JPH04504320A - 精密基準電圧源 - Google Patents
精密基準電圧源Info
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- JPH04504320A JPH04504320A JP2504874A JP50487490A JPH04504320A JP H04504320 A JPH04504320 A JP H04504320A JP 2504874 A JP2504874 A JP 2504874A JP 50487490 A JP50487490 A JP 50487490A JP H04504320 A JPH04504320 A JP H04504320A
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- G05F3/02—Regulating voltage or current
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- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
精密基準電圧源
従来の技術
本発明は、請求項1の上位概念に記載の精密基準電圧源に関する。
車両用のモノリシック集積回路の特性データに対する要求はますます高くなって
いる。−40℃≦Tj≦+150℃以上という大きな温度範囲のため、極めて小
さなないし所定通り前辺て決めることができる温度係数(TK)および僅かなピ
エゾ感度を有する基準電圧源が特に重要である。
G、 C,1,1leijer、 P、 C,Schwaleおよびに、 va
n Zalinge著の論文“^New Curvature−Correct
ed Bandgap Reference” (IEEE Journal
of 5olid−State C1rcuits、 Vol、5C−17,N
r、6.1982年12月)から既に、請求項1の上位概念に記載の精密基準電
圧源が公知であるが、それは、4mm”の面積のチップ上に47の素子を含んで
おりかつニッケルークロム抵抗技術を用いたIC製造工程を要求する。その温度
係数は、25℃≦Tj≦85℃の温度範囲において50 pp+*を有している
ことが記載されている。
^、 P、 Brokaw著の論文“A Simple Three−Term
inalICBandgap−Reference″″ (IEEE Joun
al of Solid−3tate C1rcuits、Vol、5C−9,
Nr、6. 1974年12月)から更に既に、1.471112の面積のチッ
プ上に29の素子を含んでおりかつ同じくニッケルークロム抵抗技術によって製
造される、バンドギャップ原理に従って動作するモノリシックに集積された基準
電圧源が公知である。その温度係数は、−55℃≦Tj≦125℃の温度範囲に
対して5ppmないし60pp■を有していることが記載されている。
発明の利点
これに対して請求項1の特徴部分に記載の構成を有する本発明の精密基準電圧源
は、そこではバンドギャップの基準の温度係数のほぼ放物線状の経過が回路手段
が繁雑な公知の解決法に比べて簡単な手段で直線化され、およびそこではピエゾ
感度が低減されているという利点を有している。
シリコンのバンドギャップ電圧の温度係数は高次の項を含んでいる(Y、 P、
Tsividis IF″′^ccurate Analysis of T
emperature Effects in Ic−VIIt Charac
teristics with Applikation to Bandga
p Reference 5ources” 、 IEEE Journal
of Sol、1d−3tate C1rcuits、 Vol、5C−15,
Nr、6. 1180年12月)。
モノリシックに集積された回路に対しては次の帯域が使用可能である:サブスト
レーh(P−)、絶縁拡散層(p−p“)、エピタキシャル層(N”)、埋め込
み拡散層(N’)、ディープコレクタ拡散層(N”″)。
ベース拡散層(P)、エミッタ拡散層(Na、金属化部および場合に応じて、ド
ーピングされたポリシリコンないしく“ヒユーズドリンク”用の)Cr/Ni抵
抗のような別の帯域;例えば上側または下側の絶縁拡散層またはベース接続拡散
層のような別の帯域も工程次第では存在する可能性がある。
これら帯域の固有ないし表面抵抗
R(ΔT)=R,。[1+a(ΔT)+β(ΔT)”+y(八T)3】の温度係
数を考慮すると、N4ドーピングないし金属帯域のような(殆ど)リニヤな温度
係数を有する帯域およびPドーピング帯域のような比較的高次の項に多かれ少な
かれ高い成分を有するような帯域が明らかである。同様に、多かれ少なかれ高い
ピエゾ感度を有する帯域も明らかである。
そこで本発明の対象は、バンドギャップ電圧のほぼ放物線状の温度経過を公知の
場合に比べて著しく線形にする、即ち比較的高次の項にも成分を有する温度係数
を有する抵抗によって補償することに基づいている。十分申し分ない補償は既に
、2次の項の考慮によって実現される。大きな2次の項および小さな2次の項を
有する帯域があるので、正確な値は少な(とも2つの異なった帯域の適当な組み
合わせによって実現される。これにより公知の技術に比して、回路および製造技
術が格段に簡単化されるのみならず、このことに関連してチップ面積も著しく縮
小される。後者は次の理由から特別重要である:
確かに付加的な素子によってコスト高につくが、理論的に申し分ない補償を得た
とされる、5ppImないし50ppmを有する温度係数を有する先に示した例
ではまだ相対的に大きすぎるので、それらには、例えば温度に依存する機械的な
応力の結果としてのそれら素子のピエゾ感度のような、別の効果が生じる(この
ことニツイて参考になるのは、G、 C,M、 l1eijer IF:“In
tegrated C1rcuits and Components for
BandgapReferences and Temperature T
ransducers” 、 Dissertation TODeft、 1
982年3月18日、18である)。僅かなチップ面積しか要求しない回路は、
本発明に相応してクリテカルレジスタンスの形成に対してあまりピエゾ感度のよ
くない帯域を使用しかつこれに基づいてレイアウト補償方法において使用すると
きとりわけ、極めて容易に実現可能である。
図面
本発明を第1図ないし第11図に基づいて説明する。第1図は、ブロツク(Br
oka曹)によるバンドギャップ基準の基本回路および始動回路を示している。
第2図ないし第4図には、−40℃≦Tj≦+160℃の温度範囲において3つ
の異なった温度係数を有する抵抗に対する回路例の基準電圧の温度特性が示され
ている。第5図および第6図は、第1図の回路の本発明による変形例を示してお
り、第7図は、これにより発生される、基準電圧の温度特性を示している。第8
図には、ピエゾ感度を低減するための回路が示されており、第9図には、そのた
めに交差結合されたラテラルトランジスタのレイアウトが示されており、第10
図および第11図にも、クリテカルNPN基準トランジスタに対する配置のレイ
アウトが示されている。
実施例の説明
第1図のバンドギャップの基準は2つの基準トランジスタ23および24から成
っており、その際トランジスタ24は通例、2≦に≦16であるに個の同じトラ
ンジスタ23の並列回路によって形成されている。
inkの依存性のため、K=4で既に十分でありかつ8以上のKは殆ど使用され
ない。この装置は抵抗22とともに抵抗21に温度に比例する電圧を発生する。
この電圧は、正しく設計されている場合トランジスタ23のベース−エミッタ電
圧の負の温度特性を既に申し分な(補償する。回路点17と15との間の電位差
は和電圧を表している。それはまさに、(シリコンの)バンド間隔の電位に正確
に相応している。
2つの基準トランジスタ23.24は2つのラテラルトランジスタ25.26を
有するカレントミラーに基づいて動作する。カレントミラーの共通のベースはP
NPエミッタフォロア27を介して基準トランジスタ24のコレクタに接続され
ている。相応にPNPエミッタフォロア6によってトランジスタ23のコレク夕
から出力結合され、エミッタフォロア6のエミッタはNPNエミッタフすロア7
のベースに接続されている。バンドギャップ電圧より大きな電圧を得るために、
トランジスタ7のエミッタは回路点17に直接接続されておらず、抵抗8を介し
て回路点17に接続されている。従って端子18において取り出すべき基準電圧
は、抵抗8.9の変換比に相応して比較的高い。トランジスタ25,26,27
,6.7は、コンデンサ10を用いてダイナミックに安定化されている演算増幅
器を形成している。同様に抵抗5を有するカレントミラーとして動作するトラン
ジスタ4は回路に十分小さい“始動電流”を供給する。作動電圧のプラス極は端
子16に接続されており、マイナス極は端子15に接続されている。
第1図の回路における例の基準電圧の温度経過が第2図に示されている。そこに
はバンドギャップ電圧が、実施例に対する一40℃と+160℃との間の温度の
関数として示されており、そこでは水平方向の接線は温度範囲の中央に位置して
おりかつ簡単な基準の場合に通例そうであるように抵抗21および22はベース
拡散を用いて形成されている。ここから明らかであるように、基準電圧はほぼ放
物線状の温度経過を有している。この温度経過は周知のように製造工程、即ちド
ーピングおよびドーピングプロフィールに依存しており、従って別の実施例にお
いてもなお高次の項を含んでいる可能性がある。両方の限界温度において、−4
%0の平均温度係数に相応して、偏位は−5mVより多少上にある。
この例において温度特性は、抵抗21.22に対してベース拡散に代わってエミ
ッタ拡散を用いることで、第3図かられかるように、既に著しく改善される。
更に実施例において−全く理論上−抵抗21および22が温度係数“0”を有し
ているものとすれば、第4図に示されている計算値は常時なお、比較的高次の成
分を有する約−2,3lvの偏差を示している。
そこで依然としてほぼ放物線状であるこの経過は、第1図において抵抗21に、
抵抗22より高次の項に比較的大きな成分を有する温度係数を与えることによっ
て補償される。
第5図には、比較的大きな2次項β、lを含んでいる、本発明の工程の帯域を有
する抵抗の実現に対する回路の本発明の変形例が示されている。そこでβ■は常
にβ、Iより小さくなければならないので、この場合抵抗22は少なくとも2つ
の部分抵抗32.42に分割されかつ補償抵抗42に対して比較的小さなβを有
する帯域が使用されるべきである。2次項β、1およびβt!の係数の差が0.
74・10−6にあるとき、この例に対する申し分ない補償が得られる。抵抗2
1,32をベース拡散を用いて実現しかつ抵抗42をエミッタ拡散によって実現
すれば、抵抗21に対しては3゜435Ω、抵抗32に対しては393Ω、抵抗
42に対しては60Ωを有する、第7図に示す温度特性が生じる。
上述のように、例えばエミッタ拡散または別の比較的強くnドーピングされた帯
域のような、出来るだけ僅かなピエゾ効果を有する帯域から成る抵抗が形成され
るべきである。この場合2次の抵抗の温度係数は実際に高次の項を含まない。こ
のための解決法が第6図に示されている。抵抗21は抵抗22より高い2次成分
によって形成されるように、この抵抗は部分抵抗31および41に分割されかつ
補償抵抗41は比較的大きな2次項を有する帯域を用いて実現されるべきである
。そこで差β!1−βt!は0.49・10−’となるはずである。エミッタ拡
散帯域が比較的高次の項を含んでおらずかつ補償抵抗41に対して利用されるベ
ース拡散がここでも上述の例と同じ2次項を有しているとき、抵抗31は値3,
135Ωを有し、抵抗22は値435Ωを有し、ベース拡散41における補正は
値300Ωとなる。温度特性の経過は同様、第7図の温度経過に相応している。
基準電圧の2次項の補償のために工程により規定されるばらつきを考慮すると、
抵抗42を用いた抵抗22における補正の際に結果的に生じる2次の項の差は0
.3・10−6≦β2I−β22≦1,2・10−@の範囲にある。これに対し
て抵抗21において抵抗41を用いて補償されると、0.2・10−6≦β21
≦0.8・10−’を有する範囲に調整することができる。
結果的に生じる項β21およびβ2!は、抵抗に対して使用される領域の既知の
項から計算される。抵抗21の範囲における補償に対しては一般に
β!I=(β3.・R31+β41@R41)・(Rsr+ R41)−’ない
し抵抗22の範囲における補償に対してはβ!2:(β+1!”R31+β4!
”R4z)”(Rs*+ R42)−’が成り立つ。
上記の文献から明らかであるように、基準電圧の温度特性において高次の項も発
生するとき、これらも考慮すると有利である。
異なった温度係数を有する抵抗は全体の抵抗における側方の下部拡散の異なった
大きさの成分のため設計における抵抗の幅の変更によっても形成され、特に確か
に2次の項に僅かな差しか生じるべきでないかないし3次の項が発生されるべき
である。特別狭い抵抗の場合3次の見かけの項を考察すべきである。温度係数は
一般に製造工程に依存するため、これに対して具体的なデータを挙げることはで
きない。
上述の補償はいわば、バンドギャップ電圧の最大値の実際値がまた計算が基準に
使用した温度にあるときにのみ正確に維持することができる。それ故にこの最大
値に基づいて調整すると有利である。
提案された解決法では抵抗21および22は複数の帯域によって形成されている
。即ち、種々の工程のばらつき、例えば分圧比のばらつきを来す抵抗のばらつき
も考慮すべきである。精密基準電圧源において分圧比は、補償抵抗41または4
2の変化によってその目標値に調整されるべきである。ウェハサンプルにおける
抵抗回路網の調整方法は、^、 B、 Grebene著: “Bipolar
and 103 Analog Integrated C1rcuit D
esign” (John Wiley & 5ons、1984年、第155
頁ないし第159頁)に記載されているが、それは本発明の対象でない。
本発明の精密基準電圧源は、4段の調整回路網を含めて比較的低抵抗のエミッタ
拡散を用いて形成された抵抗31および22にも拘わらず約0.3mm”のチッ
プ面積しか必要としないが、ピエゾ感度を低減するための手段を設けた方が有利
である。それ故に2つのPNPラテラルトランジスタ25および26のコレクタ
は、第8図の回路に相応して、それぞれ2つの同じ部分コレクタに分割されてお
りかつ相互に交差接続されている。トランジスタ25および26の間に、一層高
い作動温度に達するために、場合によりベース電流を導出するために、別のトラ
ンジスタ11が挿入されている。
このために可能なレイアウトが第9図に示されている。NPN基準トランジスタ
23および24も相互に対称に配置されており、しかも第10図ではエミッタ比
が1=2および1・4であるように、第11図ではエミッタ比l:4および1:
8であるように配置されている。後者においては4つの部分トランジスタ24の
みが図示されている。空いている場所に別の4つの部分トランジスタを充填する
ことによってほぼピエゾ補償された比1:8が容易に形成される。固定配線はト
ランジスタ23の回りに8つの部分トランジスタ24を配置した場合でも問題な
い。というのは8つの部分トランジスタは唯一のコレクタタブ内に埋め込まれる
からである。
精密基準電圧源はこれまでの方法では最新技術を駆使したとしても殆ど所定通り
には製造することができないので、通例は比較的大きな製造ロフトからの高価な
選択品である。これに対して本発明の提案によれば選択基準電圧源は標準技術で
所定通りに製造される。
本発明の基準電圧源の所要面積は、従来の基準電圧源より殆ど大きくない。
温度 (°C)Fig、3
国際調査報告
1.111.11wm ”””””212国際調査報告
DE 9000212
S^ 35305
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.広範な温度範囲に適した、バンドギャップ原理に従ったモノリシックに集積 された精密基準電圧源において、 基準電圧の温度特性の放物線状の経過が、トランジスタまたはダイオードのよう な付加的な能動素子を使用せずにモノリシック集積において使用される工程手段 によって線形化されていることを特徴とする精密基準電圧源。 2.第1の抵抗(21)および第2の抵抗(22)を備え、該2つの抵抗(21 ,22)は、nドーピングされたエミッタ拡散帯域によって形成されている請求 項1記載の精密基準電圧源(第1図)。 3.第1の基準トランジスタ(23)および第2の基準トランジスタ(24)を 備え、異なった電流密度によって駆動される2つの前記基準トランジスタ(23 ,24)において依然として残る高次の温度係数が大幅に補償されている請求項 1記載の精密基準電圧源(第1図)。 4.第1の抵抗(21)および第2の抵抗(22)を備え、該2つの抵抗(21 ,22)は少なくとも部分的に異なった温度係数を有する領域によって形成され ている請求項3記載の精密基準電圧源。 5.第1の抵抗(21)の温度係数の2次の項β(ΔT)2は、第2の抵抗(2 2)の2次の項より大きい請求項4記載の精密基準電圧源(第1図)。 6.温度係数の比較的大きな2次の項を有する領域を用いて第1の抵抗(21) が形成されている場合第2の抵抗(22)は、第1の部分抵抗(32)と第2の 部分抵抗(42)とから成る直列回路に分割されており、その際前記第1の部分 抵抗(32)は第1の抵抗(21)と同じ領域を用いて実現されておりかつ補償 抵抗として用いられる前記第2の部分抵抗(42)は比較的小さな2次の項を有 する領域を用いて実現されている請求項5記載の精密基準電圧源(第5図)。 7.第1の抵抗(21)の温度係数β21の2次の項と部分抵抗(32,42) の和によって結果的に発生される第2の抵抗(22)の温度係数β22の2次の 項との差は、 0.3・10−6≦β21−β22≦1.2・10−6の範囲にある請求項6記 載の精密基準電圧源。 8.第2の抵抗(22)が比較的小さな2次の項を有する領域によって形成され ている場合第1の抵抗(21)は、第3の部分抵抗(31)と第4の部分抵抗( 41)とから成る直列回路に分割されており、前記第3の部分抵抗(31)は前 記第2の抵抗(22)と同じ領域を用いて形成されておりかつ補償抵抗として用 いられる前記第4の部分抵抗(41)は比較的大きな2次の項を有する領域を用 いて実現されている請求項5記載の精密基準電圧源(第6図)。 10.部分抵抗(31,41)の和によって結果的に発生される第1の抵抗(2 2)の温度係数β21の2次の項と第2の抵抗(22)の温度係数β22の2次 の項との差は、 0.2・10−6≦β21−β22≦0.8・10−6の範囲にある請求項9記 載の精密基準電圧源。 11.第2の抵抗(22)および第3の部分抵抗(31)はエミッタ拡散を用い て形成されておりかつ補償抵抗として用いられる第4の部分抵抗(41)はベー ス拡散領域を用いて形成されている請求項9記載の精密基準電圧源(第6図)。 12.回避できない製造のばらつきによって生じる、基準電圧の目標値からずれ ている実際値は目標値に調整される請求項1から11までのいずれか1項記載の 精密基準電圧源。 13.補償抵抗として用いられる2つの部分抵抗(41ないし42)の少なくと も1つを変化することによって調整が行われる請求項1から12までのいずれか 1項記載の精密基準電圧源。 14.抵抗は僅かなピエゾ効果を有する領域によって形成されている請求項1か ら13までのいずれか1項記載の精密基準電圧源。 15.第3の部分抵抗(31)および第2の抵抗(22)はエミッタ拡散領域に よって僅かなピエゾ効果を有する領域として形成されている請求項14記載の精 密基準電圧源。 16.第3のトランジスタ(25)および第4のトランジスタ(26)を備え、 該2つの、PNPラテラルトランジスタとして形成されているトランジスタに対 するピエゾ効果の作用を低減するために、前記2つのトランジスタのコレクタは その周囲が半減されておりかつ半蔀はそれぞれ相互に交差接続されている請求項 1から15までのいずれか1項記載の精密基準電圧源(第8図,第9図)。 17.NPNトランジスタとして形成されている基準トランジスタ(23,24 )に対するピエゾ効果の作用を低減するために、ピエゾ効果に関して、第2の基 準トランジスタ(24)の少なくとも2つの同じ部分トランジスタが第1の基準 トランジスタ(23)に対して対称的に配設されている請求項1から16までの いずれか1項記載の精密基準電圧源。 18.第2の基準トランジスタ(24)は、4つないし8つの同じ部分トランジ スタから成っている請求項17記載の精密基準電圧源(第10図,第11図)1 9.異なった電流密度によって駆動される2つの基準トランジスタ(23,24 )に依然として残る高次の温度係数を補正するために項γ(ΔT)3も考慮する 請求項1から18までのいずれか1項記載の精密基準電圧源。 20.抵抗組み合わせ(21および22;31,41および22;ないし21, 32および42)の少なくとも1つの部分抵抗の温度係数は設計上その幅を変化 することによって変化可能である請求項1から19までのいずれか1項記載の精 密基準電圧源。 21.温度係数“0”とは異なって生じた温度係数は、濃度係数“0”に達する ための分圧比の値に関して抵抗【21,22;21,(32+42);または2 2,(31+41)】の分圧比の変化によって調整される請求項1から20まで のいずれか1項記載の精密基準電圧源。
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