DE19544253B4

DE19544253B4 - Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgefühltem Objektstrahlengang

Info

Publication number: DE19544253B4
Application number: DE1995144253
Authority: DE
Inventors: Jochen Neumann
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1995-11-28
Filing date: 1995-11-28
Publication date: 2006-06-29
Anticipated expiration: 2015-11-29
Also published as: DE19544253A1

Abstract

Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgeführtem Objektstrahlengang, d.h. zur Kompensation des durch Brechzahl-Dispersion hervorgerufenen Unterschiedes zwischen der Wellenlängen-Abhängigkeit des optischen Lichtweges im Objektstrahlengang und der Wellenlängen-Abhängigkeit des optischen Lichtweges im Referenzstrahlengang, dadurch gekennzeichnet, daß im Objektarm ein divergenter Strahlengang und im Referenzarm zumindest in Teilstücken ein paralleler Strahlengang gewählt ist und daß im Objektstrahlengang oder im Referenzstrahlengang oder in beiden Strahlengängen ein oder mehrere optische Systeme (21), im folgenden "Ausgleichssysteme" genannt, installiert werden, welche die Wellenlängen-Abhängigkeit der optischen Weglänge des jeweiligen Strahlenganges so abändern, daß die Wellenlängen-Abhängigkeiten von Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang übereinstimmen.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kompensation der durch Brechzahl-Dispersion hervorgerufenen Unterschiede in den Wellenlängen-Abhängigkeiten von optischem Objekt-Lichtweg und optischem Referenz-Lichtweg bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgeführtem Objektstrahlengang.
Zur berührungslosen dreidimensionalen Objektvermessung mit großer Meßgenauigkeit können spektral breitbandig arbeitende interferometrische Verfahren eingesetzt werden, wie sie beispielsweise in den Patentschriften DE 25 28 209 B2 , EP 0 244 781 A2 , DE 41 08 944 C2 und US 5,133,601 beschrieben sind.
Das grundsätzliche Prinzip dieser Verfahren wird in 2 anhand eines Interferometer-Aufbaues nach Michelson dargestellt. Es sind aber auch andere Interferometer-Bauarten geeignet. In dem Interferometer 1, bestehend aus dem Beleuchtungsarm 2, dem Objektarm 3, dem Referenzarm 4, dem Beobachtungsarm 5 und dem Strahlteiler 8, wird mit Hilfe des im Referenzarm 4 stehenden Referenzspiegels 10 im Objektarm 3 eine sog. Referenzfläche 12 als die Menge derjenigen Raumpunkte definiert, die den gleichen optischen Abstand von der (spektral breitbandigen) Lichtquelle 6 haben, wie die entsprechenden Oberflächenpunkte des Referenzspiegels 10. Das Abbildungssystem 14, 15, 16 bildet diese Referenzfläche in die Detektorebene 17 ab, überlagert mit dem via Strahlteiler 8 eingekoppelten Referenzstrahl.
Das zu vermessende Objekt 11 wird mit der Referenzfläche 12 in Schnitt gebracht. Während einer Messung wird die Referenzfläche 12 schrittweise oder kontinuierlich über den interessierenden Objektbereich hinweg verschoben. Dies kann bei feststehendem Sensor 1 durch Verschieben des Objektes 11 oder bei feststehendem Objekt 11 durch Verschieben des gesamten Sensors 1 längs der optischen Achse des Abbildungssystems 14, 15, 16 erfolgen, oder auch durch Verschieben des Referenzspiegels 10 im Referenzarm 4.
Bei breitbandiger Beleuchtung und spektral integrierender Detektion stellt sich in jedem Bildpunkt der Detektorebene 17 längs des longitudinalen Verschiebeweges z der Referenzfläche 12 gegenüber dem Objekt 11 eine charakteristische Intensitätsmodulation ein, wie sie in 3 beispielhaft dargestellt ist. Die Form dieser Intensitätsmodulation wird durch die zeitliche und räumliche Kohärenz des Beleuchtungssystems (welches aus der Lichtquelle 6 und dem Kollimator 7 besteht), durch die Oberflächeneigenschaften des Objektes 11, sowie durch die optischen Eigenschaften der in Objektarm 3 und Referenzarm 4 durchlaufenen Materie bestimmt.
Das Maximum der Modulationsamplitude tritt dann auf, wenn die optische Weglänge im Objektarm 3 gleich der optischen Weglänge im Referenzarm 4 ist, d.h. wenn der betrachtete Oberflächenpunkt durch die Referenzfläche 12 tritt. Somit ist die Position_max des Amplitudenmaximums ein Maß für den Abstand des untersuchten Oberflächenpunktes von der Grundfläche (= Position der Referenzfläche 12 am Start des Meßlaufes). Die Gesamtheit der Abstandsinformationen aller Oberflächenpunkte stellt dann die gesuchte Form des Gegenstandes dar.
Wesentlich für eine genaue Lokalisierbarkeit von z_max ist, daß für die in der Referenzfläche 12 befindlichen Oberflächenpunkte die durch Brechzahl-Dispersion eingeführte Wellenlängen-Abhängigkeit des optischen Weges im Objektarm 3 gleich der Wellenlängen-Abhängigkeit des optischen Weges im Referenzarm 4 ist. Ein Interferometer, welches diese Forderung erfüllt, kann "dispersiv symmetrisch" genannt werden. Die optische Weggleichheit tritt in einem solchen dispersiv symmetrischen Interferometer für alle Wellenlängen des Lampenspektrums gleichzeitig auf, so daß sich bei breitbandiger Detektion das in 3 gezeigte Interferenzsignal ergibt (dargestellt für ein über der Wellenzahl k normalverteiltes Spektrum mit Maximum bei 491 nm und 50%-Punkten bei 448 nm und 544 nm).
Im Vergleich dazu ist in 4 das Interferenzsignal gezeigt, welches aus dem in 1 gezeigten Signal entsteht, wenn die dispersive Symmetrie zwischen Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang durch eine zusätzlich in einen der beiden Strahlengänge eingebrachte Glasplatte mit einem Millimeter Dicke aufgehoben wird.
Dispersive Symmetrie ist automatisch gewährleistet, wenn Objektarm 3 und Referenzarm 4 optomechanisch symmetrisch zueinander aufgebaut sind, d.h. wenn in beiden Armen die gleichen optischen Elemente an den einander entsprechenden oder äquivalenten Positionen verwendet werden und wenn der Strahlengang des Objektarmes 3 dem Strahlengang des Referenzarmes 4 entspricht (abgesehen von Strahlumlenkungen mittels Planspiegeln). Aus diesem Grund sind bei allen bisher bekannt gewordenen breitbandig arbeitenden interferometrischen 3D-Sensoren, die weder ausdrücklich von einem durch Dispersion veränderten Interferenzsignal zu Meßzwecken Gebrauch machen noch ein solches verändertes Interferenzsignal in Kauf nehmen können, Objektarm und Referenzarm optomechanisch symmetrisch zueinander aufgebaut. So wird z.B. auch ein (zur Intensitätsbalance in 2 eingesetztes) Neutralfilter 9 durch eine gleich dicke und aus dem gleichen, jedoch nicht eingefärbten Grundmaterial bestehende Ausgleichsplatte 13 dispersiv kompensiert.
Ein optomechanisch symmetrischer Aufbau von Objektarm und Referenzarm beinhaltet folgende Nachteile (siehe 2):

– Die Größe des Meßfeldes (= laterale Ausdehnung der Referenzfläche 12) wird durch den nutzbaren Flächenbereich des Referenzspiegels 10 begrenzt.
– Bei Verwendung eines planen Referenzspiegels erfordert die Retroreflektion des Referenzlichtbündels einen parallelen Strahlengang. Das begrenzt aber die nutzbare Spiegelfläche auf die freie Apertur der Bauteile 7, 8, 9, und 14. Damit wird aber auch die maximale Meßfeldgröße auf die freie Apertur der genannten Bauteile begrenzt. Große Meßfelder erfordern daher auch große und deshalb teure Bauteile.
– Eine laterale Erweiterung des Meßfeldes kann zwar durch eine Installation je eines Aufweitungssystems zwischen Strahlteiler 8 und Referenzspiegel 10 bzw. zwischen Strahlteiler 8 und Objekt 11 bewerkstelligt werden. Aber auch in diesem Fall muß der Referenzspiegel parallel beleuchtet werden, weshalb die Austrittspupille des Aufweitungssystems mindestens der Meßfeldgröße entsprechen muß. Außerdem bleibt die Forderung nach einer mindestens der Meßfeldgröße entsprechenden Spiegelgröße bestehen.
– Wird an Stelle des Planspiegels 10 ein gekrümmter Spiegel 20 eingesetzt (siehe 5), so entfällt zwar die Begrenzung der Meßfeldgröße durch die freie Apertur der im Interferometer eingesetzten Bauteile. Dafür ist jedoch die freie Positionierbarkeit des Referenzspiegels 20 im Referenzarm 4 eingeschränkt, da der Krümmungsmittelpunkt des Spiegels 20 zumindest näherungsweise mit dem Krümmungsmittelpunkt der Beleuchtungs-Wellenfront zusammenfallen muß. Dies beschränkt aber auch den Variationsbereich der Referenzfläche 12 relativ zum Sensor 1 und damit auch den Einstellbereich des Arbeitsabstandes. Außerdem bleibt auch hier die Forderung nach einer mindestens der Meßfeldgröße entsprechenden Spiegelgröße bestehen.

Der vorliegenden Erfindung liegen daher folgende Aufgaben zugrunde:

1) Eine Anordnung anzugeben, bei der die Größe des Meßfeldes unabhängig von der Größe des Referenzspiegels 10 und unabhängig von der freien Apertur der im Interferometer verwendeten Bauteile gestaltet werden kann, ohne daß dabei der Verschiebebereich der Referenzfläche 12 im Objektarm 3 relativ zum Interferometer 1 eingeschränkt wird,
2) Ein Verfahren anzugeben, mit der in einer Anordnung, welche zwar die Aufgabe 1 erfüllt, aber keinen zum Referenzstrahlengang dispersiv symmetrischen Objektstrahlengang besitzt, die Wellenlängen-Abhängigkeiten von optischem Objekt-Lichtweg und optischem Referenz-Lichtweg aufeinander abgeglichen werden können, ohne daß der Strahlengang signifikant beeinflußt wird.

Diese Aufgaben werden durch ein Verfahren und eine Anordnung mit der Merkmalen der Patentansprüche 1 und 11 gelöst.
Eine solche Anordnung ist in 1 dargestellt. Zur Gewinnung eines großen Meßfeldes wird in dieser Anordnung im Objektarm 3 ein divergenter Strahlengang gewählt, während im Referenzarm 4 ein paralleler Strahlengang benutzt wird. Die Meßfeldgröße wird damit nur noch durch den Arbeitsabstand und den Bildwinkel des Beobachtungssystems 17, 18, 19 festgelegt, während die Größe des Referenzspiegels 10 durch Verwendung eines kurzbrennweitigen Kollimators 7 im Referenzarm 4 klein gehalten werden kann. Außerdem bleiben durch den parallelen Referenzstrahlengang die große Variationsmöglichkeit des Arbeitsabstandes und ein großer Tiefenmeßbereich erhalten.
Bedingt durch den nur im Referenzarm 4 gewünschten parallelen Strahlengang wird der Kollimator 7 nur nur Referenzarm 4 notwendig. Damit ist aber die dispersive Symmetrie zum Objektarm 3 nicht mehr gegeben, da durch die Brechzahl-Dispersion des Materials des Kollimators 7 die Referenz-Lichtweglänge abhängig von der Lichtwellenlänge wird – und zwar auch dann, wenn die Kollimation aberrationsfrei erfolgt. Die dispersive Symmetrie muß daher mit Hilfe eines speziellen Ausgleichssystems 21 wieder hergestellt werden.
Die Konstruktion des Ausgleichssystems 21 beruht auf folgenden Überlegungen:

– Die Lichtquelle 6 steht genau im Brennpunkt des Kollimators 7. Im Idealfall aberrationsfreier Kollimation werden daher die von der Lichtquelle 6 ausgehenden Kugelwellen exakt in ebene Wellen umgeformt. Das heißt aber nichts anderes, als daß die optische Weglänge zwischen Lichtquelle 6 und Referenzspiegel 10 für alle Strahlen des Beleuchtungsbündels gleich der optischen Weglänge des auf der optischen Achse verlaufenden Strahles ist. Damit zeigen aber auch alle Strahlen des Beleuchtungsbündels die gleiche Abhängigkeit des optischen Weges von der Wellenlänge, wie der auf der optischen Achse verlaufende Strahl, obwohl sich die Länge der in den einzelnen Linsen des Kollimators verlaufenden dispersiven Weganteile in der Regel zum Linsenrand hin ändert! Für die Bestimmung der Abhängigkeit der optischen Weglänge von der Wellenlänge ist also nur die Kenntnis des Materials und der Mittendicke jeder im Kollimator 7 verwendeten Linse notwendig.
– Da, wie gesagt, die Wellenlängen-Abhängigkeit des optischen Lichtweges über den Querschnitt des Referenzbündels konstant ist, muß das auch für das Objektbündel gelten.
– Da der Objektstrahlengang durch das Ausgleichssystem 21 möglichst unbeeinflußt bleiben soll, muß jeder Strahl des Objektlichtbündels senkrecht auf die Oberfläche des Ausgleichssystems 21 treffen und er muß auch das Ausgleichssystem 21 wieder senkrecht zu seiner Oberfläche verlassen.

Damit kann ein mögliches Ausgleichssystem 21 wie folgt konstruiert sein:
In den Objektarm 3 werden Platten aus verschiedenen optischen Materialien so eingebracht, daß folgende Bedingungen erfüllt sind:

– Die Krümmung der Plattenvorderseite und der Plattenrückseite muß der Krümmung der einlaufenden bzw. auslaufenden Wellenfront angepasst sein.
– Die Materialien und die Dicken der einzelnen Platten müssen so aufeinander abgestimmt sein, daß die optische Weglänge des Objektarmes 3 die gleiche Wellenlängen-Abhängigkeit erhält, wie der Mittelstrahl des Referenzarmes 4.

Im Falle des in 1 gezeigten Aufbaues erfolgt die Beleuchtung des Objektes 11 mit Kugelwellen. Daher sind zur Konstruktion des Ausgleichssystems 21 Kugelschalen vor teilhaft, die konzentrisch angeordnet werden, so daß ihr Kugelmittelpunkt mit dem Kugelmittelpunkt der Beleuchtungs-Wellenfront koinzidiert. Die dispersive Symmetrisierung kann am einfachsten durchgeführt werden, indem für jede Linse des Kollimators 7 eine eigene Kugelschale vorgesehen wird, welche aus dem gleichen Material wie die Linse besteht und deren Dicke der Mittendicke der Linse entspricht.
Sind mehrere Linsen aus dem gleichen Material vorhanden, so können ihre Mittendicken addiert werden, so daß die Kompensation mit nur einer, entsprechend dicken Kugelschalen erfolgen kann.
Zur dispersiven Symmetrisierung des Objektarmes 3 können anstelle der Kugelschalen näherungsweise auch Planplatten gleicher Dicke verwendet werden. Für den auf der optischen Achse verlaufenden Strahl ergibt sich damit eine exakt gleiche Kompensationswirkung, wie bei Verwendung von Kugelschalen. Zum Bildrand hin verläuft der Lichtweg aber zunehmend schräger zur Flächennormalen, so daß die Länge des dispersiven Weganteils in der Platte zunimmt. Bei kleinen Bildwinkeln bleibt diese Wegverlängerung jedoch vernachlässigbar klein, so daß sie in der Praxis nicht stört.
Wenn die Mittendicke einer zu kompensierenden Linse nicht genau bekannt ist, kann die zugehörige Ausgleichsplatte durch eine Kombination aus zwei gegeneinander orientierten Keilplatten 22, 23 mit identischem Keilwinkel ersetzt werden (siehe 6). Die Wirkung dieser Kombination entspricht dann einer Planplatte, wobei die effektive Plattendicke durch Verschieben der Keilplatte 22 gegenüber der Keilplatte 23 in Pfeilrichtung auf maximalen Interferenzkontrast justiert werden kann.
Falls die in 1 gezeigte Anordnung im Objektarm zusätzlich mit einem optischen System (z.B. Aufweitungssystem, Fernrohr, Mikroskop etc.) erweitert werden soll, muß dieses optische System bei der Auslegung des Ausgleichssystems 21 berücksichtigt werden. Dies kann genauso wie im Falle des Kollimators 7 durch Bestimmung von Material und Mittendicke jeder in diesem optischen System verwendeten Linse geschehen, und es dürfen die Mittendicken der jeweils aus gleichem Material bestehenden Linsen addiert und von der Mittendicken-Summe der aus dem gleichen Material bestehenden Kollimator-Linsen abgezogen werden. Ergeben sich dabei negative Werte, so muß für dieses Material die Kompensation im Referenzarm erfolgen.
Sinngemäß ist dieses Verfahren der dispersiven Symmetrisierung auf viele interferometrische Anordnungen anwendbar. Die bisher bei polychromatisch arbeitenden interferometrischen Verfahren notwendige optomechanisch symmetrische Auslegung von Referenzstrahlengang und Objektstrahlengang kann entfallen. Damit eröffnen sich der polychromatischen Interferometrie eine Vielzahl neuer Anwendungen, wovon die berührungslose dreidimensionale Objektvermessung mittels hochgenauer weißlicht-interferometrischer Verfahren mit großen Meßfeldern eine Anwendung ist, für die ein erheblicher Bedarf in der industrieellen Meßtechnik besteht.

Claims

Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgeführtem Objektstrahlengang, d.h. zur Kompensation des durch Brechzahl-Dispersion hervorgerufenen Unterschiedes zwischen der Wellenlängen-Abhängigkeit des optischen Lichtweges im Objektstrahlengang und der Wellenlängen-Abhängigkeit des optischen Lichtweges im Referenzstrahlengang, dadurch gekennzeichnet, daß im Objektarm ein divergenter Strahlengang und im Referenzarm zumindest in Teilstücken ein paralleler Strahlengang gewählt ist und daß im Objektstrahlengang oder im Referenzstrahlengang oder in beiden Strahlengängen ein oder mehrere optische Systeme (21), im folgenden "Ausgleichssysteme" genannt, installiert werden, welche die Wellenlängen-Abhängigkeit der optischen Weglänge des jeweiligen Strahlenganges so abändern, daß die Wellenlängen-Abhängigkeiten von Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang übereinstimmen.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest ein Teil der installierten Ausgleichssysteme (21) höchstens eine unwesentliche Veränderung des geometrischen Strahlenganges bewirkt.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest ein Teil der zur Abgleichung der Wellenlängen-Abhängigkeiten der optischen Weglängen von Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang eingesetzten Ausgleichssysteme (21) zumindest teilweise aus Platten, im folgenden "Ausgleichsplatten" genannt, mit folgenden Eigenschaften bestehen: – Die Krümmung von Vorder- und Rückseite jeder Ausgleichsplatte wird der an der Vorder- bzw. Rückseite der Ausgleichsplatte ein- bzw. auslaufenden Wellenfront angepasst. – Die Materialien und Dicken der Ausgleichsplatten werden so abgestimmt, daß sich bei Einsatz aller vorgesehenen Ausgleichssysteme (21) an den vorgesehenen Orten die Übereinstimmung der Wellenlängen-Abhängigkeiten der optischen Weglängen von Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang ergibt.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die zur Abgleichung der Wellenlängen-Abhängigkeiten der optischen Weglängen von Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang eingesetzten Ausgleichssysteme (21) zumindest teilweise aus Planplatten bestehen, wobei die Materialien und Dicken der Planplatten so abgestimmt werden, daß sich bei Einsatz aller vorgesehenen Ausgleichssysteme (21) an den vorgesehenen Orten die Übereinstimmung der Wellenlängen-Abhängigkeiten der optischen Weglängen zumindest der Mittelstrahlen von Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang ergibt.
Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß einzelne oder alle der notwendigen Ausgleichsplatten oder Kombinationen aus solchen Ausgleichsplatten mittels optischer Systeme simuliert werden.
Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest ein Teil der simulierenden optischen Systeme so beschaffen ist, daß die simulierten Dicken und/oder die simulierten optischen Materialeigenschaften auf die zweckdienlichen Werte eingestellt werden können.
Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest ein Teil der simulierenden einstellbaren optischen Systeme aus je zwei Keilplatten mit identischem Keilwinkel bestehen, wobei die Keilplatten so gegeneinander angeordnet sind, daß sich einerseits die Strahlablenkungen gegenseitig aufheben und daß andererseits durch laterales Verschieben einer Keilplatte gegenüber der anderen die effektive Dicke der simulierten Ausgleichsplatte justiert werden kann.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß für jedes optische Element der im Referenzarm und im Objektarm vorhandenen optischen Systeme, mit Ausnahme der Ausgleichssysteme (21) selbst, in einem der Ausgleichssysteme (21) des jeweils anderen Armes eine der Wellenfront angepasste oder plane Ausgleichsplatte oder ein eine solche Ausgleichsplatte simulierendes optisches System eingesetzt wird, wobei das Material der Ausgleichsplatte dem Material des zu kompensierenden optischen Elementes und die Dicke der Ausgleichsplatte der Mittendicke des zu kompensierenden optischen Elementes entspricht.
Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß materialgleiche Ausgleichsplatten zusammengefasst und durch eine oder mehrere materialgleiche Ausgleichsplatten ersetzt oder durch ein optisches System simuliert werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine näherungsweise Abgleichung der Wellenlängen-Abhängigkeiten der optischen Weglängen von Objektstrahlengang und Referenzstrahlengang mit nur einer der Wellenfront angepassten oder planen Ausgleichsplatte oder mit einem eine solche Ausgleichsplatte simulierenden optischen System durchgeführt wird, wobei Material und Dicke der Ausgleichsplatte so gewählt werden, daß der Unterschied zwischen der Wellenlängen-Abhängigkeit der optischen Weglänge des Objektstrahlenganges und der Wellenlängen-Abhängigkeit der optischen Weglänge des Referenzstrahlenganges minimiert wird.
Anordnung zur punktförmigen, linienhaften oder flächigen dreidimensionalen Objektvermessung mittels Interferometrie, die einen das zu vermessende Objekt enthaltenden Objektarm 3 und einen Referenzarm 4 enthält, dadurch gekennzeichnet, daß – die optomechanische Symmetrie zwischen Objektarm 3 und Referenzarm 4 aufgehoben ist, d.h. daß Objektarm 3 und Referenzarm 4 mit unterschiedlichen optischen Elementen ausgeführt werden und/oder daß sich der Strahlengang des Objektarmes 3 vom Strahlengang des Referenzarmes 4 unterscheidet, – die dispersive Symmetrie zwischen Objektarm und Referenzarm mittels eines Verfahrens und eines oder mehrerer Ausgleichssysteme (21) nach den Ansprüchen 1 bis 10 hergestellt wird.
Anordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung des im Objektarm notwendigen Strahlenganges ein optisches System in den Objektarm eingesetzt wird, welches den Strahlengang in den gewünschten Verlauf bringt.
Anordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung des parallelen Teilstückes des Strahlenganges im Referenzarm ein optisches System in den Referenzarm eingesetzt wird, welches den Strahlengang parallelisiert.
Anordnung nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die laterale Meßfeldgröße die freie Apertur der im Interferometer verwendeten Bauteile zumindest in einer Dimension (Länge, Breite, Durchmesser etc.) übersteigt.
Anordnung nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die laterale Meßfeldgröße die Größe des Referenzspiegels 10 zumindest in einer Dimension (Länge, Breite, Durchmesser etc.) übersteigt.