand 21
mittels des Widerstands 41 kompensiert, so ist der Bereich mit
0,2 · 10-⁶ β₂₁ 0,8 · 10-⁶
anzusetzen.
Die resultierenden Terme β₂₁ und β₂₂ lassen sich aus den
bekannten Termen der für die Widerstände verwendeten Zonen
berechnen. Für eine Kompensation im Bereich des Widerstands 21 ist
allgemein
β₂₁ = (β₃₁ · R₃₁ + β₄₁ · R₄₁) · (R₃₁ + R₄₁)-¹
bzw. für eine Kompensation im Bereich des Widerstands 22
β₂₂ = (β₃₂ · R₃₂ + β₄₂ · R₄₂) · (R₃₂ + R₄₂)-¹ .
Treten, wie aus der Literatur ersichtlich, beim Temperaturgang der
Referenzspannung auch Terme höherer Ordnung auf, so ist es vorteil
haft, auch diese zu berücksichtigen.
Widerstände mit differierenden Temperaturkoeffizienten lassen sich
wegen des unterschiedlich großen Anteils der seitlichen Unter
diffusion am Gesamt-Widerstand auch durch eine Modulation der Breite
der Widerstände im Design darstellen, zumal ja nur geringfügige
Differenzen im quadratischen Term zu erzeugen sind bzw. ein Term
dritter Ordnung zu erzeugen ist. Beobachtungen nach scheinen Terme
dritter Ordnung bei besonders schmalen Widerständen aufzutreten.
Wegen der generellen Abhängigkeit der Temperaturkoeffizienten vom
Herstellungsprozeß können hierzu keine konkreten Angaben gemacht
werden.
Die angegebenen Kompensationen sind einigermaßen exakt nur einzu
halten, sofern der Istwert des Maximums der Bandgapspannung auch bei
der der Rechnung zugrundegelegten Temperatur liegt. Es ist deshalb
vorteilhaft, auf dieses Maximum hin abzugleichen.
Bei den vorgeschlagenen Lösungen sind die Widerstände 21 und 22
durch mehr als eine Zone dargestellt. Dies bedeutet, daß auch mit
unterschiedlichen Prozeß-Streuungen, also Widerstands-Streuungen zu
rechnen ist, die zu einer Streuung des Teilerverhältnisses führen.
Bei einer Präzisions-Referenzspannungsquelle ist das Teilerverhält
nis auf seinen Sollwert abzugleichen durch Verändern des Kompen
sations-Widerstands 41 oder 42. Methoden zum Abgleich von Wider
stands-Netzwerken beim Waferproben sind in A. B. Grebene: "Bipolar
and MOS Analog Integrated Circuit Design" by John Wiley & Sons,
1984, Seiten 155 bis 159 beschrieben und nicht Gegenstand der
Erfindung.
Obwohl die Präzisions-Referenzspannungsquelle nach der Erfindung
trotz mittels der relativ niederohmigen Emitterdiffusion darge
stellten Widerständen 31 und 22 einschließlich eines vierstufigen
Abgleich-Netzwerks nur eine Chipfläche von ca. 0,3 mm² benötigt,
sind Maßnahmen zur Verringerung der Piezoempfindlichkeit vorteil
haft. Die Kollektoren der beiden PNP-Lateraltransistoren 25 und 26
sind deshalb entsprechend der Schaltung nach Fig. 8 in jeweils zwei
gleiche Teilkollektoren aufgespalten und kreuzweise miteinander ver
bunden. Zwischen den Transistoren 25 und 26 ist zum Ableiten even
tueller Basisströme ein weiterer Transistor 11 eingefügt, um so
höhere Betriebstemperaturen zu erreichen.
Ein mögliches Layout hierzu zeigt Fig. 9. Auch die NPN-Refe
renz-Transistoren 23 und 24 sind symmetrisch zueinander angeordnet,
und zwar für ein Emitterverhältnis 1 : 2 und 1 : 4 nach Fig. 10 und für
ein Emitterverhältnis 1 : 4 und 1 : 8 nach Fig. 11. In letzterer sind
nur vier Teiltransistoren 24 eingezeichnet. Durch Auffüllen der
freien Plätze mit weiteren vier Teiltransistoren läßt sich leicht
das in etwa piezokompensierte Verhältnis 1 : 8 herstellen. Die Ver
drahtung ist auch bei acht um den Transistor 23 angeordneten Teil
transistoren 24 kein Problem, da sich die acht Teiltransistoren in
einer einzigen Kollektorwanne unterbringen lassen.
Präzisions-Referenzspannungsquellen sind mit den bisherigen Methoden
selbst mit aufwendigen Technologien kaum gezielt herzustellen und
deshalb in der Regel teure Selektionstypen aus einem größeren
Fertigungslos. Demgegenüber lassen sie sich nach den Vorschlägen der
Erfindung gezielt mit Standard-Technologien herstellen. Ihr Flächen
bedarf ist kaum größer als der gewöhnlicher Referenzspannungs
quellen.
Claims (21)
1. Für einen weiten Temperaturbereich geeignete monolithisch inte
grierte Präzisions-Referenzspannungsquelle nach dem Bandgap-Prinzip,
dadurch gekennzeichnet, daß der parabelförmige Verlauf des Tempera
turgangs der Referenzspannung unter Verzicht auf zusätzliche aktive
Komponenten wie Transistoren oder Dioden durch in der monolithischen
Integration zur Verfügung stehende Prozeß-Mittel linearisiert ist.
2. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 1 mit einem
ersten Widerstand (21) und einem zweiten Widerstand (22), dadurch
gekennzeichnet, daß die Widerstände (21, 22) dargestellt sind durch
die n-dotierte Emitterdiffusionszone (Fig. 1).
3. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 1 mit einem
ersten Referenz-Transistor (23) und einem zweiten Referenz-Tran
sistor (24), dadurch gekennzeichnet, daß der in den beiden mit
unterschiedlicher Stromdichte betriebenen Referenz-Transistoren (23,
24) verbleibende Temperaturkoeffizient höherer Ordnung weitgehend
kompensiert ist (Fig. 1).
4. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 3 mit einem
ersten Widerstand (21) und einem zweiten Widerstand (22), dadurch
gekennzeichnet, daß die Widerstände (21, 22) mindestens teilweise
durch Zonen mit unterschiedlichen Temperaturkoeffizienten dar
gestellt sind.
5. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß der quadratische Term β (Δ T)² des Temperatur
koeffizienten des ersten Widerstands (21) größer ist als der des
zweiten Widerstands (22) (Fig. 1).
6. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß bei einer Darstellung des ersten Widerstands
(21) mittels einer Zone mit größerem quadratischem Term des
Temperaturkoeffizienten der zweite Widerstand (22) aufgespalten ist
in die Reihenschaltung aus einem ersten Teilwiderstand (32) und
einem zweiten Teilwiderstand (42), wobei der erste Teilwiderstand
(32) mittels der gleichen Zone wie der erste Widerstand (21) und der
als Kompensations-Widerstand dienende zweite Teilwiderstand (42)
mittels einer Zone mit kleinerem quadratischem Term ausgeführt ist
(Fig. 5).
7. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Differenz der quadratischen Terme der
Temperaturkoeffizienten β₂₁ des ersten Widerstands (21) und β₂₂
des durch die Summe der Teilwiderstände (32, 42) erzeugten
resultierenden zweiten Widerstands (22) im Bereich liegt von
0,3 · 10-⁶ β₂₁ - β₂₂ 1,2 · 10-⁶.
8. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß der erste Widerstand (21) und der erste Teil
widerstand (32) dargestellt sind mittels der Basisdiffusionszone und
der als Kompensations-Widerstand dienende zweite Teilwiderstand (42)
mittels der Emitterdiffusionszone (Fig. 5).
9. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß bei einer Darstellung des zweiten Widerstands
(22) mittels einer Zone mit kleinerem quadratischem Term der erste
Widerstand (21) aufgespalten ist in die Reihenschaltung aus einem
dritten Teilwiderstand (31) und einem vierten Teilwiderstand (41),
wobei der dritte Teilwiderstand (31) mittels der gleichen Zone wie
der zweite Widerstand (22) und der als Kompensations-Widerstand
dienende vierte Teilwiderstand (41) mittels einer Zone mit größerem
quadratischem Term ausgeführt ist (Fig. 6).
10. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Differenz der quadratischen Terme der
Temperaturkoeffizienten β₂₁ des durch die Summe der Teilwider
stände (31, 41) erzeugten resultierenden ersten Widerstands (21) und
β₂₂ des zweiten Widerstands (22) im Bereich liegt von
0,2 · 10-⁶ β₂₁ - β₂₂ 0,8 · 10-⁶.
11. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 9, dadurch
gekennzeichnet, daß der zweite Widerstand (22) und der dritte Teil
widerstand (31) dargestellt sind mittels der Emitterdiffusionszone
und der als Kompensations-Widerstand dienende vierte Teilwiderstand
(41) mittels der Basisdiffusionszone (Fig. 6).
12. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, gekennzeichnet durch einen Abgleich des durch unvermeid
bare Fertigungsstreuungen vom Sollwert abweichenden Istwerts der
Referenzspannung auf den Sollwert.
13. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, gekennzeichnet durch einen Abgleich durch Verändern
mindestens eines der beiden als Kompensations-Widerstände dienenden
Teilwiderstände (41 bzw. 42).
14. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Darstellung der Widerstände
durch Zonen mit geringem piezoresistivem Effekt.
15. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 14, gekenn
zeichnet durch eine Darstellung des dritten Teilwiderstands (31) und
des zweiten Widerstands (22) durch die Emitterdiffusionszone als
Zone mit geringem piezoresistivem Effekt.
16. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche mit einem dritten Transistor (25) und einem vierten
Transistor (26), dadurch gekennzeichnet, daß zur Verminderung der
Einwirkung des Piezoeffekts auf die beiden genannten, als
PNP-Lateraltransistoren ausgebildeten weiteren Transistoren (25, 26)
deren Kollektoren in ihrem Umfang halbiert und die Hälften jeweils
über Kreuz miteinander verbunden sind (Fig. 8, Fig. 9).
17. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verminderung der Ein
wirkung des Piezoeffekts auf die als NPN-Transistoren ausgebildeten
Referenz-Transistoren (23, 24) die mindestens zwei gleichen Teil
transistoren des zweiten Referenz-Transistors (24) bezüglich des
Piezoeffekts symmetrisch zum ersten Referenz-Transistor (23) ange
ordnet sind.
18. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach Anspruch 17, gekenn
zeichnet durch einen zweiten Referenz-Transistor (24), der aus vier
bzw. acht gleichen Teiltransistoren besteht (Fig. 10, Fig. 11).
19. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auch der Term γ (Δ T)³ für
die Korrektur des in den beiden mit unterschiedlicher Stromdichte
betriebenen Referenz-Transistoren (23, 24) verbleibenden Temperatur
koeffizienten höherer Ordnung mit berücksichtigt ist.
20. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Temperaturkoeffizient
mindestens eines Teilwiderstands der Widerstandskombinationen (21
und 22; 31, 41 und 22; bzw. 21, 32 und 42) veränderbar ist durch
Verändern seiner Breite im Design.
21. Präzisions-Referenzspannungsquelle nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein vom Temperaturkoeffizien
ten "0" abweichender definierter Temperaturkoeffizient eingestellt
ist durch Verändern des Teilerverhältnisses der Widerstände [21, 22;
21, (32+42); oder 22, (31+41)] bezogen auf den Wert des Teiler
verhältnisses zum Erreichen des Temperaturkoeffizienten "0".
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