DE3902591A1

DE3902591A1 - Verfahren und anordnung zur messung der mikrogestalt technischer oberflaechen

Info

Publication number: DE3902591A1
Application number: DE3902591A
Authority: DE
Inventors: Klaus Dipl Ing Dr Koerner; Holger Dipl Phys Fritz
Original assignee: Akademie der Wissenschaften der DDR
Current assignee: Jenoptik AG
Priority date: 1988-02-10
Filing date: 1989-01-28
Publication date: 1989-08-24
Also published as: US4983042A; DD282371A7; JPH01284704A

Description

Anwendungsgebiet der Erfindung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Messung der Mikrogestalt technischer Oberflächen nach dem Prinzip des Interferenzmikroskops.

Charakteristik des bekannten Standes der Technik

Nach US-PS 46 39 139 ist bekannt, in einem Mireau-Interferometer für die Messung des Oberflächenprofils einen Referenzspiegel anzuordnen, wobei das an diesem Referenzspiegel reflektierte Referenzbündel durch die physikalisch gegebene Restrauheit des Referenzspiegels beeinflußt wird, da die Referenzspiegel- Oberfläche wie auch die Prüflings-Oberfläche in der Schärfeebene des verwendeten Mikroskop-Objektives liegt, also scharf abgebildet wird. Demzufolge wird durch diese Rauheit der Referenzfläche das Meßergebnis verfälscht, obwohl für die Herstellung eines Referenzspiegels mit geringer Restrauheit ein großer Aufwand erforderlich ist. Darüber hinaus läßt sich das Mireau-Interferometer nur sehr schwer bei Anwendung hochaperturiger Objektive (N<0,5) realisieren, was für die Messung der Mikrogestalt von Oberflächen wegen der hohen benötigten lateralen Auflösung aber sehr wichtig ist.

In der Firmenschrift der WYKO-Corp./USA 1/86-5M werden für die Messung der Mikrogestalt technischer Oberflächen Michelson-, Mireau- als auch Linnik-Interferometer eingesetzt. Allen diesen Interferometern ist gemeinsam, daß die Referenzfläche sich mit einer Restrauheit von 0,4-0,8 nm RMS-Wert (Normaltyp), bzw. 0,15 nm RMS-Wert (Sonderausführung) auswirkt. Darüberhinaus ist sehr wesentlich, daß für den Wechsel der Objektivvergrößerung zwi schen 1,5× und 200× insgesamt neun Interferometerköpfe zur Ver fügung stehen. Das heißt, es muß nicht wie bei einem Mikroskop im allgemeinen üblich nur das Objektiv, sondern der gesamte Interferometerkopf gewechselt werden. Dies bedeutet, für den Fall des Linnik-Interferometers muß der Interferometerkopf, bestehend aus Strahlteilereinheit, Referenzobjektiv und Prüf lingsobjektiv vollständig ausgewechselt werden.

Die US-PS 43 53 650 beschreibt einen optischen Laser-Heterodyn- Profiler zur Messung der Restrauheit von optischen Komponenten. Dazu werden ein fokussiertes Prüflings- und ein Referenzstrah lenbündel erzeugt, wobei das Referenzstrahlenbündel ortsfest auf der sich drehenden Prüflingsoberfläche verbleibt und das Prüf lingsstrahlenbündel auf einer Kreisbahn das Profil der Oberflä che Punkt für Punkt erfaßt, indem die Frequenzverschiebung zwi schen Referenz- und Prüflingsstrahlenbündel elektronisch ausge wertet wird.

Nachteilig ist hier, daß nur das Oberflächenprofil entlang einer vorgegebenen Kreisbahn erfaßt werden kann. Für viele Aufgaben ist die Messung der Oberfläche entlang einer Geraden oder in einem Feld jedoch von großer Aussagekraft. Außerdem erlaubt dieses Verfahren nur die visuelle Kontrolle der Foki, nicht aber die Beobachtung der Prüflingsoberfläche selbst.

Nach DD-PS 32 879 ist ein Interferenzmikroskop mit einem Abbildungsobjektiv und einer Objektoberfläche im Objektstrahlraum und einem Tripelreflektor im Referenzstrahlraum bekannt. Diese Anordnung gestattet die Verwendung nur eines Objektivs, das vorzugsweise eine sehr hohe numerische Apertur aufweist. Jedoch ist es nicht möglich, wie in der DD-PS dargestellt, durch die Einbringung eines optischen Keils in die eine Hälfte des Referenzstrahlenbündels Fizeau-Streifen zu erzeugen, da die Interferenzen in der Fokusebene eines Tubusobjektivs beobachtet werden, also im Unendlichen liegen. Das Einbringen eines derartigen Keils in den Strahlengang ist hier sogar schädlich, weil die Interferenzerscheinung in der Beobachtungsebene verschwindet.

Die experimentelle Erprobung der Verwendung eines Tripelreflektors aus Glas im Referenzstrahlengang eines Interferenzmikroskopes wurde in "Feingerätetechnik" 16(1967)11 S. 505-508 für eine Anordnung ohne Keil im Referenzstrahlraum beschrieben. In der Beobachterebene treten jedoch kreisförmige Interferenzstrukturen auf, die unabhängig von der Oberflächenform entstehen und somit die Brauchbarkeit dieser optischen Anordnung so stark einschränkten, daß diese Anordnung in der Interferenzmikroskopie bisher keine praktische Verwendung gefunden hat. Außerdem sind die Anforderungen an die Genauigkeit des Tripelprismas bezüglich der Rechtwinkligkeit der Flächen zueinander sehr hoch, z. B. darf in einem Interferenzmikroskop für den Parallelitätsfehler des hin- und rücklaufenden Strahlen bündels ein Wert von etwa 10 Winkelsekunden für sichtbares Licht nicht überschritten werden. Aus diesen Gründen mußte in der Interferometrie weiterhin mit einem Referenzobjektiv und einer körperlichen Referenzfläche gearbeitet werden.

Ziel der Erfindung

Ziel der Erfindung ist es, den technischen Aufwand bei der interferenzmikroskopischen Messung der Rauheit von Oberflächen im Angströmbereich stark zu verringern.

Darlegung des Wesens der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei der interferometrischen Messung auftretende unerwünschte kreisförmige Interferenzstrukturen zu beseitigen und die bisher erforderliche körperliche Referenzfläche überflüssig zu machen.

Dies wird durch ein Verfahren erreicht, bei dem ein Lichtstrahlenbündel in seinem Raumwinkel begrenzt, kollimiert und durch Teilung der Amplitude in ein Objekt- und ein Referenzstrahlenbündel aufgespalten wird, so daß ein Objekt- und ein Referenzstrahlraum entstehen, wobei das Objektstrahlenbündel in Strahlausbreitungsrichtung optisch versetzt wird und auf eine Objektoberfläche fokussiert, von dieser reflektiert und anschließend wieder kollimiert wird, das Referenzstrahlenbündel im Referenzstrahlraum durch eine dreifache Reflexion in seiner Ausbreitungsrichtung umgekehrt und an seiner Symmetrieachse gespiegelt wird und dabei ebenfalls optisch versetzt wird, das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel wieder vereinigt und fokussiert werden und so im gemeinsamen Strahlraum ein Bild der Objektoberfläche als Interferenzbild entsteht, wobei erfindungsgemäß die im Objekt- und Referenzstrahlraum durch einen unterschiedlichen, optischen Versatz entstehenden virtuellen Spiegelebenen optisch konjugiert werden, so daß die über den Objekt- und Referenzstrahlraum abgebildeten Pupillen als gemeinsame Austrittspupille im gemeinsamen Strahlraum abgebildet werden und der optische Gangunterschied zwischen den interferierenden Objekt- und Referenzstrahlen für wenigstens eine Lichtwellenlänge gegen Null gemacht wird. Dabei wird vorteilhafterweise der Ort der Strahlvereinigung räumlich getrennt, um Möglichkeiten der Korrektur der Ausbreitungsrichtung des Referenzstrahlenbündels zu besitzen. Weiterhin ist es vorteilhaft, die optische Weglänge im Objekt- oder Referenzstrahlraum in Bruchteilen der verwendeten Lichtwellenlänge so zu verändern, daß die Phase in einem Interferenzbild in Bruchteilen von 2 Pi verschoben und nach oder während jeder Veränderung gemessen wird. Diese Korrektur erfolgt vorzugsweise so, daß das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel im gemeinsamen Strahlraum zueinander parallel gemacht werden.

Die erfindungsgemäße Anordnung umfaßt eine Lichtquelle, die eine komplette Interferenzmikroskop-Beleuchtung darstellt, eine Feldblende, ein Beleuchtungsobjektiv, eine teilverspiegelte Schicht, ein Abbildungsobjektiv, eine Objektoberfläche im Objektstrahlraum, die gemeinsam mit dem Abbildungsobjektiv eine virtuelle Spiegelebene im Objektstrahlraum bildet, drei reflektierende Planflächen im Referenzstrahlraum, die ebenfalls eine virtuelle Spiegelebene im Referenzstrahlraum erzeugen, ein Tubusobjektiv und einen Bildempfänger, wobei der Lichtquelle in Lichtrichtung die Feldblende, das Beleuchtungsobjektiv und die teilverspiegelte Schicht folgen, und dieser zum ersten das Abbildungsobjektiv und die Objektoberfläche folgen, zum zweiten dieser die drei reflektierenden Planflächen gegenüberstehen, wobei erfindungsgemäß zwischen der teilverspiegelten Schicht und dem Abbildungsobjektiv eine Platte angeordnet ist, und der teilverspiegelten Schicht eine zweite, parallel zu dieser liegende, teilverspiegelte Schicht angeordnet ist, wobei dieser zum einen ein Drehkeilpaar oder ein Drehkeil und die drei reflektierenden Planflächen und zum anderen das Tubusobjektiv zugeordnet sind, dem ein Bildempfänger, der mit einem Rechner verbunden ist, folgt und der teilverspiegelten Schicht zum dritten ein zweites Tubusobjektiv mit einem Okular gegenübersteht.

Vorteilhafterweise sind die drei reflektierenden Planflächen als Tripelreflektor oder als Dachkantreflektor mit nachfolgender Reflexionsfläche ausgeführt, wobei der Tripelreflektor einen Eckpunkt P aufweist bzw. der geometrische Schnittpunkt des Dachkantreflektors mit der Reflexionsfläche einen Eckpunkt P bildet.

Die Lage und die Brennweite des Abbildungsobjektivs ist mit der optischen Dicke der Platte vorzugsweise so abgestimmt, daß die optische Verlagerung des der teilverspiegelten Schicht zugekehrten Brennpunktes F′ des Abbildungsobjektivs in den virtuellen Brennpunkt F′′, welcher die virtuelle Spiegelebene S′ definiert, so erfolgt, daß diese mit der virtuellen Spiegelebene S′′ des Referenzstrahlraumes optisch konjugiert ist und die beiden über den Objekt- und Referenzstrahlraum abgebildeten Pupillen B′ und B′′ im gemeinsamen Strahlraum eine gemeinsame Austrittspupille (B′, B′′) bilden.

Dabei ist es vorteilhaft, wenn sich die beiden teilverspiegelten Schichten gemeinsam auf einer Platte befinden, wobei diese vorzugsweise nur je etwa die Hälfte der optisch genutzten Fläche bedecken.

Bei Verwendung eines Tripelreflektors ist die virtuelle Spiegelebene S′′ durch die Lage des virtuellen Eckpunktes P′ definiert, wobei sich der virtuelle Eckpunkt P′ als Bild des Eckpunktes P durch den Bildversatz des Tripelreflektors und des Drehkeilpaares ergibt, wobei die Glaswege im Tripelreflektor und im Drehkeilpaar sowie die Lage des Tripelreflektors so bemessen sind, daß sich die beiden virtuellen Spiegelebenen S′ und S′′ mit einer Symmetrieebene R zwischen den beiden teilverspiegelten Schichten in einer Geraden K schneiden.

Der Tripelreflektor ist vorzugsweise quer zur optischen Achse verschiebbar angeordnet. Dadurch wird die Möglichkeit gegeben, die Interferenzstreifenbreite einzustellen.

Vorteilhaft ist es weiterhin, wenn der Tripelreflektor als Glasprisma ausgebildet ist, um eine Veränderung der Relativlage der drei reflektierenden Flächen auszuschließen. Der Bildempfänger besteht zweckmäßigerweise aus einer CCD-Matrix, die eingesetzte Platte ist vorzugsweise keilig und quer verschiebbar angeordnet, um ein exaktes Ineinanderfallen der beiden Pupillen B′ und B′′ in die gemeinsame Austrittspupille (B′, B′′) zu gewährleisten. Wird ein Tripelreflektor eingesetzt, so ist dieser in Strahlrichtung verschiebbar angeordnet, um den optischen Gangunterschied zu Null zu machen. Das Abbildungsobjektiv ist vorzugsweise gemeinsam mit der Platte auswechselbar angeordnet.

Ausführungsbeispiele

Die Erfindung soll nachstehend an Ausführungsbeispielen näher erläutert werden. Die Zeichnungen zeigen die erfin dungsgemäße Anordnung

Fig. 1 mit einer planparallelen Platte und einem Tripelreflektor,

Fig. 2 als Wechselobjektiv mit zugehöriger Platte,

Fig. 3 mit Dachkantprisma in Kombination mit einem 90°-Prisma.

1. Wie in Fig. 1 dargestellt, wird das von einer monochromatischen Lichtquelle 1 ausgehende Strahlenbündel von einer Feldblende 2 begrenzt, durch ein Beleuchtungsobjektiv 3 kollimiert und gelangt auf eine teilverspiegelte Schicht 4, die sich auf einer planparallelen Platte 5 befindet.

Ein Teil des Strahlenbündels gelangt in den Objektstrahlraum und wird zum Objektstrahlenbündel, welches eine Platte 6 durchsetzt und durch ein Abbildungsobjektiv 7 auf eine Objektoberfläche 8 fokussiert wird, wobei ein Fokusfleck entsteht. Von dort wird es im Fokusfleck reflektiert, durch das Abbildungsobjektiv 7 wieder kollimiert, durchsetzt die Platte 6 erneut und gelangt durch die teilverspiegelte Schicht 4 über die planparallele Platte 5 auf eine zweite teilverspiegelte Schicht 9.

Der zweite Teil des Strahlenbündels passiert die teilverspiegelte Schicht 4 und wird zum Referenzstrahlenbündel, durchsetzt die planparallele Platte 5 und wird, nachdem es diese verlassen hat, von einem Tripelreflektor 10 reflektiert und an seiner Symmetrieachse gespiegelt, passiert ein Drehkeilpaar 11 und wird an der teilverspiegelten Schicht 9 mit dem Objektstrahlenbündel zu zwei Interferenzstrahlenbündeln vereinigt, von denen das eine über ein Tubusobjektiv 12 auf einen Bildempfänger 14 gelangt und das zweite Interferenzstrahlenbündel nach dem Durchlaufen der planparallelen Platte 5 über ein Tubusobjektiv 14 durch ein hier nicht dargestelltes Okular beobachtet werden kann.

Es wurde nun gefunden, daß die störenden Interferenzringe vermieden werden, wenn die optische Dicke der Platte 6 und die Lage des Abbildungsobjektivs 7 so auf die optische Dicke des Tripelreflektors 10 und des Drehkeilpaares 11 sowie die Lage des Tripelreflektors 10 abgestimmt sind, daß die jeweils im Objekt- und Referenzstrahlraum liegende virtuelle Spiegelebene S′ und S′′ sich in der die planparallele Platte 5 halbierenden Ebene gemeinsam in einer Geraden K schneiden und so entsprechend Fig. 1 die Beziehung 2 × TF" = TU + WV erfüllt ist und die Bilder B′ und B′′ des Beleuchtungsobjektivs 3 so eine gemeinsame Austrittspupille (B′, B′′) bilden.

Dabei sind die Brennweite und der Hauptebenenabstand des Abbildungsobjektivs 7 so gewählt, daß die optische Weglänge, d. h. die Laufzeit des Lichtes im Objekt- und Referenzstrahlraum, von der Teilung bis zur Wiedervereinigung für die Wellenlänge der monochromatischen Lichtquelle 1 jeweils gleich ist. Das Drehkeilpaar 11 dient zum Ausgleich von Fertigungsfehlern des Tripelreflektors 10 und der planparallelen Platte 5, so daß das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel sich nach der Vereinigung im gemeinsamen Strahlraum kollinear ausbreiten.

Fig. 2 zeigt ein längerbrennweitiges Wechselobjektiv 15 mit dazu gehöriger dünnerer Platte 16 und einer Objektoberfläche 17, wobei auch hier die optische Dicke der Platte 16 und das Wech selobjektiv 15 so, wie bereits beschrieben, aufeinander abge stimmt sind, daß die Lage der virtuellen Spiegelebene S′ erhal ten und die optische Weglänge gleich bleibt.

2. Entsprechend Fig. 3 wird das Objektstrahlenbündel nach der Reflexion an einer teilverspiegelten Schicht 18 in einen Glas block 19 nach dem Durchsetzen einer Platte 20 durch ein Abbil dungsobjektiv 21 auf eine Objektoberfläche 22 fokussiert, wobei ein Fokusfleck entsteht. Von dort wird es im Fokusfleck reflek tiert, durch das Abbildungsobjektiv 21 wieder kollimiert und gelangt durch die Platte 20 über die teilverspiegelte Schicht 18 über ein Parallelstück 23 auf eine zweite teilverspiegelte Schicht 24. Der zweite Teil des Strahlenbündels, das Referenz strahlenbündel, passiert die teilverspiegelte Schicht 18, durch setzt einen Drehkeil 25, wird an einem Dachkantreflektor 26 umgelenkt und an seiner Symmetrieachse gespiegelt, durchsetzt einen weiteren Drehkeil 27 und trifft auf die teilverspiegelte Schicht 23, wo es mit dem Objektstrahlenbündel wiedervereinigt wird, so daß zwei Interferenzbündelpaare gebildet werden, die entsprechend Ausführungsbeispiel 1 Verwendung finden.

Aufstellung der verwendeten Bezugszeichen

1 Lichtquelle
2 Feldblende
3 Beleuchtungsobjektiv
4 teilverspiegelte Schicht
5 planparalle Platte
6 Platte
7 Abbildungsobjektiv
8 Objektoberfläche
9 teilverspiegelte Schicht
10 Tripelreflektor
11 Drehkeilpaare
12 Tubusobjektiv
13 Bildempfänger
14 Tubusobjektiv
15 Wechselobjektiv
16 Platte
17 Objektoberfläche
18 teilverspiegelte Schicht
19 Glasblock
20 Platte
21 Abbildungsobjektiv
22 Objektoberfläche
23 Parallelstück
24 teilverspiegelte Schicht
25 Drehkeil
26 Tripelreflektor
27 Drehkeil

Claims

1. Verfahren zur Messung der Mikrogestalt technischer Oberflächen, bei dem ein Lichtstrahlenbündel in seinem Raumwinkel begrenzt, kollimiert und durch Teilung der Amplitude in ein Objekt- und ein Referenzstrahlenbündel aufgespalten wird, so daß ein Objekt- und ein Referenzstrahlraum entstehen, wobei das Objektstrahlenbündel in Strahlausbreitungsrichtung optisch versetzt und auf eine Objektoberfläche fokussiert, von dieser reflektiert und anschließend wieder kollimiert wird, das Referenzstrahlenbündel im Referenzstrahlraum durch eine dreifache Reflexion in seiner Ausbreitungsrichtung umgekehrt und an seiner Symmetrieachse gespiegelt und dabei ebenfalls optisch versetzt wird, das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel wieder vereinigt und fokussiert werden, wobei im gemeinsamen Strahlraum ein Bild der Oberfläche als Interferenzbild entsteht, dadurch gekennzeichnet, daß die im Objekt- und Referenzstrahlraum durch die unterschiedliche, optische Versetzung entstehenden virtuellen Spiegelebenen optisch konjugiert werden, so daß die über den Objekt- und Referenzstrahlraum abgebildeten Pupillen als gemeinsame Austrittspupille im gemeinsamen Strahlraum oder parallel versetzt in einer gemeinsamen Ebene abgebildet werden und der optische Gangunterschied zwischen den interferierenden Objekt- und Referenzstrahlenbündeln für wenigstens eine Lichtwellenlänge zu Null gemacht wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Ort der Strahlaufteilung und der Ort der Strahlvereinigung räumlich getrennt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Weglänge im Objekt- und Referenzstrahlraum in Bruchteilen der verwendeten Lichtwellenlänge so verändert wird, daß die Phase in einem Interferenzbild in Bruchteilen von 2 Pi verschoben und nach oder während jeder Veränderung gemessen wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Referenzstrahlenbündel so in seiner Ausbreitungsrichtung korrigiert wird, daß sich das Objekt- und das Referenzstrahlenbündel im gemeinsamen Strahlraum kollinear oder zueinander parallel ausbreiten.

5. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 4 zur Messung der Mikrogestalt technischer Oberflächen, mit einer Lichtquelle, einer Feldblende, einem Beleuchtungsobjektiv, einer teilverspiegelten Schicht, einem Abbildungsobjektiv, einer Objektoberfläche im Objektstrahlraum, die gemeinsam mit dem Abbildungsobjektiv eine virtuelle Spiegelebene im Objektstrahlraum bildet, drei reflektierenden Planflächen im Referenzstrahlraum, die ebenfalls eine virtuelle Spiegelebene im Referenzstrahlraum erzeugen, einem Tubusobjektiv und einem Bildempfänger, wobei der Lichtquelle in Ausbreitungsrichtung die Feldblende, das Beleuchtungsobjektiv und die teilverspiegelte Schicht nachgeordnet sind und dieser zum ersten das Abbildungsobjektiv und die Objektoberfläche, zum zweiten dieser die drei reflektierenden Planflächen folgen, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der teilverspiegelten Schicht (4; 18) und dem Abbildungsobjektiv (7; 15; 21) eine Platte (6; 16; 20) angeordnet und zu der teilverspiegelten Schicht (4; 18) eine zweite, parallel zu dieser liegende teilverspiegelte Schicht (9; 24) angeordnet ist, wobei dieser zum einen ein Drehkeilpaar (11) oder ein Drehkeil (27) und die drei reflektierenden Planflächen, zum anderen das Tubusobjektiv (12) zugeordnet sind, dem ein Bildempfänger (13), der mit einem Rechner verbunden ist, folgt und der teilverspiegelten Schicht (9) zum dritten ein zweites Tubusobjektiv (14) mit einem Okular gegenübersteht.

6. Anordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die drei reflektierenden Planflächen als Tripelreflektor (10) oder als Dachkantreflektor mit nachfolgender Reflexionsfläche ausgeführt sind, wobei der Tripelreflektor (10) einen Eckpunkt P aufweist bzw. der geometrische Schnittpunkt des Dachkantreflektors mit der Reflexionsfläche einen Eckpunkt P bildet.

7. Anordnung nach Anspruch 5 und 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage und die Brennweite des Abbildungsobjektivs (7; 15; 21) mit der optischen Dicke der Platte (6; 16; 20) so abgestimmt ist, daß die optische Verlagerung des der teilverspiegelten Schicht (4; 18) zugekehrten Brennpunktes (F′) in den virtuellen Brennpunkt (F′′), welcher die virtuelle Spiegelebene (S′) definiert, so erfolgt, daß diese mit der virtuellen Spiegelebene (S′′) des Referenzstrahlraumes optisch konjugiert ist und so die beiden über den Objekt- und Referenzstrahlraum abgebildeten Pupillen (B′; B′′) im gemeinsamen Strahlraum eine gemeinsame Austrittspupille (B′, B′′) bilden oder parallel versetzt in einer gemeinsamen Ebene abgebildet sind.

8. Anordnung nach Anspruch 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sich die beiden teilverspiegelten Schichten (4; 11) gemeinsam auf einer planparallelen Platte (5) befinden, wobei diese vorzugsweise jeweils nur etwa die Hälfte der optisch genutzten Fläche bedecken.

9. Anordnung nach Anspruch 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Tripelreflektor (10) als Glasprisma ausgebildet ist.

10. Anordnung nach Anspruch 7 und 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage der virtuellen Spiegelebene (S′′) im Referenzstrahlraum durch die Lage des virtuellen Eckpunktes (P′) definiert ist und sich der virtuelle Eckpunkt (P′) als Bild des Eckpunktes (P) des Tripelreflektors (10) durch den Bildversatz desselben und des Drehkeilpaares (11) im Referenzstrahlraum ergibt, wobei die Glaswege im Tripelreflektor (10) und im Drehkeilpaar (11) und die Lage des Tripelreflektors (10) so bemessen sind, daß vorzugsweise der virtuelle Eckpunkt (P′) im Referenzstrahlraum mit dem virtuellen Brennpunkt (F′′) im Objektstrahlraum optisch konjugiert ist und so die beiden virtuellen Spiegelebenen (S′; S′′) optisch konjugiert sind und sich mit der Symmetrieebene (R) zwischen den beiden teilverspiegelten Schichten (4; 9) in einer Geraden (K) schneiden.

11. Anordnung nach Anspruch 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Tripelreflektor (10) quer zur optischen Achse verschiebbar angeordnet ist und der virtuelle Eckpunkt (P′) mit dem virtuellen Brennpunkt (F′′) im gemeinsamen Strahlraum in eine gemeinsame Ebene parallel versetzt abgebildet wird und so ein Interferenzbild hoher Streifendichte entsteht.

12. Anordnung nach Anspruch 5 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Bildempfänger (13) aus einer CCD-Matrix besteht.

13. Anordnung nach Anspruch 5 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (6; 16; 20) keilig und quer verschiebbar angeordnet ist.

14. Anordnung nach Anspruch 5 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Tripelreflektor (10) in Strahlrichtung verschiebbar angeordnet ist.

15. Anordnung nach Anspruch 5 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Abbildungsobjektiv (7; 15; 21) gemeinsam mit der Platte (6; 16; 20) auswechselbar angeordnet ist.