DE10121516A1 - Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Wirkungen kohärenter Bildfehler in einem Interferometer - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Wirkungen kohärenter Bildfehler in einem InterferometerInfo
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 100
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 56
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 15
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims 4
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 18
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000005535 overpotential deposition Methods 0.000 description 3
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000012549 training Methods 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02034—Interferometers characterised by particularly shaped beams or wavefronts
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02057—Passive reduction of errors by using common path configuration, i.e. reference and object path almost entirely overlapping
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02056—Passive reduction of errors
- G01B9/02059—Reducing effect of parasitic reflections, e.g. cyclic errors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
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Abstract
Es werden ein interferometrisches Gerät und Verfahren beschrieben, wodurch die Wirkung kohärenter Bildfehler in Interferometern reduziert werden. Der Streifenkontrast in Interferogrammen wird aufrechterhalten und kohärente Bildfehler, die sonst in Interferogrammen wegen der kohärenten Überlagerung unerwünschter Strahlung vorhanden sind und in einem Interferometer erzeugt werden, werden unterdrückt. Es werden eine Beleuchtung und eine interferogrammetrische Abbildungsarchitektur benutzt, wodurch individuelle Interferogramme der gewählten Charakteristiken von wenigstens einer Oberfläche aus einer Perspektive unterschiedlicher, von der Achse versetzter, Beleuchtungsstellen in einem Interferometer ausgewählt werden, und dann werden diese kombiniert, um den Streifenkontrast aufrechtzuerhalten und gleichzeitig zu bewirken, daß die Bildfehler an unterschiedlichen Bildstellen auftreten, so daß ihr Anteil an dem kombinierten Interferogramm vermindert wird.
Description
Die Erfindung bezieht sich allgemein auf ein interferometrisches Gerät und auf
Verfahren, und insbesondere auf die Konstruktion und die Benutzung von
Lichtquellen, durch die kohärente Bildfehler, die sonst in einem Interferogramm
vorhanden wären, unterdrückt werden können, um das Gesamtsignal/
Rauschverhältnis zu verbessern.
Optische Systeme aller Art werden ungünstig durch Hintergrundlicht, Geisterbilder
und/oder unerwünschtes Licht beeinträchtigt, das von Elementen in einem optischen
Aufbau gestreut wird, und es sind zahlreiche Techniken entwickelt worden
(beispielsweise Schutzschilde und Blenden), um das Ausmaß zu beschränken, mit
dem derartiges unerwünschtes Licht ein Bild erreicht. In einem optischen System,
das kohärentes Licht benutzt, addiert sich der Hintergrund einfach zu dem
Gesamtlichtpegel am Bild. In photographischen Systemen kann derartiges Licht als
Blendverschleierung charakterisiert werden, welches bewirkt, daß der Kontrast der
fertigen Photographie vermindert wird. Ein weiteres allgemeines Beispiel ist die
Verminderung der Sicht, der ein Fahrer eines Kraftfahrzeugs ausgesetzt wird, wenn
er durch eine schmutzige Windschutzscheibe hindurchsehen muß, wobei die
Streuung eine Gesamtblendung erzeugt, die den Kontrast in dem umgebenden
Gelände vermindert.
Wenn jedoch das optische System eine kohärente Strahlung benutzt (z. B.
Laserlicht), wie dies bei zahlreichen Typen von Interferometern der Fall ist, dann
kann das Streulicht das interferometrische Bild stören, indem Lichtpegeländerungen
hoher Amplitude mit einer räumlichen und/oder zeitlichen Struktur erzeugt werden,
die das gewünschte Interferenzmuster vollständig maskieren kann. Die extreme
Empfindlichkeit dieser Interferometer ist die Ursache dafür, daß sie selbst durch den
geringsten Hintergrund störend beeinflußt Werden, der durch die geringsten Fehler
in irgendeinem praktischen System erzeugt werden kann. Staub oder geringe
Kratzer auf den optischen Oberflächen des Systems oder selbst Veränderungen in
den Antireflex-Überzügen sind nur einige wenige Beispiele von Fehlern, die
problematisch sein können. Zusammengefaßt werden diese Fehler und Defekte oft
als optische Bildfehler bezeichnet, und wenn diese in kohärenten optischen
Systemen beobachtet werden, bezeichnet man sie als kohärente Bildfehler.
Eine gewöhnlich benutzte kommerzielle Interferometer-Geometrie ist als Fizeau-
Geometrie bekannt. Die Fizeau-Geometrie hat zahlreiche Vorteile: Das optische
System hat einen gemeinsamen Pfad; es hat eine minimale Zahl optischer
Komponenten; und es ist sehr gut herstellbar. Die ungleiche Pfadausbildung zwingt
jedoch zur Benutzung kohärenter Lichtquellen. Demgemäß kann Licht von allen
Stellen der Systemoptik und des Interferometers einschließlich von Steuungen von
kleinen Oberflächendefekten wie Kratzern, Vertiefungen oder Staub (oder
Volumendefekten, beispielsweise Blasen) das Interferogramm beeinflussen. Diese
Fehler wirken als Lichtstreuzentren und erzeugen charakteristische Ringmuster, die
als Newton'sche Ringe oder "Bullaugen"-Muster bezeichnet werden, die auf das
gemessene Phasenbild aufgedruckt werden und die extrahierte
Oberflächentopographie beeinträchtigen. Selbst die geringste Mikrorauhigkeit von
gut polierten Oberflächen und Antireflex-Überzügen tragen zur Mikrogestalt der
Wellenfronten im Interferometer bei, und da die Wellenfronten nicht mehr
gemeinsam in einem solchen seitlichen Maß von Rauhigkeit passieren, setzen sie
sich selbst in den abschließend gemessenen Wellenfronten fest.
Eine gemeinsame Praxis, die verantwortlich ist zur Einführung von Bildfehlern, ist
die Benutzung kommerziell verfügbarer optischer Komponenten, die nicht speziell
zur Benutzung für Interferometer-Konfigurationen ausgebildet sind und die
Benutzung von Lichtquellen mit dem Gesichtspunkt der Verminderung von
Bildfehlern, wobei jedoch andere Eigenschaften vorhanden sind, die sie kommerziell
attraktiv aus ökonomischen Gründen machen. Auf Lager befindliche Linsen haben
beispielsweise oft die gewünschten technischen Daten, was Blende, Feld,
Brennweite und Aberrationssteuerung betrifft, aber sie besitzen eine Innenstruktur,
die, obgleich für andere Anwendungen geeignet, unerwünschte Bildfehler in
Interferometer einführt.
Ein allgemein bekanntes Verfahren zur Verminderung der Wirkungen kohärenter
Bildfehler in Interferometern ist die Benutzung einer räumlich ausgedehnten Quelle,
im typischen Fall in Form einer Scheibe. Die räumliche Kohärenz der Quelle stellt
jedoch einen Kompromiß mit einer gedehnten Quelle dar, und dies führt zur
Erzeugung von sichtbaren Interferenzstreifen für nur einen begrenzten Bereich von
Interferometerlängen, die durch den Durchmesser der Quelle bestimmt sind.
Demgemäß ist es Hauptaufgabe der Erfindung, eine neue ausgedehnte
Quellengeometrie zu beschreiben, die nicht unter der Kontrastverminderung
herkömmlicher ausgedehnter Quellen leidet und eine ausgezeichnete Unterdrückung
unerwünschter Interferenzen von Oberflächen und Gegenständen bewirkt, die weit
von dem interessierenden Gegenstand entfernt sind, um die Genauigkeit und
Auflösung des Oberflächenprofils unter Benutzung einer Phasenverschiebungs-
Interferometrie zu verbessern.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine zweckmäßige Möglichkeit zu
schaffen, um die Interferenzphase zu modulieren, und weiter bezweckt die
Erfindung, spezielle Anwendungen zu verbessern, die für die Phasenverschiebungs-
Interferometrie entwickelt wurden.
Noch ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine Möglichkeit zu schaffen, um
die Interferenz von Oberflächen zu unterdrücken, die parallel zu der
interessierenden Oberfläche verlaufen, wie dies der Fall ist bei der Messung einer
Oberfläche paralleler Ebenen.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine Quelle zu schaffen, um die
Wirkungen von Bildfehlern in Interferometern zu reduzieren, wobei auf Lager
befindliche optische Bauteile benutzt werden können.
Ein weiteres Ziel der Erfindung besteht darin, eine Quelle zu schaffen, die zur
Verminderung von Bildfehlern in Interferometern ungleicher Pfadlänge benutzt
werden kann, beispielsweise in Geräten der Fizeau-, Mirau- und Twyman-Green-
Typen.
Weitere Ziele der Erfindung sind teilweise klar und ergeben sich aus der folgenden
Beschreibung von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der Zeichnung.
Allgemein bezieht sich die vorliegende Erfindung auf interferometrische Geräte und
Verfahren zur Bewahrung des Streifenkontrastes in Interferogrammen, wobei
kohärente Bildfehler unterdrückt werden, die sonst in einem Interferogramm wegen
der kohärenten Überlagerung unerwünschter Strahlung vorhanden sind, die in dem
Interferometer erzeugt werden. Verschiedene Ausführungsbeispiele der Erfindung
ermöglichen dieses Ergebnis durch Benutzung der Beleuchtung und durch
interferogrammetrische Abbildungsarchitekturen, die individuelle Interferogramme
erzeugen, welche die gleiche Phaseninformation vorgewählter Charakteristiken oder
Eigenschaften einer Testoberfläche enthalten (z. B. Wellenfront, Topographie), und
zwar aus der Perspektive unterschiedlicher, von der Achse versetzter
Beleuchtungspunkte in einem Interferometer. Derartige individuelle Interferogramme
werden kombiniert, um den Streifenkontrast zu bewahren, wobei gleichzeitig bewirkt
wird, daß Bildfehler an verschiedenen Feldstellen derart existieren, daß ihr Anteil an
dem kombinierten Interferogramm verringert wird. Auf diese Weise werden die
gleichen Phasendifferenzen im Interferometer, die speziellen Stellen einer
Testoberfläche entsprechen, durch die Optiken längs unterschiedlicher Lichtpfade
abgebildet.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung umfaßt einen Beleuchtungsmechanismus, der
eine ausgedehnte Quellenstruktur erzeugt, z. B. in Form eines dünnen Rings mit
einem konstanten Nennradius, der mit einem Nennwert um die optische Achse eines
Interferometersystems zentriert ist. Der Ring definiert die Interferometer-
Quellenebene. Das Interferometersystem projiziert die Quellenbeleuchtung in ein
Interferometer, wo die Beleuchtung in zwei getrennte Beleuchtungspfade
aufgespaltet wird. Die Beleuchtung von den beiden getrennten Pfaden wird wieder
kombiniert, nachdem sie das Interferometer verlassen hat und wird auf einen
Detektor projiziert, der in einer Bildebene liegt, wo das Interferogramm detektiert und
anschließend analysiert wird.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel wird eine Punktquelle in einer
Quellenebene in der Weise bewegt, daß sie einen Kreis mit konstantem Radius um
die optische Achse in einer kürzeren Zeit bewegt, die notwendig ist, um ein
Detektorbild zu belichten. Auf diese Weise wird eine "virtuelle" ringförmige Quelle
erzeugt.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel wird der Radius des Quellenrings (direkt
erzeugt oder virtuell) dynamisch geändert, und zwar entweder kontinuierlich oder
schrittweise, wobei der Detektor das Interfergramm abgreift. Da sich der Ringradius
ändert, ändert sich die Phase des Interferogramms in vorbestimmter Weise,
wodurch die Möglichkeit geschaffen wird, die interferometrische Phase in einer
Weise zu modulieren, wie sie durch Phasenverschiebung oder Interferometer-
Anwendung mit Phasenschritten erforderlich ist.
Gemäß einem Merkmal der Erfindung wird eine Punktquelle seitlich bezüglich der
optischen Achse bewegt, und diese erzeugt eine interferometrische
Phasenänderung, wobei gleichzeitig die interferometrische Phase durch einen
anderen Phasenmodulator so verschoben wird, daß die interferometrische Phase
nominell konstant bleibt. Auf diese Weise wird die interferometrische Phase konstant
gehalten, während die Beleuchtungsrichtung sich ändert, wodurch die Wirkungen
kohärenter Bildfehler im wesentlichen ausradiert werden. Die zusätzliche
Phasenverschiebung kann durch einen herkömmlichen mechanischen Umsetzer
bewirkt werden, der eine der Interferometeroberflächen umsetzt, oder durch
Abstimmung der Beleuchtungswellenlänge.
Gemäß einem weiteren Merkmal der Erfindung wird eine Oberfläche eines
transparenten flachen Körpers in Gegenwart der Interferenz von der anderen
Oberfläche gemessen, indem eine Punktquelle seitlich bezüglich der optischen
Achse bewegt und eine interferometrische Phasenänderung erzeugt wird, wobei
gleichzeitig die interferometrische Phase durch einen weiteren Phasenmodulator
derart verschoben wird, daß die interferometrische Phase des Interferogramms
aufrechterhalten wird, die durch die gewünschte Oberfläche des flachen, bezüglich
des Nennwertes konstanten Körpers während jener Zeit erzeugt wird, die verstreicht,
um ein Detektorbild zu belichten. Auf diese Weise wird die interferometrische Phase
von der gewünschten Oberfläche konstant gehalten, während die interferometrische
Phase von der anderen Oberfläche sich im wesentlichen ändert, wodurch die
Interferenzstreifen von der unerwünschten Oberfläche ausgewaschen werden.
Der Aufbau, die Arbeitsweise und die Methode der Erfindung ergeben sich
zusammen mit anderen Aufgaben und Vorteilen der Erfindung aus der folgenden
Beschreibung von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der Zeichnung, wobei
jedes Teil ein zugeordnetes Bezugszeichen aufweist, das dieses Teil identifiziert,
wenn es in den verschiedenen Zeichnungen auftritt. In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 ist eine schematische Ansicht zur Berechnung der Differenz im optischen
Pfadabstand (OPD) zwischen Interferogrammen, die durch einen auf der Achse
liegenden Testpunkt erzeugt wurden mit einer Beleuchtung aus einer Punktquelle
auf dem Rand einer Quellenscheibe mit dem Durchmesser d und einer Punktquelle
im Mittelpunkt der Scheibe (auf der Achse). Der Punktquellenpfad auf der Achse
erzeugt eine durchgehende (zweimal bedeckte) Linie auf der Achse, während die
von der Achse versetzte Punktquelle den Pfad erzeugt, der strichliert dargestellt ist;
Fig. 2 ist eine schematische Darstellung, die zeigt, wie der optische Pfadabstand
(OPD) in einem Fizeau-Interferometer, das mit Luft gefüllt ist, kleiner wird, wenn der
Einfallwinkel α ansteigt, wobei die Dicke des Luftspaltes gleich L ist;
Fig. 3 ist eine der Fig. 2 entsprechende Ansicht, wobei das Fizeau-Interferometer
mit Glas mit dem Index n (planparallele transparente Platte) anstatt mit Luft
versehen ist;
Fig. 4 ist eine schematische Darstellung, die die Beziehung zwischen Bildhöhe,
Feldwinkel und Brennweite einer Linse zeigt;
Fig. 5 ist eine schematische Ansicht eines Ausführungsbeispiels der Erfindung mit
einer Lichtquelle S. einer Kollimator- und Abbildungsoptik, einem CCD-Detektor und
einem Fizeau-Interferometer, wobei die Gegenstandspunkte A und B in Bildpunkten
A' und B' abgebildet werden; wobei A und B auf einer Testoberflächenebene T
liegen, während die Bildpunkte A' und B' auf der CCD-Detektorebene angeordnet
sind, wobei die Lichtquelle in unterschiedlichen Stellungen gegenüber der optischen
Achse OA gezeigt ist. In der oberen Skizze ist sie von der Achse in einer von der
Achse entfernten Stellung verschoben, die unter der optischen Achse liegt, und in
der unteren Skizze ist sie um den gleichen Betrag, aber über die optische Achse,
versetzt. Die optische Pfaddistanz OPD ist in beiden Fällen gleich, wobei die
unterschiedlichen Gegenstandspunkte A und B wiederum die gleiche OPD
aufweisen;
Fig. 6 ist eine schematische Ansicht eines Ausführungsbeispiels der Erfindung mit
einem PZT, einem sich drehenden Strahlteiler, einem rotierenden Keil, der als
Doppelphasen-Verschiebungsmittel wirkt und mit einer virtuell ausgedehnten Quelle;
Fig. 7A ist eine schematische Ansicht eines anderen Ausführungsbeispiels der
Erfindung, wobei zwei in Reihe liegende Keile vorhanden sind, die durch eine
spezielle Elektronik oder einen Computer gesteuert werden und mehrere Muster in
der Brennebene einer Linse beschreiben, z. B. Kreise mit unterschiedlichen
Durchmessern oder Ellipsen mit unterschiedlichen kleinen und großen Achsen,
Linien unterschiedlicher Orientierung;
Fig. 7B ist eine schematische Ansicht eines weiteren Ausführungsbeispiels der
Erfindung, wobei zwei Spiegel Ergebnisse bringen, die äquivalent jenen des
Ausführungsbeispiels nach Fig. 7A sind;
Fig. 8 ist eine schematische Ansicht eines Ausführungsbeispiels eines
erfindungsgemäßen Beleuchtungssystems, das eine Multimodefaser benutzt, die
durch eine Quelle derart erregt wird, daß das Ausgangsmodalmuster der Faser die
Form eines Kreisringes besitzt, dessen Durchmesser durch Änderung des
Einfallwinkels der Erregerquelle geändert werden kann; und
Fig. 9 zeigt mit den Unterfiguren 9a bis 9d unterschiedliche erfinderische
Quellenmuster, die massive und virtuelle Einzel- und Doppelring-Möglichkeiten
benutzen.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich allgemein auf interferometrische Geräte und
Verfahren zur Aufrechterhaltung des Streifenkontrastes in den Interferogrammen,
wobei kohärente Bildfehler unterdrückt werden, die sonst im Interferogramm
vorhanden sind, weil eine kohärente Überlagerung unerwünschter Strahlung erfolgt,
die im Interferometer erzeugt wird. Mehrere verschiedene Ausführungsbeispiele der
Erfindung erreichen dieses Ergebnis durch Benutzung einer Beleuchtungsstruktur
und einer interferogrammetrischen Abbildungsarchitektur, wodurch individuelle
Interferogramme von interessierenden Testoberflächen aus der Perspektive
unterschiedlicher Beleuchtungspunkte erzeugt werden, die alle von der optischen
Achse entfernt sind, d. h. nicht in der Achse liegen. Diese individuellen
Interferogramme werden dann kombiniert, um den Streifenkontrast in einem
integralen Interferogramm aufrechtzuerhalten, wobei gleichzeitig Sorge dafür
getragen wird, daß Bildfehler an unterschiedlichen Feldstellen derart erscheinen,
daß der Anteil der Bildfehler in dem kombinierten Interferogramm verdünnt,
verschmiert oder ausgewaschen wird. Demgemäß werden die gleichen
Phasendifferenzen in dem Interferometer, die den speziellen Stellen auf einer
Testoberfläche entsprechen, über Optiken längs unterschiedlicher Lichtpfade
abgebildet. Die Erfindung umfaßt weitere Merkmale zur Phasenmodulation, die die
Benutzung in Verbindung mit Phasenverschiebungs- und Stufeninterferometrie-
Techniken möglich machen.
Zum Verständnis der Erfindung ist es nützlich, zunächst die Natur der Quelle zu
untersuchen, die benutzt wird, um individuelle Interferogramme zu erzeugen, und
um zu erkennen, wie die in jedem dieser individuellen Interferogramme enthaltene
Phaseninformation im wesentlichen identisch ist, so daß eine zweckmäßige
Kombination vorgenommen werden kann und Bildfehler unterdrückt werden.
Eine ausgedehnte Quelle kann angesehen werden als eine große Zahl physikalisch
getrennter Punktquellen. Aus der Perspektive eines jeden Quellenpunktes verschiebt
sich die Lage eines Bildfehlers im Feld infolge der Parallaxe. Deshalb kann ein
ordnungsgemäß abgebildetes fertiges interferometrisches Bild hergestellt werden,
das die Summe von Bildern aus einzelnen Interferogrammen ist, die allen
Punktquellen entsprechen, wobei wirksam Interferenzmuster ausgeblendet werden,
die von dem Bildfehler herrühren. Jedoch im Unterschied zu typischen
ausgedehnten Quellen hält die Quelle nach der Erfindung einen guten
Streifenkontrast aufrecht, indem gewährleistet wird, das die Interferogramme, die
von jedem Quellenpunkt erzeugt werden, identisch sind (d. h. ihre optischen
Pfaddifferenzen (OPD) sind die gleichen).
Um den Unterschied zwischen der erfindungsgemäßen Lichtquelle und typischen
ausgedehnten bekannten Lichtquellen zu verstehen, ist es nützlich, die
Eigenschaften einer typischen Scheibenquelle zu betrachten, die auf der optischen
Achse zentriert ist. Eine derartige Scheibenquelle erfüllt nicht die Forderung, die
durch die Erfindung erreicht wird, da Punktquellen unterschiedlicher Lage längs
eines Radius der Scheibe unterschiedliche Interferogramme erzeugen. Dies kann
leicht dadurch demonstriert werden, daß die OPDs für eine bestimmte Stelle auf der
Testoberfläche von einer Punktquelle im Mittelpunkt der Scheibe (auf der Achse) mit
einer Punktquelle verglichen werden, die am Rand der Scheibe liegen. Es soll aus
Zweckmäßigkeitsgründen ein Interferometer mit einer Fizeau-Geometrie gemäß
Fig. 1 angenommen werden. Eine kreisförmige ausgedehnte Quelle soll den
Durchmesser d haben, die Interferometerlänge beträgt L und die Kollimator-
Brennweite beträgt f. Für diese feste Konfiguration kann gezeigt werden, daß die
Differenz Δ in den OPDs annähernd gegeben ist durch:
Natürlich vergrößert sich Δ schnell mit d, und dies bedeutet, daß der Kontrast des
Interferogramms schnell abfällt, wenn der Scheibendurchmesser zunimmt. Die
folgende Diskussion erklärt in Verbindung mit Fig. 2 im einzelnen, warum dies der
Fall ist und unter welchen Bedingungen die Kontrastverminderung verringert werden
kann.
Nunmehr soll das optische System gemäß Fig. 2 betrachtet werden, wo eine
Beleuchtungsebenen-Welle Σ auf ein Fizeau-Interferometer der Länge L auftrifft,
und zwar mit einem Einfallwinkel α. Das Fizeau-Interferometer ist von der
Bezugsfläche R aufgebaut, und die Testoberfläche T und der dazwischenliegende
Raum ist mit Luft ausgefüllt. Die Vorderseite und die Rückseite der Platten, die die
Bezugsoberfläche bzw. die Testoberfläche R bzw. T tragen, sind zur Vereinfachung
weggelassen. Die Testoberfläche T trägt einen Punkt A, für den der schräge Strahl,
d. h. der Mittelpunktstrahl zur Abbildung des Punktes A, auf einem CCD-Detektor
dargestellt ist. Der CCD-Detektor selbst sowie alle anderen optischen Elemente, die
das Interferometer bilden, sind in Fig. 5 dargestellt und werden im einzelnen weiter
unten diskutiert.
Aus den Fig. 2 und 5 ist ersichtlich, daß unterschiedliche Strahlen von der
beleuchtenden ebenen Welle Σ, die ursprünglich einen seitlichen Abstand von 2h
an der Bezugsoberfläche hatten, sich nach Reflexion von der Bezugsoberfläche
bzw. der Testoberfläche kombinieren und schließlich den erwünschten
Interferenzeffekt auf dem Detektor ergeben. Dabei ist festzustellen, daß diese
beiden Strahlen nach der Reflexion auf den beiden Oberflächen (eingebundene
Strahlen) gemeinsam durch das gesamte Instrument bis zum Detektor wandern,
solange die beiden Oberflächen parallel zueinander eingestellt sind. Im Idealfall
haben daher sämtliche Fehlstellen in den optischen Oberflächen den gleichen
Einfluß auf beide Strahlen und zeigen sich nicht im Interferenzmuster. Dieses
vorteilhafte Verhalten trifft nicht zu, wenn die Strahlen voneinander auch nur um
einen sehr kleinen Betrag abweichen, was der Fall ist, wenn das Interferometer nicht
perfekt auf Null eingestellt ist oder das Teststück etwas von der Ebene abweicht.
Dies ist der allgemeine Fall, und aus diesem Grunde sieht die Erfindung eine
Verbesserung in der Qualität der Messung vor.
Die Phasendifferenz ϕ, die entscheidend ist für das schließliche Interferenzmuster
auf dem Detektor, ist eine Funktion der optischen Pfaddifferenz (OPD) innerhalb des
Fizeau-Interferometers und eine Funktion der Wellenlänge des Lichts. Die optische
Pfaddifferenz wird durch den Abstand L der beiden Oberflächen, die das
Interferometer bilden, definiert und durch den Anstellwinkel α des
Beleuchtungsstrahls. Dafür gilt das Folgende:
Insgesamt ist die Phasendifferenz ϕ eine Funktion der Wellenlänge λ, der
Interferometerdicke L und des Anstellwinkels α. Die Position und Richtung der
Strahlen, die den Punkt A über die Interferometeroptik beleuchten und abbilden,
ändern sich mit dem Anstellwinkel α. Wenn sich α während der Integrationszeit
eines Kamerabildes ändert, dann ändert sich auch der Einfluß der Mikrorauhigkeit
auf allen optischen Teilen mit Ausnahme des Teststücks selbst sehr schnell und
löscht im Zeitdurchschnitt. Damit ϕ stationär mit sich änderndem Anstellwinkel α
verbleibt, kann man eine Kompensation vornehmen, entweder durch Adaption von
L oder λ, wie dies aus (1b) durch eine Taylor'sche Reihenexpansion abgeleitet
werden kann:
Die Gleichung (2) wird unter der folgenden Voraussetzung erfüllt:
Mit
kann die Gleichung (3) erfüllt werden durch
ΔL = L tan(α).Δα (5)
wenn λ konstant gehalten wird oder
Δλ = λ tan(α).Δα (6)
wenn L konstant gehalten wird.
Wenn α zwischen 0 und α1 geändert wird, dann sollte sich L von L0 auf L1 gemäß
der folgenden Beziehung ändern:
oder ähnlich
Aus der Definition der Brennweite eines Kollimators durch Gauss (vergleiche
Fig. 4) folgt, daß
y = f.tanα (9)
wobei y der seitliche Abstand der Punktquelle von der optischen Achse des
Kollimators ist. Durch Einsetzen von (9) in (7) und (8) ergibt sich die notwendige
Interferometerlänge bzw. die Wellenlänge, wenn der Ort der Punktquelle seitlich von
einer Lage auf der Achse in die Lage y verschoben wird.
Aus den Gleichungen (7) und (8) ist ersichtlich, daß Betrag und Vorzeichen der
durchzuführenden Kompensation für beide Vorzeichen des Anstellwinkels α gleich
sind, d. h. für eine Beleuchtung beispielsweise durch zwei komplimentare
Beleuchtungspunkte auf beiden Seiten der optischen Achse gemäß Fig. 5. Die
Wirkung wird durch cos(α) beschrieben, und dies ist eine gerade Funktion. Das
Gleiche gilt für die Gleichungen (10) und (11), wobei y quadriert ist und daher die
beiden Seiten auf jeder Seite der optischen Achse äquivalent sind für die Lage der
Punktquellen.
Nachdem verschiedene fundamentale Prinzipien, unter denen die Erfindung arbeitet,
beschrieben wurden, wird nunmehr im einzelnen auf die Vorrichtung gemäß Fig. 5
Bezug genommen.
Fig. 5 ist eine schematische Ansicht eines Ausführungsbeispiels der Erfindung, und
diese ist allgemein als System 10 angegeben. Das System 10 umfaßt eine
Lichtquelle S. eine Punktquelle, beispielsweise einen Laser, eine Kollimatoroptik und
eine Abbildungsoptik, bestehend aus Kollimatorlinse 20 und einem Objektiv oder
einer Okularlinse 40, einem CCD- oder einem anderen äquivalenten Detektor 50
und einem Fizeau-Interferometer 30, wo die Gegenstandspunkte A und B auf einer
Testoberfläche in Bildpunkten A' und B' auf dem Detektor 50 abgebildet werden. A
und B sind auf einer Testoberflächenebene T angeordnet, und A' und B' liegen in
der CCD-Detektorebene. Die obere und die untere Skizze gemäß Fig. 5 zeigen die
Lichtquelle 5 in unterschiedlichen Lagen, wobei beide Lagen insgesamt gegenüber
der optischen Achse OA versetzt sind. In der oberen Skizze ist die Lichtquelle S von
der optischen Achse in eine Stellung unter der optischen Achse verschoben, und
in der unteren Skizze ist sie um den gleichen Betrag, aber über der optischen
Achse, verschoben. Die OPD ist in beiden Fällen gleich bei den unterschiedlichen
Gegenstandspunkten A und B, die die gleiche OPD haben, und zwar aus den oben
angegebenen Gründen. Das die Testoberfläche T bestrahlende Licht wird
ausgerichtet, und das reflektierte Licht zwischen der Kollimatorlinse 20 und der
Objektivlinse 40 wird ebenfalls ausgerichtet. Dabei ist zu bemerken, daß bei dieser
Art der Abbildung, obgleich nur die Mittelpunktsstrahlen (schräge Strahlen)
dargestellt sind, alle Strahlen zu einem Bildpunkt beitragen, der die gleiche optische
Pfadlänge zwischen dem Objektpunkt und dem Bildpunkt aufweist. Im Falle eines
afokalen Systems haben selbst die optischen Pfadlängen zwischen
unterschiedlichen Objektpunkten in der gleichen Objektebene gleiche Pfadlängen.
Aus der Betrachtung der Fig. 5 ergibt sich, daß die notwendige Kompensation
unabhängig von dem Vorzeichen von y ist, wo am oberen Teil von Fig. 5 die Lage
für die Punktquelle unter der optischen Achse liegt und im unteren Teil von Fig. 5
die Lage der Punktquelle S über der optischen Achse liegt. In beiden Fällen ist die
OPD im Interferometer die gleiche.
Eine weitere wichtige Tatsache, die sich aus dem oberen Teil von Fig. 5 ergeben
sollte, besteht darin, daß die beiden Oberflächen, welche das Fizeau-Interferometer
30 bilden, exakt parallel sind, wenn keine "Streifen" auf der CCD-Kamera
erscheinen. Zwei Punkte A und B werden im oberen Teil von Fig. 5 betrachtet, und
beide haben exakt den gleichen OPD. In anderen Worten ausgedrückt: Die OPDs
ändern sich nicht, wenn der Punkt B in die Lage von Punkt A verschoben wird.
Daher liegen beide auf dem "gleichen Interferenzstreifen", der in diesem Falle
unendlich breit ist. Dasselbe trifft zu für die andere Koordinate x, die in Fig. 5 nicht
dargestellt ist. Dies kann abgeleitet werden, indem man berücksichtigt, daß die
ebene Wellenfront, die auf das Interferometer auftrifft, senkrecht zur Oberfläche des
Interferometers steht und daher jeder Punkt "über" A (über der Ebene der Skizze)
oder unter A die gleiche OPD wie A hat. Daher gilt, was für den Punkt A gilt, auch
für die gesamte Oberfläche von T. Es ist nunmehr klar, daß die Lage der
Punktquelle S einen Kreis mit dem Radius r = |y| beschreiben kann, ohne daß sich
die OPD des Interferometers als Ganzes ändert. Jede dieser Stellen trägt zu dem
gleichen stationären Interferenzmuster in kohärenter, aber konstruktiver Weise bei.
Deshalb können all diese Muster auf einem CCD-Chip während der Belichtungszeit
eines Bildes gesammelt werden, ohne daß der Interferenzkontrast vermindert wird,
oder sie können durch Kombination einer Reihe von Bildern integriert werden, indem
sie auf einem Zusatzpuffer oder dergleichen gespeichert werden.
Gemäß dem Vorstehenden wurden Mittel vorgesehen, um Strahlung auf ein zu
überprüfendes Objekt in einem Interferometer von unterschiedlichen Stellen
auszurichten, die im Abstand von der optischen Achse derart liegen, daß die
Strahlung von diesen Stellen auf den gleichen Punkten des Gegenstandes längs der
optischen Achse einfällt, die im wesentlichen identische optische Pfaddifferenzen im
Interferometer aufweisen, um Interferenzwellenfronten zu erzeugen; die Strahlung
von jeder Stelle, die optische Interferenzstrahlen erzeugt, in denen die
Eigenschaften des interessierenden Objekts, z. B. die Wellenfront, die
zurückgeworfen wird oder ihre Topographie dekodiert wird als im wesentlichen
identische Phaseninformation, während die Feldposition der Phaseninformation, die
den Bildfehlern entspricht, sich ändert wegen der unterschiedlichen Parallaxen-
Perspektiven von jeder der unterschiedlichen Stellen.
Stattdessen kann eine ausgedehte statische ringförmige Quelle benutzt werden. In
diesem Fall addieren sich die "individuellen" Interferenzmuster eines jeden von
Millionen Punkten, die die ausgedehnte Quelle bilden, kohärent zusammen, aber
wiederum in konstruktiver Weise. Außerdem kann, wie ersichtlich, eine rotierende
Punktquelle oder eine seitlich verschobene Quelle ("dynamisch") benutzt werden.
Um eine Ringquelle zu bilden, kann von einer Punktquelle Gebrauch gemacht
werden in Verbindung mit einem optischen Bulkaxicon oder seinem
Beugungsäquivalent. Es können auch Kombinationen derartiger Quellen vorteilhaft
benutzt werden.
Fig. 5 zeigt, daß für unterschiedliche Stellen der Punktquelle S der gesamte Verlauf
der Strahlen durch das optische System unterschiedlich ist. Dies ist genau der
gewünschte Effekt, da dies die Möglichkeit ist, die kohärenten Bildfehler durch
wirksame Benutzung einer ausgedehnten Apertur zu vermeiden. Diese Eigenschaft
hält zusammen mit verschiedenen anderen Geräten und Verfahren, die zu
beschreiben sind, die räumliche Kohärenz mit einer einzigen ringförmigen Quelle
einer rotierenden Punktquelle oder einer seitlich verschobenen Quelle mit geeigneter
Kompensation für die Veränderung von OPD aufrecht, und zwar entweder durch
Veränderung der Interferometerlänge L oder der Wellenlänge λ oder durch
Veränderung von beiden, wodurch ein Interferometer mit ungleichem Pfad
geschaffen wird, beispielsweise ein Fizeau-Interferometer mit einer hohen
Bildqualität für sehr feine Objekteinzelheiten sowie eine sehr gute Auflösung von
sehr kleinen Oberflächenhöhen-Änderungen, die mit Interferometern gleicher
Pfadlänge, beispielsweise einem Michelson- oder einem Mirau-Interferometer,
erreichbar sind.
Bis hierher wurde nur die Unterdrückung von kohärenten Störungen diskutiert. Es
ist jedoch auch durch Änderung des Abstandes y des Punktes S und durch
gleichzeitige Einstellung der OPD möglich, die Interferenz von einer unerwünschten
dritten Oberfläche innerhalb eines "Doppel"-Fizeau-Interferometers zu unterdrücken.
Dies wird in Verbindung mit Fig. 6 diskutiert.
Fig. 6 ist eine schematische Ansicht eines Ausführungsbeispiels der Erfindung, das
allgemein als System 100 bezeichnet wird. Allgemein gesehen ist das System 100
ein Fizeau-Interferometer, das ein PZT, einen drehbaren Strahlteiler und einen sich
drehenden Keil benutzt, die gemeinsam als Doppelphasen-Verschiebungsmittel und
als "virtuell ausgedehnte Quelle" bei der Messung einer transparenten planparallelen
Platte wirken. Die zu messende transparente Platte ist bei 102 dargestellt, und sie
weist eine Bezugsoberfläche bei 104 auf. Eine Quelle 106 durchläuft einen
rotierenden Keil 108, um auf einem drehbaren Strahlteiler 112 und danach auf der
Platte 102 über eine Bilderzeugungsoptik abgebildet zu werden, die eine
konvergierende Linse 110 und eine Kollimatorlinse 118 aufweist. Eine bekannte
Drehvorrichtung 114 ist verantwortlich für ein selektives Drehen des Strahlteilers 112
unter der Steuerung eines Computers 124. Die reflektierten Lichtstrahlen von der
Bezugsoberfläche 104 und der Testoberfläche 102 werden auf einem geeigneten
Sensor 122 über eine Kollimatorlinse 118 und ein Objektiv oder eine Okularlinse 120
abgebildet. Der Ausgang des Sensors 122 wird dem Computer 124 zugeführt, um
eine bekannte Phasenanalyse und danach eine numerische Analyse mit irgendeiner
Bildverarbeitungsforderung durchzuführen, und um eine Darstellung zu bewirken
oder für metrologische Zwecke. Der Computer 124 steuert auch einen Motor 109,
der mit dem Keil 108 verbunden ist, um diesen selektiv zu drehen, und er ist auch
mit einem PZT 126 verbunden, der selektiv eine Bezugsoberfläche 104 antreibt, um
diese längs der optischen Achse OA zu modulieren.
Wie dargestellt, beeinflussen sich drei kohärente Wellen in dem System 100. Die
erste Welle ist der Anteil der Beleuchtungsebenenwelle, die von der
Bezugsoberfläche 104 reflektiert wird. Die zweite Welle ist jener Teil, der von der
Vorderseite der transparenten Platte 102 reflektiert wird, und die dritte Welle ist
jener Teil, der von der Rückseite der transparenten Platte 102 reflektiert wird. Weil
sowohl die Vorderseite als auch die Rückseite zu jedem Zeitpunkt gemessen
werden müssen, bewirkt das Vorhandensein der verbleibenden Reflexion eine
Störung, und in diesem speziellen Fall ist die Störung von der gleichen
Größenordnung wie die gewünschte Welle. Der Einfluß dieser unerwünschten dritten
Welle kann dadurch ausgelöscht werden, daß zwei unabhängige
Phasenverschiebungen eingeführt werden, die die Komponenten des Systems 100
benutzen. Da bei einer massiven planparallelen Platte keine Möglichkeit besteht, die
relative Phase der beiden Reflexionen auf der Vorder- und Rückseite durch
physikalische Bewegung einer der beiden Oberflächen gegenüber der anderen zu
ändern, kann eine Änderung der beleuchtenden Wellenlänge das notwendige
Ausmaß von Freiheit liefern, die benötigt wird, um zwischen den Reflexionen der
endgültig gemessenen Phasenaufzeichnung zu unterscheiden. Das Gleiche ist hier
möglich, aber die Änderung in der Wellenlänge wird nunmehr ersetzt mit einer
Änderung des Anstellwinkels a der ebenen Welle, die das Fizeau-"Doppel"-
Interferometer beleuchtet.
Nunmehr wird auf Fig. 3 Bezug genommen, wo gezeigt ist, daß der Anstellwinkel
eine Änderung im OPD einer massiven Glasplatte mit der Dicke L und einem
Brechungsindex von n liefert:
OPD = 2L√n2 - sin2α. (12)
Für eine Glasplatte von beispielsweise L = 5 mm mit einem Brechungsindex von
n = 1,5 muß α die folgenden Tabellenwerte für benachbarte Änderungen von OPD
von λ/2 (λ = 633 nm) einnehmen:
Die letzte Zeile in der Tabelle zeigt die seitliche Verschiebung der Punktquelle
gegenüber der optischen Achse, die erforderlich wäre, wenn eine Kollimatorlinse mit
einer Brennweite von 500 mm benutzt wird.
Eine Änderung des Anstellwinkels kann in dem System 100 leicht bewerkstelligt
werden, indem der Winkel des Strahlteilers 112 in Fig. 6 geändert wird. Der
Strahlteiler 112 ist auf einer Drehvorrichtung 114 gelagert, die vom Computer 124
gesteuert wird und auch die Detektorbilder für die Messung akquiriert. Die zweite
unabhängige Phasenverschiebung, die für eine vollständige Steuerung im
allgemeinen Fall notwendig ist, wird durch die übliche PZT-Vorrichtung 126 bewirkt,
die die Bezugsoberfläche 104 längs der optischen Achse OA verschiebt.
Dieses Beispiel demonstriert, daß in zahlreichen Fällen die Erfindung die
Anwendung einer abstimmbaren Lichtquelle ersetzt. In Fig. 6 ist zusätzlich zu dem
drehbaren Strahlteiler 112 ein rotierender Glaskeil 108 vorgesehen. Der Keil 108
kann mit dem Strahlteiler 112 benutzt werden, um die kohärenten Störungen, wie
oben beschrieben, weiter zu vermindern. In diesem Fall können die virtuellen Orbits
der Lichtquelle um die optische Achse Ellipsen beschreiben, deren eine Achse durch
den Keilwinkel bestimmt und fixiert ist, während die andere Achse der Ellipse durch
die Winkelbewegung des Strahlteilers 112 definiert ist und so gesteuert werden
kann, daß die Notwendigkeiten zur Unterdrückung des unerwünschten Einflusses
einer der Oberflächen der parallelen Platte erfüllt werden.
Eine weitere sehr vorteilhafte Lösung ist die Benutzung von zwei Keilen in Folge,
wie in Fig. 7A dargestellt, worin eine Ansicht eines weiteren erfindungsgemäßen
Ausführungsbeispiels dargestellt ist, welches als System 200 bezeichnet wird. Bei
dem System 200 beschreiben zwei in Reihe liegende Keile, die durch eine spezielle
Elektronik oder durch einen Computer gesteuert werden, mehrere Muster in der
Brennebene der Linse, d. h. Kreise mit unterschiedlichem Durchmesser, Ellipsen mit
unterschiedlicher kleiner und großer Achse und Linien unterschiedlicher
Orientierung, und diese Muster können synchron zueinander gesteuert und auch mit
Kamerabildern synchronisiert werden, während gleichzeitig ihre Winkelphasen-
Beziehung ebenfalls unter der Steuerung des Computers 216 geändert werden
kann.
Wie aus Fig. 7A ersichtlich, weist das System 200 ein in bekannter Weise erzeugtes
Lichtbündel 202 und zwei in Reihe liegende drehbare Keile 204 und 206 auf, die
jeweils durch Motoren 212 bzw. 214 unter der Steuerung eines Computers 216 oder
durch eine andere geeignete Elektronik gesteuert werden. Das Lichtbündel 202 wird
selektiv durch die Keile 204 und 206 gemäß ihrer Relativstellung und gemäß der
Winkelgeschwindigkeit der Drehung abgeleitet und dann auf einer Brennebene 210
über ein nur schematisch dargestelltes Linsensystem 208 fokussiert. Das Bild des
Lichtbündels 202 in der Brennebene 210 kann nunmehr als ausgedehnte
Interferometerquelle benutzt werden, um Bildfehler zu unterdrücken, während das
Signal/Rausch-Verhältnis des Interferogramms verbessert wird.
Wenn die Keile 204 und 206 den gleichen Keilwinkel aufweisen, dann können sie
so eingestellt werden, daß ihre Wirkung sich gegenseitig auslöscht, d. h. der
fokussierte Punkt bleibt auf der optischen Achse, während die Keile sich synchron
drehen. Wenn die Keile um 180° versetzt zueinander gedreht werden, dann
addieren sich ihre Wirkungen und der Punkt beschreibt einen Kreis mit einem
maximalen Radius. Zwischenstellungen der Relativdrehung der Keile 104 und 106
können jeden Radius r zwischen 0 und rmax einstellen. Genau definiert werden
diskrete Radien benötigt für das Auslöschen einer Welle und um gleichzeitig die
kohärente Störung zu vermindern. Es ist auch klar, daß Paare reflektierender
Abtastspiegel benutzt werden können, die um senkrecht zueinander stehenden
Achsen drehbar in dem System 200 gelagert sind, um den gleichen Zweck
durchzuführen oder in dem System 100 gemäß Fig. 6 für ähnliche Zwecke. Auf die
beschriebene Weise wird eine Phasenverschiebung dadurch bewirkt, daß die Phase
der Drehung der Motoren 212 und 214 relativ zueinander eingestellt wird.
Fig. 7B ist ein Ausführungsbeispiel, bei dem zwei hintereinander geschaltete Spiegel
benutzt werden, durch die eine Phasenverschiebung bewerkstelligt werden kann,
indem die Phase der Drehung der Motoren geändert wird, auf denen die Spiegel
gelagert sind. Demgemäß werden die Spiegel 205 und 209 drehbar von Motoren
207 bzw. 211 getragen. Die Oberflächen der Spiegel 205 und 209 sind so
angeordnet, daß sie nicht senkrecht zur optischen Achse stehen (Spiegel"keile").
Demgemäß folgt der ankommende Strahl 203 einem konusartigen Ausgang wie im
Falle der Keile oben, und es besteht eine Abhängigkeit der relativen Phase der
Motoren 207 und 209. Dieser Effekt kann durch die beiden hintereinander
geschalteten Spiegel ausgelöscht oder addiert werden, so daß diese Spiegel völlig
äquivalent den Keilen bezüglich der Übertragung sind.
Es ist nicht notwendig, eine genaue Punktquelle im Falle der Abtastung zu
benutzen, da bessere Ergebnisse erlangt werden können, wenn ein kleiner Punkt
ähnlich einer Multimodefaser oder ein konvergenter oder divergenter Strahl benutzt
wird, der nicht scharf fokussiert ist und auf ein rotierendes geschliffenes Glas
auftrifft.
Zur Realisierung einer ausgedehnten ringförmigen Lichtquelle kann ein konvergenter
Strahl, der durch ein Axicon oder ein Beugungsäquivalent hindurchtritt, eine
elegante Lösung bilden, wie dies bereits erwähnt wurde. Wenn das Axicon oder das
Beugungsäquivalent axial verschoben wird, dann wird der Durchmesser des Rings
verändert.
Eine andere Lösung besteht darin, ein Faserbündel zu benutzen, welches eine
kreisförmige Eingangsseite, aber eine ringförmige Ausgangsseite besitzt. Eine
Multimodefaser, die richtig durch eine Eintrittsquelle erregt wird, kann benutzt
werden, um eine Ringquelle oder eine Ringquelle variablen Radius zu erzeugen. Für
so eine Anordnung kann auf Fig. 8 Bezug genommen werden, wo eine
Multimodefaser 400 dargestellt ist, die durch eine Laserquelle 402 erregt wird, die
auf die Eintrittsfacette der Faser über ein Linsensystem 404 abgebildet wird. Das
Linsensystem 404 kann so ausgebildet sein, daß der Eintrittswinkel gesteuert und
die numerische Apertur der Multimodefaser 400 derart angepaßt wird, daß in
bekannter Weise eine derartige Erregung erfolgt, daß ein Beleuchtungsring 406
erzeugt wird, der danach durch eine Folgeoptik 408 weiter gesteuert wird, um
beispielsweise einen Kollimatorring 410 zu erzeugen. Der Durchmesser des Rings
406 kann selektiv dadurch geändert werden, daß beispielsweise die Bedingungen
geändert werden, unter denen der Laserstrahl in die Multimodefaser 400 eintritt.
Die Geometrie des oben beschriebenen Interferometers kann leicht so geändert
werden, daß sphärische Oberflächen gebildet werden, und die Linsen können in
geeigneter Weise so ausgebildet werden, daß sie verantwortlich werden für die
Steuerung der Gestalt der ankommenden Wellenfront, die auf das Objekt und die
Bezugsoberflächen auftrifft.
Nachdem die verschiedenen Strukturen zur Erzeugung der erfindungsgemäßen
dünnen und virtuellen Ringe beschrieben wurden, die ihren Radius dynamisch
ändern können, und zwar entweder kontinuierlich oder in Stufenform, wird es
nützlich sein, den Bereich möglicher Quellenkonfigurationen zu betrachten, indem
nunmehr auf die Fig. 9 und die folgende Tabelle Bezug genommen wird.
Für den Fachmann ist es klar, daß Mehrfachringe und nicht nur Doppelringe
benutzt werden können. Außerdem ist es klar, daß die Dicke eines dünnen Rings,
ob virtuell oder solid, leicht durch Benutzung der Gleichung (1a) und durch
Berechnung bestimmt werden kann, wenn die Phasenverschiebung zwischen dem
inneren und äußeren Durchmesser des Rings 180° überschreitet, was zu einer
destruktiven Interferenz führen würde. Infolgedessen sollte die Dicke so gewählt
werden, daß diese Phasenverschiebung geringer als 180° ist, und zwar um einen
Betrag, der in Übereinstimmung ist mit den Kontrasterfordernissen der
durchgeführten Messungen. Der Nenndurchmesser des kleinsten Rings kann
empirisch bestimmt werden und hängt im allgemeinen von der Wellenlänge, der
Länge des Interterometers und der Nähe der Quelle des Bildfehlers gegenüber der
Testoberfläche ab. Allgemein gilt: je näher die Bildfehlerquelle an der
interessierenden Testoberfläche liegt, desto größer wird der Quellendurchmesser,
der benötigt wird, um Bildfehler zu unterdrücken. Wenn zwei oder mehrere Ringe
benutzt werden, um abwechselnd den Kontrast an unterschiedlichen Axialstellungen
auszulöschen und zu maximieren, dann sollte der Ringdurchmesser allgemein so
gewählt werden, daß die Phasendifferenz bei hohem gewünschtem Kontrast klein
wird, und wenn ein niedriger Kontrast gewünscht ist, 180° beträgt.
Aus Versuchen mit Ringdurchmessern von 0,25 mm bis 1 mm hat es sich als
zweckmäßig erwiesen, die typischen Bildfehler prinzipiell aus der Nähe des
Strahlteilers in einem Breitband-Interferometer zu unterdrücken, das auf dem GPI-
Produkt von Zygo Corporation, Middlefield, CT, US basierte. Aus diesen
Ergebnissen ergab sich ein repräsentativer Ringdurchmesser von 1 mm als
zweckmäßig, da dieser Durchmesser keinen Einfluß auf die Ausbildung
kommerzieller Kollimatorausbildungen hatte, die in einem Breitband benutzt werden.
In bezug auf die Ringdicke kann die Gleichung (1a) für das OPD benutzt werden,
um die maximal zulässige Dicke zu berechnen, wie dies bereits erwähnt wurde,
wobei:
Um die Dicke t derart zu ermitteln, daß die Differenz zwischen innerem und
äußerem Durchmesser eine OPD-Differenz von λ/2 erzeugt, kann die folgende
Formel Anwendung finden:
Indem nach t aufgelöst wird, erhält man
Unter Benutzung einer GPI-Brennweite von 500 mm und unter Annahme einer
Wellenlänge von 600 nm und einer maximalen praktischen Interferometerlänge von
3 m ergab sich eine Dicke von etwa 50 Mikrometer aus der vorhergehenden
Analyse. Dabei ist zu berücksichtigen, daß dies eine seitliche
Mißausrichtungstoleranz der halben Dicke von etwa 25 Mikrometer einschloß.
Die Erfindung ist nicht beschränkt auf die Benutzung eines Fizeau-Interferometers,
sondern kann bei allen anderen Bauarten von Interferometern Anwendung finden,
einschließlich, aber nicht beschränkt, auf Typen mit ungleichem Pfad, beispielsweise
Interferometer der Type Mirau und Twyman-Green. Das der Erfindung
zugrundeliegende Prinzip kann in gleicher Weise zur Überprüfung von Kugeln
Anwendung finden. Außerdem kann ein Strahlsteuerspiegel oder es können mehrere
Strahlsteuerspiegel durch Galvanometer oder dergleichen anstelle von rotierenden
Keilen Anwendung finden.
Weitere Änderungen ergeben sich für den Fachmann von selbst aufgrund der
Lehren und Ausführungsbeispiele der beschriebenen Erfindung, und Änderungen
sollen im Rahmen der Ansprüche mit umfaßt werden.
Claims (56)
1. Vorrichtung zur Beleuchtung eines zu prüfenden Objektes in einem
Interferometer, das eine optische Achse aufweist, wobei die Vorrichtung folgende
Teile umfaßt:
wenigstens eine Strahungsquelle; und
Mittel, die die Strahlung von der Strahlungsquelle auf das Objekt von verschiedenen Stellen aus richten, die von der optischen Achse derart entfernt liegen, daß die Strahlung von diesen Stellen auf die gleichen Punkte auf dem Objekt längs optischer Pfade auftrifft, die im wesentlichen identische optische Pfaddifferenzen innerhalb des Interferometers haben.
wenigstens eine Strahungsquelle; und
Mittel, die die Strahlung von der Strahlungsquelle auf das Objekt von verschiedenen Stellen aus richten, die von der optischen Achse derart entfernt liegen, daß die Strahlung von diesen Stellen auf die gleichen Punkte auf dem Objekt längs optischer Pfade auftrifft, die im wesentlichen identische optische Pfaddifferenzen innerhalb des Interferometers haben.
2. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher die zwei von der
optischen Achse entfernt liegenden Stellen, von denen die Strahlung auf das Objekt
gerichtet wird, einen gleichen Abstand von der optischen Achse aufweisen.
3. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 2, bei welcher die beiden im
gleichen Abstand angeordneten Stellen in einer Ebene liegen, die im wesentlichen
senkrecht auf der optischen Achse steht.
4. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher die Strahlung von
jeder der beiden Stellen auf das Objekt im wesentlichen gleichzeitig gerichtet wird.
5. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher die Strahlung von
jeder der beiden Stellen auf das Objekt zu unterschiedlichen Zeiten während einer
vorbestimmten Zeitperiode gerichtet wird.
6. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 5, welche außerdem einen Detektor
mit einer Erfaßperiode aufweist und bei welcher die vorbestimmte Zeitperiode nicht
größer ist als die Erfaßperiode des Detektors.
7. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher die Quelle zur
Erzeugung der Strahlung eine Punktquelle ist und bei welcher die
Strahlungsrichtmittel eine Anordnung umfassen, mit der die Punktquelle um die
optische Achse mit einer vorbestimmten Rate derart gedreht wird, daß die von der
Punktquelle ausgehende Strahlung von den beiden unterschiedlichen Stellen
auszugehen scheint.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, bei welcher die Strahlungsrichtmittel
wenigstens einen sich drehenden Keil umfassen.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7, bei welcher die Strahlungsrichtmittel zwei in
Reihe geschaltete rotierende Keile aufweisen.
10. Vorrichtung nach Anspruch 7, bei welcher die Strahlungsrichtmittel einen in
einem Azimuth drehbar gelagerten Strahlteiler und einen Keil aufweisen, der in
einem weiteren Azimuth drehbar gelagert ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 7, bei welcher die Strahlungsrichtmittel
hintereinander angeordnete Spiegel aufweisen, wobei der eine Spiegel im Azimuth
drehbar gelagert ist und der andere Spiegel in der Höhe drehbar gelagert ist.
12. Beleuchtungsmittel nach Anspruch 1, bei welchen die Strahlungsrichtmittel
optische Komponenten aufweisen, die so strukturiert sind, daß selektiv die Quelle
an unterschiedlichen entfernten Stellen um die optische Achse zu verschiedenen
Zeiten abgebildet wird.
13. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei welcher die
Strahlungsrichtmittel wenigstens eine optische Komponente aufweisen, um
Strahlung von der Quelle zu empfangen und um wenigstens einen dünnen
Beleuchtungsring zu erzeugen, von dem sämtliche Punkte von der optischen Achse
entfernt liegen, derart, daß die beiden Stellen durch den dünnen Ring umschlossen
werden.
14. Beleuchtungsvorrichtung nach Anspruch 13, bei welcher die
Strahlungsrichtmittel derart strukturiert sind, daß selektiv der Abstand geändert wird,
mit dem die Punkte von der optischen Achse entfernt liegen.
15. Vorrichtung nach Anspruch 13, bei welcher die Ringquelle eine
Multimodefaser mit kreisförmigem Querschnitt aufweist, die von der Quelle derart
erregt wird, daß das Eintrittsmodalmuster vom Ausgangsende der Multimodefaser
die Form eines Kreisringes hat.
16. Vorrichtung nach Anspruch 13, bei welcher die Quelle eine Punktquelle ist
und bei welcher die dünne Ringquelle die Punktquelle und ein Axicon aufweist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, bei welcher das Axicon ein
Beugungselement bzw. ein Brechungselement ist.
18. Interferometrisches Gerät mit einer optischen Achse, wobei das
interferometrische Gerät die folgenden Teile aufweist:
Mittel zur Anordnung eines zu messenden Objektes längs der optischen Achse;
eine optische Anordnung, die wenigstens teilweise mit einem Objekt zusammenwirkt, um ein Interferometer zu bilden und die Erzeugung einer interferometrischen Wellenfront bewirkt, in der eine Phaseninformation über das Objekt verschlüsselt ist; und
Mittel, mit der die Strahlung auf das zu messende Objekt von wenigstens zwei unterschiedlichen Stellen aus gerichtet wird, die von der optischen Achse derart entfernt liegen, daß die Strahlung von den Stellen auf den gleichen Punkten des Objekts längs der optischen Achse auftrifft, die im wesentlichen eine identische optische Pfaddifferenz innerhalb des Interferometers aufweisen, um Interferenz- Wellenfronten zu erzeugen, die den beiden Stellen entsprechen, wobei jede Wellenfront im wesentlichen identische Phaseninformation über das Objekt vom Interferometer enthält.
Mittel zur Anordnung eines zu messenden Objektes längs der optischen Achse;
eine optische Anordnung, die wenigstens teilweise mit einem Objekt zusammenwirkt, um ein Interferometer zu bilden und die Erzeugung einer interferometrischen Wellenfront bewirkt, in der eine Phaseninformation über das Objekt verschlüsselt ist; und
Mittel, mit der die Strahlung auf das zu messende Objekt von wenigstens zwei unterschiedlichen Stellen aus gerichtet wird, die von der optischen Achse derart entfernt liegen, daß die Strahlung von den Stellen auf den gleichen Punkten des Objekts längs der optischen Achse auftrifft, die im wesentlichen eine identische optische Pfaddifferenz innerhalb des Interferometers aufweisen, um Interferenz- Wellenfronten zu erzeugen, die den beiden Stellen entsprechen, wobei jede Wellenfront im wesentlichen identische Phaseninformation über das Objekt vom Interferometer enthält.
19. Interferometrisches Gerät nach Anspruch 18, bei welchem die beiden
entfernten Stellen, von denen die Strahlung auf ein Objekt gerichtet wird, von der
optischen Achse gleich weit entfernt sind.
20. Interferometrisches Gerät nach Anspruch 19, bei welchem die beiden gleich
weit von der Achse entfernten Stellen in einer Ebene im wesentlichen senkrecht zur
optischen Achse liegen.
21. Interferometrisches Gerät nach Anspruch 18, welches weiter Mittel umfaßt,
um die Interferenz-Wellenformen so abzubilden, daß ein interferogrammetrisches
Bild erzeugt wird, in dem die Phaseninformation über das Objekt, das in jeder
Interferenz-Wellenfront vom Interferometer enthalten ist, kombiniert wird, um die
Signalpegel zu verbessern, während die Phaseninformation von Quellen unterdrückt
wird, die nicht vom Objekt herrühren und die sonst in dem interferogrammetrischen
Bild als Bildfehler enthalten sind.
22. Vorrichtung nach Anspruch 21, welche außerdem Mittel aufweist, um das
interferogrammetrische Bild zu analysieren, um die gewählten Charakteristiken des
Objektes zu bestimmen.
23. Vorrichtung nach Anspruch 21, bei welcher die Mittel zur Richtung der
Strahlung auf das zu messende Objekt eine Punktquelle umfassen, die um die
optische Achse herum beweglich gelagert ist.
24. Vorrichtung nach Anspruch 18, bei welcher die Mittel zur Richtung der
Strahlung auf das zu messende Objekt wenigstens eine dünne Ringquelle
aufweisen, die einen konstanten Nennradius besitzt und nominell auf der optischen
Achse zentriert ist.
25. Vorrichtung nach Anspruch 24, bei welcher die Ringquelle eine
Multimodefaser mit kreisförmigem Querschnitt umfaßt, die durch eine Pumpquelle
derart erregt wird, daß das austretende Modalmuster vom Ausgangsende der
Multimodefaser die Form eines Kreisringes hat, der die dünne Ringquelle bildet.
26. Vorrichtung nach Anspruch 24, bei welcher die dünne Ringquelle eine
Punktquelle und ein Axicon umfaßt.
27. Vorrichtung nach Anspruch 26, bei welcher das Axicon ein
Beugungselement bzw. ein Brechungselement ist.
28. Vorrichtung nach Anspruch 18, bei welcher die Mittel zur Richtung der
Strahlung auf das zu messende Objekt eine Punktquelle und Mittel umfassen, um
selektiv die Punktquelle rings um die optische Achse derart abzubilden, daß es
scheint, als ob das Licht von den unterschiedlichen Stellen herrührt, die im Abstand
zur optischen Achse angeordnet sind.
29. Vorrichtung nach Anspruch 28, bei welcher die Mittel zur selektiven
Abbildung der Punktquelle wenigstens einen drehbaren Keil umfassen.
30. Vorrichtung nach Anspruch 28, bei welcher die Mittel zur selektiven
Abbildung der Punktquelle zwei hintereinander angeordnete rotierende Keile
aufweisen.
31. Vorrichtung nach Anspruch 28, bei welcher die Mittel zur selektiven
Abbildung der Punktquelle einen Strahlteiler umfassen, der drehbar in einem
Azimuth angeordnet ist und außerdem ein Keil vorgesehen ist, der drehbar in einem
weiteren Azimuth gelagert ist.
32. Vorrichtung nach Anspruch 26, bei welcher die Mittel zur selektiven
Abbildung der Punktquelle hintereinander angeordnete Spiegel umfassen, von
denen der eine drehbar im Azimuth und der andere drehbar in der Höhe angeordnet
ist.
33. Vorrichtung nach Anspruch 21, bei welcher außerdem Mittel vorgesehen
sind, um eine Phasenverschiebungs-interferometrische Analyse der gewählten
Charakteristik des Objektes zu bewirken.
34. Vorrichtung nach Anspruch 18, bei welcher die Mittel zur Richtung der
Strahlung auf das zu messende Objekt eine Kollimation der Strahlung bewirken.
35. Vorrichtung nach Anspruch 21, bei welcher die Mittel zur Abbildung der
optischen interferometrischen Strahlen zur Erzeugung eines interferogrammetrischen
Bildes Kollimatorlinsen und Konvergenzlinsen aufweisen.
36. Vorrichtung nach Anspruch 21, welche außerdem einen Detektor aufweist,
um das interferogrammetrische Bild zu empfangen, um ein elektronisches
Ausgangssignal für die folgende Analyse zu erzeugen, wobei der Detektor eine
gegebene Abtastrate aufweist.
37. Vorrichtung nach Anspruch 36, bei welcher das interferogrammetrische Bild
während einer vorbestimmten Zeitperiode erzeugt wird, die nicht länger dauert als
die gegebene Abtastrate des Detektors.
38. Vorrichtung nach Anspruch 36, bei welcher die vorbestimmte Zeitperiode im
wesentlichen Null ist, so daß das zu messende Objekt die Strahlung von den
wenigstens zwei Stellen im wesentlichen gleichzeitig empfängt.
39. Beleuchtungsverfahren zur Benutzung in Verbindung mit einem
Interferometer, das eine optische Achse aufweist, wobei das Beleuchtungsverfahren
die folgenden Schritte umfaßt:
es wird eine Strahlung von wenigstens einer Quelle erzeugt; und
es wird die Strahlung von der wenigstens einen Quelle auf ein zu messendes Objekt von wenigstens zwei unterschiedlichen Stellen aus gerichtet, die im Abstand zur optischen Achse angeordnet sind, derart, daß die Strahlung von diesen Steilen auf gleiche Punkte des Objektes längs optischer Pfade auftrifft, die eine im wesentlichen identische optische Pfaddifferenz innerhalb des Interferometers aufweisen.
es wird eine Strahlung von wenigstens einer Quelle erzeugt; und
es wird die Strahlung von der wenigstens einen Quelle auf ein zu messendes Objekt von wenigstens zwei unterschiedlichen Stellen aus gerichtet, die im Abstand zur optischen Achse angeordnet sind, derart, daß die Strahlung von diesen Steilen auf gleiche Punkte des Objektes längs optischer Pfade auftrifft, die eine im wesentlichen identische optische Pfaddifferenz innerhalb des Interferometers aufweisen.
40. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 39, bei welchem die beiden entfernt
liegenden Stellen, von denen die Strahlung auf ein Objekt gerichtet wird, im gleichen
Abstand zu der optischen Achse entfernt liegen.
41. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 40, bei welchem die beiden im
gleichen Abstand angeordneten Stellen in einer Ebene liegen, die im wesentlichen
senkrecht auf der optischen Achse steht.
42. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 39, bei welchem die Strahlung von
jeder der beiden Stellen auf ein Objekt im wesentlichen gleichzeitig gerichtet wird.
43. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 39, bei welchem die Strahlung von
den beiden Stellen auf das Objekt zu unterschiedlichen Zeiten während einer
vorbestimmten Zeitperiode gerichtet wird.
44. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 43, welches weiter den Schritt
umfaßt, Strahlung vom Objekt während einer Erfaßperiode zu detektieren, wobei die
vorbestimmte Zeitperiode nicht länger ist als die Erfaßperiode.
45. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 39, welches außerdem den Schritt
aufweist, eine Strahlung von einer Punktquelle zu erzeugen und diese Strahlung von
der Punktquelle durch Drehen der Punktquelle um die optische Achse mit einer
vorbestimmten Rate derart zu richten, daß die Punktquelle von den beiden
unterschiedlichen Stellen aus auszugehen scheint.
46. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 39, bei welchem die Strahlung
dadurch gerichtet wird, daß selektiv die Quelle an unterschiedlich von der optischen
Achse entfernt liegenden Stellen zu unterschiedlichen Zeiten abgebildet wird.
47. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 39, bei welchem der Schritt, in
welchem die Strahlung gerichtet wird, einen Empfang der Strahlung von der Quelle
und die Erzeugung wenigstens eines dünnen Beleuchtungsringes aller Punkte
umfaßt, die in einem solchen Abstand von der optischen Achse liegen, daß die
beiden Stellen von diesem dünnen Ring umschlossen sind.
48. Beleuchtungsverfahren nach Anspruch 47, welches weiter den Schritt
umfaßt, selektiv den Abstand zu ändern, unter dem die Punkte von der optischen
Achse entfernt liegen.
49. Interferometrisches Verfahren, welches die folgenden Schritte umfaßt:
es wird ein zu messendes Objekt längs einer optischen Achse angeordnet;
es werden optische Komponenten derart vorgesehen, daß sie wenigstens teilweise mit einem Objekt zusammenwirken, um ein Interferometer zu bilden und die Erzeugung von Interferenz-Wellenfronten zu ermöglichen, in denen eine Phaseninformation über das Objekt verschlüsselt ist; und
es wird die Strahlung auf das zu messende Objekt von wenigstens zwei verschiedenen Stellen aus gerichtet, die im Abstand von der optischen Achse derart angeordnet sind, daß die Strahlung von den Stellen auf die gleichen Punkte auf dem Objekt längs der optischen Pfade einfällt, die im wesentlichen die identischen optischen Pfaddifferenzen innerhalb des Interferometers aufweisen, um Interferenz- Wellenfronten zu erzeugen, die jeder Stelle entsprechen, wobei jede Wellenfront im wesentlichen identische Phaseninformation über das Objekt vom Interferometer enthält.
es wird ein zu messendes Objekt längs einer optischen Achse angeordnet;
es werden optische Komponenten derart vorgesehen, daß sie wenigstens teilweise mit einem Objekt zusammenwirken, um ein Interferometer zu bilden und die Erzeugung von Interferenz-Wellenfronten zu ermöglichen, in denen eine Phaseninformation über das Objekt verschlüsselt ist; und
es wird die Strahlung auf das zu messende Objekt von wenigstens zwei verschiedenen Stellen aus gerichtet, die im Abstand von der optischen Achse derart angeordnet sind, daß die Strahlung von den Stellen auf die gleichen Punkte auf dem Objekt längs der optischen Pfade einfällt, die im wesentlichen die identischen optischen Pfaddifferenzen innerhalb des Interferometers aufweisen, um Interferenz- Wellenfronten zu erzeugen, die jeder Stelle entsprechen, wobei jede Wellenfront im wesentlichen identische Phaseninformation über das Objekt vom Interferometer enthält.
50. Interferometrisches Verfahren nach Anspruch 49, welches ferner den Schritt
aufweist, die Interferenz-Wellenformen abzubilden, um ein interferogrammetrisches
Bild zu erzeugen, in dem die Phaseninformation über das Objekt, die in jeder
Interferenz-Wellenfront vom Interferometer enthalten ist, kombiniert werden, um die
Signalpegel zu verbessern, während eine Phaseninformation von Quellen
unterdrückt wird, die nicht vom Objekt herrühren und die sonst im
interferogrammetrischen Bild als Bildfehler enthalten wären.
51. Interferometrisches Verfahren nach Anspruch 50, welches weiter den Schritt
aufweist, das interferogrammetrische Bild zu analysieren um die gewählten
Charakteristiken des Objektes zu bestimmen.
52. Interferometrisches Verfahren nach Anspruch 49, bei welchem die Strahlung
auf das zu messende Objekt durch wenigstens eine dünne Ringquelle gerichtet
wird, die einen konstanten Nennradius besitzt und nominell um die optische Achse
zentriert ist.
53. Interferometrisches Verfahren nach Anspruch 51, welches weiter den Schritt
umfaßt, Phasenverschiebungen in die Interferenz-Wellenfronten einzuführen und
eine Phasenverschiebungs-interferometrische Analyse durchzuführen, um die
gewählten Charakteristiken des Objektes zu bestimmen.
54. Interferometrisches Verfahren nach Anspruch 53, bei welchem der Schritt
der Einführung der Phasenverschiebungen in die Interferenz-Wellenfronten den
Schritt umfaßt, die radiale Lage der beiden Stellen zu verändern.
55. Interferometrisches Verfahren nach Anspruch 50, welches weiter den Schritt
umfaßt, das interferogrammetrische Bild zu detektieren, um ein elektronisches
Ausgangssignal zu erzeugen und um eine folgende Analyse durchzuführen, wobei
der Detektorschritt während einer gegebenen Abtastperiode erfolgt.
56. Interferometrisches Verfahren nach Anspruch 54, bei welchem das
interferogrammetrische Bild während einer Zeitdauer erzeugt wird, die nicht länger
ist als die gegebene Abtastperiode.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10121516A DE10121516A1 (de) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Wirkungen kohärenter Bildfehler in einem Interferometer |
US10/053,741 US6804011B2 (en) | 2001-05-03 | 2002-01-22 | Apparatus and method(s) for reducing the effects of coherent artifacts in an interferometer |
PCT/EP2002/003169 WO2002090880A1 (en) | 2001-05-03 | 2002-03-21 | Reducing coherent artifacts in an interferometer |
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JP2008208283A JP2008268237A (ja) | 2001-05-03 | 2008-08-12 | 干渉計におけるコヒーレントアーティファクトの低減 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10121516A DE10121516A1 (de) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Wirkungen kohärenter Bildfehler in einem Interferometer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10121516A1 true DE10121516A1 (de) | 2002-11-07 |
Family
ID=7683491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10121516A Withdrawn DE10121516A1 (de) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Wirkungen kohärenter Bildfehler in einem Interferometer |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6804011B2 (de) |
JP (1) | JP2008268237A (de) |
DE (1) | DE10121516A1 (de) |
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---|---|---|---|
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