DE3918489A1 - Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial - Google Patents
Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterialInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein lichtempfindliches
Aufzeichnungsmaterial, insbesondere ein lichtempfindliches
Material mit verbesserten Entwicklungseigenschaften
in einem Entwicklungsverfahren unter Verwendung
einer wäßrigen alkalischen Entwicklungslösung,
das für negativ arbeitende, lichtempfindliche, lithographische
Platten, Farbpapiere (color proof), Photoresist
und dgl. geeignet ist.
Die meisten lichtempfindlichen Substanzen, die in negativ
arbeitenden, lichtempfindlichen Zusammensetzungen
verwendet werden, sind Diazoniumverbindungen. Unter
diesen werden Diazoharze, wie ein Formaldehydkondensat
von p-Diazodiphenylamin, in großem Umfang als lichtempfindliche
Substanzen verwendet.
Eine lichtempfindliche Zusammensetzung einer lichtempfindlichen
Schicht einer lichtempfindlichen, lithographischen
Platte unter Verwendung eines Diazoharzes kann
im allgemeinen in die folgenden zwei Gruppen eingeteilt
werden. Eine davon ist eine lichtempfindliche Zusammensetzung,
die ein Diazoharz ohne ein Bindemittel, wie
beispielsweise in der US-PS 27 14 066 offenbart, enthält.
Die andere ist eine Zusammensetzung, die ein Diazoharz
in Mischung mit einem Bindemittel umfaßt. Seit
kurzem umfassen die meisten lichtempfindlichen, lithographischen
Platten unter Verwendung von Diazoniumverbindungen
Diazoniumverbindungen und Polymerbindemittel,
um eine hohe Druckhaltbarkeit der erhaltenen lithographischen
Platten zu erreichen.
Die vorstehend genannten, lichtempfindlichen Schichten
werden im allgemeinen in einer wäßrigen, alkalischen
Entwicklungslösung, die unbelichtete Bereiche von der
lichtempfindlichen Schicht entfernen kann, entwickelt.
Es ist jedoch insbesondere im Fall einer lichtempfindlichen,
lithographischen Platte bekannt, daß sich die
Entwicklungseigenschaft verschlechtert im Verlauf der Lagerung nach
Herstellung der Platte, was zu einer Untergrundverschmutzung
in dem Druckverfahren führt. Eine Untergrundverschmutzung
beim Drucken tritt dann auf, wenn eine
lithographische Platte nach Lagerung über eine bestimmte
Zeit verwendet wird, auch wenn eine Untergrundverschmutzung
nicht auftritt, wenn sie sofort nach der Herstellung
verwendet wird. Die vorstehenden Nachteile sind
besonders bemerkenswert, wenn die Platten in warmer und
feuchter Umgebung gelagert werden. Es ist deshalb wünschenswert,
eine lichtempfindliche, lithographische
Platte zu erhalten, die über einen langen Zeitraum, insbesondere
unter warmer und feuchter Umgebung, gelagert
werden kann, ohne eine Untergrundverschmutzung in dem
Druckverfahren zu ergeben.
Es wurden viele Vorschläge zur Beseitigung dieser Nachteile
gemacht. Beispiele schließen eine lichtempfindliche
lithographische Platte mit einer Unterbeschichtung,
umfassend eine Polyvinylphosphonsäure, auf der Oberfläche
einer anodisierten Aluminiumplatte und einer lichtempfindlichen
Schicht, enthaltend eine Diazoniumverbindung,
auf der Unterbeschichtung (DE-PS 16 21 478), eine
lichtempfindliche, lithographische Platte mit einer
Unterschichtung (beispielsweise aus Polyacrylsäure) auf
einem Aluminiumsubstrat und einer lichtempfindlichen
Schicht, umfassend ein Diazoharz, auf der Unterbeschichtung
(DE-PS 10 91 433), eine lichtempfindliche, lithographische
Platte mit einer Unterschichtung aus Polyacrylamid
und einer lichtempfindlichen Schicht auf der
Unterschichtung (US-PS 35 11 661), die Zugabe einer
hochmolekularen organischen Säure zu einer lichtempfindlichen
Schicht, die eine Diazoniumverbindung und einen
organischen Polymerträger umfaßt, um die Lagerstabilität
zu verbessern und eine Untergrundverschmutzung zu
verhindern (JP-PS 56-1 07 238), ein. Die vorstehend gemachten
Vorschläge sind jedoch unzureichend bezüglich
der Verbesserung der Stabilität der lithographischen
Platte. Deshalb sind weitere Verbeserungen wünschenswert.
Die US-PS 44 08 532 offenbart eine lichtempfindliche
Zusammensetzung, die ein Diazoharz mit mehreren
Diazoniumseitenkettengruppen in Kombination mit einem
sulfonierten Polymer mit mehreren Sulfonatgruppen, wie
ein sulfoniertes Polyurethan oder ein sulfonierter Polyester,
umfaßt. Die Zusammensetzung ergibt jedoch keine
ausreichende Verringerung der Untergrundverschmutzung
beim Drucken, und die Verwendung der Zusammensetzung ist
stark begrenzt, weil die Zusammensetzung als lichtempfindliche
Schicht verwendet wird, so daß die Eigenschaften
der lichtempfindlichen, lithographischen Platte notwendigerweise
durch die Eigenschaften des sulfonierten
Polyurethans oder sulfonierten Polyesters bestimmt werden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein lichtempfindliches
Aufzeichnungsmaterial mit einer lichtempfindlichen
Schicht auf der Oberfläche eines Substrats
zur Verfügung zu stellen, das ausgezeichnete Entwicklungseigenschaften
in einem Entwicklungsverfahren nach
bildweiser Belichtung besitzt.
Insbesondere ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
eine negativ arbeitende, lichtempfindliche, lithographische
Platte mit einer Unterschicht zur Verfügung zu
stellen, die nach bildweiser Belichtung und anschließender
Entwicklung eine lithographische Platte ergeben
kann, die frei von einer Untergrundverschmutzung während
des Druckens ist, auch wenn die lithographische Platte
nach langer Lagerzeit der lichtempfindlichen, lithographischen
Platte oder nach Lagerung in warmer und feuchter
Umgebung hergestellt wird.
Es wurde nun gefunden, daß diese Aufgaben durch Verwendung
einer neuen Unterschicht auf einem Subtstrat und
anschließendes Aufbringen einer lichtempfindlichen Zusammensetzung
darauf gelöst werden können.
Erfindungsgemäß wird ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
zur Verfügung gestellt, das (a) ein Substrat
mit einer hydrophilen Oberfläche, (b) eine Unterschicht,
umfassend wenigstens eine Verbindung mit
wenigstens einer funktionellen Gruppe, gewählt aus der
Gruppe, bestehend aus Thiol, Thioether und Disulfid, und
(c) eine lichtempfindliche Schicht, umfassend eine
Diazoniumverbindung und eine hochmolekulare Verbindung,
die in Wasser unlöslich und in wäßriger, alkalischer
Lösung löslich ist, umfaßt.
Nachstehend wird die Erfindung näher mit Bezug auf die
Komponenten des erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen
Aufzeichnungsmaterials beschrieben, und es wird ein Verfahren
zur Herstellung und ein Verfahren unter Verwendung
dieses Materials, insbesondere für eine lichtempfindliche,
lithographische Platte, die eine bevorzugte,
erfindungsgemäße Ausführungsform ist, angegeben.
Beispiele für das erfindungsgemäß verwendete Substrat
sind Papier; Papier, laminiert mit einem Kunststoff (wie
Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol usw.), Metallplatten,
wie Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen)-,
Zink- und Kupferplatten; Kunststoffilme, wie
Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat,
Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat,
Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol,
Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetalfilme;
und Papier oder Kunststoffilme, laminiert mit den
vorstehend genannten Metallen, oder auf die diese Metalle
dampfabgeschieden sind. Unter diesen Substraten
sind Aluminiumplatten besonders bevorzugt, weil sie
formstabil und billig sind. Weiterhin sind Verbundsubstrate
mit einer Aluminiumbahn, aufgebracht auf einen
Polyethylenterephthalatfilm, wie in der GB-PS 13 29 714
offenbart, ebenfalls bevorzugt.
Es ist bevorzugt, daß die Substrate mit einer Metalloberfläche,
insbesondere einer Aluminiumoberfläche, hydrophil
gemacht werden.
Verfahren, in denen eine Aluminiumoberfläche hydrophil
gemacht wird, schließen eine Stufe ein, in der die Oberfläche
der Aluminiumplatte aufgerauht wird, beispielsweise
durch ein mechanisches Körnungsverfahren, wie ein
Drahtbürstenkörnungsverfahren, ein Bürstenkörnungsverfahren,
worin die Oberfläche mit einer Nylonbürste aufgerauht
wird, während eine Aufschlämmung aus Abriebkörnern
darauf gegossen wird, oder ein Kugelkörnungsverfahren,
ein chemisches Körnungsverfahren unter Verwendung
von HF, AlCl₃ oder HCl als Ätzmittel, eine
elektrolytische Körnung unter Verwendung von Salpetersäure
oder Salzsäure als Elektrolyt, und ein kombiniertes
Körnungsverfahren, worin eine Kombination dieser
Verfahren verwendet wird. Die Platte wird dann, wenn notwendig,
vorzugsweise einem Ätzverfahren unter Verwendung
eines sauren oder alkalischen Ätzmittels ausgesetzt,
gefolgt von einer anodischen Oxidation in Schwefelsäure,
Phosphorsäure, Oxalsäure, Borsäure, Chromsäure,
Sulfaminsäure oder einer Mischung dieser Säuren unter
Verwendung eines Gleich- oder Wechselstroms zur Bildung
eines festen Films mit einem passiven Zustand auf der
Aluminiumoberfläche. Obwohl die Aluminiumoberfläche
durch Bilden eines solchen Films in einem passiven
Zustand hydrophil gemacht wird, ist es besonders bevorzugt,
sie einer weiteren Behandlung mit einem Silicat
(wie Natriumsilicat oder Kaliumsilicat), wie in den
US-PS 27 14 066 und 31 81 461 beschrieben, einer Behandlung
mit Kaliumfluorzirconat, wie in der US-PS 29 46 638
beschrieben, einer Behandlung mit einem Phosphomolybdat,
wie in der US-PS 32 01 247 beschrieben, einer Behandlung
mit einem Alkyltitanat, wie in der GB-PS
11 08 559 beschrieben, einer Behandlung mit Polyacrylsäure,
wie in der DE-PS 10 91 433 beschrieben, einer Behandlung
mit Polyvinylphosphonsäure, wie in der DE-PS
11 34 093 und der GB-PS 12 30 447 beschrieben, einer
Behandlung mit Phosphonsäure, wie in der JP-PS 44-6409
beschrieben, einer Behandlung mit Phytinsäure, wie in
der US-PS 33 07 951 beschrieben, einer Behandlung mit
einem hydrophilen, organischen Polymer und einem zweiwertigen
Metall, wie in den JP-OSen 58-16 893 und
58-18 291 beschrieben, auszusetzen. Weiterhin kann das
Substrat auch durch eine elektrolytische Abscheidung
eines Silikats, wie in der US-PS 36 58 662 beschrieben,
hydrophil gemacht werden.
Die erfindungsgemäß verwendete Unterschicht umfaßt
wenigstens eine Verbindung mit wenigstens einer funktionellen
Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus
Thiol-, Thioether- und Disulfidgruppen.
Eine Verbindung, die in der erfindungsgemäßen Unterschicht
verwendet wird, besitzt wenigstens eine funktionelle
Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus
einer Thiolgruppe (HS-), Thioethergruppe (-S-) und einer
Disulfidgruppe (-S-S-). Vorzugsweise ist die Verbindung
weiterhin mit wenigstens einer alkalilöslichen Gruppe
oder einer hydrophilen Gruppe, wie einer Hydroxyl- oder
Ethergruppe, substituiert.
Die alkalilösliche Gruppe kann eine saure funktionelle
Gruppe, wie -COOH, -SO₃H, -CONHCO-, -SO₂-NH₂, -SO₂-NH-,
-SO₂-NH-CO-, -SO₂-NH-CO-O- und -SO₂-NH-CO-NH- und eine
Hydroxyphenylgruppe, sein. Eine Verbindung mit mehr als
einer HS-Gruppe ist ebenfalls bevorzugt.
Erfindungsgemäß ist es bevorzugt, eine Verbindung mit
einem Siedepunkt von nicht weniger als 100°C (1 atm) zu
verwenden, da eine Verbindung mit einem zweiwertigen
Schwefelatom im allgemeinen einen unangenehmen Geruch
aufweist. Das Molekulargewicht der Verbindung beträgt
vorzugsweise nicht weniger als 80, besonders bevorzugt
100 bis 1000.
Die Verbindung mit wenigstens einer funktionellen
Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Thiol-,
Thioether- und Disulfidgruppen, kann beispielsweise
Mercaptoessigsäure, 2-Mercaptopropionsäure, 3-Mercaptopropionsäure,
3-Mercaptobutansäure, 2,4-Dimercaptobutansäure,
2-Mercaptotetradecansäure, 2-Mercaptomyristinsäure,
Mercaptosuccinsäure, 2,3-Dimercaptosuccinsäure,
Cystein, N-Acetylcystein, N-(2-Mercaptopropionyl)glycin,
N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)glycin, N-(3-
Mercaptopropionyl)glycin, N-(2-Mercapto-2-methylpropionyl)cystein,
Penicillamin, N-Acetylpenicillamin, ein
Kondensat von Glycin · Cystein · Glutamin, N-(2,3-Dimercaptopropionyl)glycin,
2-Mercaptonicotinsäure, Thiosalicylsäure,
3-Mercaptobenzoesäure, 4-Mercaptobenzoesäure,
3-Carboxy-2-mercaptopyridin, 2-Mercaptobenzothiazol-
5-carbonsäure, 2-Mercapto-3-phenylpropensäure,
2-Mercapto-5-carboxyethylimidazol, 5-Mercapto-1-(4-
carboxyphenyl)tetrazol, N-(3,5-Dicarboxyphenyl)-2-mercaptotetrazol,
2-(1,2-Dicarboxyethylthio)-5-mercapto-1,3,4-thiadiazol,
2-(5-Mercapto-1,3,4-thiadiazolylthio)hexansäure,
2-Mercaptoethansulfonsäure, 2,3-Dimercapto-
1-propansulfonsäure, 2-Mercaptobenzolsulfonsäure,
4-Mercaptobenzolsulfonsäure, 3-Mercapto-4-(2-sulfophenyl)-
1,2,4-triazol, 2-Mercaptobenzothiazol-5-sulfonsäure,
2-Mercaptobenzimidazol-6-sulfonsäure, Mercaptosuccinimid,
4-Mercaptobenzolsulfonamid, 2-Mercaptobenzimidazol-
5-sulfonamid, 3-Mercapto-4-(2-(methylaminosulfonyl)ethoxy)toluol,
3-Mercapto-4-(2-(methylsulfonylamino)ethoxy)toluol,
4-Mercapto-N-(p-m-ethylenphenylsulfonyl)benzamido,
4-Mercaptophenol, 3-Mercaptophenol,
2-Mercaptophenol, 3,4-Dimercaptotoluol, 2-Mercaptohydrochinon,
2-Thiouracil, 3-Hydroxy-2-mercaptopyridin,
4-Hydroxythiophenol, 4-Hydroxy-2-mercaptopyrimidin, 4,6-
Dihydroxy-2-mercaptopyrimidin, 2,3-Dihydroxypropylmercaptan,
2-Mercapto-4-octylphenylethermethylether, 2-
Mercapto-4-octylphenolmethansulfonylaminoethylether,
2-Mercapto-4-octylphenolmethylaminosulfonylbutylether,
Thiodiglycolsäure, Thiodiphenol, 6,8-Dithiooctansäure
und Alkalimetall-, Erdalkalimetall- und organische
Ammoniumsalze davon sein.
Die Verbindung mit wenigstens einer funktionellen
Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Thiol-,
Thioether- und Disulfidgruppen, kann allein oder als
Mischung aus zwei oder mehreren Verbindungen verwendet
werden.
Zusätzlich zu den vorstehend genannten Verbindungen kann
die erfindungsgemäße Unterschicht andere Verbindungen,
beispielsweise ein wasserlösliches Polymer mit einer
Sulfonsäuregruppe, wie in der US-PS 45 78 342 offenbart,
enthalten.
Die vorstehend genannte Verbindung kann in einem Lösungsmittel
gelöst und auf die Oberfläche des Substrats
zur Bildung einer Unterschicht aufgebracht werden. Beispiele
für das Lösungsmittel schließen Wasser, Methanol,
Ethanol, Isopropanol, n-Butanol, t-Butanol, Ethylendichlorid,
Cyclohexanon, Aceton, Methylethylketon, Ethylenglykol,
Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether,
2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol,
1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid,
Tetrahydrofuran, Dioxan, Dimethylsulfoxid, Ethylacetat,
Methyllactat und Ethyllactat und Mischung daraus ein.
Es ist bevorzugt, die aufgebrachte Schicht bei 50 bis
120°C über 20 s bis 3 min nach Aufbringen der Lösung
der Verbindung zu trocknen.
Die Menge der Unterschicht beträgt vorzugsweise 1 bis
500 mg/m², insbesondere 5 bis 100 mg/m², nach dem Trocknen.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung der lichtempfindlichen
Schicht kann die folgenden Verbindungen einschließen:
Die erfindungsgemäß verwendeten Diazoniumverbindungen
schließen die in den US-PSen 38 67 147 und 26 32 703
beschriebenen ein. Diazoharze, beispielsweise Kondensate
eines aromatischen Diazoniumsalzes und beispielsweise
einer reaktiven, carbonylhaltigen Verbindung, wie
Formaldehyd, sind besonders geeignet. Bevorzugte Diazoharze
schließen Hexafluorphosphat, Tetrafluorborat und
Phosphat eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin und
Formaldehyd oder Acetaldehyd ein. Weiterhin sind ein
Sulfonat eines Kondensats von p-Diazodiphenylamin und
Formaldehyd (wie p-Toluolsulfonat, Dodecylbenzolsulfonat
und 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonat),
wie in der US-PS 33 00 309, Phosphinat (wie Benzolphosphinat),
Salze von hydroxylgruppenhaltigen Verbindungen
(wie ein Salz von 2,4-Dihydroxybenzophenon) und
organisches Carboxylat ebenfalls bevorzugt.
Weiterhin ist Mesitylensulfonat eines Kondensats von
3-Methoxy-4-diazodiphenylamin und 4,4′-Bismethoxymethyldiphenylether,
wie in dem kanadischen Patent 11 72 492
beschrieben, ebenfalls geeignet.
Weiterhin kann die Verbindung mit wenigstens einer funktionellen
Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus
Thiol-, Thioether- und Disulfidgruppen, und weiterhin
substituiert durch eine Säuregruppe, wie eine Sulfogruppe,
als Gegenanion für ein Diazoniumkation verwendet
werden.
Der Gehalt der Diazoniumverbindung in der lichtempfindlichen
Zusammensetzung beträgt 1 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise
3 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der
Festkomponenten. Wenn notwendig, können zwei oder mehr
Diazoniumverbindungen in Kombination verwendet werden.
Beispiele für das Bindemittel mit hohem Molekulargewicht,
das erfindungsgemäß verwendet wird, welches in
Wasser unlöslich und in einer wäßrigen alkalischen
Lösung löslich ist, schließen die folgenden Verbindungen
ein: ein Polymer mit phenolischen Hydroxylgruppen, wie
Phenolformaldehydharz, Cresolformaldehydharz, Phenol-
modifiziertes Xylolharz, Polyhydroxystyrol, polyhalogeniertes
Hydroxystyrol, Copolymer, im wesentlichen zusammengesetzt
aus Acrylsäure, Methacrylsäure und Crotonsäure
oder Maleinsäure, Mehrkomponentencopolymer, zusammengesetzt
aus 2-Hydroxyethylacrylat oder 2-Hydroxyethylmethacrylat,
Acrylnitril oder Methacrylnitril, Acrylsäure
oder Methacrylsäure, und, wenn notwendig, einem
anderem copolymerisierbaren Monomer, wie in der US-PS
41 23 276 beschrieben, ein Mehrkomponentencopolymer mit
endständigen Hydroxylgruppen, zusammengesetzt aus einem
Ester von Acrylsäure oder Methacrylsäure, verestert mit
einer Gruppe mit einer Dicarbonsäureestergruppe, Acrylsäure
oder Methacrylsäure und, wenn notwendig, einem
anderen copolymerisierbaren Monomer, wie in der JP-OS
53-1 20 903 beschrieben, ein Mehrkomponentencopolymer,
zusammengesetzt aus Alkylacrylat, Acrylnitril oder
Methacrylnitril und einer ungesättigten Carbonsäure, wie
in der JP-OS 56-4144 beschrieben. Derivate von saurem
Polyvinylalkohol und Derivate von saurer Cellulose sind
ebenfalls geeignete Polymere. Alkalilösliche Polyvinylacetale
und alkalilösliche Polyurethane, wie in den US-PSen
37 32 105, 43 87 151, 46 31 245 und 47 41 985 und
der GB-PS 21 85 120 beschrieben, sind ebenfalls geeignet.
Zusätzlich schließen die hochmolekularen Verbindungen,
die erfindungsgemäß bevorzugt verwendet werden, Polymerverbindungen,
die aus wenigstens einer der wiederkehrenden
Einheiten der folgenden allgemeinen Formeln (I) bis
(IV):
zusammengesetzt sind, worin R¹¹, R¹⁴ und R¹⁷ gleich oder
verschieden sind und -H oder -CH₃ bedeuten, R¹² und R¹⁵
gleich oder verschieden sind und eine C₁-C₁₂-Alkylen-,
Cycloalkylen-, Arylen- oder Aralkylengruppe, die gegebenenfalls
substituiert sein können, bedeuten, R¹⁸ eine
C₆-C₁₂-Arylengruppe bedeutet, die gegebenenfalls substituiert
sein kann, R¹³ -H oder eine C₁-C₁₂-Alkyl-, Cycloalkyl-,
Aryl- oder Aralkylgruppe bedeutet, die gegebenenfalls
substituiert sein können, R₁₆ eine C₁-C₁₂-Alkyl-,
Cycloalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe bedeutet,
die gegebenenfalls substituiert sein können, und Y¹, Y²
und Y³ gleich oder verschieden sind und -O- oder -NH-
bedeuten, ein.
Die erfindungsgemäß bevorzugt verwendete Polymerverbindung,
die aus wenigstens einer der wiederkehrenden Einheiten
der allgemeinen Formeln (I) bis (IV) zusammengesetzt
ist, kann durch Polymerisation einer oder mehrerer
Monomerverbindungen, gewählt aus der Gruppe, bestehend
aus den folgenden allgemeinen Formeln (V) bis (VIII),
oder durch Copolymerisation eines Monomers der Formeln
(V) bis (VIII) mit einem oder mehreren anderen polymerisierbaren
ungesättigten Monomeren synthetisiert werden:
worin R¹¹-R¹⁸ und Y¹-Y³ die gleiche Bedeutung wie in
den allgemeinen Formeln (I) bis (IV) besitzen.
Die anderen polymerisierbaren, ungesättigten Monomerverbindungen,
die erfindungsgemäß verwendet werden, schließen
Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylsäureester, Methacrylsäureester,
Acrylnitril, Methacrylnitril, Acrylamide,
Methacrylamide, Allylverbindungen, Vinylether,
Vinylester, Styrole und Crotonsäureester, usw., ein.
Unter diesen polymerisierbaren, ungesättigten Monomeren
werden vorzugsweise Methacrylsäureester, Acrylsäureester,
Methacrylamide, Acrylamine, Acrylnitril, Methacrylnitril,
Methacrylsäure und Acrylsäure verwendet.
Die erfindungsgemäß verwendete Polymerverbindung kann
durch eine Copolymerisation eines oder mehrerer Monomere,
gewählt aus der Gruppe, bestehend aus den Monomeren
der allgemeinen Formeln (V) bis (VIII), mit einem
oder mehreren anderen polymerisierbaren, ungesättigten
Monomeren, die vorstehend genannt wurden, hergestellt
werden. Das Polymer kann ein Blockpolymer, ein statistisches
Polymer oder ein Pfropfpolymer sein.
Der Gehalt der Monomereinheiten (I) bis (IV) in dem
Copolymer beträgt vorzugsweise nicht weniger als 5 Mol-%,
besonders bevorzugt 10 bis 90 Mol.-%, bezogen auf die
gesamten wiederkehrenden Einheiten des Copolymers.
Das Molekulargewicht des erfindungsgemäß verwendeten
Polymers beträgt vorzugsweise nicht weniger als 2000,
besonders bevorzugt 5000 bis 300 000, als Gewichtsdurchschnitt.
Beispiele für das Lösungsmittel, das zur Herstellung des
Polymers verwendet wird, schließen Ethylendichlorid,
Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol,
Ethanol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether,
2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol,
1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid,
Toluol, Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat und Mischungen
daraus ein.
Die Polymerverbindungen, die erfindungsgemäß am meisten
bevorzugt sind, schließen ein Polymer, hergestellt durch
Copolymerisation von mehreren Komponenten, gewählt aus
jeder der folgenden Gruppen (A) bis (D), ein. Eine oder
mehrere Komponenten können aus jeder Gruppe gewählt werden.
Die Gruppe (A) besteht aus Verbindungen der vorstehend
genannten allgemeinen Formeln (V) bis (VIII).
Die Gruppe (B) besteht aus Acrylnitril, Methacrylnitril
und Verbindungen der folgenden allgemeinen Formel (IX):
worin R²¹ -H oder -CH₃ bedeutet, R²² -H, -CH₃, -CH₂Cl
oder -CH₂CH₃ bedeutet und n eine ganze Zahl von 1 bis 10
bedeutet.
Die Gruppe (C) besteht aus Verbindungen der folgenden
allgemeinen Formel (X):
worin R²³ -H oder -CH₃, R²⁴ -H, eine C₁-C₁₂-Alkyl-,
Cycloalkyl-, Aryl- und Aralkylgruppe bedeutet, die gegebenenfalls
substituiert sein können.
Die Gruppe (D) besteht aus Acrylsäure, Methacrylsäure
und Verbindungen der folgenden Formel (XI):
worin R²⁵ -H oder -CH₃ bedeutet und R²⁶ -H, -CH₃ oder
ein Halogenatom bedeutet.
Die Menge der Polymerverbindung in der lichtempfindlichen
Schicht beträgt etwa 5 bis 95 Gew.-%, vorzugsweise
etwa 10 bis 85 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtfeststoffkomponenten.
Die negativ arbeitende, lichtempfindliche Zusammensetzung
kann Mittel oder Zusammensetzungen zum Erhalt
eines sichtbaren Bildes sofort nach bildweiser Belichtung,
Farbstoffe zum Färben des Bildbereichs, Pigmente,
Stabilisatoren, oberflächenaktive Mittel, Weichmacher
und andere Füllstoffe enthalten.
Beispiele für Mittel oder Zusammensetzungen zum Erhalt
eines sichtbaren Bildes sofort nach bildweiser Belichtung
schließen eine Kombination aus einer lichtempfindlichen
Verbindung, die eine Säure bei Belichtung freisetzt,
und einer organischen Farbstoffverbindung, die
ein Salz mit der lichtempfindlichen Verbindung bilden
kann, ein. Beispiele für die Mittel oder Zusammensetzungen
schließen eine Kombination aus o-Naphthochinondiazid-
4-sulfonsäurehalogenid und einem salzbildenden
organischen Farbstoff, wie in der US-PS 39 69 118 und
der JP-OS 53-8 128 beschrieben, ein, und eine Kombination
umfaßt eine trihalogenierte Methylverbindung und einen
salzbildenden organischen Farbstoff, wie in den US-PSen
41 60 671 und 42 32 106 beschrieben. Als Mittel zum
Färben des Bildbereichs können andere Farbstoffe als
auch die salzbildenden organischen Farbstoffe, die vorstehend
genannt wurden, verwendet werden. Bevorzugte
Farbstoffe schließen öllösliche Farbstoffe und basische
Farbstoffe, einschließlich die salzbildenden organischen
Farbstoffe, ein. Beispiele für Farbstoffe schließen
Ölgelb Nr. 101 (Oil Yellow Nr. 101), Ölgelb Nr. 130 (Oil
Yellow Nr. 130), Ölpink Nr. 312 (Oil Pink Nr. 312), Ölgrün
BG (Oil Green BG), Ölblau BOS (Oil Blue BOS), Ölblau
Nr. 603 (Oil Blue Nr. 603), Ölschwarz BY (Oil Black
BY), Ölschwarz BS (Oil Black BS), Ölschwarz T-505 (Oil
Black T-505) (Orient Chemical Ind., Ltd.), Victoria-
Reinblau (Victoria Pure Blue), Kristallviolett
(C. I. 42 555), Methylviolett (C. I. 42 535), Rhodamin B
(C. I. 45 170 B), Malachitgrün (C. I. 42 000) und Methylenblau
(C. I. 52 015) ein.
Beispiele für die Stabilisatoren für Diazoniumverbindungen
schließen Phosphorsäure, Phosphorigesäure, Pyrophosphorsäure,
Oxalsäure, Borsäure, p-Toluolsulfonsäure,
Benzolsulfonsäure, p-Hydroxybenzolsulfonsäure, 2-Methoxy-
4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure, Apfelsäure,
Weinsäure, Dipicolinsäure, Polymere und Copolymere von
Acrylsäure, Polymere und Copolymere von Vinylphosphonsäure,
Polymere und Copolymere von Vinylsulfonsäure,
5-Nitronaphthalin-1-phosphonsäure, 4-Chlorphenoxymethylphosphonsäure,
Natriumphenylmethylpyrazolonsulfonat,
2-Phosphonobutantricarbonsäure-1,2,4, 1-Phosphonoethantricarbonsäure-
1,2,2 und 1-Hydroxyethan-1,1-disulfonsäure
ein.
Verschiedene Additive können zu der erfindungsgemäßen
verwendeten lichtempfindlichen Zusammensetzung gegeben
werden. Diese schließen beispielsweise Alkylether (wie
Ethylcellulose und Methylcellulose) und oberflächenaktive
Mittel (beispielsweise ein fluorhaltiges oberflächenaktives
Mittel, wie Fluorad FC-430 von 3M) zur Verbesserung
der Beschichtungseigenschaften, Weichmacher,
um dem Beschichtungsfilm Flexibilität und Abriebbeständigkeit
zu verleihen (wie Tricresylphosphat, Dimethylphthalat,
Dibutylphthalat, Trioctylphosphat, Tributylphosphat,
Tributylcitrat, Polyethylenglykol und Polypropylenglykol)
ein.
Weiterhin können die Verbindungen mit wenigstens einer
funktionellen Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend
aus Thiol-, Thioether- und Disulfidgruppen, der lichtempfindlichen
Zusammensetzung zugegeben werden.
Obwohl die Menge dieser Additive in Abhängigkeit von der
Aufgabe variiert, liegt sie üblicherweise bei 0,5 bis
30 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der
lichtempfindlichen Schicht.
Die vorstehende lichtempfindliche Zusammensetzung wird
in einem Lösungsmittel gelöst, das jede der vorstehend
genannten Komponenten lösen kann, und dann auf das vorstehend
genannte Substrat aufgebracht. Beispiele für das
Lösungsmittel schließen Methanol, Ethanol, Isopropanol,
n-Butanol, t-Butanol, Ethylendichlorid, Cyclohexanon,
Aceton, Methylethylketon, Ethylenglykol, Ethylenglykolmonomethylether
(2-Methoxyethanol), Ethylenglykolmonoethylether,
2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol,
1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, Tetrahydrofuran,
Dioxan, Dimethylsulfoxid, Ethylacetat,
Methyllactat, Ethyllactat und Mischungen daraus ein.
Zusätzlich kann das vorstehend genannte Lösungsmittel
auf geeignete Weise in Mischung mit einer geringen Menge
eines anderen Lösungsmittels, das die Diazoharze oder
die Polymere nicht auflöst (wie Wasser oder Toluol) verwendet
werden. Die Konzentration der vorstehend
genannten Komponente (Feststoffkomponente) in dem Lösungsmittel
beträgt 1 bis 50 Gew.-%.
Es ist erwünscht, daß die Lösung der lichtempfindlichen
Zusammensetzung in dem Lösungsmittel bei 50 bis 120°C
nach dem Aufbringen auf das Substrat getrocknet wird.
Die Lösung kann bei einer hohen Temperatur nach Vortrocknung
bei einer niedrigen Temperatur getrocknet
werden, oder alternativ dazu kann sie direkt bei einer
hohen Temperatur ohne Vortrocknung getrocknet werden,
wenn ein geeignetes Lösungsmittel in einer geeigneten
Konzentration der lichtempfindlichen Zusammensetzung
verwendet wird. Diese Lösung kann vorzugsweise über 20 s
bis 3 min getrocknet werden, obwohl diese Zeit kürzer
oder länger sein kann.
Obwohl die Menge der lichtempfindlichen Zusammensetzung
in Abhängigkeit von der Aufgabe variieren kann, liegt
sie im allgemeinen bei 0,5 bis 3,0 g/m², bezogen auf die
Feststoffe im Fall von lichtempfindlichen, lithographischen
Platten. Wenn die Menge der aufgebrachten lichtempfindlichen
Zusammensetzung abnimmt, wird die Lichtempfindlichkeit
höher, die physikalischen Eigenschaften
der lichtempfindlichen Schicht werden jedoch schlechter.
Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterial,
beispielsweise eine lichtempfindliche, lithographische
Platte, wird durch einen transparenten
Originalfilm mit einem Linienbild bzw. Zeilenbild oder Punktbild belichtet
und mit einer wäßrigen alkalischen Entwicklungslösung
entwickelt, um ein negatives Reliefbild des Originalbilds
zu ergeben.
Beispiele für Lichtquellen, die zur Belichtung verwendet
werden, schließen Kohlenbogenlampen, Quecksilberlampen,
Xenonlampen, Metallhalogenidlampen, Stroboskope,
Ultraviolettstrahlen und Laserstrahlen ein.
Die wäßrige alkalische Entwicklungslösung, die zur Entwicklung
des erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterial
verwendet wird, besitzt einen pH im
Bereich von 8 bis 13,5 und enthält Wasser in einer Menge
von nicht weniger als 75 Gew.-%. Beispiele für alkali
sche Mittel schließen anorganische, alkalische Mittel,
wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kaliumhydroxid,
Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium-tert-phosphat,
Natrium-sec-phosphat, Ammonium-tert-phosphat, Ammonium-
sec-phosphat, Natriummetasilicat, Natriumbicarbonat,
Natriumborat, Ammoniumborat und Ammoniak, und organische
Aminoverbindungen, wie Monomethylamin, Dimethylamin,
Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin,
Monoisopropylamin, Diisopropylamin, n-Butylamin, Mono
ethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopro
panolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylen
diamin, Pyridin und Mischungen daraus ein.
Unter diesen sind Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kalium
hydroxid, Natriumhydroxid, Monoethanolamin, Diethanol
amin und Triethanolamin besonders bevorzugt, und sie
können allein oder in Kombination verwendet werden.
Die Menge des alkalischen Mittels in dem wäßrigen alka
lischen Entwickler beträgt 0,05 bis 10 Gew.-%, vorzugs
weise 0,1 bis 7 Gew.-%.
Der wäßrige, alkalische Entwickler kann ein oberflächen
aktives Mittel oder ein organisches Lösungsmittel, wenn
notwendig, enthalten. Beispiele für das oberflächenak
tive Mittel schließen anionische, oberflächenaktive
Mittel, wie Natriumlaurylsulfat, Natriumoctylsulfat,
Ammoniumlaurylsulfat, Salze von Schwefelsäureestern von
C₈-C₂₂-Alkoholen, wie sec-Natriumalkylsulfat, Salze von
Phosphorsäureestern von aliphatischen Alkoholen, wie
Natriumcetylphosphat, Alkylarylsulfonate, wie Natrium
dodecylbenzolsulfonat, Natriumisopropylnaphthalinsulfo
nat, Natrium-m-nitrobenzolsulfonat, Alkylamidsulfonate,
wie
C₁₇H₃₃-CON(CH₃)-CH₂-CH₂-SO₃-Na,
Sulfonate von zwei
basischen, aliphatischen Säureestern, wie Natriumdi
octylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat,
Sulfonate mit einer Arylgruppe als auch einer Oxyalky
lengruppe, wie
und amphotere, oberflächenaktive Mittel, wie Imidazolin
derivate und Betainverbindungen, ein.
Die organischen Lösungsmittel, die auf geeignete Weise
verwendet werden, sind solche mit einer Wasserlöslich
keit bei Raumtemperatur von nicht mehr als 10 Gew.-%,
vorzugsweise nicht mehr als 5 Gew.-%. Beispiele für die
Lösungsmittel schließen 1-Phenylethanol, 2-Phenyletha
nol, 3-Phenylpropanol-1,4-Phenylbutanol-1, 4-Phenyl
butanol-2, 2-Phenylbutanol-1, 2-Phenoxyethanol,
2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxy
benzylalkohol, p-Methoxybenzylalkohol, Benzylalkohol,
Cyclohexanol, 2-Methylcyclohexanol, 4-Methylcyclohexa
nol und 3-Methylcyclohexanol ein. Weiterhin kann ein
Antischäumungsmittel oder ein Wasserweichmacher, wenn
erforderlich, zugegeben werden.
Zusätzlich können reduzierende, anorganische Salze oder
die vorstehend genannte Verbindung mit wenigstens einer
funktionellen Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend
aus einer Thio-, Thioether- und Disulfidgruppe, wenn
notwendig, zugegeben werden.
Beispiele für reduzierende, anorganische Salze schließen
Sulfite, wie Natriumsulfit, Kaliumsulfit, Aluminiumsul
fit, Lithiumsulfit, Magnesiumsulfit, Natriumhydrogen
sulfit und Kaliumhydrogensulfit, Phosphite, wie Natrium
phosphit, Kaliumphosphit, Natriumhydrogenphosphit,
Kaliumhydrogenphosphit, Natriumdihydrogenphosphit und
Kaliumdihydrogenphosphit, ein.
Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Aufzeichnungs
material kann durch verschiedene Verfahren, wie Schalen
entwicklung, Handentwicklung, entwickelt werden oder
kann unter Verwendung einer automatischen Behandlungs
vorrichtung, ausgestattet mit einer Entwicklungskammer
und einer Gummierkammer, oder einer üblicherweise ver
wendeten automatischen Behandlungsvorrichtung, ausge
stattet mit einer Entwicklungskammer und einer Wasch
kammer, entwickelt werden. Das Entwicklungsvermögen des
wäßrigen alkalischen Entwicklers wird im allgemeinen
während der Entwicklung der erfindungsgemäßen, licht
empfindlichen, lithographischen Platten verringert, weil
das alkalische Mittel in dem Entwickler proportional zu
der Menge der entwickelten Platten verbraucht wird oder
weil Kohlendioxid in der Umgebung das alkalische Mittel
während einer verlängerten automatischen Behandlung
neutralisiert. Diese Verringerung des Entwicklungsver
mögens kann wiedergewonnen werden durch Zugabe von zu
sätzlichem Entwickler, wie in der US-PS 42 59 434 offen
bart. Weitere Verfahren, wie eine Desensibilisierung
nach dem Waschverfahren, eine Desensibilisierung ohne
Waschverfahren, eine Behandlung mit einer wäßrigen
Säurelösung oder eine Desensibilisierung nach Behand
lung mit einer wäßrigen Säurelösung, können nach dem
Entwicklungsverfahren, wenn notwendig, durchgeführt
werden.
Die litographische Druckplatte wird dann auf eine
lithographische Druckmaschine gegeben und dem Drucken
ausgesetzt.
Aus der vorstehenden Beschreibung ist ersichtlich, daß
das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Aufzeichnungs
material ausgezeichnete Entwicklungseigenschaften mit
einer alkalischen Entwicklungslösung besitzt. Im Fall
einer negativ arbeitenden, lichtempfindlichen, litho
graphischen Platte kann die erhaltene Druckplatte viele
ausgezeichnete Drucksachen ohne Untergrundverschmutzung
ergeben.
Weiterhin kann die erfindungsgemäße, negativ arbeitende,
lithographische Platte mit einem in großem Umfang ver
wendeten Entwicklungsmittel, das als Entwicklungsmittel
für positiv arbeitende, lichtempfindliche, lithographi
sche Platten bekannt ist, entwickelt werden. Mit anderen
Worten können die erfindungsgemäße, negativ arbeitende,
lichtempfindliche, lithographische Platte und eine posi
tiv arbeitende, lichtempfindliche, lithographische
Platte unter Verwendung des gleiche Entwicklers ent
wickelt werden. Eine üblicherweise verwendete, negativ
arbeitende, lichtempfindliche, lithographische Platte
kann nicht entwickelt werden, ohne einen Resistfilm in
unbelichteten Bereichen mit einem bekannten Entwickler
für eine positiv arbeitende, lichtempfindliche Platte
zurückzulassen, welcher im wesentlichen keine organi
schen Lösungsmittel enthält, was eine ungeeignete Ent
wicklung ergibt, so daß gelbe Flecken in nichtbelich
teten Bereichen auftreten. Auch wenn die Platte ein gu
tes Aussehen bei der Entwicklung besitzt, kann manchmal
eine Untergrundverschmutzung in dem Druckverfahren auf
treten. Das erfindungsgemäße, lichtempfindliche Auf
zeichnungsmaterial, beispielsweise eine negativ arbei
tende, lithographische Platte, kann auf geeignete Weise
durch den Entwickler für eine positiv arbeitende, licht
empfindliche, lithographische Platte ohne die vorstehend
genannten Probleme entwickelt werden, und die erhaltene
lithographische Platte bewirkt keine Untergrundver
schmutzung in Nichtbildbereichen im Druckverfahren.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
Die verwendeten Polymere (a), (b), (c) und (d) wurden
gemäß den Verfahren, die in den JP-PSen 50-1 18 802 und
61-2 75 838, der JP-OS 57-43 890 und der JP-PS 60-1 15 932
beschrieben sind, hergestellt.
Das gewichtsdurchschnittliche (Polystyrolstandard) Mole
kulargewicht der Polymere (a) bis (d) lag im Bereich von
20 000 bis 100 000.
Eine Aluminiumplatte (JIS 1050A) mit einer Dicke von
0,24 mm wurde unter Verwendung einer Nylonbürste und
einer wäßrigen Dispersion aus 400 mesh Bimsstein ge
körnt und dann ausreichend mit Wasser gewaschen. Die
Platte wurde durch Eintauchen in eine 10%ige wäßrige
Natriumhydroxidlösung bei 70°C über 60 s geätzt und
dann mit fließendem Wasser gewaschen. Nach dem Waschen
mit 20%iger Salpetersäure zur Neutralisation wurde die
Platte einer elektrochemischen Aufrauhungsbehandlung,
wie in der JP-PS 53-67507 beschrieben, unter Verwendung
eines Sinuswechselstroms, worin die Elektrolytlösung
eine 1%ige wäßrige Salzpetersäurelösung war und eine
Anodenzeitelektrizitätsmenge von 160 Coulomb/dm² ver
wendet wurde, ausgesetzt. Anschließend wurde die Platte
in eine 30%ige wäßrige Schwefelsäurelösung getaucht, bei
55°C über 2 min entschmutzt und dann einer Anodisierung
in einer 7%igen wäßrigen Schwefelsäurelösung ausgesetzt,
um eine Aluminiumoxidbeschichtungsmenge von 2,0 g/m² zu
ergeben. Die Platte wurde dann in eine 3%ige wäßrige
Natriumsilicatlösung (JIS Nr. 3) bei 70°C über 1 min
getaucht, mit Wasser gewaschen und getrocknet.
Die folgende Unterschichtlösung wurde unter Verwendung
einer Schleudervorrichtung auf die vorstehend erhaltene
Aluminiumplatte aufgebracht und bei 80°C über 30 s ge
trocknet, um eine Unterschicht von 20 mg/dm² nach dem
Trocknen zu ergeben.
Unterschichtlösung | |
2-Mercaptobenzoesäure|0,4 g | |
Methanol | 100 g |
Anschließend wurde die folgende lichtempfindliche Lösung
auf die Unterschicht unter Verwendung einer Schleudervor
richtung aufgebracht und bei 80°C über 2 min getrock
net, um die lichtempfindliche, lithographische Platte I
mit einer lichtempfindlichen Schicht von 2,0 g/m² nach
dem Trocknen zu erhalten.
Lichtempfindliche Lösung | |
Hexafluorphosphat eines Kondensats von 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd|0,5 g | |
Polymer (a) | 5,0 g |
öllöslicher Farbstoff (Victoria-Reinblau BOH) | 0,1 g |
Apfelsäure | 0,05 g |
FC-430 (fluorhaltiges, oberflächenaktives Mittel von 3 M) | 0,05 g |
2-Methoxyethanol | 100 g |
Lichtempfindliche, lithographische Platten II, III und
IV wurden durch das gleiche Verfahren, wie es vorstehend
beschrieben wurde, hergestellt mit der Ausnahme, daß
jeweils das Polymer (b), (c) bzw. (d) anstelle des Poly
mers (a) verwendet wurde.
Lichtempfindliche, lithographische Vergleichsplatten I′
bis IV′ wurden durc das gleiche Verfahren, wie es vor
stehend beschrieben wurde, hergestellt mit der Ausnahme,
daß die Unterschichten nicht aufgebracht wurden und die
lichtempfindlichen Schichten direkt auf die behandelte
Aluminiumplatte aufgebracht wurden. Die lichtempfindli
chen, lithographischen Vergleichsplatten I′, II′, III′
und IV′ wurden unter Verwendung des Polymers (a), (b),
(c) bzw. (d) hergestellt.
Die lichtempfindliche, lithographische Platte I und die
Vergleichsplatte I′ wurden getrennt über 1 min unter
Verwendung eines PS-Lichts (PS light) (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
in einer Entfernung von 1 m bildweise belichtet. An
schließend wurde jede Platte in die folgenden Ent
wicklungslösungen bei Raumtemperatur über 1 min getaucht
und leicht mit absorbierender Baumwolle gerieben, um die
unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht zu
entfernen.
Entwicklungslösungen | |
Natriumsulfit|5 g | |
Benzylalkohol | 40 g |
Natriumcarbonat | 5 g |
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat | 20 g |
Wasser | 1000 g |
Jede so hergestellte Druckplatte wurde zum Drucken auf
holzfreiem Papier unter Verwendung einer Druckmaschine
(Heidelberg GTO Drucker) und einer auf dem Markt erhält
lichen Farbe verwendet. Nach dem Drucken von 500 Blatt
Papier wurde die Verschmutzung in den Nichtbildbereichen
der Drucksachen für jede lithographische Platte visuell
untersucht.
Das unter Verwendung der lithographischen Platte ge
druckte Papier, die aus der erfindungsgemäßen, licht
empfindlichen, lithographischen Platte I erhalten wurde,
wies keine Untergrundverschmutzung auf. Im Gegensatz
dazu besaß das Papier, das unter Verwendung der litho
graphischen Druckplatte gedruckt wurde, die aus der
lichtempfindlichen, lithographischen Vergleichsplatte I′
erhalten worden war, eine leichte Untergrundverschmut
zung. Diese Ergebnisse zeigen, daß die erfindungsgemäß
verwendete Unterschicht vorteilhafte Wirkungen zur Ver
hinderung einer Untergrundverschmutzung besitzt.
Die erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen, lithographi
schen Platten II bis IV und die lichtempfindlichen,
lithographischen Vergleichsplatten II′ bis IV′ wurden
auf die gleiche Weise, wie vorstehend beschrieben, bild
weise belichtet, und die Oberflächen der Platten wurden
leicht mit absorbierender Baumwolle nach dem Eintauchen
in die folgende Entwicklungslösung T bei Raumtemperatur
über 1 min gerieben.
Entwicklungslösung T | |
Natriumsilicat (Molverhältnis von SiO₂ zu Na₂O = 1,1)|20 g | |
Wasser | 1000 g |
Die so erhaltenen lithographischen Platten wurden zum
Drucken auf die gleiche Weise, wie vorstehend beschrie
ben, verwendet.
Die Papiere, die durch die lithographischen Platten, die
aus den erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen, litho
graphischen Platten II bis IV erhalten worden waren, ge
druckt wurden, wiesen keine Untergrundverschmutzung auf.
Im Gegensatz dazu wies das Papier, das durch die Platte, er
halten aus den lichtempfindlichen, lithographischen Ver
gleichsplatten II′ bis IV′, gedruckt wurde, eine Unter
grundverschmutzung auf. Diese Ergebnisse zeigen eben
falls, daß die erfindungsgemäß verwendete Unterschicht
sehr wirksam ist zur Verhinderung einer Untergrundver
schmutzung in dem Druckverfahren.
Die positiv arbeitende, lichtempfindliche, lithographi
sche Platte, die durch das beschriebene Verfahren der
US-PS 36 35 709 hergestellt wurde, wurde durch die vor
stehend genannte Entwicklungslösung T nach bildweiser
Belichtung entwickelt, und die erhaltene lithographische
Platte wurde zum Drucken verwendet, wobei sich keine
Untergrundverschmutzung in den Druckmaterialien ergab.
Diese Ergebnisse zeigen, daß die Entwicklungslösung T,
die kein organisches Lösungsmittel enthält, auf geeig
nete Weise sowohl die positiv arbeitende, lichtempfind
liche, lithographische Platte, als auch die erfindungs
gemäße, negativ arbeitende, lichtempfindliche, litho
graphische Platte entwickeln kann. Mit anderen Worten
kann ein Entwickler, der im wesentlichen frei von orga
nischen Lösungsmitteln ist, sowohl zur Entwicklung der
erfindungsgemäßen, negativ arbeitenden, lichtempfind
lichen, lithographischen Platte, als auch einer positiv
arbeitenden, lichtempfindlichen, lithographischen Platte
verwendet werden.
Jede Unterschichtlösung, die in Tabelle 2 gezeigt wird, wurde
unter Verwendung einer Schleudervorrichtung auf die in Bei
spiel 1 erhaltene Aluminiumplatte aufgebracht und bei
80°C über 30 s getrocknet, um eine Unterschicht von
20 mg/m² nach dem Trocknen zu ergeben.
Die lichtempfindliche Lösung, die bei der Herstellung
der Platte II verwendet wurde, wurde auf die so erhal
tenen Platten unter Verwendung einer Schleudervorrichtung
aufgebracht und bei 80°C über 2 min getrocknet, um eine
lichtempfindliche Schicht von 2,0 g/m² nach dem Trocknen
zu ergeben.
Die lichtempfindlichen, lithographischen Platten wurden
über 1 min unter Verwendung eines PS-Lichts (Fuji Photo
Film Co., Ltd.) in einer Entfernung von 1 m bildweise
belichtet. Anschließend wurde jede Platte in die Ent
wicklungslösung T bei Raumtemperatur über 1 min getaucht
und leicht mit absorbierender Baumwolle gerieben. Die
erhaltenen lithographischen Platten wurden zum Drucken
auf holzfreiem Papier unter Verwendung der Heidelberg
GTO Druckvorrichtung und einer auf dem Markt erhältli
chen Farbe verwendet, um eine Untergrundverschmutzung
mit bloßem Auge zu untersuchen.
Die Papiere, die durch die lithographische Platte, her
gestellt aus den erfindungsgemäßen, lichtempfindlichen,
lithographischen Platten V bis VII, gedruckt wurden,
wiesen keine Untergrundverschmutzung auf. Im Gegensatz
dazu besaßen die Papiere, die durch die Platte, hergestellt
aus der lichtempfindlichen, lithographischen Vergleichs
platte II′ ohne Unterschicht, gedruckt wurden, eine
Untergrundverschmutzung, wie in Beispiel 1 erwähnt.
Eine erfindungsgemäße, lichtempfindliche, lithographische
Platte VIII wurde wie folgt hergestellt: Die gleiche
Unterschichtlösung wurde auf die gleiche Weise, wie in
Beispiel 1 beschrieben, auf eine Aluminiumplatte aufge
bracht, und dann wurde die folgende lichtempfindliche
Lösung auf die Unterschicht mit einer Schleudervorrichtung
aufgebracht und bei 80°C über 2 min getrocknet, um eine
lichtempfindliche Schicht von 1,5 g/m² nach dem Trocknen
zu ergeben.
Lichtempfindliche Lösung | |
4-n-Dodecylbenzolsulfonat eines Kondensats von 4-Diazodiphenylamin und Formaldehyd|0,5 g|0,5 g | |
Polymer (b) (wie in Tabelle 1 gezeigt) | 5,0 g |
öllöslicher Farbstoff (Victoria-Reinblau BOH) | 0,13 g |
Apfelsäure | 0,05 g |
FC-430 (fluorhaltiges, oberflächenaktives Mittel von 3 M) | 0,06 g |
2-Methoxyethanol | 120 g |
Eine lichtempfindliche, lithographische Vergleichsplatte
V′ wurde durch Aufbringen der vorstehend genannten
lichtempfindlichen Lösung auf die gleiche Weise, wie
vorstehend beschrieben, hergestellt mit der Ausnahme,
daß die Lösung direkt auf die Aluminiumplatte ohne Auf
bringen einer Unterschicht aufgebracht und dann getrock
net wurde.
Jede lichtempfindliche, lithographische Platte wurde
über 1 min unter Verwendung eines PS-Lichts (Fuji Photo
Film Co., Ltd.) in einer Entfernung von 1 m bildweise
belichtet. Anschließend wurde jede Platte in die Ent
wicklungslösung T bei Raumtemperatur über 1 min getaucht
und leicht mit absorbierender Baumwolle gerieben. Die
erhaltenen lithographischen Platten wurden zum Drucken
auf holzfreiem Papier unter Verwendung einer Heidelberg
GTO Druckvorrichtung und einer im Handel erhältlichen
Farbe verwendet, um eine Untergrundverschmutzung durch
das bloße Auge zu untersuchen.
Die Papiere, die durch die lithographische Platte, her
gestellt aus der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen,
lithographischen Platte VIII, gedruckt wurden, besaßen
keine Untergrundverschmutzung. Im Gegensatz dazu wiesen
die Papiere, die durch die Platte, hergestellt aus der
lichtempfindlichen lithographischen Vergleichsplatte V′
ohne Unterschicht, gedruckt worden waren, eine leichte
Untergrundverschmutzung auf.
Claims (18)
1. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, dadurch
gekennzeichnet, daß es
- (a) ein Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche,
- (b) eine Unterschicht, umfassend wenigstens eine Verbindung mit wenigstens einer funktionellen Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Thiol-, Thioether- und Disulfidgruppen, und
- (c) eine lichtempfindliche Schicht, umfassend eine Diazoniumverbindung und ein Bindemittel mit hohem Molekulargewicht, das in Wasser unlös lich und in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslich ist,
umfaßt.
2. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Material
eine lichtempfindliche, lithographische Platte ist.
3. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat
eine Aluminiumplatte mit einer hydrophilen Oberflä
che ist.
4. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche
des Substrats durch anodische Oxidation, gefolgt von
einer Behandlung mit einem Silicat, hydrophil ge
macht worden ist.
5. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbin
dung, die in der Unterschicht verwendet wird,
weiterhin wenigstens eine alkalilösliche Gruppe oder
hydrophile Gruppe enthält.
6. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die alkali
lösliche Gruppe aus der Gruppe, bestehend aus -COOH,
-SO₃H, -CONHCO-, -SO₂NH₂, -SO₂NH-, -SO₂-NH-CO-,
-SO₂-NH-CO-O-, -SO₂-NH-CO-NH-, Hydroxyphenyl und
-SH, gewählt wird.
7. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile
Gruppe aus der Gruppe, bestehend aus Hydroxyl- und
Ethergruppen, gewählt wird.
8. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbin
dung, die in der Unterschicht verwendet wird, aus
der Gruppe, bestehend aus 2-Mercaptobenzoesäure,
Mecaptosuccinsäure, 4-Mercaptobenzolsulfonsäure und
Thiodiglykolsäure, gewählt wird.
9. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der
Unterschicht 1 bis 500 mg/m² nach dem Trocknen be
trägt.
10. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der
Unterschicht 5 bis 100 mg/m² nach dem Trocknen be
trägt.
11. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Diazonium
verbindung ein Kondensat eines aromatischen Diazo
niumsalzes und einer reaktiven carbonylhaltigen Ver
bindung ist.
12. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Diazonium
verbindung aus der Gruppe, bestehend aus 4-n-Dode
cylbenzolsulfonat eines Kondensats von 4-Diazodi
phenylamin und Formaldehyd und Hexafluorphosphat
eines Kondensats von 4-Diazodiphenylamin und Form
aldehyd, gewählt wird.
13. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der
Diazoniumverbindung 1 bis 50 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtgewicht der Feststoffkomponenten der licht
empfindlichen Zusammensetzung, beträgt.
14. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der
Diazoniumverbindung 3 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das
Gesamtgewicht der Feststoffkomponenten der licht
empfindlichen Zusammensetzung, beträgt.
15. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Binde
mittel mit hohem Molekulargewicht wenigstens eine
wiederkehrende Einheit der allgemeinen Formeln (I)
bis (IV)
umfaßt, worin R¹¹, R¹⁴ und R¹⁷ gleich oder ver
schieden sind und -H oder -CH₃ bedeuten, R¹² und R¹⁵
gleich oder verschieden sind und eine C₁-C₁₂-
Alkylen-, Cycloalkylen-, Arylen- oder Aralkylen
gruppe bedeuten, die gegebenenfalls substituiert
sein kann, R¹⁸ eine C₆-C₁₂-Arylengruppe bedeutet,
die gegebenenfalls substituiert sein kann, R¹³ -H
oder eine C₁-C₁₂-Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder
Aralkylgruppe bedeutet, die gegebenenfalls substi
tuiert sein kann, R¹⁶ eine C₁-C₁₂-Alkyl-, Cyclo
alkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe bedeutet, die ge
gebenenfalls substituiert sein kann, und Y¹, Y² und
Y³, die gleich oder verschieden sind, -O- oder -NH-
bedeuten.
16. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung
mit hohem Molekulargewicht durch Copolymerisation
eines oder mehrerer polymerisierbarer, ungesättigter
Monomere mit einem oder mehreren Monomeren, gewählt
aus der Gruppe, bestehend aus den Monomeren der all
gemeinen Formeln (V) bis (VIII)
hergestellt wird, worin R¹¹, R¹⁴ und R¹⁷ gleich
oder verschieden sind und -H oder -CH₃ bedeuten, R¹²
und R¹⁵ gleich oder verschieden sind und eine
C₁-C₁₂-Alkylen-, Cycloalkylen-, Arylen- oder Aral
kylengruppe bedeuten, die gegebenenfalls substitu
iert sein kann, R¹⁸ eine C₆-C₁₂-Arylengruppe bedeu
tet, die gegebenenfalls substituiert sein kann, R¹³
-H oder eine C₁-C₁₃-Alkyl-, Cycloalkyl-, Aryl- oder
Aralkylgruppe bedeutet, die gegebenenfalls substi
tuiert sein kann, R¹⁶ eine C₁-C₁₂-Alkyl-, Cyclo
alkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe bedeutet, die gege
benenfalls substituiert sein kann, und Y¹, Y² und Y³
gleich oder verschieden sind und -O- oder -NH- be
deuten.
17. Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach An
spruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß das polymeri
sierbare, ungesättigte Monomer aus der Gruppe, be
stehend aus Methacrylsäureestern, Acrylsäureestern,
Methacrylamiden, Acrylamiden, Acrylnitril, Meth
acrylnitril, Methacrylsäure und Acrylsäure, gewählt
wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63139678A JPH01307745A (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 | 感光性記録材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3918489A1 true DE3918489A1 (de) | 1989-12-14 |
Family
ID=15250875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3918489A Withdrawn DE3918489A1 (de) | 1988-06-07 | 1989-06-06 | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
Country Status (3)
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