DE3942325A1 - Belag fuer die oberflaeche einer analysenkuevette und verfahren zur herstellung des belags - Google Patents

Belag fuer die oberflaeche einer analysenkuevette und verfahren zur herstellung des belags

Info

Publication number
DE3942325A1
DE3942325A1 DE19893942325 DE3942325A DE3942325A1 DE 3942325 A1 DE3942325 A1 DE 3942325A1 DE 19893942325 DE19893942325 DE 19893942325 DE 3942325 A DE3942325 A DE 3942325A DE 3942325 A1 DE3942325 A1 DE 3942325A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
covering
dispersive
cuvette
sic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19893942325
Other languages
English (en)
Inventor
Hans Dr Krause
Helmut Stoll
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Emerson Process Management GmbH and Co oHG
Original Assignee
Rosemount GmbH and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rosemount GmbH and Co filed Critical Rosemount GmbH and Co
Priority to DE19893942325 priority Critical patent/DE3942325A1/de
Publication of DE3942325A1 publication Critical patent/DE3942325A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3605—Coatings of the type glass/metal/inorganic compound
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3613—Coatings of type glass/inorganic compound/metal/inorganic compound/metal/other
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3649—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer made of metals other than silver
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
    • C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/32—Carbides
    • C23C16/325—Silicon carbide
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/03—Cuvette constructions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Optical Measuring Cells (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdis­ persiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR).
Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung dieses Belags.
Meßverfahren und Meßgeräte für die optoelektronische Gasanalyse sind beispielsweise in dem Prospekt der Leybold AG Nr. 43-500.01 beschrieben.
Die dort gezeigten Gasanalysatoren arbeiten auf der physi­ kalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie.
Nichtdispersive Gasanalysatoren sind auf der Messung einer fest gewählten Gaskomponente ausgelegt. Die Konzen­ tration des Meßgases wird aus der Durchlässigkeit einer Gasstrecke für das eingestrahlte Infrarotlicht bestimmt.
Das Meßprinzip eines solchen Infrarotanalysators ist beispielsweise in Abbildung 2 der Seite 2 des oben genann­ ten Prospekts gezeigt.
Das physikalisch/mechanische Kernstück dieses Analysators bildet eine mit IR-Licht durchstrahlte und mit Meßgas durchströmte Analysenküvette mit integrierter Meß- und Vergleichsseite.
In der Meßseite findet im IR-Spektralbereich eine konzen­ trationsabhängige Licht-Absorption durch das Messgas statt. Die Vergleichsseite der Küvette ist normalerweise mit Stickstoff gefüllt und gasdicht verschlossen.
Ein Licht-Chopper-(Zerhacker-)Rad erzeugt aus Mess- und Vergleichsstrahl Licht-Pulse unterschiedlicher Intensität. Dabei entspricht ihre Intensitäts-Differenz der Konzentrations-Differenz zwischen Meß- und Vergleichsgas.
Die Licht-Pulse aus Meß- und Vergleichsseite treffen bei Infrarot-Messungen einen Detektor, der nur einen - gezielt einstellbaren - Wellenlängen-Bereich "sieht".
An den Detektor angeschlossen ist eine Signalverarbei­ tungseinrichtung, beziehungsweise eine Auswerteelektronik.
Im vorangegangenen wurde ein Gasanalysator beschrieben, bei dem die vorliegende Erfindung angewendet werden kann. Grundsätzlich ist das Anwendungsgebiet für die Erfindung nicht allein auf dem beschriebenen Typ von Gasanalysatoren beschränkt. Das Anwendungsgebiet für die Erfindung umfaßt alle Typen von Gasanalysatoren, bei denen die nachfolgend geschilderten Probleme auftreten:
Seit sehr langer Zeit wird in der Gasanalysentechnik eine Beschichtung für eine Analysenküvette gesucht, die die Küvette weitgehend resistent macht gegen nahezu alle Stoffe und Gase, die analysiert werden sollen. Besonders in der oben näher erläuterten nichtdispersiven Infrarot­ spektroskopie (NDIR), sowie im sichtbaren und im ultravioletten Spektralgebiet ist die Stabilität der Küvettenoberfläche von entscheidender Bedeutung für die Langzeitstabilität der Fotometer.
In letzter Zeit wurde dieses Küvettenproblem besonders gravierend, da die Wert- und Abgasmessungen bei energie­ wirtschaftlicher Nutzung der anfallenden, brennbaren Deponiegase durch gleichzeitige Anwesenheit von gasför­ migen Säuren, wie HCl, HF und weiteren außerordentlich aggressiven Gasen, wie Cl2 und anderen Chlor- und Schwefelverbindungen besonders erschwert wird.
Ähnliche Probleme im Zusammenhang mit der Oberflächen­ veränderung der Analysenküvetten sind bei Müllverbren­ nungsanlagen und anderen Prozessen in der chemischen Industrie bekannt.
Es besteht ein Bedürfnis, insbesondere die NDIR-Analysen­ küvette in Hinsicht auf die Langzeitstabilität zu verbes­ sern.
Es ist bekannt, galvanisch oder durch Hochfrequenzsputtern Goldschichten aufzutragen und die Diffusionssperren vorzusehen. Diese Goldschichten und die Diffusionssperren werden durch Reaktion mit dem Grundmaterial bei Anwesen­ heit der oben genannten Gase verändert und verlieren ihr Reflexionsverhalten, das für die Messung notwendig ist.
Die Beschichtung von Glasküvetten mit Gold, wie sie zum Stand der Technik gehört, bringt schon deshalb keine befriedigenden Ergebnisse, da die Schichten nicht reprodu­ zierbar aufgebracht werden können, oder aber den anschließenden Herstellungprozeß nicht überstehen.
Der Erfindung liegen folgende Aufgaben zugrunde:
Die Nachteile des Standes der Technik sollen vermieden werden. Die Küvette soll resistent werden gegen die zu analysierenden Stoffe und Gase. Es soll eine Langzeit­ stabilität erreicht werden, die gegenüber den Küvetten des Standes der Technik erheblich größer ist. Oberflächen­ veränderungen sollen vermieden werden. Das Reflexionsver­ halten soll durch aggressive Gase und andere fluide Medien nicht verändert werden.
Bei der Verwendung von Goldschichten sollen diese vor Korrosion durch hochaggressive Gase geschützt werden. Es soll eine Analysenküvette geschaffen werden, die gegenüber mechanischen und temperaturmäßigen Schockein­ flüssen unempfindlich sind.
Die gestellten Aufgaben werden erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Belag aus einem Schichtsystem besteht, daß eine obenliegende, schützende Schicht, insbesondere eine SiC-Schicht, und eine untenliegende, durch die obenliegende Schicht geschützte Gold-Schicht aufweist.
Alternativ kann vorgesehen werden, daß der Belag aus einem Schichtsystem besteht, daß eine obenliegende, schützende SiO2-Schicht und eine untenliegende, durch die obenliegende Schicht geschützte Gold-Schicht aufweist.
Eine weitere Möglichkeit besteht darin, daß der Belag aus einem Schichtsystem besteht, daß eine obenliegende, schützende Schicht, bestehend aus einem Gemisch SiC/SiO2, und eine untenliegende, durch die obenliegende Schicht geschützte Gold-Schicht aufweist.
Es wird weiterhin vorgeschlagen, daß eine Haftvermittler-Schicht für die Goldschicht vorgesehen ist.
Die Haftvermittlerschicht kann SiC, Siliziumnitrit oder ein Gemisch, bestehend aus SiC und Siliziumnitrit aufweisen.
Als besonders wirtschaftlich hat sich herausgestellt, daß zur Beschichtung ein an sich bekanntes Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Verfahren angewendet wird.
Dabei wurde herausgefunden, daß es von besonderem Vorteil ist, wenn das Verfahren folgende Verfahrensschritte umfaßt:
erster Schritt: die Oberfläche der Küvette wird mit Argon adsorbatfrei besputtert,
zweiter Schritt: es wird eine SiC1-xHx-Schicht gasdicht aufgebracht mit einer Schichtdicke von beispielsweise 0,1-2 Mikrometer,
dritter Schritt: es folgt in einem kontinuierlichen Übergang eine Beschichtung mit Gold,
vierter Schritt: es folgt eine dünne Beschichtung mit SiC1-xHx oder SiO2.
Alternativ dazu hat sich ein weiteres Verfahren als vorteilhaft herausgestellt, das folgende Verfahrensschrit­ te umfaßt:
erster Schritt: die Oberfläche der Küvette wird mit Argon adsorbatfrei besputtert,
zweiter Schritt: es wird eine SiC1-xHx-Schicht gasdicht aufgebracht mit einer Schichtdicke von beispielsweise 0,1-2 Mikrometer,
dritter Schritt: es folgt in einem diskontinuierlichen Übergang eine Beschichtung mit Gold,
vierter Schritt: es folgt eine dünne Beschichtung mit SiC1-xHx oder SiO2.
Es wurde herausgefunden, daß zweckmäßigerweise die obenliegende SiC-Schicht oder SiO2-Schicht eine Dicke kleiner als 0,5 Mikrometer aufweist. Andererseits haben auch dickere Schichten gute Ergebnisse gezeigt.
Die gestellten Aufgaben können auch dadurch gelöst werden, daß der Belag aus einer schützenden SiC-Schicht, SiO2-Schicht oder aus einer schützenden Schicht, bestehend aus einem Gemisch SiC/SiO2 besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein hochglänzender Reinaluminiumträger ausgebildet ist. Bei dieser Lösung wird also keine Goldschicht benötigt.
Neben der Anwendung von hochglänzendem Reinaluminium als Träger für die schützende Schicht, wobei der Träger die Oberfläche der Küvette selbst ist, kann auch als Küvettenmaterial und damit als Träger der schützenden Schicht polierter Edelstahl oder eine polierte Kupferlegierung verwendet werden.
Die Schichtdicke der schützenden Schicht soll so gwählt werden, daß Pin hole-Freiheit gegeben ist.
Durch die Erfindung werden folgende Vorteile erreicht:
Die gestellten Aufgaben werden gelöst. Die Küvette ist resistent gegen die zu analysierenden Stoffe und Gase. Es wird eine hohe Langzeitstabilität erreicht. Oberflä­ chenveränderungen werden vermieden. Das Reflexionsver­ halten wird durch aggressive Gase nicht verändert.
Weitere Einzelheiten der Erfindung sind der folgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels der Erfindung zu entnehmen. Dieses Ausführungsbeispiel wird anhand einer Figur erläutert.
Die Figur zeigt ein Schichtsystem für eine Küvette. Die Küvettenwand, beziehungsweise das Grundmaterial für die Küvettenwand, ist mit 1 bezeichnet.
Zwischen der Goldschicht 2 und dem Grundmaterial 1 ist eine Haftvermittlerschicht vorgesehen, die aus SiC, SiN oder aus einem Gemisch, bestehend aus SiC und SiN bestehen kann. Die Haftvermittlerschicht trägt die Bezugsziffer 3. Oberhalb der Goldschicht 2 ist die Schutzschicht 4 vorgesehen, die den aggressiven Medien, die zu analysieren sind, ausgesetzt ist. Die schützende Schicht 4 kann aus SiC, SiO2 oder aus einem Gemisch, bestehend aus SiC und SiO2 bestehen.
Liste der Einzelteile
1 Küvettenwand, Grundmaterial
2 Goldschicht
3 Haftvermittlerschicht
4 Schutzschicht, obenliegende Schicht

Claims (21)

1. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugs­ weise für optoelektronische Gasanalysen auf der physika­ lischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbe­ sondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einem Schicht­ system besteht, das eine obenliegende, schützende Schicht, insbesondere eine SiC-Schicht (4) und eine untenliegende, durch die obenliegende Schicht geschützte Gold-Schicht (2) aufweist.
2. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugs­ weise für optoelektronische Gasanalysen auf der physika­ lischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbe­ sondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einem Schicht­ system besteht, das eine obenliegende, schützende SiO2-Schicht (4) und eine untenliegende, durch die obenliegende Schicht geschützte Gold-Schicht (2) aufweist.
3. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugs­ weise für optoelektronische Gasanalysen auf der physika­ lischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbe­ sondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einem Schicht­ system besteht, das eine obenliegende, schützende Schicht (4), bestehend aus einem Gemisch SiC/SiO2, und eine untenliegende, durch die obenliegende Schicht geschützte Gold-Schicht (2) aufweist.
4. Belag nach einem oder mehreren der voran­ gegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine Haftvermittler-Schicht (3) für die Goldschicht (2) vorge­ sehen ist.
5. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftvermittler­ schicht (3) SiC aufweist.
6. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftvermittler­ schicht (3) Siliziumnitrit aufweist.
7. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Haftvermittler­ schicht (3) ein Gemisch, bestehend aus SiC und Siliziumnitrit aufweist.
8. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zur Beschichtung ein an sich bekanntes Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Verfahren angewendet wird.
9. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zur Beschichtung ein an sich bekanntes Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Verfahren angewendet wird, das folgende Verfahrensschritte umfaßt:
erster Schritt: die Oberfläche der Küvette wird mit Argon adsorbatfrei gesputtert,
zweiter Schritt: es wird eine SiC1-xHx-Schicht gasdicht aufgebracht mit einer Schichtdicke von beispielsweise 0,1-2 Mikrometer,
dritter Schritt: es folgt in einem kontinuierlichen Übergang eine Beschichtung mit Gold,
vierter Schritt: es folgt eine dünne Beschichtung mit SiC1-xHx oder SiO2.
10. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zur Beschichtung ein an sich bekanntes Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Verfahren angewendet wird, das folgende Verfahrensschritte umfaßt:
erster Schritt: die Oberfläche der Küvette wird mit Argon adsorbatfrei besputtert,
zweiter Schritt: es wird eine SiC1-xHx-Schicht gasdicht aufgebracht mit einer Schichtdicke von beispielsweise 0,1-2 Mikrometer,
dritter Schritt: es folgt in einem diskontinuierlichen Übergang eine Beschichtung mit Gold,
vierter Schritt: es folgt eine dünne Beschichtung mit SiC1-xHx oder SiO2.
11. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die obenliegende SiC-Schicht oder SiO2-Schicht (4) eine Dicke kleiner als 0,5 Mikrometer aufweist.
12. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden SiC-Schicht besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein hochglänzender Reinaluminiumträger ausgebildet ist.
13. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden SiO2-Schicht besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein hochglänzender Reinaluminiumträger ausgebildet ist.
14. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden Schicht, bestehend aus einem Gemisch SiC/SiO2, besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein hochglänzender Reinaluminiumträger ausgebildet ist.
15. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden SiC-Schicht besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein polierter Edelstahlträger ausgebildet ist.
16. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden SiO2-Schicht besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein polierter Edelstahlträger ausgebildet ist.
17. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden Schicht, bestehend aus einem Gemisch SiC/SiO2, besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein polierter Edelstahlträger ausgebildet ist.
18. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden SiC-Schicht besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein polierter, aus einer Kupferlegierung bestehender Träger ausgebildet ist.
19. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden SiO2-Schicht besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein polierter, aus einer Kupferlegierung bestehender Träger ausgebildet ist.
20. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden Schicht, bestehend aus einem Gemisch SiC/SiO2, besteht und daß die Oberfläche der Küvette als ein polierter, aus einer Kupferlegierung bestehender Träger ausgebildet ist.
21. Belag für die Oberfläche einer Analysenküvette vorzugsweise für optoelektronische Gasanalysen auf der physikalischen Grundlage der nichtdispersiven Fotometrie, insbesondere für nichtdispersive Infrarot Spektroskopie (NDIR), dadurch gekennzeichnet, daß der Belag aus einer schützenden Schicht besteht, wobei die Schichtdicke so gewählt wird, daß Pin hole-Freiheit besteht.
DE19893942325 1989-12-21 1989-12-21 Belag fuer die oberflaeche einer analysenkuevette und verfahren zur herstellung des belags Withdrawn DE3942325A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19893942325 DE3942325A1 (de) 1989-12-21 1989-12-21 Belag fuer die oberflaeche einer analysenkuevette und verfahren zur herstellung des belags

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19893942325 DE3942325A1 (de) 1989-12-21 1989-12-21 Belag fuer die oberflaeche einer analysenkuevette und verfahren zur herstellung des belags

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3942325A1 true DE3942325A1 (de) 1991-06-27

Family

ID=6396044

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19893942325 Withdrawn DE3942325A1 (de) 1989-12-21 1989-12-21 Belag fuer die oberflaeche einer analysenkuevette und verfahren zur herstellung des belags

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3942325A1 (de)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0490028A1 (de) * 1990-12-10 1992-06-17 Leybold Aktiengesellschaft Schichtsystem auf Oberflächen von Werkstoffen und Verfahren für seine Herstellung
DE4203166A1 (de) * 1992-02-05 1993-08-12 Erno Raumfahrttechnik Gmbh Vorrichtung zur analyse von gasen oder gasgemischen
DE29505014U1 (de) * 1995-03-24 1996-08-01 Mußeleck, Jörg, Dipl.-Ing., 21037 Hamburg Low-cost-Mehrkanal-Gasanalysator
DE19631689A1 (de) * 1995-08-07 1997-02-13 Fuji Electric Co Ltd Mehrfachreflexions-Probenzelle
DE19647644A1 (de) * 1996-11-18 1998-05-20 Fraunhofer Ges Forschung Mikromechanische Transmissionsmeßzelle
US6490034B1 (en) 1996-11-18 2002-12-03 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Micromechanical transmission measuring cell
FR3010788A1 (fr) * 2013-09-18 2015-03-20 Olythe Cuve de mesure pour appareil de mesure spectrometrie

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1086018B (de) * 1953-12-31 1960-07-28 Libbey Owens Ford Glass Co Durchsichtiger Gegenstand aus Glas oder anderen durchsichtigen Stoffen
DE1241946B (de) * 1964-02-04 1967-06-08 Licentia Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Quarzgefaesses mit Sinterueberzug
DE1912937A1 (de) * 1969-03-14 1970-09-17 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zur Herstellung von einen hohen Infrarotanteil des Lichtes reflektierenden Schichten durch Vakuumbedampfen und nach diesem Verfahren hergestelltes Filter
DE2147932A1 (de) * 1971-09-25 1973-03-29 Degussa Verfahren zur herstellung von infrarotstrahlen reflektierenden scheiben
GB1318472A (en) * 1970-04-07 1973-05-31 Bayer Ag Infrared analyser
DE3027256A1 (de) * 1980-07-18 1982-02-18 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Mehrschichtsystem fuer waermeschutzanwendungen und verfahren zu seiner herstellung
DE3135344A1 (de) * 1980-09-09 1982-07-08 Westinghouse Electric Corp., 15222 Pittsburgh, Pa. "schutzbeschichtung fuer gegenstaende wie z.b. vergoldeten schmuck oder uhrenteile und verfahren zum herstellen solcher schutzbeschichtungen"
DD203903A1 (de) * 1981-11-27 1983-11-09 Peter Grigull Waermereflektierende scheibe
DE3441280A1 (de) * 1983-11-15 1985-05-23 Fuji Electric Co., Ltd., Kawasaki, Kanagawa Nichtdispersive infrato-gasanalysator
DE3602485A1 (de) * 1985-01-28 1986-07-31 Sumitomo Electric Industries, Ltd., Osaka Matrize fuer die herstellung von linsen
CH662131A5 (de) * 1983-09-30 1987-09-15 Toshiba Kk Schwarzes ornament.
DE3716763A1 (de) * 1986-05-27 1987-12-03 Brueel & Kjaer As Photoakustischer gasanalysator
DE3415620C2 (de) * 1983-04-28 1989-06-08 Canon K.K., Tokio/Tokyo, Jp
US4853251A (en) * 1985-02-22 1989-08-01 Canon Kabushiki Kaisha Process for forming deposited film including carbon as a constituent element

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1086018B (de) * 1953-12-31 1960-07-28 Libbey Owens Ford Glass Co Durchsichtiger Gegenstand aus Glas oder anderen durchsichtigen Stoffen
DE1241946B (de) * 1964-02-04 1967-06-08 Licentia Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Quarzgefaesses mit Sinterueberzug
DE1912937A1 (de) * 1969-03-14 1970-09-17 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zur Herstellung von einen hohen Infrarotanteil des Lichtes reflektierenden Schichten durch Vakuumbedampfen und nach diesem Verfahren hergestelltes Filter
GB1318472A (en) * 1970-04-07 1973-05-31 Bayer Ag Infrared analyser
DE2147932A1 (de) * 1971-09-25 1973-03-29 Degussa Verfahren zur herstellung von infrarotstrahlen reflektierenden scheiben
DE3027256A1 (de) * 1980-07-18 1982-02-18 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Mehrschichtsystem fuer waermeschutzanwendungen und verfahren zu seiner herstellung
DE3135344A1 (de) * 1980-09-09 1982-07-08 Westinghouse Electric Corp., 15222 Pittsburgh, Pa. "schutzbeschichtung fuer gegenstaende wie z.b. vergoldeten schmuck oder uhrenteile und verfahren zum herstellen solcher schutzbeschichtungen"
DD203903A1 (de) * 1981-11-27 1983-11-09 Peter Grigull Waermereflektierende scheibe
DE3415620C2 (de) * 1983-04-28 1989-06-08 Canon K.K., Tokio/Tokyo, Jp
CH662131A5 (de) * 1983-09-30 1987-09-15 Toshiba Kk Schwarzes ornament.
DE3441280A1 (de) * 1983-11-15 1985-05-23 Fuji Electric Co., Ltd., Kawasaki, Kanagawa Nichtdispersive infrato-gasanalysator
DE3602485A1 (de) * 1985-01-28 1986-07-31 Sumitomo Electric Industries, Ltd., Osaka Matrize fuer die herstellung von linsen
US4853251A (en) * 1985-02-22 1989-08-01 Canon Kabushiki Kaisha Process for forming deposited film including carbon as a constituent element
DE3716763A1 (de) * 1986-05-27 1987-12-03 Brueel & Kjaer As Photoakustischer gasanalysator

Non-Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
- DE-Z:WIEGLEB, G.:Gesamtanalysensystem für erhöhte Prozeßtemperaturen. In: Technisches Messen, 51.Jg.1984, H.11, S.385-392 *
- GB-Z: LAUX, L. *
- US-Z: DALTON, William S. *
Alfred *
DE-Z: NAUMANN *
KLIMITZ, Hans: Ein neuer elektrischer Grubengasschreiber. In: Glückauf, 13. Sept. 1958, S.1355-1361 *
SAKAI, Hajime: Absorp- tion cell for the infrared spectroscopy of heated gas. In: Applied Optics, 15. July 1980, Vol.19, No.14, S.2413-2415 *
SCHULZ, G.: A sodium-resistand glass cell by coating with CaF2, In: J.Phys.E: Sci.Instrum., Vol.13, 1980, S.823-824 *

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0490028A1 (de) * 1990-12-10 1992-06-17 Leybold Aktiengesellschaft Schichtsystem auf Oberflächen von Werkstoffen und Verfahren für seine Herstellung
DE4203166A1 (de) * 1992-02-05 1993-08-12 Erno Raumfahrttechnik Gmbh Vorrichtung zur analyse von gasen oder gasgemischen
DE29505014U1 (de) * 1995-03-24 1996-08-01 Mußeleck, Jörg, Dipl.-Ing., 21037 Hamburg Low-cost-Mehrkanal-Gasanalysator
DE19631689A1 (de) * 1995-08-07 1997-02-13 Fuji Electric Co Ltd Mehrfachreflexions-Probenzelle
US5726752A (en) * 1995-08-07 1998-03-10 Fuji Electric Co., Ltd. Sample cell of multiple reflection type
DE19647644A1 (de) * 1996-11-18 1998-05-20 Fraunhofer Ges Forschung Mikromechanische Transmissionsmeßzelle
DE19647644C2 (de) * 1996-11-18 1999-04-15 Fraunhofer Ges Forschung Mikromechanische Transmissionsmeßzelle
US6490034B1 (en) 1996-11-18 2002-12-03 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Micromechanical transmission measuring cell
FR3010788A1 (fr) * 2013-09-18 2015-03-20 Olythe Cuve de mesure pour appareil de mesure spectrometrie
WO2015040330A1 (fr) * 2013-09-18 2015-03-26 Olythe Cuve de mesure pour appareil de mesure par spectrometrie
US10078047B2 (en) 2013-09-18 2018-09-18 Olythe Measuring vessel for spectrometry measurement apparatus
CN105849526B (zh) * 2013-09-18 2018-11-09 奥利瑟公司 光谱测定仪用测量容器
AU2014322936B2 (en) * 2013-09-18 2019-05-30 Dräger Safety AG & Co. KGaA Measuring cuvette for spectrometric measuring instrument

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69028728T2 (de) Diagnostische Vorrichtung unter Verwendung einer metallischen Dünnschicht
Das et al. Fluorescence detection in high performance liquid chromatographic determination of polycyclic aromatic hydrocarbons
Harrick et al. Multiple internal reflection fluorescence spectrometry
DE69926398T2 (de) System mit zwei weglängen zum nachweis der lichtabsorption
WO1992001217A1 (en) Method for carrying out surface plasmon resonance measurement and sensor for use in the method
DE2320252C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur quantitativen Bestimmung eines gasförmigen Bestandteils
Hemley et al. High-pressure dielectric measurements of solid hydrogen to 170 GPa
Wells et al. Lunar soil: Iron and titanium bands in the glass fraction
DE3942325A1 (de) Belag fuer die oberflaeche einer analysenkuevette und verfahren zur herstellung des belags
Nord et al. Mercury in Human Hair: A Study of the Residents of Los Alamos, NM, and Pasadena, Calif, by Cold Vapor Atomic Absorption Spectrophotometry
WO2004027397A1 (de) Vorrichtung zur detektion und vorrichtung zur messung der konzentration eines stoffes
Ishino et al. Grazing angle metal-overlayer infrared ATR spectroscopy
DE19926121A1 (de) Analysegerät
Rai et al. Spectro-chemical study of moldavites from Ries impact structure (Germany) using LIBS
Pothier et al. Surface-enhanced Raman spectroscopy at a silver electrode as a detection system in flowing streams
DE4200088A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum nachweis physikalisch-chemischer oder biochemischer wechselwirkungen
Sturaro et al. Simultaneous determination of trace metals in human hair by dynamic ion-exchange chromatography
DE102005036616A1 (de) Irreversibler passiver Gassensor
Arnold et al. Rapid determination of metal particles on air sampling filters using laser-induced breakdown spectroscopy
DE10006083A1 (de) Verfahren zur quantitativen und/oder qualitativen Bestimmung von Schichtdicken sowie ein Mikroreaktionsgefäß und eine Titerplatte
DE10064146A1 (de) Biosensor und verfahren zu seiner Herstellung
Wanzenböck et al. Multiple internal reflection in surface enhanced infrared absorption spectroscopy (SEIRA) and its significance for various analyte groups
DE8711788U1 (de) Kolorimetrisches Dosimeter mit unterschiedlicher Anzeigeempfindlichkeit
Zhao et al. Perspective—Nano Infrared Microscopy: obtaining chemical information on the nanoscale in corrosion studies
EP0385173B1 (de) Nichtdispersiver Infrarot-Gasanalysator

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8139 Disposal/non-payment of the annual fee